NL8301652A - Werkwijze voor het aanbrengen van magnesiumfluoridelagen en antireflectieve lagen verkregen met deze werkwijze. - Google Patents
Werkwijze voor het aanbrengen van magnesiumfluoridelagen en antireflectieve lagen verkregen met deze werkwijze. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8301652A NL8301652A NL8301652A NL8301652A NL8301652A NL 8301652 A NL8301652 A NL 8301652A NL 8301652 A NL8301652 A NL 8301652A NL 8301652 A NL8301652 A NL 8301652A NL 8301652 A NL8301652 A NL 8301652A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- magnesium
- fluorine
- substrate
- solution
- containing organic
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 24
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 title claims description 21
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 title claims description 21
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 title claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 30
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 22
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 22
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 150000002681 magnesium compounds Chemical class 0.000 claims description 18
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical group [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 13
- OJOZHRCRUJKPIJ-UHFFFAOYSA-N magnesium;2,2,2-trifluoroacetic acid Chemical compound [Mg].OC(=O)C(F)(F)F OJOZHRCRUJKPIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 3
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims 1
- HZZOEADXZLYIHG-UHFFFAOYSA-N magnesiomagnesium Chemical compound [Mg][Mg] HZZOEADXZLYIHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 5
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 description 4
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 150000002472 indium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 2
- CAQYAZNFWDDMIT-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-methoxyethane Chemical compound CCOCCOC CAQYAZNFWDDMIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- CHBIYWIUHAZZNR-UHFFFAOYSA-N [Y].FOF Chemical compound [Y].FOF CHBIYWIUHAZZNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002547 anomalous effect Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043430 calcium compound Drugs 0.000 description 1
- 150000001674 calcium compounds Chemical class 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCPKXZJUDJSTTM-UHFFFAOYSA-L calcium;2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound [Ca+2].[O-]C(=O)C(F)(F)F.[O-]C(=O)C(F)(F)F RCPKXZJUDJSTTM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- HOKAADCQOYJMPD-UHFFFAOYSA-L iron(2+);2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound [Fe+2].[O-]C(=O)C(F)(F)F.[O-]C(=O)C(F)(F)F HOKAADCQOYJMPD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FZGIHSNZYGFUGM-UHFFFAOYSA-L iron(ii) fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Fe+2] FZGIHSNZYGFUGM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- UJMWVICAENGCRF-UHFFFAOYSA-N oxygen difluoride Chemical compound FOF UJMWVICAENGCRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003748 yttrium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940105963 yttrium fluoride Drugs 0.000 description 1
- RBORBHYCVONNJH-UHFFFAOYSA-K yttrium(iii) fluoride Chemical compound F[Y](F)F RBORBHYCVONNJH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/28—Other inorganic materials
- C03C2217/284—Halides
- C03C2217/285—Fluorides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/111—Deposition methods from solutions or suspensions by dipping, immersion
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/112—Deposition methods from solutions or suspensions by spraying
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
Description
t * * s Μ PHN 10.671 t N.V. Philips' Gloeilarnpenfafarieken te Eindhoven.
ïferkwijze voor het aanbrengen van raagnes iumfluor idelagen en antireflec-tieve lagen verkregen met deze werkwijze.
De uitvinding heeft betrekking op een werkwijze voor het aanbrengen van een laag van magnesiumfluoride (¾) een substraat, waarbij een oplossing van een fluorbevattende mgnesiuraverbinding met het substraat in contact wordt gebracht en thermisch behandeld. De uitvinding 5 heeft bovendien betrekking cp de volgens deze werkwijze vervaardigde lagen.
Aardalkalifluoriden hebben een lage brekingsindex en zijn daarcm geschikt als antireflectieve lagen op substraten met een hogere brekingsindex. Magnesiumfluoridelagen zijn bijzonder geschikt atdat deze een 10 lage brekingsindex hebben (n = 1.38 bij een golflengte X = 550 nm), cmdat deze zeer bestendig zijn tegen omgevingsinvloeden en omdat harde lagen gevormd worden die poets vast tot krasvast kunnen zijn. Bovendien vertonen magnesiumfluoridelagen slechts een geringe kleurzweem als de dikte van de laag een kwart van de golflengte van het licht middenin het 15 zichtbare spectrum ( X = 550 nm) bedraagt.
Magnesiumfluoridelagen warden veelal aangebracht door opdampen in vacuum. Voor grote substraten is deze methode omslachtig en brengt hoge kosten met zich mee. Bovendien kunnen sterk gekromde oppervlakken niet door opdampen in vacuum met een gelijkmatige laag warden bedekt, 20 evenmin als bijvoorbeeld de binnenkant van buizen. Belangrijke substraten waarop antireflectieve lagen volgens de uitvinding kunnen worden aangebracht, zijn diverse soorten vlakglas zoals Pyrex, diverse optische glazen, kwartsglas en fosforen.
Een alternatieve werkwijze voor het aanbrengen van iretaal-25 fluaridelagen wordt bijvoorbeeld beschreven in het Amerikaanse octrooi-schrift nr. 3.475.192. Hierbij wordt het substraat bedekt met een oplossing van het metaalfluoride in een polair organisch oplosmiddel, waarna het substraat wordt verhit tot een temperatuur tussen 100° en 1000° C, bij voorkeur tussen 400° en 800° C. Bij deze methode is het nodig cm 30 een filmvormer aan de oplossing toe te voegen cm een laag van optisch goede kwaliteit te verkrijgen. Deze filmvormer moet bij de thermische behandeling uitgestookt worden, waarvoor een temperatuur tussen 400° en 800° C nodig kan zijn. Achterblijvende restanten van de filmvormer 8301652 PHN 10.671 2 kunnen de gevormde netaalfluoridelaag vertroebelen.
De onderhavige uitvinding beoogt nu een werkwijze voor het aanbrengen van magnesiumfluoridelagen bij relatief lage temperatuur en zonder het gebruik van filmvormers, met het doel magnesiumfluoridelagen 5 te verkrijgen die zuiver genoeg zijn cm een goede optische kwaliteit te waarborgen.
Volgens de uitvinding wordt aan deze opgave voldaan door een oplossing van een fluorbevattende organische magnesiumverbinding, die tenminste zes fluor atomen per magnes iumatocm bevat, met het substraat 10 in contact te brengen en thermisch te behandelen, onder vorming van het magnes iumfluoride door disproportionering.
De uitvinding berust op het verworven inzicht dat organische magnesiumverbindingen die een voldoend grote hoeveelheid fluor bevatten bij een thermische behandeling magnesiumfluaride vormen door dispropor-15 tionering. Het magnesiumfluaride is het enige vaste product van de disproportioner ing. Ook als geen speciale voorzorgen worden genomen on lucht van de reactie uit te sluiten worden geen magnesiumoxide en geen magnesium-carbonaat gevormd.
In een geschikte uitvoeringsvorm van de werkwijze wordt het 20 substraat in contact gebracht met een oplossing van een fluor bevattende organische magnesiumverbinding die tenminste twee -CF^-groepen per magnesiumatocm bevat.
Bijzonder geschikte verbindingen van dit type zijn magnesium-trifluoroacetaat,magnesiumtrifluoroacetylacetonaat, en magnesiuirihexafluoro-25 acetylacetonaat.
Het bijgaande formuleblad geeft de structuurformules weer van de verbindingen.
Figuur 1 stelt magnesiumtrifluoroacetaat voor,
Figuur 2 stelt magnesiumtrifluoroacetylacetonaat voor, en 30 Figuur 3 stelt magnesiumhexafluoroacetylacetonaat voor.
De magnesiumfluoridelagen kunnen volgens de uitvinding bijvoorbeeld worden aangebracht door een substraat, bijvoorbeeld uit glas of kwartsglas, te bedekken met een laag van een oplossing van een fluorbe-vattende organische magnesiumverbinding, zoals hierboven beschreven.
35 De laag van de oplossing kan, bijvoorbeeld bij kamertemperatuur, door spinnen of dompelen worden aangebracht. Daarna wordt de verkregen laag verhit tot een temperatuur van tenminste 300° C gedurende tenminste een minuut. Bij het toepassen van deze methode is magnes iumtr if luoroacetaat 8301652 FHN 10.671 3 bijzonder geschikt vanwege de geringe vluchtigheid. Dit is vooral van belang bijeen thermische behandeling boven 400° C. Bij een te grote vluchtigheid verdampt de verbinding zonder door disproportionering magne-siumfluoride te vormen. Geschikte oplosmiddelen bij deze methode zijn 5 butylacetaat en ethyleenglycolmonoethylether, maar ook andere oplosmiddelen kunnen worden gebruikt.
Ben alternatieve uitvoeringsvorm voor het aanbrengen van een magnesiumfluaridelaag bestaat uit het sproeien van een oplossing van een fluorbevattende organische magnesiumverbinding, zoals hierboven beschreven, 10 op een substraat dat qp hoge temperatuur wordt gehouden.
De oplossing kan bijvoorbeeld ultrasoon worden verneveld met lucht als draaggas, waarna de oplossing cp het substraat, bijvoorbeeld glas of kwartsglas, wordt gesproeid. De temperatuur van het substraat wordt hierbij bij voorkeur boven 400° C gehouden, omdat de oplossing bij 15 lagere temperaturen (experimenteel bijvoorbeeld bij 300 en 350° C) verdanpt zonder vorming van magnesiumfluoride door disproportionering.
De temperatuur van het substraat wordt bovendien bij voorkeur beneden 750° C gekozen, omdat bij hogere temperaturen (experimenteel bijvoor beeld bij 800° C) de gevormde magnesiumfluaridelaag troebel kan worden 20 en slecht hecht aan het substraat. Bij temperaturen boven 650° C ontstaan alleen goede optische lagen als de aanhrengtijd kort is. De aanbrengtijd van magnesiumfluoridelagen wordt korter naarmate de concentratie van de fluorbevattende organische magnesiumverbinding in de oplossing hoger is.
Bij het toepassen van de sproeimethode voor het aantrengen van 25 magnesiumfluoridelagen moet bij de keuze van het oplosmiddel rekening worden gehouden met de verdampingssnelheid van het oplosmiddel en met de ontledingssnelheid van de fluorbevattende organische magnesiumverbinding. Bij voorkeur wordt een oplosmiddel gekozen met een kookpunt boven 100° C cm een te snelle verdamping te voorkomen. Ben kookpunt beneden 160° C 30 is gewenst cm te snelle ontleding van de fluorbevattende organische magnesiumverbinding te voorkomen. Een geschikt oplosmiddel is bijvoorbeeld ethyleenglycolmonoethylether.
Cp zichzelf is het bekend dat een thermische behandeling kan worden gebruikt cm lagen, gevormd door oplossingen van fluorbevattende 35 organische indiumverbindingen, cm te zetten in fluoridefcevattende indiumverbindingen, zie bijvoorbeeld het Duitse octrooischrift nr.
934.848. Hetzelfde is bekend van fluorbevattende organische tinverbindingen, zie bijvoorbeeld bet Amerikaanse octrooischrift nr. 3.759.743. In deze ge- 8301652 t PHN 10.671 4 vallen wordt echter het betreffende metaalaxide gevormd, met daarin een hoeveelheid metaalfuoride. In het gunstigste geval wordt metaaloxy-fluaride gevormd. De vorming van zuiver netaalfluorlde bij magnesium was daarom niet te verwachten.
5 Een thermische behandeling van lagen, gevormd door oplossingen van fluor be vattende organische ijzer- en yttriumver bindingen, wordt ter vergelijking beschreven in de uitvoeringsvoarbeelden 6 en 7 (niet volgens de uitvinding). De vorming van zuivere metaalf luorides vindt alleen plaats onder uitsluiting van zuurstof, in tegenstelling tot de 10 situatie bij fluorbevattende organische magnesiumverbindingen.
Uit experimenten is gebleken dat bij een thermische behandeling van lagen, gevormd door calciumtrifluoroacetaat-oplossingen, calcium-fluoride wordt gevormd,met daarin meer dan 5 gewichts % calciumoxide. De gevormde laag is melkachtig en hecht niet goed op het substraat. Hieruit 15 blijkt de uitzonderlijke situatie van magnesiumverbindingen, steeds onder dezelfde omstandigheden, omdat zelfs de verwante calciumverbindingen een afwijkend gedrag vertonen.
De uitvinding zal nu aan de hand van een aantal voorbeelden nader worden toegelicht.
20 Uitvoeringsvoorbeeld 1. (volgens de uitvinding)
Magnesiumtrifluoroacetaat wordt opgelost (10 gewichts %) in ethyleenglycolmonoethylether. Een glassubstraat wordt bij kamertemperatuur in de oplossing gedompeld of. de oplossing wordt door spinnen op het glassubstraat aangebracht, waardoor een organonetallische film wordt ver-25 kregen.
De aldus verkregen laag wordt verhit tot 500° C gedurende een minuut met als resultaat een dichte laag die röntgenografisch de karakteristieken heeft van MgF^ en waarvan de brekingsindex n gelijk is aan 1.39, zoals bij opgedampt MgF2. De gevormde laag is poets vast. De hoe-30 veelheid gereflecteerd licht is verminderd van 4% (schoon glassubstraat) tot 0.5 % (glassubstraat met magnesiumfluoride laag).
Magnesiumfluoridelagen kunnen ook worden aangebracht, uitgaande van minder geconcentreerde oplossingen (1-10 gewichts %). De dikte van de laag is groter naarmate de concentratie van de oplossing hoger is.
35 Uitvoeringsvoorbeeld 2. (volgens de uitvinding)
Als uitvoeringsvoorbeeld 1, waarbij magnesiumtrifluoroacetaat wordt opgelost in butylacetaat (30 gewichts %). De eigenschappen van de gevormde laag zijn identiek met die in het vorige uitvoeringsvoorbeeld.
8301652 4 EHN 10.671 5
Magnes iumfluarIdelagen kunnen ook worden aangebracht met gebruik van minder geconcentreerde oplossingen (1-30 gewichts %) in butylacetaat. Uitveeringsvoorbeeld 3. (volgens de uitvinding)
Als uitvoeringsvoorteeld 1, waarbij de verkregen laag wordt verhit 5 tot 300° C. De gevormde laag heeft een brekingsindex n = 1.40 en heeft verder dezelfde eigenschappen als in uitvoeringsvoorbeeld 1. Uitvoeringsvoorbeelden 4 en 5. (ter vergelijking)
Als uitvoer ingsvoor beeld 1, waarbij respectievelijk wordt uitgegaan van magnesiumtrifluoroacetylacetonaat en van magnesiumhexafluoroace-10 tylacetonaat. Bij verhitten tot 500° C verdampen deze verbindingen grotendeels voordat door dispreportionering MgF£ wordt geventü. De gebruikte verbindingen mogen dus niet te vluchtig zijn bij de gekozen temperatuur. Uitvoeringsvoorbeelden 6 en 7. (ter vergelijking)
Als uitvoer ingsvoor beeld 1, waarbij respectievelijk wordt uitge-15 gaan van ijzer (II) trifluoroacetaat en van yttriumfcrifluoroacetaat. Bij het verhitten tot 500° C worden respectievelijk ijzeroxide en yttrium-oxyfluoride gevormd. Als de thermische behandeling daarentegen wordt uigevoerd in een stikstofatmosfeer worden ijzer (II) fluoride en yttrium-fluoride gevormd.
20 Uitvoer ingsvoor beeld 8. (volgens de uitvinding)
Een 1.5 gewichts % oplossing van magnesiumbexaflucroacetylacetonaat in ethyleenglycolmcnoethylether wordt ultrasoon verneveld en net lucht als draaggas op een kwartssubstraat gebracht. Het substraat wordt daarbij op een temperatuur van 600° C gehouden. De gebruikte apparatuur is be-25 schreven in het Europees cctrooischrift nr. 3148 en in het Duitse octrooischrift DE-OS 2.802.814.
Na sproeien gedurende 20 minuten is een kristallij ne laag gevormd met een dikte van 0.2 en een brekingsindex n = 1.36. De hechting en de optische eigenschappen van de laag zijn uitstekend/ evenals de 30 krasvastheid. Röntgendiffractiemetingen geven aan dat alleen M3F2 611 geen MgO aanwezig is.
Uitvoeringsvoorteeld 9. (volgens de uitvinding)
Als uitvoeringsvoorteeld 8, waarbij het substraat op een temperatuur van 500° C wordt gehouden. Na 60 minuten sproeien is een laag met 35 een dikte van 0.7 gevormd met een brekingsindex n = 1.38 en verder met eigenschappen zoals in het vorige uitvoer ingsvoor beeld. Uitvoeringsvoorteeld 10. (volgens de uitvinding)
Als uitvoeringsvoorteeld 8/ waarbij wordt uitgegaan van een 4.3 8301652 EHN 10.671 6 gewichts % oplossing van raagnesiumhexafluoroacetylacetonaat in ethyleen-glycolmonoethylettier en waarbij bet substraat op een temperatuur van 700°C wordt gehouden. De resultaten zijn dezelfde als in uitvoeringsvoorfceeld 6. üitvoeringsvoorbeelden 11 en 12. (volgens de uitvinding) 5 Als uitvoeringsvoorbeeld 8, waarbij respectievelijk wordt uitge gaan van oplossingen van magnesiumtrifluoroacetaat en van magnesiumtri-fluoroacetylacetonaat. De gevormde lagen hebben brekingsindices tussen n = 1.36 en n = 1.40, afhankelijk van de temperatuur van het substraat.
Na een thermische behandeling bij 500° C is de brekingsindex van de 10 gevormde laag wat hoger dan na een thermische behandeling bij 600° C.
De werkwijze volgens de uitvinding kan worden toegepast voor het aanbrengen van antireflectieve lagen op een groot aantal optische componenten, bijvoorbeeld op lenzen en filters, maar ook op beeldschermen. Deze lagen kunnen ook worden aangebracht als component in een lichbdoor-15 latende infraroodspiegel in een lamp of verlichtingsbuis, of in een stapeling af gewisseld met lagen met een hoge brekingsindex (bijvoorbeeld ZnS, n = 2.36) teneinde een dichroïde spiegel te vormen zoals een laserspie-gel of een optisch filter.
20 25 30 35 8301652
Claims (10)
1. Werkwijze vcor het aanbrengen van een laag van magnes iumf luor ide op een substraat, waarbij een oplossing van een fluor bevattende magnesium-verbinding roet het substraat in contact wordt gebracht en thermisch behandeld, met het kenmerk, dat een oplossing van een fluorbevattende orga- 5 nische magnesiumverbinding, die tenminste zes fluaratcnen per magnesium-atocm bevat, met het substraat in contact wordt gebracht en thermisch wordt behandeld onder vorming van magnesiumfluoride door disprpportio-nering.
2. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de fluor-10 bevattende organische magnes iumverbinding tenminste twee -CF^-groepen per magnesiumatoan bevat.
3. Werkwijze volgens conclusie 2, met het kenmerk, dat de fluor bevattende organische magnesiumverbinding wordt gekozen uit de groep, bestaande uit magnesiumtrifluaroacetaat, magnesiumtrifluoroacetylacetonaat 15 en magnes iumhexaf luaroacetylacetonaat.
4. Werkwijze volgens conclusies 1-3, met het kenmerk, dat een substraat wordt bedekt met een laag van een oplossing van de fluarbevattende organische magnesiumverbinding in een organisch oplosmiddel, waarna de verkregen laag wordt verhit tot een temperatuur van tenminste 300° C 20 gedurende tenminste een minuut.
5. Werkwijze volgens conclusie 4, met het kenmerk, dat de fluarbevattende organische magnesiumverbinding magnesiumtrifluoroacetaat is.
6. Werkwijze volgens conclusies 1-3, met het kenmerk, dat een oplossing van de fluarbevattende organische magnesiumverbinding in een 25 organisch oplosmiddel wordt gesproeid op een substraat dat op een tarpera-tuur tussen 400° en 750° C wordt gehouden.
7. Werkwijze volgens conclusie 6, met het kenmerk, dat de oplossing van de fluarbevattende organische magnesiumverbinding ultrasoon wordt verneveld met lucht als draaggas waarna de oplossing cp het substraat 30 wordt gesproeid.
8. Werkwijze volgens conclusie 6, net het kenmerk, dat het organisch oplosmiddel een kookpunt tussen 100° en 160° C heeft.
9. Werkwijze volgens conclusies 6-8, met het kenmerk, dat de fluor-bevattende organische magnesiumverbinding magnes iumhexaf luoroacetylaceto- 35 naat is en wordt opgelost in ethyleenglycolmonoethylether.
10. Antireflectieve laag verkregen volgens conclusies 1-9. 8301652
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8301652A NL8301652A (nl) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | Werkwijze voor het aanbrengen van magnesiumfluoridelagen en antireflectieve lagen verkregen met deze werkwijze. |
| US06/512,518 US4492721A (en) | 1983-05-10 | 1983-07-11 | Method of providing magnesium fluoride layers |
| EP84200644A EP0125721B1 (en) | 1983-05-10 | 1984-05-07 | Method of providing magnesium fluoride layers |
| DE8484200644T DE3462877D1 (en) | 1983-05-10 | 1984-05-07 | Method of providing magnesium fluoride layers |
| JP59091142A JPS59213643A (ja) | 1983-05-10 | 1984-05-09 | 弗化マグネシウム層を基体上に設ける方法 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8301652A NL8301652A (nl) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | Werkwijze voor het aanbrengen van magnesiumfluoridelagen en antireflectieve lagen verkregen met deze werkwijze. |
| NL8301652 | 1983-05-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL8301652A true NL8301652A (nl) | 1984-12-03 |
Family
ID=19841833
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL8301652A NL8301652A (nl) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | Werkwijze voor het aanbrengen van magnesiumfluoridelagen en antireflectieve lagen verkregen met deze werkwijze. |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4492721A (nl) |
| EP (1) | EP0125721B1 (nl) |
| JP (1) | JPS59213643A (nl) |
| DE (1) | DE3462877D1 (nl) |
| NL (1) | NL8301652A (nl) |
Families Citing this family (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3324647A1 (de) * | 1983-07-08 | 1985-01-17 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz | Tauchverfahren zur herstellung transparenter, elektrisch leitfaehiger, dotierter indiumoxidschichten |
| NL8303059A (nl) * | 1983-09-02 | 1985-04-01 | Philips Nv | Werkwijze voor de vervaardiging van een laag van een oxide van een element uit groep iva. |
| US4681819A (en) * | 1984-06-11 | 1987-07-21 | Alcan International Limited | Treatment of refractory articles |
| EP0211083B1 (en) * | 1985-01-17 | 1990-06-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Process for forming thin metal sulfide film |
| US4970376A (en) * | 1987-12-22 | 1990-11-13 | Gte Products Corporation | Glass transparent heater |
| KR920700408A (ko) * | 1989-02-23 | 1992-02-19 | 원본미기재 | MgF₂박막 및 저반사막의 형성 방법 |
| US5051278A (en) * | 1989-07-10 | 1991-09-24 | Eastman Kodak Company | Method of forming metal fluoride films by the decomposition of metallo-organic compounds in the presence of a fluorinating agent |
| US5165960A (en) * | 1991-07-29 | 1992-11-24 | Ford Motor Company | Deposition of magnesium fluoride films |
| US5403618A (en) * | 1993-09-16 | 1995-04-04 | Fireline, Inc. | Production of non-wettable refractories |
| FR2727103B1 (fr) * | 1994-11-23 | 1996-12-27 | Kodak Pathe | Procede de preparation des halogenures metalliques par voie sol-gel |
| SE515877C2 (sv) * | 1996-11-01 | 2001-10-22 | Formex Ab | Sätt för optisk anslutning av ett optiskt element, t ex ett ändparti av en optisk fiber, till en lins |
| DE102004027842A1 (de) * | 2004-06-08 | 2006-01-12 | Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH | Abrieb- und kratzfeste Beschichtungen mit niedriger Brechzahl auf einem Substrat |
| FR2893320B1 (fr) * | 2005-11-17 | 2009-05-29 | Univ Paris Curie | Oxyfluorure poreux nanostructure |
| US8177978B2 (en) | 2008-04-15 | 2012-05-15 | Nanoh20, Inc. | Reverse osmosis membranes |
| US20090274930A1 (en) * | 2008-04-30 | 2009-11-05 | Guardian Industries Corp. | Alkaline earth fluoride coatings deposited via combustion deposition |
| US8636845B2 (en) | 2008-06-25 | 2014-01-28 | L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude | Metal heterocyclic compounds for deposition of thin films |
| AU2010273709B2 (en) * | 2009-06-29 | 2015-08-20 | Nanoh2O, Inc. | Improved hybrid TFC RO membranes with nitrogen additives |
| US8399069B2 (en) * | 2009-07-30 | 2013-03-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of producing magnesium fluoride coating, antireflection coating, and optical element |
| EP2325675A2 (en) * | 2009-07-30 | 2011-05-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for producing optical film, optical film, and optical component |
| JP5683146B2 (ja) | 2010-06-24 | 2015-03-11 | キヤノン株式会社 | 光学膜の製造方法および光学素子の製造方法 |
| JP5843491B2 (ja) | 2010-06-24 | 2016-01-13 | キヤノン株式会社 | 塗布液、光学部品の製造方法および撮影光学系 |
| JP5641851B2 (ja) | 2010-09-30 | 2014-12-17 | キヤノン株式会社 | 光学膜製造用塗布液、その製造方法および光学膜の製造方法 |
| EP2637773B1 (en) | 2010-11-10 | 2019-10-30 | NanoH2O Inc. | Improved hybrid tfc ro membranes with non-metallic additives |
| KR20140085461A (ko) | 2011-09-27 | 2014-07-07 | 레르 리키드 쏘시에떼 아노님 뿌르 레？드 에렉스뿔라따시옹 데 프로세데 조르즈 클로드 | 니켈 비스 디아자부타디엔 전구체, 그들의 합성, 및 니켈 함유 필름 침착을 위한 그들의 용도 |
| US20150243974A1 (en) | 2014-02-25 | 2015-08-27 | Quantumscape Corporation | Hybrid electrodes with both intercalation and conversion materials |
| US9861940B2 (en) | 2015-08-31 | 2018-01-09 | Lg Baboh2O, Inc. | Additives for salt rejection enhancement of a membrane |
| US9737859B2 (en) | 2016-01-11 | 2017-08-22 | Lg Nanoh2O, Inc. | Process for improved water flux through a TFC membrane |
| US10155203B2 (en) | 2016-03-03 | 2018-12-18 | Lg Nanoh2O, Inc. | Methods of enhancing water flux of a TFC membrane using oxidizing and reducing agents |
| JP6818433B2 (ja) * | 2016-05-12 | 2021-01-20 | キヤノン株式会社 | トリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液 |
| JP6961775B2 (ja) * | 2016-05-12 | 2021-11-05 | キヤノン株式会社 | 光学膜 |
| JP6768346B2 (ja) * | 2016-05-12 | 2020-10-14 | キヤノン株式会社 | 光学膜 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3475192A (en) * | 1966-09-27 | 1969-10-28 | Engelhard Ind Inc | Method of coating substrate with metallic fluoride films |
| US4129434A (en) * | 1971-07-08 | 1978-12-12 | Glaverbell | Process for forming a metal oxide coating |
| US4160061A (en) * | 1975-03-29 | 1979-07-03 | Central Glass Company, Limited | Heat-reflecting glass plate and method of producing same |
| US4128303A (en) * | 1976-04-05 | 1978-12-05 | Kabushiki Kaisha Hoya Lens | Anti reflection coating with a composite middle layer |
| JPS5522704A (en) * | 1978-07-11 | 1980-02-18 | Olympus Optical Co Ltd | Multilayer antireflecting film |
| DE3010077C2 (de) * | 1980-03-15 | 1981-07-30 | Vereinigte Glaswerke Gmbh, 5100 Aachen | Verfahren zum Aufbringen von mit einem Halogen, vorzugsweise mit Fluor dotierten Zinnoxidschichten auf Glasoberflächen durch Pyrolyse |
-
1983
- 1983-05-10 NL NL8301652A patent/NL8301652A/nl not_active Application Discontinuation
- 1983-07-11 US US06/512,518 patent/US4492721A/en not_active Expired - Fee Related
-
1984
- 1984-05-07 DE DE8484200644T patent/DE3462877D1/de not_active Expired
- 1984-05-07 EP EP84200644A patent/EP0125721B1/en not_active Expired
- 1984-05-09 JP JP59091142A patent/JPS59213643A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0125721B1 (en) | 1987-04-01 |
| DE3462877D1 (en) | 1987-05-07 |
| US4492721A (en) | 1985-01-08 |
| JPS59213643A (ja) | 1984-12-03 |
| EP0125721A1 (en) | 1984-11-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| NL8301652A (nl) | Werkwijze voor het aanbrengen van magnesiumfluoridelagen en antireflectieve lagen verkregen met deze werkwijze. | |
| EP0166363B1 (en) | Low reflectance transparent material having antisoiling properties | |
| AU737747B2 (en) | An inorganic polymer material based on tantalum oxide, notably with a high refractive index, mechanically resistant to abrasion, its method of manufacture, and optical material including this material | |
| RU2470053C1 (ru) | Пористые покрытия из диоксида титана и способы формирования пористых покрытий из диоксида титана, имеющих улучшенную фотокаталитическую активность | |
| CA1141241A (en) | Process of making glass articles having antireflective coatings and products | |
| US5268196A (en) | Process for forming anti-reflective coatings comprising light metal fluorides | |
| US3202054A (en) | Radiation filter with plural iridized metal oxide films | |
| CA1232798A (en) | Method of manufacturing a layer of an oxide of an element from group ivb | |
| US20040028819A1 (en) | Composition and method for a coating providing anti-reflective and anti-static properties | |
| US6180188B1 (en) | Method for preparing a multilayer optical material with crosslinking-densifying by ultraviolet radiation | |
| US2474061A (en) | Method of producing thin microporous silica coatings having reflection reducing characteristics and the articles so coated | |
| JP3387204B2 (ja) | 偏光板、偏光板の製造方法および液晶表示装置 | |
| US3475192A (en) | Method of coating substrate with metallic fluoride films | |
| HUT67512A (en) | Mixed oxides for makingh optical coatings of medium refractive index by means of vaporating | |
| JP5008807B2 (ja) | 高屈折率光学層製造用蒸着材料および蒸着材料の製造方法 | |
| TW200427645A (en) | Vapour-deposition material for the production of optical layers of high refractive index | |
| US6783704B1 (en) | Method and agent for producing hydrophobic layers on fluoride layers | |
| US5208101A (en) | Anti-reflective coatings comprising light metal fluorides | |
| JP3449070B2 (ja) | 汚れ防止処理方法 | |
| EP0400796B1 (en) | Anti-reflective coating comprising light metal fluorides | |
| US3493289A (en) | Coated optical devices | |
| Nishide et al. | Control of refractive index of sol-gel tungsten oxide films | |
| Hussmann | Dip coatings: characteristics, properties, applications | |
| JP2698623B2 (ja) | 反射鏡 | |
| JP2006519923A (ja) | 高屈折率光学層を製造するための蒸着材料 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A1B | A search report has been drawn up | ||
| A85 | Still pending on 85-01-01 | ||
| BV | The patent application has lapsed |