JP5667996B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
請求項3記載の発明は、キャリアブロックと、該キャリアブロックのキャリアから搬送された基板を処理する処理ブロックと、該処理ブロックに連設されて処理ブロックと露光装置とを接続するインターフェイスブロックと、を備える基板処理装置において、 上記処理ブロックは、基板に処理液を供給する複数の液処理部を積層する液処理モジュールと、上記液処理モジュールと対向する位置に配置される複数の熱処理部を積層する熱処理モジュールと、上記液処理モジュールと熱処理モジュールとの間に形成される搬送領域における上記インターフェイスブロック側に配置されると共に、インターフェイスブロック内に移動可能な複数の基板の載置部を積層する処理棚ユニットと、上記搬送領域内に移動自在に配設され、上記液処理モジュール、熱処理モジュール及び処理棚ユニットに対して基板を受け渡しする搬送アームと、上記処理棚ユニットの近傍に配置され、処理棚ユニットと上記液処理モジュールとの間で基板を受け渡す処理用受渡しアームと、を具備し、 上記インターフェイスブロックは、上記処理棚ユニットと露光装置との間で基板の受け渡しを行うインターフェイスアームと、該インターフェイスアームを上記インターフェイスブロックの外部に移動する移動機構と、を具備し、 上記搬送アーム、処理用受渡しアーム、インターフェイスアーム、搬送アームの移動機構及びインターフェイスアームの移動機構を制御する制御手段からの信号に基づいて、上記搬送アームの装置外部に露呈する点検・交換位置又は待機位置への移動を行うように形成し、かつ、上記処理ブロックの搬送領域内への作業者の進入を可能にすべく、上記インターフェイスアームの移動、上記処理棚ユニットの移動及び処理用受渡しアームの上昇を行うように形成してなり、 上記処理ブロックの搬送領域には各層毎に仕切板によって区画されており、任意の仕切板が取り外し可能に形成されている、ことを特徴とする。
請求項4記載の発明は、キャリアブロックと、該キャリアブロックのキャリアから搬送された基板を処理する処理ブロックと、該処理ブロックに連設されて処理ブロックと露光装置とを接続するインターフェイスブロックと、上記キャリアブロックと処理ブロックの間に配置されるマルチパーパスブロックと、を備える基板処理装置において、 上記処理ブロックは、基板に処理液を供給する複数の液処理部を積層する液処理モジュールと、上記液処理モジュールと対向する位置に配置される複数の熱処理部を積層する熱処理モジュールと、上記液処理モジュールと熱処理モジュールとの間に形成される搬送領域における上記インターフェイスブロック側に配置されると共に、インターフェイスブロック内に移動可能な複数の基板の載置部を積層する処理棚ユニットと、上記搬送領域内に移動自在に配設され、上記液処理モジュール、熱処理モジュール及び処理棚ユニットに対して基板を受け渡しする搬送アームと、上記処理棚ユニットの近傍に配置され、処理棚ユニットと上記液処理モジュールとの間で基板を受け渡す処理用受渡しアームと、を具備し、 上記マルチパーパスブロックは、基板を載置する複数の載置部を積層した棚ユニットと、該棚ユニットの各載置部との間で基板を受け渡す前処理用受渡しアームと、を具備すると共に、上記棚ユニット及び前処理用受渡しアームが上記マルチパーパスブロックから搬出可能に形成してなり、 上記搬送アーム、処理用受渡しアーム、前処理用受渡しアーム及び搬送アームの移動機構を制御する制御手段からの信号に基づいて、上記搬送アームの装置外部に露呈する点検・交換位置又は待機位置への移動、上記処理ブロックの搬送領域内への作業者の進入を可能にすべく、上記棚ユニットと前処理用受渡しアームの搬出の確認を行うように形成してなり、 上記処理ブロックの搬送領域には各層毎に仕切板によって区画されており、任意の仕切板が取り外し可能に形成されている、ことを特徴とする。
第1実施形態は、装置内に作業者が進入せずに、各単位ブロックB1〜B6に配設される搬送アームA1〜A6(以下に符号Aで代表する)の交換、例えば搬送アームAに着脱可能に取り付けられている保持具51の交換を行えるようにした場合である。
第2実施形態は、インターフェイスブロックS4から作業者Mが装置内に進入して搬送アームや液処理モジュールの点検・交換作業を行えるようにした場合である。
第3実施形態は、マルチパーパスブロックS2から作業者Mが装置内に進入して搬送アームや液処理モジュールの点検・交換作業を行えるようにした場合である。
第4実施形態は、装置内に作業者が進入せずに、熱処理モジュールの温度測定及び温度調整を行えるようにした場合である。
第5実施形態は、装置内に作業者が進入せずに、液処理モジュール、熱処理モジュール及び搬送アーム及び受渡しアームの位置測定と位置調整を行えるようにした場合である。
上記第1ないし第5実施形態を組み合わせることで、第1ないし第5実施形態の機能の全てを装備することができる。すなわち、搬送アームAを装置外部に露呈する点検・交換位置例えば液処理モジュール21の任意の液処理モジュールに移動することにより、搬送アームAの構成部材の点検・交換を行うことができる。また、インターフェイスブロックS4又はマルチパーパスブロックS2のいずれから作業者の装置内への進入スペースを確保することができと共に、搬送アームAを安全な待機位置1,2へ移動した上で、作業者は容易に装置内に進入することができる。また、装置内に作業者がいるか否かの有無を確認することができる。更には、インターフェイスアーム33又は前処理用受渡しアーム30に温度測定用治具80又は位置測定用治具81を搭載することにより、装置内に作業者が進入することなく、熱処理モジュール40の各熱処理部である加熱モジュールの温度測定と温度調整を行うことができると共に、液処理モジュール21、熱処理モジュール、搬送アームA及び受渡しアームの位置測定と位置調整を行うことができる。
S2 マルチパーパスブロック
S3 処理ブロック
S4 インターフェイスブロック
S5 露光装置
A,A1〜A6 搬送アーム
U7 棚ユニット
U8 処理棚ユニット
R,R1〜R6 搬送領域
21 液処理モジュール
30 前処理用受渡しアーム
31 処理用受渡しアーム
33 インターフェイスアーム
35 移動機構
40 熱処理モジュール
41 加熱モジュール
51 保持具
70,71 仕切板
80 温度測定用治具
81 位置測定用治具
Claims (11)
- キャリアブロックと、該キャリアブロックのキャリアから搬送された基板を処理する処理ブロックと、該処理ブロックに連設されて処理ブロックと露光装置とを接続するインターフェイスブロックと、画像表示部と、を備える基板処理装置において、
上記処理ブロックは、基板に処理液を供給する複数の液処理部を積層する液処理モジュールと、上記液処理モジュールと対向する位置に配置される複数の熱処理部を積層する熱処理モジュールと、上記液処理モジュールと熱処理モジュールとの間に形成される搬送領域における上記インターフェイスブロック側に配置されると共に、インターフェイスブロック内に移動可能な複数の基板の載置部を積層する処理棚ユニットと、上記搬送領域内に移動自在に配設され、上記液処理モジュール、熱処理モジュール及び処理棚ユニットに対して基板を受け渡しする搬送アームと、上記処理棚ユニットの近傍に配置され、処理棚ユニットと上記液処理モジュールとの間で基板を受け渡す処理用受渡しアームと、を具備し、
上記インターフェイスブロックは、上記処理棚ユニットと露光装置との間で基板の受け渡しを行うインターフェイスアームと、該インターフェイスアームを上記インターフェイスブロックの外部に移動する移動機構と、を具備し、
上記搬送アーム、処理用受渡しアーム、インターフェイスアーム、搬送アームの移動機構及びインターフェイスアームの移動機構を制御する制御手段からの信号に基づいて、上記搬送アームの装置外部に露呈する点検・交換位置又は待機位置への移動を行うように形成し、かつ、上記処理ブロックの搬送領域内への作業者の進入を可能にすべく、上記インターフェイスアームの移動、上記処理棚ユニットの移動及び処理用受渡しアームの上昇を行い、
上記画像表示部は、上記制御部からの信号を受けて、上記搬送アームの装置外部に露呈する点検・交換位置の確認、上記搬送アームの待機位置の確認、上記インターフェイスアームの移動の確認、上記棚ユニットの移動の確認、上記処理用受渡しアームの上昇の確認及び上記搬送領域内の作業者の有無の確認を表示するように形成してなる、
ことを特徴とする基板処理装置。 - キャリアブロックと、該キャリアブロックのキャリアから搬送された基板を処理する処理ブロックと、該処理ブロックに連設されて処理ブロックと露光装置とを接続するインターフェイスブロックと、上記キャリアブロックと処理ブロックの間に配置されるマルチパーパスブロックと、画像表示部と、を備える基板処理装置において、
上記処理ブロックは、基板に処理液を供給する複数の液処理部を積層する液処理モジュールと、上記液処理モジュールと対向する位置に配置される複数の熱処理部を積層する熱処理モジュールと、上記液処理モジュールと熱処理モジュールとの間に形成される搬送領域における上記インターフェイスブロック側に配置されると共に、インターフェイスブロック内に移動可能な複数の基板の載置部を積層する処理棚ユニットと、上記搬送領域内に移動自在に配設され、上記液処理モジュール、熱処理モジュール及び処理棚ユニットに対して基板を受け渡しする搬送アームと、上記処理棚ユニットの近傍に配置され、処理棚ユニットと上記液処理モジュールとの間で基板を受け渡す処理用受渡しアームと、を具備し、
上記マルチパーパスブロックは、基板を載置する複数の載置部を積層した棚ユニットと、該棚ユニットの各載置部との間で基板を受け渡す前処理用受渡しアームと、を具備すると共に、上記棚ユニット及び前処理用受渡しアームが上記マルチパーパスブロックから搬出可能に形成してなり、
上記搬送アーム、処理用受渡しアーム、前処理用受渡しアーム及び搬送アームの移動機構を制御する制御手段からの信号に基づいて、上記搬送アームの装置外部に露呈する点検・交換位置又は待機位置への移動、上記処理ブロックの搬送領域内への作業者の進入を可能にすべく、上記棚ユニットと前処理用受渡しアームの搬出の確認を行うように形成してなり、
上記画像表示部は、上記制御部からの信号を受けて、上記搬送アームの装置外部に露呈する点検・交換位置の確認、上記搬送アームの待機位置の確認、上記棚ユニットと前処理用受渡しアームの搬出の確認及び上記搬送領域内の作業者の有無の確認を表示するように形成してなる、
ことを特徴とする基板処理装置。 - キャリアブロックと、該キャリアブロックのキャリアから搬送された基板を処理する処理ブロックと、該処理ブロックに連設されて処理ブロックと露光装置とを接続するインターフェイスブロックと、を備える基板処理装置において、
上記処理ブロックは、基板に処理液を供給する複数の液処理部を積層する液処理モジュールと、上記液処理モジュールと対向する位置に配置される複数の熱処理部を積層する熱処理モジュールと、上記液処理モジュールと熱処理モジュールとの間に形成される搬送領域における上記インターフェイスブロック側に配置されると共に、インターフェイスブロック内に移動可能な複数の基板の載置部を積層する処理棚ユニットと、上記搬送領域内に移動自在に配設され、上記液処理モジュール、熱処理モジュール及び処理棚ユニットに対して基板を受け渡しする搬送アームと、上記処理棚ユニットの近傍に配置され、処理棚ユニットと上記液処理モジュールとの間で基板を受け渡す処理用受渡しアームと、を具備し、
上記インターフェイスブロックは、上記処理棚ユニットと露光装置との間で基板の受け渡しを行うインターフェイスアームと、該インターフェイスアームを上記インターフェイスブロックの外部に移動する移動機構と、を具備し、
上記搬送アーム、処理用受渡しアーム、インターフェイスアーム、搬送アームの移動機構及びインターフェイスアームの移動機構を制御する制御手段からの信号に基づいて、上記搬送アームの装置外部に露呈する点検・交換位置又は待機位置への移動を行うように形成し、かつ、上記処理ブロックの搬送領域内への作業者の進入を可能にすべく、上記インターフェイスアームの移動、上記処理棚ユニットの移動及び処理用受渡しアームの上昇を行うように形成してなり、
上記処理ブロックの搬送領域には各層毎に仕切板によって区画されており、任意の仕切板が取り外し可能に形成されている、
ことを特徴とする基板処理装置。 - キャリアブロックと、該キャリアブロックのキャリアから搬送された基板を処理する処理ブロックと、該処理ブロックに連設されて処理ブロックと露光装置とを接続するインターフェイスブロックと、上記キャリアブロックと処理ブロックの間に配置されるマルチパーパスブロックと、を備える基板処理装置において、
上記処理ブロックは、基板に処理液を供給する複数の液処理部を積層する液処理モジュールと、上記液処理モジュールと対向する位置に配置される複数の熱処理部を積層する熱処理モジュールと、上記液処理モジュールと熱処理モジュールとの間に形成される搬送領域における上記インターフェイスブロック側に配置されると共に、インターフェイスブロック内に移動可能な複数の基板の載置部を積層する処理棚ユニットと、上記搬送領域内に移動自在に配設され、上記液処理モジュール、熱処理モジュール及び処理棚ユニットに対して基板を受け渡しする搬送アームと、上記処理棚ユニットの近傍に配置され、処理棚ユニットと上記液処理モジュールとの間で基板を受け渡す処理用受渡しアームと、を具備し、
上記マルチパーパスブロックは、基板を載置する複数の載置部を積層した棚ユニットと、該棚ユニットの各載置部との間で基板を受け渡す前処理用受渡しアームと、を具備すると共に、上記棚ユニット及び前処理用受渡しアームが上記マルチパーパスブロックから搬出可能に形成してなり、
上記搬送アーム、処理用受渡しアーム、前処理用受渡しアーム及び搬送アームの移動機構を制御する制御手段からの信号に基づいて、上記搬送アームの装置外部に露呈する点検・交換位置又は待機位置への移動、上記処理ブロックの搬送領域内への作業者の進入を可能にすべく、上記棚ユニットと前処理用受渡しアームの搬出の確認を行うように形成してなり、
上記処理ブロックの搬送領域には各層毎に仕切板によって区画されており、任意の仕切板が取り外し可能に形成されている、
ことを特徴とする基板処理装置。 - キャリアブロックと、該キャリアブロックのキャリアから搬送された基板を処理する処理ブロックと、該処理ブロックに連設されて処理ブロックと露光装置とを接続するインターフェイスブロックと、画像表示部と、を備える基板処理装置において、
上記処理ブロックは、基板に処理液を供給する複数の液処理部を積層する液処理モジュールと、上記液処理モジュールと対向する位置に配置される複数の熱処理部を積層する熱処理モジュールと、上記液処理モジュールと熱処理モジュールとの間に形成される搬送領域内に移動自在に配設され、上記液処理モジュール、熱処理モジュールに対して基板を受け渡しする搬送アームを具備し、
上記インターフェイスブロックは、上記処理ブロックと上記露光装置との間で基板の受け渡しを行うインターフェイスアームを具備し、
上記搬送アーム、インターフェイスアームの移動機構を制御する制御手段からの信号に基づいて、上記処理ブロックの搬送領域内への作業者の進入を可能にすべく、上記搬送アーム及び上記インターフェイスアームの移動を行い、
上記画像表示部は、上記制御部からの信号を受けて、上記搬送領域内の作業者の有無の確認を表示するように形成してなる、
ことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項5記載の基板処理装置において、
上記画像表示部は、制御部からの信号を受けて、上記インターフェイスアームの移動の確認を表示するように形成してなる、
ことを特徴とする基板処理装置。 - キャリアブロックと、該キャリアブロックのキャリアから搬送された基板を処理する処理ブロックと、該処理ブロックに連設されて処理ブロックと露光装置とを接続するインターフェイスブロックと、を備える基板処理装置において、
上記処理ブロックは、基板に処理液を供給する複数の液処理部を積層する液処理モジュールと、上記液処理モジュールと対向する位置に配置される複数の熱処理部を積層する熱処理モジュールと、上記液処理モジュールと熱処理モジュールとの間に形成される搬送領域内に移動自在に配設され、上記液処理モジュール、熱処理モジュールに対して基板を受け渡しする搬送アームと、を具備し、
上記処理ブロックの搬送領域には各層毎に仕切板によって区画されており、任意の仕切板が取り外し可能に形成されている、
ことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1,3,5又は6に記載の基板処理装置において、
上記インターフェイスアームが受け渡し可能な位置に移動可能に形成され、上記インターフェイスアームに搭載される温度測定用治具によって上記熱処理モジュールの各熱処理部の温度測定を行い、その信号を上記制御部に伝達し、上記制御手段からの信号に基づいて、上記熱処理モジュールの温度調整を行うように形成してなる、
ことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1,3,5又は6に記載の基板処理装置において、
上記インターフェイスアームが受け渡し可能な位置に移動可能に形成され、上記インターフェイスアームに搭載される上下、左右の位置を測定する位置測定用治具によって上記液処理モジュールの各液処理部、熱処理モジュールの各熱処理部、搬送アーム及び受渡しアームの位置測定を行い、その信号を上記制御部に伝達し、上記制御手段からの信号に基づいて、上記液処理モジュールの各液処理部、熱処理モジュールの各熱処理部、搬送アーム及び受渡しアームの位置調整を行うように形成してなる、
ことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2又は4に記載の基板処理装置において、
上記前処理用受渡しアームが受渡し可能な位置に移動可能に形成され、上記前処理用受渡しアームに搭載される温度測定用治具によって上記熱処理モジュールの各熱処理部の温度測定を行い、その信号を上記制御部に伝達し、上記制御手段からの信号に基づいて、上記熱処理モジュールの温度調整を行うように形成してなる、
ことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2又は4に記載の基板処理装置において、
上記前処理用受渡しアームが受渡し可能な位置に移動可能に形成され、上記前処理用受渡しアームに搭載される上下、左右の位置を測定する位置測定用治具によって上記液処理モジュールの各液処理部、熱処理モジュールの各熱処理部、搬送アーム及び受渡しアームの位置測定を行い、その信号を上記制御部に伝達し、上記制御手段からの信号に基づいて、上記液処理モジュールの各液処理部、熱処理モジュールの各熱処理部、搬送アーム及び受渡しアームの位置調整を行うように形成してなる、
ことを特徴とする基板処理装置。
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