JP5667194B2 - 射出成形用スタンパの製造方法 - Google Patents
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Claims (7)
- 基板に所定の微細パターンを形成するパターン形成段階と、
前記基板に対してニッケル又は銅メッキを行って前記微細パターンが転写されたスタンパを形成する金属メッキ段階と、
前記の金属メッキで形成されたスタンパを前記基板から離型させるスタンパ分離段階と、
電子ビーム蒸着法により窒化チタンをコーティングすることにより、前記スタンパのパターン上に鏡面を保持するための保護層をコーティングする保護層コーティング段階と、
を含み、
前記スタンパから転写された前記微細パターンを備える構造物において、前記微細パターンのピッチ及び前記微細パターンの間隔を調節して、見る方向によって、前記構造物の表面の色が変化し、
前記の窒化チタンコーティング層の厚さは0.2〜0.6μmである、
ことを特徴とする射出成形用スタンパの製造方法。 - 前記保護層コーティング段階は、窒素雰囲気または窒素及びアルゴン雰囲気の真空チャンバ内でチタンに電子ビームを照射し、前記スタンパにチタンイオンと窒素イオンを蒸着させる段階を含む、請求項1に記載の射出成形用スタンパの製造方法。
- 前記保護層コーティング段階の前に、前記スタンパを溶剤に浸して超音波を加えることで前記スタンパを洗浄する超音波洗浄段階をさらに含む、請求項1に記載の射出成形用スタンパの製造方法。
- 前記溶剤は、アセトン溶剤である、請求項3に記載の射出成形用スタンパの製造方法。
- 前記パターン形成段階は、
前記基板上にフォトレジストを塗布する段階と、
前記の塗布されたフォトレジストをソフトベークする段階と、
前記の塗布されたフォトレジストを有する基板上に所定形態のパターンマスクを載せて露光する段階と、
前記の露光されたフォトレジストを現像する段階と
前記フォトレジストが部分的に除去された箇所をハードベークする段階と、を含む、請求項1に記載の射出成形用スタンパの製造方法。 - 前記パターン形成段階の後に、前記の形成されたパターン上にシード層を蒸着する段階をさらに含む、請求項1に記載の射出成形用スタンパの製造方法。
- 前記パターン形成段階は、
前記基板上に金属を蒸着する段階と、
前記の蒸着された金属を電解研磨する段階と、
前記金属を1次陽極酸化する段階と、
生成された金属酸化物をエッチングして除去する段階と、
酸化されていない金属を2次陽極酸化する段階と、
前記2次陽極酸化により前記微細パターンと前記基板との間に形成されたバリア層を除去する段階と、を含む、請求項1に記載の射出成形用スタンパの製造方法。
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