JP5664904B2 - Glass plate continuous polishing apparatus and continuous polishing method - Google Patents

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Description

本発明は、ガラス板の連続研磨装置及び連続研磨方法に関する。   The present invention relates to a glass plate continuous polishing apparatus and a continuous polishing method.

従来、ガラス等の板状体の研磨は、仕上げ面の均一化を図るために、定盤を偏心揺動させて研磨している。すなわち、定盤の姿勢を一定に保持した状態で、定盤を偏心回転させて研磨する。これにより、定盤はどの点をとっても周速が一定となり、研磨の均一化を図ることができる。   Conventionally, polishing of a plate-like body such as glass is performed by swinging the surface plate eccentrically in order to make the finished surface uniform. That is, polishing is performed by rotating the platen eccentrically while maintaining the posture of the platen constant. As a result, the peripheral speed of the surface plate is constant at any point, and the polishing can be made uniform.

例えば、特許文献１には、液晶用のガラス基板のような比較的薄いガラス板を自動的に連続して研磨する連続研磨装置として、研磨台車の上にガラス板を搭載して移送する際、移送方向に沿って移動する研磨台車の上方に研磨パッドを有する研磨具を複数並べて配置してそれぞれを偏心回転させ、研磨台車上に搭載されて移送されるガラス板を各研磨具により上から連続的に研磨するようにしたものが開示されている。   For example, in Patent Document 1, as a continuous polishing apparatus that automatically and continuously polishes a relatively thin glass plate such as a glass substrate for liquid crystal, when the glass plate is mounted on a polishing carriage and transferred, A plurality of polishing tools having polishing pads are arranged side by side above the polishing carriage moving along the transfer direction, and each of them is rotated eccentrically, and the glass plate that is mounted on the polishing carriage and transferred is continuously provided from above by each polishing tool. What is grind | polished automatically is disclosed.

このとき特許文献１に記載の連続研磨装置において、それぞれ偏心回転する研磨具は、隣り合う研磨具の回転位相が１８０度反転するように設置され、特に偶数個の研磨具がガラス板に対して作動しているとき、ガラス板に加わる負荷を相殺するようにしている。またさらに、これら複数の研磨具を一つのドライブシャフトに駆動結合させて、同時に回転するようにしている。   At this time, in the continuous polishing apparatus described in Patent Document 1, each of the polishing tools that rotate eccentrically is installed so that the rotation phase of the adjacent polishing tools is reversed by 180 degrees. When operating, the load on the glass plate is offset. Still further, the plurality of polishing tools are drive-coupled to a single drive shaft so as to rotate simultaneously.

特開平２−８３１５０号公報JP-A-2-83150

前記従来のように、偏心軸によって研磨具を偏心回転させることで平面研磨を行う装置において、複数の研磨具で被研磨材を連続研磨する際、被研磨材に対して作用する負荷を相殺することは大きな課題であった。   In the conventional apparatus for performing planar polishing by rotating the polishing tool eccentrically with an eccentric shaft as in the prior art, when a material to be polished is continuously polished with a plurality of polishing tools, the load acting on the material to be canceled is offset. That was a big challenge.

しかし、特に被研磨材が大型化するのに伴い、研磨装置全体も大型化し、被研磨材に作用する負荷も相対的に増加しているため、上記従来のように、複数の研磨具を一つのドライブシャフトに駆動結合させて隣り合う２つの研磨具の回転位相が１８０度反転するように設置して被研磨材に作用する負荷を相殺しようとするものでは、装置の大型化に対応しきれないという問題がある。   However, as the material to be polished increases in size, the entire polishing apparatus also increases in size, and the load acting on the material to be polished has increased relatively. If the two drive shafts are driven and connected so that the rotation phase of two adjacent polishing tools is reversed 180 degrees to offset the load acting on the material to be polished, the size of the device can be fully increased. There is no problem.

またさらに、上述した従来の連続研磨装置のように、一つの駆動源によるドライブシャフトで全ての研磨具を同時に偏心回転させるものでは、研磨具の様々な用途に対応できないという問題がある。   Furthermore, as in the conventional continuous polishing apparatus described above, there is a problem that it is not possible to deal with various uses of the polishing tool when all the polishing tools are simultaneously eccentrically rotated by the drive shaft by one drive source.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、研磨具から被研磨材に作用する負荷を相殺し、装置の振動を低減して、研磨装置を大型化することを容易にしたガラス板の連続研磨装置及び連続研磨方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and is a glass that can easily increase the size of a polishing apparatus by offsetting the load acting on the material to be polished from the polishing tool, reducing the vibration of the apparatus. An object is to provide a continuous polishing apparatus and a continuous polishing method for a plate.

前記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、ガラス板を一方向に移送する研磨テーブルと、該研磨テーブルの上方にガラス板の移送方向に沿って配置された複数の研磨具とを有し、各研磨具は該研磨具の質量中心から偏心した偏心軸を有し、該研磨具の研磨面と前記ガラス板の被研磨面とが平行になるように、当該研磨具の姿勢を保ちながら前記偏心軸の回りを公転する偏心回転運動を行い、かつ隣り合う少なくとも２つ以上の研磨具を１つのセットとして、該セットを構成する研磨具により発生する反力を互いに打ち消し合うように、該セットを構成する各研磨具の回転位相差を設定し、前記セットの中における各研磨具間の回転位相差は前記セット毎に全て同一としつつ、前記セット同士の間における回転位相差を調整することを可能としたことを特徴とするガラス板の連続研磨装置を提供する。 To achieve the pre-Symbol object, a first aspect of the present invention, a polishing table for transporting the glass plate in one direction, a plurality of abrasive disposed along the transfer direction of the glass plate above the polishing table Each polishing tool has an eccentric shaft that is eccentric from the center of mass of the polishing tool, and the polishing tool and the polished surface of the glass plate are parallel to each other. An eccentric rotational motion that revolves around the eccentric shaft is performed while maintaining the posture, and at least two adjacent polishing tools are set as one set, and reaction forces generated by the polishing tools constituting the set are canceled out with each other. The rotational phase difference of each polishing tool constituting the set is set so as to match, and the rotational phase difference between the polishing tools in the set is all the same for each set, while the rotation between the sets is set. Adjust the phase difference. It was possible to provide a continuous polishing apparatus for a glass plate according to claim.

これにより、研磨具から被研磨材に作用する負荷を各セットを構成する研磨具間でのみ打ち消し合うばかりでなく、各セット間においても同様に負荷を打ち消し合うようにしたため、より一層負荷を相殺することが可能となり、装置の振動をより低減することが可能となる。   As a result, the load acting on the material to be polished from the polishing tool is not only canceled between the polishing tools constituting each set, but also the load is canceled between each set in the same manner, thereby further offsetting the load. It becomes possible to reduce the vibration of the apparatus.

また、請求項２に示すように、前記複数の研磨具のうちいずれかが停止したときには、該停止した研磨具を含むセットを除く他のセットにおいて、または、該停止した研磨具を除いた研磨具間において新たに形成したセットにおいて、該セット同士の間における回転位相差を調整することを可能としたことが好ましい。 In addition, as shown in claim 2 , when any one of the plurality of polishing tools is stopped, polishing is performed in another set other than the set including the stopped polishing tool, or excluding the stopped polishing tool. In a newly formed set between tools, it is preferable to be able to adjust the rotational phase difference between the sets.

これにより、任意の研磨具が故障、停止または補修等により研磨動作に寄与し得ないときには、その研磨具を除く他の研磨具で回転位相差を調整することが可能となる。   As a result, when any polishing tool cannot contribute to the polishing operation due to failure, stoppage, repair or the like, the rotational phase difference can be adjusted by other polishing tools other than the polishing tool.

また、請求項３に示すように、前記セットを構成する研磨具の個数をｍとするとき、前記セット内における各研磨具間の回転位相差を３６０／ｍとしたことが好ましい。 According to a third aspect of the present invention, when the number of polishing tools constituting the set is m, the rotational phase difference between the polishing tools in the set is preferably 360 / m.

これにより、例えば、研磨具４個で１セットとする際には回転位相差は９０度、研磨具８個で１セットとする際には回転位相差は４５度のようにして各セット内での負荷を完全に打ち消し合うことが可能となる。   Thus, for example, when setting one set with four polishing tools, the rotational phase difference is 90 degrees, and when setting one set with eight polishing tools, the rotational phase difference is 45 degrees. It is possible to completely cancel out the load.

また、請求項４に示すように、前記セット同士の間における回転位相差を、実際に駆動する前記各セットが含む前記研磨具の個数に応じて設定するようにしたことが好ましい。 According to a fourth aspect of the present invention, it is preferable that the rotational phase difference between the sets is set according to the number of the polishing tools included in each set that is actually driven.

これにより、各セット間で反力をよりよく打ち消し合うようにセット間での回転位相差を調整することが可能となる。   This makes it possible to adjust the rotational phase difference between the sets so as to better cancel out the reaction forces between the sets.

また、請求項５に示すように、前記研磨具に偏心回転運動を行わせる駆動源としてサーボモータを用いて、各研磨具を個別に駆動制御するようにしたことが好ましい。 According to a fifth aspect of the present invention, it is preferable that each polishing tool is individually driven and controlled using a servo motor as a drive source for causing the polishing tool to perform an eccentric rotational motion.

これにより、個別駆動機構としてサーボモータを用いて回転位相制御を行うことにより、いろいろな回転数・複数個の研磨ユニットにより回転位相合わせにより振動を低減することが可能となり、さらにこれにより装置の大型化が容易となる。   This enables rotational phase control using a servo motor as an individual drive mechanism, which makes it possible to reduce vibration by rotational phase alignment with various rotational speeds and multiple polishing units, which further increases the size of the device. It becomes easy.

また、請求項６に示すように、前記研磨具は、前記偏心回転運動をするとともに、該研磨具の自転軸の回りに自転運動を行うことを特徴とする。 According to a sixth aspect of the present invention, the polishing tool performs the eccentric rotational movement and also performs a rotational movement around the rotation axis of the polishing tool.

これにより、より効率的な研磨が可能となる。   Thereby, more efficient polishing becomes possible.

また、同様に前記目的を達成するために、請求項７に記載の発明は、ガラス板を研磨テーブルで保持して移送するとともに、該ガラス板の移送方向に沿って配置された複数の研磨具により前記移送中のガラス板を研磨するガラス板の連続研磨方法であって、各研磨具は該研磨具の質量中心から偏心した偏心軸を有し、該研磨具の研磨面と前記ガラス板の被研磨面とが平行になるように、当該研磨具の姿勢を保ちながら前記偏心軸の回りを公転する偏心回転運動を行い、かつ隣り合う少なくとも２つ以上の研磨具を１つのセットとして、該セットを構成する研磨具により発生する反力を互いに打ち消し合うように、該セットを構成する各研磨具の回転位相差を設定し、前記セットの中における各研磨具間の回転位相差は前記セット毎に全て同一としつつ、前記セット同士の間における回転位相差を調整することを特徴とするガラス板の連続研磨方法を提供する。 Similarly, in order to achieve the above-mentioned object, the invention according to claim 7 is configured to transfer a glass plate while holding the glass plate by a polishing table, and a plurality of polishing tools arranged along the transfer direction of the glass plate. wherein a continuous polishing method for a glass plate for polishing the glass plate during the transfer, the grinding tool has an eccentric shaft eccentric from the center of mass of the polishing tool, the glass plate and the polishing surface of the polishing tool by Performing an eccentric rotational movement that revolves around the eccentric shaft while maintaining the posture of the polishing tool so that the surface to be polished is parallel, and as a set of at least two adjacent polishing tools, the reaction force to cancel each other caused by the grinding tool constituting the set, set the rotational phase difference between the grinding tool constituting the set, the rotational phase difference between the grinding tool in among the set of the Same for each set And while, to provide a continuous method for polishing a glass plate and adjusts the rotational phase difference between said set to each other.

これにより、研磨具から被研磨材に作用する負荷を相殺し、装置の振動を低減することが可能となる。   As a result, the load acting on the material to be polished from the polishing tool can be offset, and the vibration of the apparatus can be reduced.

また請求項８に示すように、前記研磨具は、前記偏心回転運動をするとともに、該研磨具の自転軸の回りに自転運動を行うことを特徴とする。 Further, according to an eighth aspect of the present invention, the polishing tool performs the eccentric rotational motion and also performs a rotational motion around the rotational axis of the polishing tool.

これにより、より効率的な研磨が可能となる。   Thereby, more efficient polishing becomes possible.

以上説明したように、本発明によれば、研磨具から被研磨材に作用する負荷を相殺し、装置の振動を低減することが可能となる。   As described above, according to the present invention, it is possible to cancel the load acting on the material to be polished from the polishing tool and reduce the vibration of the apparatus.

本発明に係るガラス板の連続研磨装置の一実施形態の概略構成を示す一部断面を含む斜視図である。1 is a perspective view including a partial cross section illustrating a schematic configuration of an embodiment of a continuous polishing apparatus for a glass plate according to the present invention. 出力軸が１軸の研磨具を備えた研磨ラインの例を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the example of the grinding | polishing line provided with the abrasive | polishing tool whose output shaft is 1 axis | shaft. 隣り合う２つの研磨ユニットの回転位相を１８０度ずらして位相制御を行った場合の研磨具の運動詳細の例を示す平面図である。It is a top view which shows the example of the exercise | movement detail of a grinding | polishing tool at the time of performing phase control by shifting the rotation phase of two adjacent grinding | polishing units 180 degree | times. 連続して配置された４個の研磨ユニットを１セットとして、各研磨ユニットの回転位相を９０度ずらして位相制御を行った場合の研磨具の運動詳細の例を示す平面図である。It is a top view which shows the example of the motion detail of a grinding | polishing tool at the time of performing phase control by shifting the rotation phase of each grinding | polishing unit 90 degree | times, making four grinding | polishing units arrange | positioned continuously as 1 set. 連続して配置された８個の研磨ユニットを１セットとして、各研磨ユニットの回転位相を４５度ずらして位相制御を行った場合の研磨具の運動詳細の例を示す平面図である。It is a top view which shows the example of the motion detail of a grinding | polishing tool at the time of performing phase control by shifting the rotation phase of each grinding | polishing unit 45 degree | times, making 8 grinding | polishing units arrange | positioned continuously as 1 set. ｎ個の研磨具を２個ずつ１セットとして、各セットでは回転位相を１８０度ずらとともに、各セット毎の位相を調整するようにした研磨具の運動詳細の例を示す平面図である。It is a top view which shows the example of the motion detail of the polishing tool which made n sets of 2 polishing tools one set, and shifted the rotation phase by 180 degrees in each set and adjusted the phase for each set. 図６のように研磨具を位相制御したときに偶数個の研磨具が停止した場合の制御例を示す平面図である。FIG. 7 is a plan view showing a control example when an even number of polishing tools are stopped when the phase of the polishing tool is controlled as shown in FIG. 6. 図６のように研磨具を位相制御したときに奇数個の研磨具が停止した場合の制御例を示す平面図である。FIG. 7 is a plan view showing a control example when an odd number of polishing tools are stopped when the polishing tool is phase-controlled as in FIG. 6. 円形形状の研磨具を偏心回転させると同時に自転させて研磨を行う研磨ラインの概略を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the outline of the grinding | polishing line which carries out grinding | polishing by rotating at the same time rotating a circular shaped polishing tool eccentrically.

以下、添付図面を参照して、本発明に係るガラス板の連続研磨装置及び連続研磨方法について詳細に説明する。   Hereinafter, a glass plate continuous polishing apparatus and a continuous polishing method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図１は、本発明に係るガラス板の連続研磨装置の一実施形態の概略構成を示す一部断面を含む斜視図である。   FIG. 1 is a perspective view including a partial cross section showing a schematic configuration of an embodiment of a glass plate continuous polishing apparatus according to the present invention.

図１に示すように、本実施形態の連続研磨装置は、床面に設置したベースフレーム１のフレーム壁面１ａによって左右に分けられた一方の側には研磨ラインが設けられ、研磨ラインには左右一対のレール２、２が敷設されている。レール２、２には、上面に研磨されるガラス板３を搭載して、矢印Ａで示される移送方向に走行可能なようにした複数の研磨台車（研磨テーブル）４が設置されており、ガラス板３は研磨台車４の上面に傷がつかないように、薄いクッション材を介して張り付け固定されるようになっている。   As shown in FIG. 1, the continuous polishing apparatus of this embodiment is provided with a polishing line on one side divided into left and right sides by a frame wall surface 1a of a base frame 1 installed on the floor surface. A pair of rails 2 and 2 are laid. The rails 2 and 2 are provided with a plurality of polishing carts (polishing tables) 4 mounted with glass plates 3 to be polished on the upper surface so as to be able to travel in the transfer direction indicated by the arrow A. The plate 3 is attached and fixed via a thin cushion material so that the upper surface of the polishing cart 4 is not damaged.

研磨台車４は、平面視で移送方向Ａに向けて矩形状に形成されており、移送方向Ａに隣り合う研磨台車（図示省略）の先端部と後端部が移送時に互いに接触し得るようになっている。   The polishing cart 4 is formed in a rectangular shape in the transfer direction A in plan view so that the front end portion and the rear end portion of the polishing cart (not shown) adjacent to the transfer direction A can come into contact with each other during transfer. It has become.

研磨台車４の下面には図示を省略したがレール２、２と平行にラックが設置されており、ラックには左右のレール２、２間の空間部に配置した研磨台車移送用モータの出力軸に取り付けたピニオンが噛合し、研磨台車移送用モータを駆動することによって、ピニオン及びラックを介して研磨台車４が移送方向Ａに移送されるようになっている。   Although not shown on the lower surface of the polishing carriage 4, a rack is installed in parallel with the rails 2 and 2, and the output shaft of the polishing carriage transfer motor arranged in the space between the left and right rails 2 and 2 is mounted on the rack. The polishing cart 4 is transferred in the transfer direction A through the pinion and the rack by engaging the pinion attached to the motor and driving the polishing cart transfer motor.

また、フレーム壁面１ａの他方の側にはガラス板３を研磨した後の戻りラインが形成されており、研磨台車４は戻りラインではローラコンベア５によって移送方向Ａとは反対の矢印Ｂ方向に移送されるようになっている。   Further, a return line after the glass plate 3 is polished is formed on the other side of the frame wall surface 1a. The polishing carriage 4 is transferred in the direction of arrow B opposite to the transfer direction A by the roller conveyor 5 on the return line. It has come to be.

また、フレーム壁面１ａの研磨ライン側には、移送方向Ａに向けて一定の間隔で、複数の片持ち状の水平梁６、６…がレール２、２の上方側に突出するように固設されている。なお、図の一番手前の水平梁６は、その内部構造がわかるようにその一部を切り欠いて示している。図に示すように、水平梁６の内部には、レール２上を移送される研磨台車４の幅方向に向けて所定の間隔で２本の縦軸７、７が軸受けを介して回転可能に取り付けられている。縦軸７の下端にはディスク８が取り付けられている。そして、ディスク８の下面に縦軸７の回転軸線に対して偏心させて固設した偏心軸９、９の下端には支持板１０が取り付けられている。支持板１０の下方には、流体圧シリンダ１１を介して昇降自在に定盤１２が配設されている。   Further, a plurality of cantilevered horizontal beams 6, 6... Are fixed on the polishing line side of the frame wall surface 1 a so as to protrude above the rails 2, 2 at regular intervals in the transfer direction A. Has been. Note that the horizontal beam 6 at the forefront of the figure is shown with a part cut away so that the internal structure can be seen. As shown in the figure, in the horizontal beam 6, two vertical axes 7, 7 are rotatable through bearings at a predetermined interval in the width direction of the polishing cart 4 transferred on the rail 2. It is attached. A disk 8 is attached to the lower end of the vertical axis 7. A support plate 10 is attached to the lower ends of the eccentric shafts 9 and 9 fixed on the lower surface of the disk 8 so as to be eccentric with respect to the rotation axis of the vertical axis 7. A surface plate 12 is disposed below the support plate 10 so as to be movable up and down via a fluid pressure cylinder 11.

定盤１２の研磨台車４幅方向両側には、上方に延在する案内ロッド１３、１３が設けられている。案内ロッド１３、１３は、支持板１０の研磨台車４幅方向両側に設けられた円筒状の案内ブロック１４、１４に摺動自在に嵌合されている。定盤１２は、昇降する際に、案内ロッド１３を介して案内ブロック１４により案内され、左右に傾かないようになっており、定盤１２の下方には、ユニバーサルジョイント１５を介して研磨具１６が装着されている。   Guide rods 13, 13 extending upward are provided on both sides of the polishing plate 4 in the width direction of the surface plate 12. The guide rods 13 and 13 are slidably fitted to cylindrical guide blocks 14 and 14 provided on both sides in the width direction of the polishing cart 4 of the support plate 10. The surface plate 12 is guided by the guide block 14 via the guide rod 13 when moving up and down, so that it does not tilt left and right. The polishing tool 16 is disposed below the surface plate 12 via the universal joint 15. Is installed.

ユニバーサルジョイント１５を設けるのは、テーパ状のガラス板３あるいは移送方向Ａに対して前後に位置するガラス板３の継ぎ目の段差に対してフレキシブルに対応するためである。   The reason why the universal joint 15 is provided is to respond flexibly to the tapered glass plate 3 or the step of the seam of the glass plate 3 positioned forward and backward with respect to the transfer direction A.

また、研磨具１６は、ガラス板３の表面を均一に研磨するため、平面視で研磨台車４の幅方向に延在する短冊状に形成されている。研磨具１６は、例えば発泡ウレタン製の研磨パッドにより構成されている。   Further, the polishing tool 16 is formed in a strip shape extending in the width direction of the polishing cart 4 in plan view in order to uniformly polish the surface of the glass plate 3. The polishing tool 16 is constituted by a polishing pad made of urethane foam, for example.

また、ディスク８には偏心軸９により回転モーメントを消去するために、偏心軸９の反対側にバランサを取り付けるのが望ましい。   Further, it is desirable to attach a balancer to the disk 8 on the opposite side of the eccentric shaft 9 in order to eliminate the rotational moment by the eccentric shaft 9.

各水平梁６の上方には、サーボモータ１８が設置されており、その出力軸１９の下端にはプーリ２０が取り付けられている。   A servo motor 18 is installed above each horizontal beam 6, and a pulley 20 is attached to the lower end of the output shaft 19.

また、縦軸７のうちフレーム壁面１ａに近接した側の縦軸７の上端にはプーリ２１、２２が外嵌、固定され、フレーム壁面１ａから離反した側の縦軸７の上端にはプーリ２３が外嵌、固定されている。また、プーリ２０と２１とには無端状のベルト２４が掛け渡されており、プーリ２２と２３とには無端状のベルト２５が掛け渡されている。   Further, pulleys 21 and 22 are fitted and fixed to the upper end of the vertical axis 7 on the side close to the frame wall surface 1a of the vertical axis 7, and the pulley 23 is attached to the upper end of the vertical axis 7 on the side away from the frame wall surface 1a. Is fitted and fixed. An endless belt 24 is stretched around the pulleys 20 and 21, and an endless belt 25 is stretched around the pulleys 22 and 23.

ここでサーボモータ１８を駆動することにより、プーリ２１を介してフレーム壁面１ａに近接した側の縦軸７が回転し、さらにプーリ２３を介してフレーム壁面１ａから離反した側の縦軸７が回転する。すると縦軸７の下端に取り付けられたディスク８が回転し、これにより偏心軸９が縦軸７の回転軸線の回りに公転（偏心回転）する。すると案内ロッド１３、１３及び流体圧シリンダ１１を介して定盤１２も支持板１０と同様に偏心回転する。これにより、定盤１２にユニバーサルジョイント１５を介して装着された研磨具１６がその研磨面と前記ガラス板の被研磨面とが平行になるように、当該研磨具の姿勢を保ちながら公転（偏心回転）する。   Here, by driving the servo motor 18, the vertical axis 7 on the side close to the frame wall surface 1 a rotates via the pulley 21, and further, the vertical axis 7 on the side separated from the frame wall surface 1 a rotates via the pulley 23. To do. Then, the disk 8 attached to the lower end of the vertical axis 7 rotates, and thereby the eccentric shaft 9 revolves around the rotation axis of the vertical axis 7 (eccentric rotation). Then, the surface plate 12 also rotates eccentrically through the guide rods 13 and 13 and the fluid pressure cylinder 11 in the same manner as the support plate 10. As a result, the polishing tool 16 mounted on the surface plate 12 via the universal joint 15 revolves (eccentric while maintaining the posture of the polishing tool so that the polishing surface and the polished surface of the glass plate are parallel to each other. Rotate.

一方、研磨台車移送用モータを駆動することにより、ガラス板３を張り付けた研磨台車４が移送方向Ａに連続的に移送される。このとき流体圧シリンダ１１により定盤１２を介して研磨具１６が下降させられ、研磨具１６の下面がガラス板３の表面に接触し、これによってガラス板３が研磨具１６により連続的に研磨されるようになっている。   On the other hand, the polishing cart 4 with the glass plate 3 attached thereto is continuously transferred in the transfer direction A by driving the polishing cart transfer motor. At this time, the polishing tool 16 is lowered by the fluid pressure cylinder 11 via the surface plate 12, and the lower surface of the polishing tool 16 contacts the surface of the glass plate 3, whereby the glass plate 3 is continuously polished by the polishing tool 16. It has come to be.

研磨具１６を姿勢を一定に保持した状態で偏心回転（公転）させるための手段はこのように２本の縦軸７、７を用いるものに限定されるものではなく、研磨具を偏心回転させるための出力軸を１軸として構成しても良い。   The means for eccentrically rotating (revolving) the polishing tool 16 with its posture held constant is not limited to that using the two longitudinal axes 7 and 7 as described above, and the polishing tool is rotated eccentrically. The output shaft may be configured as one axis.

例えば、回転する主軸の回転中心に対して偏心した位置に回転自在に支持された出力軸を設け、さらにこの出力軸の主軸の回転による共回り（自転）を防止する回り止め機構を備えて、出力軸の端部に設けた研磨具が自転せずに偏心回転（公転）のみをするようにして、１軸の出力軸のみで偏心回転させるようにしてもよい。また、偏心回転させる機構として、このように主軸と偏心させた出力軸からなる機構の他に、プラネタリギア（遊星歯車）を用いた機構でもよい。   For example, an output shaft that is rotatably supported at a position eccentric with respect to the rotation center of the rotating main shaft is provided, and further provided with a rotation prevention mechanism that prevents co-rotation (spinning) due to rotation of the main shaft of the output shaft, The polishing tool provided at the end of the output shaft may rotate only eccentrically (revolution) without rotating, and may be rotated eccentrically by only one output shaft. Further, as a mechanism for rotating eccentrically, a mechanism using a planetary gear (planetary gear) may be used in addition to the mechanism including the output shaft eccentric with the main shaft.

図２に、研磨具を偏心回転させるための出力軸が１軸の研磨具を備えた研磨ラインの例を示す。   FIG. 2 shows an example of a polishing line provided with a polishing tool having a single output shaft for rotating the polishing tool eccentrically.

図２において、研磨具を偏心回転させる機構以外の構成は図１と同様であり、図１に表示されたベースフレーム１、フレーム壁面１ａ、フレーム壁面１ａに設けられた水平梁６や戻りラインなどは表示を省略している。また、図２において、図１と同じ構成要素については図１と同じ符号を用いている。   2, the configuration other than the mechanism for eccentrically rotating the polishing tool is the same as in FIG. 1, and the base frame 1, the frame wall surface 1a, the horizontal beam 6 provided on the frame wall surface 1a, the return line, etc. shown in FIG. Is omitted. 2, the same reference numerals as those in FIG. 1 are used for the same components as those in FIG. 1.

図２に示すように、研磨ラインにおいて、ガラス板３を研磨する研磨具１６が、ここでは省略しているが図１に示す水平梁６毎に設けられて、研磨ライン上に矢印Ａで示すガラス板３移送方向に沿って複数並んで配置されている。   As shown in FIG. 2, a polishing tool 16 for polishing the glass plate 3 in the polishing line is provided for each horizontal beam 6 shown in FIG. A plurality of glass plates 3 are arranged side by side along the transfer direction.

図示を省略した水平梁６の中には、偏心回転機構３０が設けられており、その上方には偏心回転機構３０を駆動するサーボモータ１８が設置されている。偏心回転機構３０の下側には出力軸３１が延出しており、出力軸３１の下端に研磨具１６が設置されている。   An eccentric rotation mechanism 30 is provided in the horizontal beam 6 (not shown), and a servo motor 18 for driving the eccentric rotation mechanism 30 is installed above the horizontal rotation mechanism 30. An output shaft 31 extends below the eccentric rotation mechanism 30, and the polishing tool 16 is installed at the lower end of the output shaft 31.

偏心回転機構３０は、出力軸３１を介して研磨具１６を自転させずに公転（偏心回転）のみさせるものであり、その具体的機構は特に限定されるものではない。また、出力軸３１は、研磨具１６によってガラス板３を研磨する際、単に研磨具１６を偏心回転させるだけでなく、空気バネ等の加圧手段により研磨具１６からガラス板３に適正な研磨圧力が負荷されるように構成されている。なお、図１の例と同様にユニバーサルジョイント等を介して研磨具１６を装着し、ガラス板３等の形状変化にフレキシブルに対応することができるようにすることが好ましい。   The eccentric rotation mechanism 30 only revolves (eccentric rotation) without rotating the polishing tool 16 via the output shaft 31, and the specific mechanism is not particularly limited. In addition, when the glass plate 3 is polished by the polishing tool 16, the output shaft 31 not only rotates the polishing tool 16 eccentrically but also properly polishes the glass plate 3 from the polishing tool 16 by a pressurizing means such as an air spring. It is comprised so that a pressure may be loaded. As in the example of FIG. 1, it is preferable to attach the polishing tool 16 via a universal joint or the like so as to be able to flexibly cope with the shape change of the glass plate 3 or the like.

本発明は、以上のように研磨ラインに複数配置された、各研磨ユニットの偏心回転機構３０を、サーボモータ１８によって各々個別に回転位相を制御することにより、各研磨ユニットから研磨ラインに発生する反力を打ち消し合うようにして、装置の振動を低減するものである。以下、この偏心回転の位相制御の方法について説明する。   In the present invention, a plurality of eccentric rotation mechanisms 30 of each polishing unit arranged in the polishing line as described above are generated from each polishing unit in the polishing line by individually controlling the rotation phase by the servo motor 18. The vibrations of the apparatus are reduced by canceling the reaction forces. Hereinafter, a method for controlling the phase of the eccentric rotation will be described.

まず図３に、位相制御の基本となる、隣り合う２個の研磨ユニットの回転位相を１８０度ずらして位相制御を行った場合の研磨具１６の運動詳細の例を示す。   First, FIG. 3 shows an example of motion details of the polishing tool 16 when the phase control is performed by shifting the rotational phases of two adjacent polishing units, which are the basis of phase control, by 180 degrees.

図３に示すように、研磨具１６がｎ個（ｎは偶数）あり、１個目と２個目、３個目と４個目…のように隣り合う２個ずつを１セットとして位相制御が行われるようになっている。太い円弧状の矢印４０が研磨具１６の回転（公転）方向を表している。回転により研磨具１６が移動していく際の各位置を、図に実線と破線で表したように、研磨具１６は、Ｐ１→Ｐ２→Ｐ３→Ｐ４、のように矢印４０に沿って移動して行く。全ての研磨具１６が同じ方向に回転する。   As shown in FIG. 3, there are n polishing tools 16 (n is an even number), and phase control is performed with two adjacent ones such as the first, second, third, fourth, etc. as one set. Is to be done. A thick arc-shaped arrow 40 represents the rotation (revolution) direction of the polishing tool 16. As indicated by the solid line and the broken line in the figure, the polishing tool 16 moves along the arrow 40 as P1 → P2 → P3 → P4. Go. All the polishing tools 16 rotate in the same direction.

このとき、隣り合う２個の研磨具１６は回転方向は同じであるが、回転する位相が１８０度ずれているように制御される。すなわち、図３に示すように、例えば１個目の研磨具１６はＰ１の位置にあるが、２個目の研磨具１６はＰ３の位置にある。このように、隣り合う２個の研磨具１６は、その質量中心の回転位相が１８０度ずつ反転している。   At this time, the two adjacent polishing tools 16 have the same rotation direction, but are controlled so that the rotating phase is shifted by 180 degrees. That is, as shown in FIG. 3, for example, the first polishing tool 16 is at the position P1, while the second polishing tool 16 is at the position P3. As described above, the rotation phase of the center of mass of two adjacent polishing tools 16 is inverted by 180 degrees.

また、矢印４１は、研磨具１６が研磨するガラス板３（ここでは図示省略）に加える力の方向を表している。   An arrow 41 represents the direction of the force applied to the glass plate 3 (not shown here) to be polished by the polishing tool 16.

３個目と４個目のセット、５個目と６個目のセット…もすべて１個目と２個目のセットと同様に位相制御が行われる。   The third and fourth sets, the fifth set, the sixth set,... Are all subjected to phase control in the same manner as the first and second sets.

このように、隣り合う研磨具１６の回転位相が１８０度ずつ反転するように制御することにより、隣り合う研磨具１６からガラス板３そして研磨台車４に加えられる力の向きが互いに反対となる。その結果、装置に掛かる負荷（反力）が相殺されるように作用し、装置の振動が低減される。   Thus, by controlling the rotation phase of the adjacent polishing tools 16 to be reversed by 180 degrees, the directions of the forces applied from the adjacent polishing tools 16 to the glass plate 3 and the polishing cart 4 are opposite to each other. As a result, the load (reaction force) applied to the device acts so as to cancel out, and the vibration of the device is reduced.

次に、４個の研磨ユニットを１セットとして位相制御する場合について説明する。   Next, a case where phase control is performed with four polishing units as one set will be described.

図４に、連続して配置された４個の研磨ユニットを１セットとして、各研磨ユニットの回転位相を９０度ずらして位相制御を行った場合の研磨具１６の運動詳細の例を示す。   FIG. 4 shows an example of detailed movement of the polishing tool 16 when four polishing units arranged in series are set as one and the phase control is performed by shifting the rotation phase of each polishing unit by 90 degrees.

図４に示すように、ｎを４の倍数としてｎ個の研磨具１６が並んでおり、１個目〜４個目、５個目〜８個目…のように連続した４個ずつを１セットとして位相制御が行われるようになっている。太い円弧状の矢印４０は、研磨具１６の回転（公転）方向を表し、矢印４１は、研磨具１６が研磨するガラス板３（図示省略）に加える力の方向を表している。   As shown in FIG. 4, n polishing tools 16 are arranged with n being a multiple of 4, and each of the consecutive four pieces, such as the first to fourth, fifth to eighth, etc., is 1 Phase control is performed as a set. The thick arc-shaped arrow 40 represents the direction of rotation (revolution) of the polishing tool 16, and the arrow 41 represents the direction of the force applied to the glass plate 3 (not shown) polished by the polishing tool 16.

また、回転により研磨具１６が移動していく際の各位置を、図に実線と破線でＰ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４のように表す。矢印４０が示すように、この場合も、全ての研磨具１６は同じ方向に回転する。   In addition, each position when the polishing tool 16 moves by rotation is represented as P1, P2, P3, and P4 by a solid line and a broken line in the drawing. As indicated by the arrow 40, in this case as well, all the polishing tools 16 rotate in the same direction.

１個目〜４個目のセットにおいて、１個目の研磨具１６がＰ１の位置にあるとき、２個目の研磨具１６はＰ２の位置に、３個目の研磨具１６はＰ３の位置に、そして４個目の研磨具１６はＰ４の位置にある。このように、研磨具１６を４個ずつ１セットにして位相制御する場合には、各研磨具１６の回転位相が９０度ずつずれるようにする。   In the first to fourth sets, when the first polishing tool 16 is at the position P1, the second polishing tool 16 is at the position P2, and the third polishing tool 16 is at the position P3. And the 4th polishing tool 16 exists in the position of P4. Thus, when phase control is performed with four polishing tools 16 as a set, the rotational phase of each polishing tool 16 is shifted by 90 degrees.

このとき、各位置Ｐ１〜Ｐ４における研磨具１６による負荷の方向４１からわかるように、これら４つの負荷は互いに打ち消し合い、反力（負荷）が相殺される。その結果、装置の振動が低減される。   At this time, as can be seen from the load direction 41 by the polishing tool 16 at each position P1 to P4, these four loads cancel each other, and the reaction force (load) is offset. As a result, the vibration of the device is reduced.

なお、研磨ユニットの数ｎは、必ずしも４の倍数でなくとも一定の効果を有するが、４の倍数の場合には、研磨具１６の偏心回転によりガラス板３を介して装置全体に対して加えられる負荷を完全に相殺することができる。   The number n of the polishing units is not necessarily a multiple of 4, but has a certain effect. However, in the case of a multiple of 4, the polishing unit 16 is added to the entire apparatus through the glass plate 3 due to the eccentric rotation of the polishing tool 16. Can be completely offset.

次に、８個の研磨ユニットを１セットとして位相制御する場合について説明する。   Next, the case where phase control is performed with eight polishing units as one set will be described.

図５に、連続して配置された８個の研磨ユニットを１セットとして、各研磨ユニットの回転位相を４５度ずらして位相制御を行った場合の研磨具１６の運動詳細の例を示す。   FIG. 5 shows an example of motion details of the polishing tool 16 when eight polishing units arranged in series are set as one, and the phase control is performed by shifting the rotation phase of each polishing unit by 45 degrees.

図５に示すように、ｎ個の研磨具１６が並んでおり、１個目〜８個目、９個目〜１６個目、…、ｎ−８個目〜ｎ個目の８個を１セットとして回転位相制御を行う。   As shown in FIG. 5, n polishing tools 16 are arranged, and the first to eighth, ninth to sixteenth,..., N-8th to nth eight are one. Rotational phase control is performed as a set.

いままでの例と同様に、矢印４０は研磨具１６の回転（公転）方向を表し、矢印４１は、研磨具１６が研磨するガラス板３（図示省略）に加える力の方向を表している。   As in the previous examples, the arrow 40 represents the direction of rotation (revolution) of the polishing tool 16, and the arrow 41 represents the direction of the force applied to the glass plate 3 (not shown) polished by the polishing tool 16.

この場合の位相制御は、隣り合った研磨具１６毎に回転位相が４５度ずれるように制御される。すなわち、この１セットの８個の研磨具１６は、隣り合ったもの同士の位置が、その質量中心が研磨具１６の回転（公転）中心の回りに互いに４５度の角をなす位置にくるように制御される。従って、各研磨具１６からの負荷の方向を表す矢印４１の方向が、４５度ずつずれていくようになっている。   The phase control in this case is controlled so that the rotation phase is shifted 45 degrees for each adjacent polishing tool 16. That is, in this set of eight polishing tools 16, the positions of adjacent ones of the polishing tools 16 are positioned so that their center of mass forms an angle of 45 degrees around the rotation (revolution) center of the polishing tool 16. Controlled. Therefore, the direction of the arrow 41 representing the direction of the load from each polishing tool 16 is shifted by 45 degrees.

このように、８個１セットの研磨具１６の回転位相を４５度ずらすようにしたことにより、この８個の研磨具１６による負荷を互いに打ち消し合い、負荷を相殺することができる。なお、研磨具１６の個数ｎは、８の倍数の場合には、研磨ライン全体で完全に負荷を相殺することができ、装置の振動を低減することが可能となる。   Thus, by shifting the rotational phase of one set of eight polishing tools 16 by 45 degrees, the loads caused by the eight polishing tools 16 can be canceled out to cancel each other. When the number n of the polishing tools 16 is a multiple of 8, it is possible to completely cancel the load in the entire polishing line, and to reduce the vibration of the apparatus.

このように、研磨具１６の組み合わせ数を２個より４個、４個より８個と増やして、位相も１８０度から９０度、さらに４５度と、細かく位相をずらすようにすると振動低減効果がより大きくなる。   In this way, if the number of combinations of the polishing tools 16 is increased from two to four and four to eight, and the phase is also finely shifted from 180 degrees to 90 degrees and further to 45 degrees, the vibration reduction effect can be obtained. Become bigger.

また、組み合わせ数が多くなると位相制御の設定が難しくなるが、本実施形態では、サーボモータ１８を用いて、各々個別に研磨具１６の回転位相を制御するようにしているため、予め各サーボモータ１８の設定をしておけば、位相制御の変更も容易となる。従って、従来の連続研磨装置のように一つの駆動源によるドライブシャフトで全ての研磨具を同時に偏心回転させるものでは、回転位相が固定されてしまい、研磨具の様々な用途に対応することができなかったところ、本実施形態では、研磨具の様々な用途に対応することが可能となる。   In addition, although the setting of phase control becomes difficult as the number of combinations increases, in the present embodiment, the servo motor 18 is used to individually control the rotational phase of the polishing tool 16, and therefore each servo motor is previously controlled. If 18 is set, the phase control can be easily changed. Therefore, in the case where all the polishing tools are eccentrically rotated simultaneously with a drive shaft by one drive source as in the conventional continuous polishing apparatus, the rotational phase is fixed, and it can be used for various applications of the polishing tools. However, in this embodiment, it is possible to cope with various uses of the polishing tool.

今まで説明した例は、いずれも偶数個を１セットにしたものであったが、本発明は偶数個を１セットにするものに限定されるものではなく、奇数個を１セットにしてもよい。   In the examples described so far, the even number is one set, but the present invention is not limited to the even number being one set, and the odd number may be one set. .

例えば、研磨ユニットの数ｎが３の倍数の場合に、全体を、３、３、３、３、…、３のように、それぞれ３個で１セットずつにしてもよい。このとき、１セット内の３個の研磨具については、回転位相を１２０度ずらすようにする。また、偶数個からなるセットと奇数個からなるセットが混在していてもよい。例えば、ｎが奇数の場合に、２、２、２、…、２、２、３のように、３個で１セットとするセットを１つ作り、残りはすべて２個で１セットとするようにしてもよい。   For example, when the number n of the polishing units is a multiple of 3, the whole may be one set of three, such as 3, 3, 3, 3,. At this time, the rotation phase of the three polishing tools in one set is shifted by 120 degrees. Also, an even number set and an odd number set may be mixed. For example, when n is an odd number, make one set that is one set of three, such as 2, 2, 2,... It may be.

以下、位相制御のさらに他の例について説明する。   Hereinafter, still another example of phase control will be described.

まず、図６に示す例は、図３に示した例と同様にｎ個（ｎは偶数）の研磨具１６を２個ずつ１セットとして、各セット内の２個の研磨具１６については回転位相を１８０度ずらとともに、さらに、各セット毎の位相を調整するようにしたものである。   First, in the example shown in FIG. 6, as in the example shown in FIG. 3, n polishing tools 16 (n is an even number) are set as one set, and two polishing tools 16 in each set are rotated. In addition to shifting the phase by 180 degrees, the phase for each set is further adjusted.

図６に示すように、ｎ個（ｎは偶数）の研磨具１６を、１個目と２個目、３個目と４個目…のように隣り合う２個ずつを１セットとする。そして各セットにおいて２個の研磨具１６の位相を１８０度ずらすようにする。すなわち、それぞれのセットにおいて、各研磨具１６、１６が研磨するガラス板３（ここでは図示省略）に加える力の方向４１、４１は、１８０度反転している。   As shown in FIG. 6, n pieces (n is an even number) of polishing tools 16 are set as a set of two adjacent ones such as a first piece, a second piece, a third piece, a fourth piece, and so on. In each set, the phases of the two polishing tools 16 are shifted by 180 degrees. That is, in each set, the directions 41 and 41 of the force applied to the glass plate 3 (not shown here) polished by the polishing tools 16 and 16 are inverted by 180 degrees.

また、研磨具１６がｎ個あるとき、２個ずつを１セットとすることにより、ｘ＝ｎ／２セットできる。ここでｋを所定の係数として、隣り合ったセット間の位相調整量を、３６０度／ｘ／ｋとして、隣り合ったセット間の位相をずらすようにする。   Further, when there are n polishing tools 16, x = n / 2 sets can be performed by setting each two to one set. Here, k is a predetermined coefficient, and the phase adjustment amount between adjacent sets is 360 degrees / x / k, so that the phase between adjacent sets is shifted.

例えば図６に示すように、１個目と２個目の研磨具１６で構成される第１のセットと、３個目と４個目の研磨具１６で構成される第２のセットにおいて、１個目の研磨具１６と２個目の研磨具１６とでは負荷の方向４１が１８０度ずれており、また３個目の研磨具１６と４個目の研磨具１６とでも負荷の方向４１が１８０度ずれている。そして、１個目の研磨具１６の負荷の方向４１と、３個目の研磨具１６の負荷の方向４１は４５度ずれるようになっている。   For example, as shown in FIG. 6, in the first set composed of the first and second polishing tools 16 and the second set composed of the third and fourth polishing tools 16, The load direction 41 is shifted by 180 degrees between the first polishing tool 16 and the second polishing tool 16, and the load direction 41 is also detected between the third polishing tool 16 and the fourth polishing tool 16. Is shifted by 180 degrees. The load direction 41 of the first polishing tool 16 and the load direction 41 of the third polishing tool 16 are shifted by 45 degrees.

これら２個１セットとしセットをさらにセットとし、そのセットを１グルーブとして、セットを階層化するようにしてもよい。例えば１グループからｍグループまでｍ個のセットのグループに分類したとする。このとき各グルーブ内の研磨具１６の個数をｎ１、ｎ２、…、ｎｍとすると、ｎ１＋ｎ２＋…＋ｎｍ＝ｎとなる。ここで分割する各グループのセット数を同じにする必要はない。任意のセット数に分割しグループを形成し、グループ内のセット数に応じて位相差を決定するようにすればよい。 These two sets may be set as one set, and the set may be further set as one set, and the set may be hierarchized. For example, it is assumed that the group is classified into m sets from 1 group to m group. This time number of the polishing tool 16 in each groove n 1, n 2, ..., When n m, the n 1 + n 2 + ... + n m = n. Here, it is not necessary to set the same number of sets for each group to be divided. A group may be formed by dividing it into an arbitrary number of sets, and the phase difference may be determined according to the number of sets in the group.

研磨具全体の個数ｎが奇数の場合には、最初の階層のセットは、上述したように３個のセットを１セット含み、その他は２個ずつで１セットとなる。この奇数の場合には、最初の階層のセット間では、３６０／｛（ｎ−１）／２｝によって位相調整が行われる。   When the total number n of the polishing tools is an odd number, the set of the first hierarchy includes one set of three sets as described above, and the other sets become one set by two. In the case of this odd number, phase adjustment is performed between 360 / {(n-1) / 2} between sets in the first hierarchy.

なお、研磨具１６の個数やセット化、グループ分けの個数は特に限定されるものではなく、任意の分類が可能である。またそのときの位相調整量は、装置全体における負荷を最小限に打ち消し合うように設定される。   Note that the number of polishing tools 16, the number of sets, and the number of groupings are not particularly limited, and can be arbitrarily classified. Further, the phase adjustment amount at that time is set so as to cancel out the load on the entire apparatus to the minimum.

図６に示す例では、２個を１セットとした最初の階層のセット内では負荷の方向が１８０度ずれるとともに、隣り合ったセット間では位相が４５度ずれるように位相調整されている。具体的に数字を当てはめると、例えば研磨具１６の個数ｎを１６個とすると、最初の階層のセットはｎ／２＝１６／２＝８セットでき、このときの位相調整量は、３６０／８＝４５度となる。   In the example shown in FIG. 6, the phase is adjusted so that the direction of the load is shifted by 180 degrees in the set of the first hierarchy in which two sets are one set, and the phase is shifted by 45 degrees between adjacent sets. Specifically, for example, if the number n of the polishing tools 16 is 16, the set of the first layer can be set to n / 2 = 16/2 = 8, and the phase adjustment amount at this time is 360/8. = 45 degrees.

また、このようにセット単位で位相調整を行うようにすることにより、例えば研磨ユニットが故障するなどして研磨ユニットを休止しなければならないような場合においても、そのメンテナンス・トラブル対応に自由度があるというメリットがある。   In addition, by adjusting the phase in units of sets as described above, even when the polishing unit has to be stopped due to, for example, a failure of the polishing unit, there is a degree of freedom in the maintenance and troubleshooting. There is merit that there is.

図６の例のように２個を１セットとして各セット間で位相調整を行っているときに、偶数個の研磨ユニットが停止した場合、例えば、図７に示すように、５個目と６個目の２つの研磨ユニットが停止した場合の位相調整について以下に説明する。   As shown in FIG. 6, when two units are set as one set and phase adjustment is performed between the sets, when an even number of polishing units are stopped, for example, as shown in FIG. The phase adjustment when the second two polishing units are stopped will be described below.

この場合には、停止した２つの研磨ユニットからなるセットを除いた残りのセット間で、なるべく負荷を低減するように制御する。   In this case, control is performed so as to reduce the load as much as possible between the remaining sets excluding the set composed of the two stopped polishing units.

すなわち、停止した研磨ユニットの個数をｎｔとするとき、位相調整量を３６０度／（ｘ−ｎｔ／２）として、停止した研磨ユニット以外のセット間において位相調整を行う。 That is, when the number of stopped polishing units is n t , the phase adjustment is performed between sets other than the stopped polishing unit, with the phase adjustment amount being 360 degrees / (x−n t / 2).

例えば、前述した例のように研磨具１６の個数がｎ＝１６で、停止した研磨具１６が図７に示すように２個のとき（ｎｔ＝２）、残りのセット間における位相調整量は、セット数ｘは８であり、ｘ−ｎｔ／２＝８−１＝７なので、３６０／７より略５１．４度となる。なお、位相調整量が整数値となるように調整してもよい。 For example, when the number of polishing tools 16 is n = 16 as in the example described above and there are two stopped polishing tools 16 as shown in FIG. 7 (n t = 2), the phase adjustment amount between the remaining sets Since the set number x is 8 and x−n t / 2 = 8−1 = 7, it is approximately 51.4 degrees from 360/7. The phase adjustment amount may be adjusted to an integer value.

また、図６の例のように２個を１セットとして各セット間で位相調整を行っているときに、奇数個の研磨ユニットが停止した場合、例えば、図８に示すように、６個目の研磨ユニット１つが停止した場合の位相調整について以下に説明する。   Further, when the number of polishing units is stopped when phase adjustment is performed between the two sets as in the example of FIG. 6, for example, as shown in FIG. The phase adjustment when one of the polishing units is stopped will be described below.

この場合には、図８に示すように、例えば、１個目と２個目の研磨ユニットはいままで通り２つで１セットとし、このセット内の２つの研磨具１６、１６については１８０度位相がずれるように位相制御するが、６個目の研磨ユニットが停止してしまったので、６個目の研磨ユニットといままでセットになっていた５個目の研磨ユニットについては、３個目と４個目と組み合わせて３つで１セットとする。そして、この３つの研磨ユニットから構成されるセット内においては、各研磨具１６、１６、１６による負荷の方向４１、４１、４１が３６０／３＝１２０度ずれるように位相制御する。また、７個目以降の研磨ユニットについては、いままで通り２個で１セットとして１８０度ずらした位相制御を行う。   In this case, as shown in FIG. 8, for example, the first and second polishing units are set as two sets as before, and the two polishing tools 16 and 16 in this set are 180 degrees. Although the phase is controlled so that the phase is shifted, the sixth polishing unit has stopped, so the sixth polishing unit and the fifth polishing unit that has been set so far are the third one. And a combination of the 4th and the 3rd. Then, in the set composed of these three polishing units, the phase is controlled so that the load directions 41, 41, 41 by the polishing tools 16, 16, 16 are shifted by 360/3 = 120 degrees. As for the seventh and subsequent polishing units, phase control is performed by shifting 180 degrees as a set of two units as before.

そして、駆動する各セット間において全体での負荷をなるべく低減するように位相調整量を設定して、各セット間で位相をずらすように位相調整制御する。   Then, the phase adjustment amount is set so as to reduce the overall load as much as possible between each set to be driven, and phase adjustment control is performed so as to shift the phase between each set.

このように、本実施形態においては、従来のように一つのドライブシャフトで全ての研磨ユニットを駆動するのではなく、個々の研磨ユニットをそれぞれサーボモータ１８で独立して駆動するようにしたため、いくつかの研磨ユニットが停止しても、装置全体を停止することなく、残りの研磨ユニットを、負荷を打ち消し合うように位相制御することで、装置全体の振動を低減することができる。   As described above, in this embodiment, not all the polishing units are driven by one drive shaft as in the prior art, but each polishing unit is driven independently by the servo motor 18. Even if such a polishing unit stops, the vibration of the entire apparatus can be reduced by controlling the phase of the remaining polishing units so as to cancel the loads without stopping the entire apparatus.

複数の研磨ユニットが互いに反力（負荷）を打ち消しあって研磨動作をしているときに、ある研磨ユニットが故障した場合に、単にそれを取り除いただけで残りを駆動すると、装置が大型化した場合にはその取り除いたものの代わりに別のものでバランスをとる必要がある。しかし、上述した例のように、故障した研磨ユニットが発生しても、残りの研磨ユニットを改めて反力を打ち消し合うように位相制御のしかたを組み換えて研磨動作させることで、新たにバランス部品等を必要とせず、装置の大型化が容易となる。   When multiple polishing units are performing polishing operations by canceling reaction forces (loads) with each other, if a polishing unit fails, simply removing it and driving the rest will increase the size of the device. In some cases, it is necessary to balance with another instead of the removed one. However, as in the example described above, even if a defective polishing unit occurs, the remaining polishing units are re-balanced so that the reaction force is canceled again, and the polishing operation is performed again, so that a new balance component, etc. Therefore, it is easy to increase the size of the apparatus.

なお、いままで説明してきた例は、いずれも、矩形状の研磨具１６を偏心回転（公転）させて研磨動作を行うものであったが、本発明の連続研磨装置はこのようなものに限定されるものではない。例えば、円形形状の研磨具を偏心回転（公転）させると同時に自転動作をさせるようにして研磨を行うものでもよい。   In the examples described so far, the rectangular polishing tool 16 is eccentrically rotated (revolved) to perform the polishing operation. However, the continuous polishing apparatus of the present invention is limited to this. Is not to be done. For example, polishing may be performed by causing a circular polishing tool to rotate eccentrically (revolve) and simultaneously rotate.

図９に、円形形状の研磨具を偏心回転（公転）させると同時に自転させて研磨を行う研磨ラインの例を示す。   FIG. 9 shows an example of a polishing line in which a circular polishing tool is eccentrically rotated (revolved) and simultaneously rotated to perform polishing.

図９に示すように、研磨ラインにおいて、ガラス板３を研磨する研磨具１１６が、図示を省略したベースフレーム１のフレーム壁面１ａに設けられた水平梁６（図１参照）毎にそれぞれ設けられて、研磨ライン上に矢印Ａで示すガラス板３移送方向に沿って複数並んで配置されている。   As shown in FIG. 9, in the polishing line, a polishing tool 116 for polishing the glass plate 3 is provided for each horizontal beam 6 (see FIG. 1) provided on the frame wall surface 1a of the base frame 1 (not shown). A plurality of glass plates 3 are arranged side by side on the polishing line along the transfer direction of the glass plate 3 indicated by an arrow A.

図９に示す例では、研磨具１１６は、円形形状で偏心回転機構１３０に取り付けられており、偏心回転機構１３０によって、図に矢印Ｂで示すように自転しながら、矢印Ｃで示すように偏心回転（公転）するようになっている。   In the example shown in FIG. 9, the polishing tool 116 has a circular shape and is attached to the eccentric rotation mechanism 130, and the eccentric rotation mechanism 130 rotates as shown by an arrow B in the drawing and is eccentric as shown by an arrow C. It is designed to rotate (revolve).

このような自転および公転をさせる偏心回転機構１３０としては、特に限定されるものではなく、例えば、前述したような回転する主軸の回転中心に対して偏心した位置に回転自在に出力軸を設けたもの、あるいはプラネタリギアを用いたもの等において、共回り（自転）を防止する機構を設けずに、自転および公転をさせるようにしたものでよい。   The eccentric rotation mechanism 130 that rotates and revolves is not particularly limited. For example, an output shaft is provided rotatably at a position eccentric with respect to the rotation center of the rotating main shaft as described above. A thing using a planetary gear etc. may be made to rotate and revolve without providing a mechanism for preventing co-rotation (spinning).

このような研磨具１１６の公転に関して、前述した例のように、隣り合ういくつかの研磨具１１６を１セットとして、その中でガラス板に掛かる負荷を互いに打ち消し合うように位相をずらして制御すればよい。またさらに、各セット毎に位相調整して装置全体での振動を低減するようにすることがより好ましい。   With respect to the revolution of the polishing tool 116, as in the example described above, a plurality of adjacent polishing tools 116 are set as one set, and the phases are controlled so as to cancel the loads applied to the glass plate in each set. That's fine. Furthermore, it is more preferable to adjust the phase for each set to reduce vibration in the entire apparatus.

以上説明したように、複数の研磨ユニットを何個かで１セットとして、セット単位で位相制御し、さらにはセット毎に位相調整することで、研磨具の研磨動作に基づく振動に対する基本的な対策として効果があり、さらに各研磨ユニット毎にサーボモータで個別に駆動するようにしたため、トラブルが発生した場合にも円滑な対応が可能である。   As described above, the basic measures against vibration based on the polishing operation of the polishing tool by controlling the phase in units of a plurality of polishing units as a set, and further adjusting the phase for each set. In addition, since each polishing unit is individually driven by a servo motor, smooth handling is possible even when trouble occurs.

なお、以上説明した連続研磨装置においては、研磨具の駆動方法として、公転のみの場合、および自転しながら公転する場合について説明したが、研磨装置の駆動方法はこれ以外にも可能である。   In the continuous polishing apparatus described above, as a method for driving the polishing tool, the case of revolving only and the case of revolving while rotating have been described. However, other methods for driving the polishing apparatus are possible.

例えば、研磨具を自転させつつ公転させるとともに、テーブル（研磨台車）を揺動するようにしたり、研磨具を公転させるとともに、テーブル（研磨台車）を揺動し、さらにテーブルを回転させるようにして、研磨効率をさらに向上させるようにすることもでき、これらの研磨装置の駆動方法に対しても本発明を適用することができる。   For example, while rotating the polishing tool while rotating, the table (polishing cart) is swung, or the polishing tool is revolved, the table (polishing cart) is swung, and the table is further rotated. Further, the polishing efficiency can be further improved, and the present invention can be applied to the driving method of these polishing apparatuses.

以上、本発明に係るガラス板の連続研磨装置及び連続研磨方法について詳細に説明したが、本発明は、以上の例には限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変形を行ってもよいのはもちろんである。   The glass plate continuous polishing apparatus and continuous polishing method according to the present invention have been described in detail above, but the present invention is not limited to the above examples, and various improvements and modifications can be made without departing from the scope of the present invention. Of course, deformation may be performed.

１…ベースフレーム、１ａ…フレーム壁面、２…レール、３…ガラス板、４…研磨台車、５…ローラコンベア、６…水平梁、７…縦軸、８…ディスク、９…偏心軸、１０…支持板、１１…流体圧シリンダ、１２…定盤、１３…案内ロッド、１４…案内ブロック、１５…ユニバーサルジョイント、１６、１１６…研磨具、１８…サーボモータ、１９…出力軸、２０、２１、２２、２３…プーリ、２４、２５…ベルト、３０、１３０…偏心回転機構、３１…出力軸
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base frame, 1a ... Frame wall surface, 2 ... Rail, 3 ... Glass plate, 4 ... Polishing cart, 5 ... Roller conveyor, 6 ... Horizontal beam, 7 ... Vertical axis, 8 ... Disc, 9 ... Eccentric shaft, 10 ... Support plate, 11 ... Fluid pressure cylinder, 12 ... Surface plate, 13 ... Guide rod, 14 ... Guide block, 15 ... Universal joint, 16, 116 ... Polishing tool, 18 ... Servo motor, 19 ... Output shaft, 20, 21, 22, 23 ... pulley, 24 , 25 ... belt , 30, 130 ... eccentric rotation mechanism, 31 ... output shaft

Claims (8)

ガラス板を一方向に移送する研磨テーブルと、該研磨テーブルの上方にガラス板の移送方向に沿って配置された複数の研磨具とを有し、A polishing table for transferring the glass plate in one direction, and a plurality of polishing tools arranged along the transfer direction of the glass plate above the polishing table;
各研磨具は該研磨具の質量中心から偏心した偏心軸を有し、該研磨具の研磨面と前記ガラス板の被研磨面とが平行になるように、当該研磨具の姿勢を保ちながら前記偏心軸の回りを公転する偏心回転運動を行い、かつ隣り合う少なくとも２つ以上の研磨具を１つのセットとして、該セットを構成する研磨具により発生する反力を互いに打ち消し合うように、該セットを構成する各研磨具の回転位相差を設定し、Each polishing tool has an eccentric shaft that is eccentric from the center of mass of the polishing tool, and while maintaining the posture of the polishing tool so that the polishing surface of the polishing tool and the surface to be polished of the glass plate are parallel to each other, This set performs an eccentric rotational motion that revolves around an eccentric shaft, and at least two adjacent polishing tools are set as one set so that reaction forces generated by the polishing tools constituting the set cancel each other. Set the rotational phase difference of each polishing tool that comprises
前記セットの中における各研磨具間の回転位相差は前記セット毎に全て同一としつつ、前記セット同士の間における回転位相差を調整することを可能としたことを特徴とするガラス板の連続研磨装置。Continuous polishing of a glass plate characterized in that it is possible to adjust the rotational phase difference between the sets while making the rotational phase difference between the polishing tools in the set all the same for each set. apparatus. 前記複数の研磨具のうちいずれかが停止したときには、該停止した研磨具を含むセットを除く他のセットにおいて、または、該停止した研磨具を除いた研磨具間において新たに形成したセットにおいて、該セット同士の間における回転位相差を調整することを可能としたことを特徴とする請求項１に記載のガラス板の連続研磨装置。When any one of the plurality of polishing tools is stopped, in another set excluding the set including the stopped polishing tool, or in a set newly formed between the polishing tools excluding the stopped polishing tool, The continuous polishing apparatus for a glass sheet according to claim 1, wherein the rotational phase difference between the sets can be adjusted. 前記セットを構成する研磨具の個数をｍとするとき、前記セット内における各研磨具間の回転位相差を３６０／ｍとしたことを特徴とする請求項１または２に記載のガラス板の連続研磨装置。The continuous glass plate according to claim 1 or 2, wherein when the number of polishing tools constituting the set is m, a rotational phase difference between the polishing tools in the set is set to 360 / m. Polishing equipment. 前記セット同士の間における回転位相差を、実際に駆動する前記各セットが含む前記研磨具の個数に応じて設定するようにしたことを特徴とする請求項１または２に記載のガラス板の連続研磨装置。3. The continuous glass plate according to claim 1, wherein the rotational phase difference between the sets is set according to the number of the polishing tools included in each set that is actually driven. Polishing equipment. 前記研磨具に偏心回転運動を行わせる駆動源としてサーボモータを用いて、各研磨具を個別に駆動制御するようにしたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のガラス板の連続研磨装置。The glass plate according to any one of claims 1 to 3, wherein each polishing tool is individually driven and controlled using a servo motor as a drive source for causing the polishing tool to perform an eccentric rotational motion. Continuous polishing equipment. 前記研磨具は、前記偏心回転運動をするとともに、該研磨具の自転軸の回りに自転運動を行うことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のガラス板の連続研磨装置。6. The continuous polishing apparatus for a glass plate according to claim 1, wherein the polishing tool performs the eccentric rotational motion and performs a rotational motion around a rotational axis of the polishing tool. ガラス板を研磨テーブルで保持して移送するとともに、該ガラス板の移送方向に沿って配置された複数の研磨具により前記移送中のガラス板を研磨するガラス板の連続研磨方法であって、A glass plate is continuously held by a polishing table and transferred, and a glass plate continuous polishing method for polishing the glass plate being transferred by a plurality of polishing tools arranged along the transfer direction of the glass plate,
各研磨具は該研磨具の質量中心から偏心した偏心軸を有し、該研磨具の研磨面と前記ガラス板の被研磨面とが平行になるように、当該研磨具の姿勢を保ちながら前記偏心軸の回りを公転する偏心回転運動を行い、かつ隣り合う少なくとも２つ以上の研磨具を１つのセットとして、該セットを構成する研磨具により発生する反力を互いに打ち消し合うように、該セットを構成する各研磨具の回転位相差を設定し、Each polishing tool has an eccentric shaft that is eccentric from the center of mass of the polishing tool, and while maintaining the posture of the polishing tool so that the polishing surface of the polishing tool and the surface to be polished of the glass plate are parallel to each other, This set performs an eccentric rotational motion that revolves around an eccentric shaft, and at least two adjacent polishing tools are set as one set so that reaction forces generated by the polishing tools constituting the set cancel each other. Set the rotational phase difference of each polishing tool that comprises
前記セットの中における各研磨具間の回転位相差は前記セット毎に全て同一としつつ、前記セット同士の間における回転位相差を調整することを特徴とするガラス板の連続研磨方法。A continuous polishing method for a glass plate, wherein the rotational phase difference between the polishing tools in the set is all the same for each set, and the rotational phase difference between the sets is adjusted. 前記研磨具は、前記偏心回転運動をするとともに、該研磨具の自転軸の回りに自転運動を行うことを特徴とする請求項７に記載のガラス板の連続研磨方法。8. The continuous polishing method for a glass plate according to claim 7, wherein the polishing tool performs the eccentric rotational movement and the rotation movement about the rotation axis of the polishing tool.
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