JP5638477B2 - 現像処理方法、現像処理装置、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents
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Description
本発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。本発明は、基板がウェハ以外のFPD(フラットパネルディスプレイ)、フォトマスク用のマスクレチクルなどの他の基板である場合にも適用できる。
2 カセットステーション
3 処理ステーション
4 露光装置
5 インターフェイスステーション
10 カセット搬入部
11 ウェハ搬送部
12 カセット載置台
13 載置板
20 搬送路
21 ウェハ搬送装置
30 現像処理ユニット
31 下部反射防止膜形成ユニット
32 レジスト塗布ユニット
33 上部反射防止膜形成ユニット
40 熱処理ユニット
41 アドヒージョンユニット
42 周辺露光ユニット
63 検査ユニット
70 ウェハ搬送装置
80 シャトル搬送装置
90 ウェハ搬送装置
100 ウェハ搬送装置
120 処理容器
130 スピンチャック
132 カップ
140 レール
141 アーム
142 現像液ノズル
150 他のアーム
151 純水ノズル
190 現像液供給源
192 超音波ユニット
200 純水供給源
300 制御装置
301 条件設定部
302 供給制御部
W ウェハ
D 現像液
L リンス液
Claims (10)
- 基板上に現像液を供給して、所定のパターンを露光し且つ露光後に加熱処理した基板上のレジスト膜を現像処理する方法であって、
前記加熱処理後の基板の処理状態を測定し、
前記測定された基板の処理状態に基づいて、基板上のパターンのショットごとに現像条件を設定し、
前記現像条件に基づいて、前記基板上のパターンのショットごとに霧状の現像液を供給する量及び現像時間を調整して、現像処理後のレジストパターンの線幅を調整し、
前記基板への霧状の現像液の供給は、平面視における断面形状が基板上のパターンのショットより小さな現像液供給口が形成され、前記現像液供給口の外周部に排気口が形成された現像液ノズルにより行われることを特徴とする、現像処理方法。 - 前記基板の処理状態は、前記露光後に行われる加熱処理後のレジスト膜の膜厚であることを特徴とする、請求項1に記載の現像処理方法。
- 前記基板の処理状態は、前記レジストパターンの線幅の調整を行う前に既に現像処理を終えている基板におけるレジストパターンの線幅であることを特徴とする、請求項1に記載の現像処理方法。
- 前記霧状の現像液は、液状の現像液に超音波を印加して生成されたものであることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の現像処理方法。
- 基板上に現像液を供給して、所定のパターンを露光し且つ露光後に加熱処理した基板上のレジスト膜を現像処理する現像処理装置であって、
前記加熱処理後の基板の処理状態を測定する測定部と、
前記測定された基板の処理状態に基づいて、基板上のパターンのショットごとに現像条件を設定する条件設定部と、
前記現像条件に基づいて、前記基板上のパターンのショットごとに、霧状の現像液を供給する現像液ノズルと、
前記現像液を供給する量及び現像時間を調整して、現像処理後のレジストパターンの線幅を調整する供給制御部と、を有し、
前記現像液ノズルは、平面視における断面形状が基板上のパターンのショットより小さな現像液供給口を備え、
前記現像液供給口の外周部には排気口が形成されていることを特徴とする、現像処理装置。 - 前記基板の処理状態は、前記露光後に行われる加熱処理後のレジスト膜の膜厚であることを特徴とする、請求項5に記載の現像処理装置。
- 前記基板の処理状態は、前記レジストパターンの線幅の調整を行う前に既に現像処理を終えている基板におけるレジストパターンの線幅であることを特徴とする、請求項5に記載の現像処理装置。
- 液状の現像液に超音波を印加して霧状の現像液を生成する現像液霧化手段を有することを特徴とする、請求項5〜7のいずれか一項に記載の現像処理装置。
- 請求項1〜4のいずかに記載の現像処理方法を現像処理装置によって実行させるように、当該現像処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項9に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
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