JP5622066B2 - フッ素化ナフタレン構造を持つ化合物及びその液晶組成物 - Google Patents
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Description
A1〜A4はそれぞれ独立して、
(a)1,4−シクロへキシレン基(この基中に存在する1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−は各々独立してO−又は−S−に置き換えられても良い。)
(b)1,4−フェニレン基(この基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置き換えられても良く、この基中に存在する水素原子はフッ素原子又は塩素原子に置換されても良い。)
からなる群より選ばれる基であり、
Z1〜Z4は各々独立して、−CF2O−、−OCF2−、−CH2CH2−、−CF2CF2−、−CH=CH−、−CF=CF−、−C≡C−又は単結合を表すが、存在するZ1〜Z4の内一つは必ず−CF2O−又は−OCF2−であり、
Xa〜Xdは各々独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表し、
nは0又は1を表す。)で表される化合物を提供し、併せて、当該化合物を含有する液晶組成物及び当該液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供する。
Z3が−CF2O−であり、Z4が単結合であるか、又はZ3が単結合であり、Z4が−CF2O−であることが好ましい。
本発明の液晶組成物において一般式(1)で表される化合物の含有量が少ないとその効果が現れないため、液晶組成物中に下限値として、1%(組成物中の%は質量%を表す。以下同様。)が好ましく、2%が好ましく、5%が更に好ましい。又、含有量が多いと析出等の問題を引き起こすため、上限値としては、50%が好ましく、30%がより好ましく、20%が更に好ましく、10%が特に好ましい。一般式(1)で表される化合物は1種のみで使用することもできるが、2種以上の化合物を同時に使用してもよい。
(製法1)
一般式(2)
(製法2)
一般式(5)
DMF:N,N−ジメチルホルムアミド
Me:メチル基、Pr:n−プロピル基、Bu:n−ブチル基
Tf:トリフルオロメタンスルホニル基
(実施例1)[3,5−ジフルオロ−trans−4−(4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル)フェニル]−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチルオキシ)ジフルオロメタンの製造
(1−2) (1−1)で得られた粗製3,5−ジフルオロ−4−(1−ヒドロキシ−4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル)ベンゼン(62.5g)及びp−トルエンスルホン酸1水和物(1.7g)をトルエン(300mL)に溶解させた溶液を還流させ、ディーンスターク装置を用いて発生する水を除去しながら5時間撹拌した。放冷し、水(150mL)を加えて分液し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(150mL)、飽和食塩水(150mL)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。有機溶媒を減圧留去し、得られた残渣をアルミナカラムクロマトグラフィーにより精製する事で、粗製3,5−ジフルオロ−4−(4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)−1−シクロヘキセニル)ベンゼン(64.1g)を得た。
(1−3) (1−2)で得られた粗製3,5−ジフルオロ−4−(4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)−1−シクロヘキセニル)ベンゼン(64.1g)及び5wt%パラジウム/カーボン(3.0g)をトルエン(200mL)、エタノール(100mL)に溶解させた溶液を、オートクレーブに入れ、水素雰囲気下(0.5MPa)40℃にて5時間撹拌した。パラジウム/カーボンを濾過により除去し、溶媒を減圧留去する事により、粗製3,5−ジフルオロ−4−(4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)−1−シクロヘキシル)ベンゼン(64.3g)を得た。
(1−4) 窒素雰囲気下、(1−3)にて得られた粗製3,5−ジフルオロ−4−(4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル)ベンゼン(64.3g)及びt−ブチルオキシカリウム(2.0g)をDMF(300mL)に溶解させ、70℃にて3時間撹拌した。放冷後、トルエン(300mL)及び水(300mL)を加えて分液し、有機層を水(300mL)、飽和食塩水(300mL)にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、有機溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製、減圧蒸留(0.7mmHg、沸点171〜174℃)、エタノールから再結晶する事により、3,5−ジフルオロ−4−(trans−4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル)ベンゼン(43.5g)を得た。
(1−5) 窒素雰囲気下、(1−4)で得られた3,5−ジフルオロ−4−(trans−4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル)ベンゼン(43.5g)をTHF(300mL)に溶解させた溶液を−76℃に冷却し、1.6mol/L n−ブチルリチウム/ヘキサン溶液(95mL)を加え、−76℃にて1時間撹拌した。続いて、ジブロモジフルオロメタン(19.0g)をTHF(90mL)に溶解させた溶液を加え、ゆっくりと室温まで昇温した。トルエン(300mL)及び水(200mL)を加えて分液し、有機層を10%亜硫酸ナトリウム水溶液(150mL)、飽和食塩水(159mL)にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、有機溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製する事で、粗製(3,5−ジフルオロ−4−(trans−4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル)フェニル)ブロモジフルオロメタン(57.5g)を得た。
(1−6) 5,6,7−トリフルオロ−2−ナフトール(25.4g、特開2004−91361号に従って製造)、(1−5)で得られた(3,5−ジフルオロ−4−(trans−4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル)フェニル)ブロモジフルオロメタン(57.5g)及び無水炭酸カリウム(26.5g)をDMF(300mL)に懸濁させ、50℃にて18時間撹拌した。放冷後、水(200mL)及びトルエン(200mL)を加えて分液し、有機層を飽和食塩水(200mL)にて2回洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、有機溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、エタノール及びヘキサンから再結晶する事により、[3,5−ジフルオロ−4−(trans−4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル)フェニル]−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチルオキシ)ジフルオロメタン(47.4g)を得た。
MS m/z:566[M+]
1HNMR(CDCl3、TMS内部標準)δ(ppm)=8.03(1H,d,J=9.2Hz),7.67(1H,s),7.48−7.46(1H,m),7.38−7.32(1H,m),7.19(2H,d,10.3Hz),2.35(1H,tt,J1=3.2Hz,J2=12.1Hz),1.90−1.71(8H,m),1.33−1.28(4H,m),1.56−0.94(9H,m),0.89−0.81(5H,m)
(実施例2)[3,5−ジフルオロ−4−(2−フルオロ−4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル)フェニル]−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチルオキシ)ジフルオロメタンの製造
(2−2) 以下の工程は、実施例1に示した方法と同様に行い、[3,5−ジフルオロ−4−(2−フルオロ−4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル)フェニル]−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチルオキシ)ジフルオロメタン(20.5g)を得た。
MS m/z:578[M+]
1HNMR(CDCl3、TMS内部標準)δ(ppm)=8.03(1H,d,J=9.2Hz),7.67(1H,s),7.49−7.45(1H,m),7.39−7.33(1H,m),7.27(1H,t,J=8.1Hz),7.18(2H,d,10.4Hz),7.06−6.97(2H,m),2.50−2.43(1H,m),1.93−1.86(4H,m),1.49−1.38(2H,m),1.36−1.26(3H,m),1.24−1.18(2H,m),1.11−1.00(2H,m),0.91(3H,t,J=7.1Hz)
(実施例3)[3,5−ジフルオロ−4−(2−フルオロ−4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル)フェニル]−[3−フルオロ−4−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチル)フェニルオキシ]ジフルオロメタンの製造
(3−2) 窒素雰囲気下、5,6,7−トリフルオロ−2−ナフトール(30g)及びピリジン(15.6g)をジクロロメタン(150mL)に溶解させ、5℃に冷却し、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(47.0g)をジクロロメタン(150mL)に溶解させた溶液を加えた。室温にて1時間撹拌した後、水(200mL)を加えて分液し、有機層を10%塩酸(150mL)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(150mL)、飽和食塩水(150mL)で洗浄した。無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、有機溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事で、トリフルオロメタンスルホン酸5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチル(49.4g)を得た。
(3−3) 窒素雰囲気下、(3−2)で得られたトリフルオロメタンスルホン酸5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチル(40.0g)、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)(1.4g)、2mol/L炭酸カリウム水溶液(120mL)及びTHF(200mL)を混合し、60℃に加熱し、(3−1)で得られた2−フルオロ−4−メトキシフェニルホウ酸(24.7g)をTHF(100mL)に溶解させた溶液を加え、60℃にて6時間撹拌した。室温まで冷却し、トルエン(150mL)を加えて分液し、有機層を水(100mL)、飽和食塩水(100mL)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、有機溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、粗製2−(2−フルオロ−4−メトキシフェニル)−5,6,7−トリフルオロナフタレン(35.1g)を得た。
(3−4) (3−3)で得られた粗製2−(2−フルオロ−4−メトキシフェニル)−5,6,7−トリフルオロナフタレン(35.1g)をジクロロメタン(350mL)に溶解させ、5℃に冷却し、三臭化ホウ素(14.4g)を加えた。室温にて3時間撹拌した後、5℃に冷却し、水(100mL)を加えて分液し、有機層を飽和食塩水(100mL)にて2回洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、有機溶媒を減圧留去した。得られた残渣をアルミナカラムクロマトグラフィーにて精製し、ヘキサンから再結晶する事で、4−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチル)−3−フルオロフェノール(25.3g)を得た。
(3−5) 以下の工程は実施例1と同様にして行う事で、[3,5−ジフルオロ−4−(2−フルオロ−4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル)フェニル]−[3−フルオロ−4−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチル)フェニルオキシ]ジフルオロメタン(49.9g)を得た。
MS m/z:672[M+]
1HNMR(CDCl3、TMS内部標準)δ(ppm)=8.03(1H,d,J=9.2Hz),7.67−7.66(2H,m),7.49−7.46(1H,m),7.38−7.33(1H,m),7.27(1H,t,J=8.0Hz),7.19(2H,d,10.4Hz),7.06−6.97(2H,m),6.83−6.82(2H,m),2.52−2.45(1H,m),1.93−1.86(4H,m),1.49−1.38(2H,m),1.36−1.26(3H,m),1.24−1.18(2H,m),1.11−1.00(2H,m),0.91(3H,t,J=7.1Hz)
(実施例4)[4−(4−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチル)−3−フルオロフェニル)フェニルオキシ]−(2,6−ジフルオロ−4−プロピルフェニル)ジフルオロメタンの製造
MS m/z:572[M+]
1HNMR(CDCl3、TMS内部標準)δ(ppm)=8.03(1H,d,J=9.2Hz),7.67(1H,s),7.49−7.45(1H,m),7.39−7.33(1H,m),7.27(1H,t,J=8.1Hz),7.18(2H,d,10.4Hz),7.13(2H,d,J=8.8Hz),7.06−6.97(2H,m),6.85(2H,d,J=8.8Hz),2.64(2H,t,J=7.6),1.68(2H,quinted,J=8.0Hz),0.97(3H,t,J=7.2Hz)
(実施例5)[3,5−ジフルオロ−4−(4−(2−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)−1−エチル)フェニル)フェニル]−[4−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチル)フェニル]ジフルオロメタンの製造
MS m/z:664[M+]
1HNMR(CDCl3、TMS内部標準)δ(ppm)=8.03(1H,d,J=9.2Hz),7.67(1H,s),7.49−7.45(3H,m),7.42(2H,d,J=7.9Hz),7.40−7.33(3H,m),7.27(2H,d,J=8.0Hz),7.19(2H,d,J=10.4Hz),2.38(2H,t,J=7.0Hz),1.60−1.58(2H,m),1.40−1.17(10H,m),1.07−0.97(4H,m),0.90(3H,t,J=7.2Hz)
(実施例6)[3,5−ジフルオロ−4−(2−フルオロ−4−(4−プロピルフェニル)フェニル)フェニル]−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチルオキシ)ジフルオロメタンの製造
MS m/z:572[M+]
相転移:Cr 99 N 217 Iso
1HNMR(CDCl3、TMS内部標準)δ(ppm)=8.06(1H,d,J=9.2Hz),7.71(1H,s),7.55−7.37(7H,m),7.27(2H,d,J=10.1Hz),2.65(2H,t,J=7.4Hz),1.69(2H,sixtet,J=7.6Hz),0.98(3H,t,J=7.3Hz)
(参考例1) [3,5−ジフルオロ−4−(4−プロピルフェニル)フェニル]−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチルオキシ)ジフルオロメタンの製造
MS m/z:478[M+]
1HNMR(CDCl3、TMS内部標準)δ(ppm)=8.03(1H,d,J=9.2Hz),7.67(1H,s),7.49−7.45(3H,m),7.38−7.33(1H,m),7.27(2H,d,J=8.0Hz),7.19(2H,d,10.4Hz),2.63(2H,d,7.4Hz),1.67(2H,quinted,J=7.6Hz),0.96(3H,t,J=7.3Hz)
(参考例2)5,6,7−トリフルオロ−2−[3−フルオロ−4−(4−プロピルフェニル)フェニル]ナフタレンの製造
MS m/z:394[M+]
(実施例7) 液晶組成物の調製−1
以下の組成からなるホスト液晶組成物(H)
誘電率異方性(Δε):4.38
屈折率異方性(Δn):0.0899
粘度(η20):20.3mPa・s
この母体液晶(H)80%と、実施例1で得られた[3,5−ジフルオロ−trans−4−(4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル)フェニル]−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチルオキシ)ジフルオロメタン20%からなる液晶組成物(M−A)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。
Δε:8.44
Δn:0.10232
η20:35.3mPa・s
[3,5−ジフルオロ−trans−4−(4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル)フェニル]−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチルオキシ)ジフルオロメタンの添加による効果として、Tniを上昇させ(外挿Tni=168.2℃)、Δεが正に大きくなる(外挿Δε=24.7)ことが分かった。また、調製した液晶組成物(M−A)は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持したことから、高い保存安定性を示す事がわかった。
(実施例8) 液晶組成物の調製−2
母体液晶(H)80%と実施例2で得られた[3,5−ジフルオロ−4−(2−フルオロ−4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル)フェニル]−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチルオキシ)ジフルオロメタン20%からなる液晶組成物(M−B)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。
Δε:10.88
Δn:0.1135
η20:34.3mPa・s
[3,5−ジフルオロ−4−(2−フルオロ−4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル)フェニル]−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチルオキシ)ジフルオロメタンの添加による効果として、Tniを上昇させ(外挿Tni=153.6℃)、Δεが正に大きくなる(外挿Δε=36.9)ことが分かった。また、調製した液晶組成物(M−B)は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持したことから、高い保存安定性を示す事がわかった。
(実施例9) 液晶組成物の調製−3
母体液晶(H)90%と実施例3で得られた[3,5−ジフルオロ−4−(2−フルオロ−4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル)フェニル]−[3−フルオロ−4−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチル)フェニルオキシ]ジフルオロメタン10%からなる液晶組成物(M−C)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。
Δε:8.30
Δn:0.1106
η20:31.8mPa・s
[3,5−ジフルオロ−4−(2−フルオロ−4−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル)フェニル]−[3−フルオロ−4−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチル)フェニルオキシ]ジフルオロメタンの添加による効果として、Tniを大きく上昇させ(外挿Tni=233.4℃)、Δεが正に大きくなる(外挿Δε=43.6)ことが分かった。また、調製した液晶組成物(M−C)は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持したことから、高い保存安定性を示す事がわかった。
(実施例10)液晶組成物の調製−4
母体液晶(H)80%と実施例4で得られた[4−(4−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチル)−3−フルオロフェニル)フェニルオキシ]−(2,6−ジフルオロ−4−プロピルフェニル)ジフルオロメタン20%からなる液晶組成物(M−D)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。
Δε:9.77
Δn:0.1481
η20:28.3mPa・s
[4−(4−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチル)−3−フルオロフェニル)フェニルオキシ]−(2,6−ジフルオロ−4−プロピルフェニル)ジフルオロメタンの添加による効果として、Tniを比較的大きく上昇させ(外挿Tni=119.7℃)、Δεが正に大きくなる(外挿Δε=31.2)ことが分かった。また、調製した液晶組成物(M−D)は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持したことから、高い保存安定性を示す事がわかった。
(実施例11)液晶組成物の調製−5
母体液晶(H)95%と実施例5で得られた[3,5−ジフルオロ−4−(4−(2−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)−1−エチル)フェニル)フェニル]−[4−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチル)フェニル]ジフルオロメタン5%からなる液晶組成物(M−E)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。
Δε:5.63
Δn:0.1017
η20:30.8mPa・s
[3,5−ジフルオロ−4−(4−(2−(trans−4−プロピルシクロヘキシル)−1−エチル)フェニル)フェニル]−[4−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチル)フェニル]ジフルオロメタンの添加による効果として、Tniを極めて大きく上昇させ(外挿Tni=294.5℃)、Δεが正に大きくなる(外挿Δε=29.3)ことが分かった。また、調製した液晶組成物(M−E)は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持したことから、高い保存安定性を示す事がわかった。
(実施例12) 液晶組成物の調製−6
母体液晶(H)90%と実施例6で得られた[3,5−ジフルオロ−4−(2−フルオロ−4−(4−プロピルフェニル)フェニル)フェニル]−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチルオキシ)ジフルオロメタン10%からなる液晶組成物(M−F)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。
Δε:7.51
Δn:0.1060
η20:26.2mPa・s
[3,5−ジフルオロ−4−(2−フルオロ−4−(4−プロピルフェニル)フェニル)フェニル]−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチルオキシ)ジフルオロメタンの添加による効果として、Tniを大きく上昇させ(外挿Tni=178.2℃)、Δεが正に大きくなる(外挿Δε=32.3)ことが分かった。また、調製した液晶組成物(M−F)は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持したことから、高い保存安定性を示す事がわかった。
(比較例1) 液晶組成物の調製−7
母体液晶(H)80%と参考例1にて得られた[3,5−ジフルオロ−4−(4−プロピルフェニル)フェニル]−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチルオキシ)ジフルオロメタン20%からなる液晶組成物(M−G)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。
Δε:9.79
Δn:0.1112
η20:26.9mPa・s
[3,5−ジフルオロ−4−(4−プロピルフェニル)フェニル]−(5,6,7−トリフルオロ−2−ナフチルオキシ)ジフルオロメタンの添加の効果として、Tniを低下させ(外挿Tni=65.8℃)、Δεを正に大きくできる(外挿Δε=31.4)事がわかる。調製した液晶組成物(M−G)は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持したことから、高い保存安定性を示す事がわかった。
(比較例2)液晶組成物の調製−8
母体液晶(H)90%と参考例2にて得られた5,6,7−トリフルオロ−2−[3−フルオロ−4−(4−プロピルフェニル)フェニル]ナフタレン10%からなる液晶組成物(M−H)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。
Δε:6.15
Δn:0.1137
η20:23.8mPa・s
5,6,7−トリフルオロ−2−[3−フルオロ−4−(4−プロピルフェニル)フェニル]ナフタレンの添加の効果として、Tn−iをやや上昇させ(外挿Tni=140.8℃)、Δεを正に大きくできる(外挿Δε=22.1)事がわかる。調製した液晶組成物(M−H)を、室温にて二週間保存したところ結晶が析出していた。
Claims (11)
- 一般式(1)
A1〜A4はそれぞれ独立して、
(a)1,4−シクロへキシレン基(この基中に存在する1個の−CH2−は−S−に置き換えられても良く、この基中に存在する隣接していない2個以上の−CH2−は各々独立して−O−又は−S−に置き換えられても良い。)
(b)1,4−フェニレン基(この基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置き換えられても良く、この基中に存在する水素原子はフッ素原子又は塩素原子に置換されても良い。)
からなる群より選ばれる基であり、
Z1〜Z4は各々独立して、−CF2O−、−OCF2−、−CH2CH2−、−CF2CF2−、−CH=CH−、−CF=CF−、−C≡C−又は単結合を表すが、存在するZ1〜Z4の内一つは必ず−CF2O−又は−OCF2−であり、
Xa〜Xdは各々独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表し、
nは0又は1を表す。)で表される化合物。 - 一般式(1)において、存在するZ1及びZ2が単結合を表す請求項1に記載の化合物。
- 一般式(1)において、Xdが水素原子を表す請求項1又は2に記載の化合物。
- 一般式(1)において、Xa〜Xcがフッ素原子を表す請求項1から4のいずれか一項に記載の化合物。
- 一般式(1)において、nが0を表す請求項1から5のいずれか一項に記載の化合物。
- 一般式(1)において、nが1を表す請求項1から5のいずれか一項に記載の化合物。
- 一般式(1)において、Z3が−CF2O−でありZ4が単結合を表す請求項1から7のいずれか一項に記載の化合物。
- 一般式(1)において、Z3が単結合でありZ4が−CF2O−を表す請求項1から7のいずれか一項に記載の化合物。
- 請求項1から9のいずれか一項に記載の化合物を一種又は二種以上含有する液晶組成物。
- 請求項10記載の液晶組成物を使用した液晶表示素子。
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