JP5604844B2 - 記憶装置、及び記憶装置の動作方法 - Google Patents
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(非特許文献4)T. A. Fulton and G. J. Dolan, “Observation of Single-Electron Charging Effects in Small Tunnel Junctions”, Phys. Rev. Lett., Vol. 59, pp. 109-112
(非特許文献5)M. Amman, R. Wilkins, E. ben-Jacob, P. D. Maker, R. C. Jaklevic, “Analytic solution for the current-voltage characteristic of two mesoscopic tunnel junctions coupled in series”, Phys. Rev. B, Vol. 43, pp. 1146-1149, 1991
2 制御トランジスタ(nMOSFET)
3 ゲート電圧(VG)
4 下部電極電圧(VB.E.)
5 上部電極電圧(VT.E.)
6 ソース電圧(VS)
Claims (5)
- 電気抵抗の状態により情報を記憶・保持する遷移金属酸化物と前記遷移金属酸化物を挟む金属電極からなる抵抗変化型記憶素子からメモリセルが構成され、
前記記憶素子の抵抗値が高い状態から抵抗値が低い状態へ変化させる動作及び変化後の状態を消去動作及び消去状態と定義し、前記記憶素子の抵抗値が低い状態から抵抗値が高い状態へ変化させる動作及び変化後の状態を書き込み動作及び書き込み状態と定義したとき、
前記書き込み状態の伝導機構は電流と電圧との関係を示す電流電圧特性が非線形なトンネル伝導であり、前記電流電圧特性の非線形度は前記記憶素子の抵抗値に依存し、前記抵抗値が大きいほど大きくなり、
前記消去状態の伝導機構は前記電流電圧特性が線形なオーミック伝導であることを特徴とする記憶装置。 - 前記書き込み状態の抵抗値は、書き込み動作時に前記金属電極に印加する電圧を変えることで制御することを特徴とする請求項1に記載の記憶装置の動作方法。
- 前記消去状態の抵抗値は、前記記憶素子と直列に接続した電界効果型トランジスタの飽和電流によって制御することを特徴とする請求項1に記載の記憶装置の動作方法。
- 書き込み動作時に、書き込み電圧パルスを前記金属電極間に加えたあとで、記憶素子の抵抗値を読み出す動作を行い、所望の抵抗に達していなかったら、書き込み電圧パルスの電圧を増大させて追加書き込み動作を行い、所望の抵抗値になるまで繰り返すことを特徴とする請求項1に記載の記憶装置の動作方法。
- 抵抗値が低い書き込みレベルから消去動作を行う際に、最も抵抗の高い書き込みレベルに変化させる過程が行われてから、消去動作を行うことを特徴とする請求項1に記載の記憶装置。
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