JP5599062B2 - X線回折装置及びx線回折測定方法 - Google Patents
X線回折装置及びx線回折測定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5599062B2 JP5599062B2 JP2010271410A JP2010271410A JP5599062B2 JP 5599062 B2 JP5599062 B2 JP 5599062B2 JP 2010271410 A JP2010271410 A JP 2010271410A JP 2010271410 A JP2010271410 A JP 2010271410A JP 5599062 B2 JP5599062 B2 JP 5599062B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- sample
- image
- measurement
- ray diffraction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/207—Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
また、本発明は、光学的に透明な物質、すなわち反射光学顕微鏡によって捕えることができない光学的に透明度の高い物質に関しても、その物質の平面領域内の位置を特定できるX線回折装置を提供することを他の目的とする。
さらに、本発明は、透明な物質の平面領域内の任意の位置を特定してX線測定を行うことができるX線回折測定方法を提供することを目的とする。
(試料の準備)
まず、図3(a)に示すように、試料18であるサファイア基板の適所、実施形態では1つの角部に、X線及び光の両方によって画像として捕えることができるマーク29を付しておく。そして、この試料18を図1の試料台3の上に載せる。
次に、X線管2を所定の位置へ回転移動させて、試料18から回折線が得られるようにX線焦点22を試料18に対する所定の角度位置に配置させる。このとき第1X線検出器4のX線検出面で受け取られるX線の入射X線に対する角度をαとする。この状態で、試料18にX線を照射し、試料18から出たX線を第1X線検出器4で検出して、図3(b)に示すような2次元画像、すなわちX線トポグラフ23を得る。この画像は、X線によって照射された位置をピクセルの大きさで分解していることになり、それぞれの位置でのX線の強度が表示されていることになる。
X線トポグラフ撮影を行うのと同時に、又は必要に応じて適宜の時間差をおいて、図1の2次元イメージングデバイス6は試料18及びその周辺を撮影する。このとき、必要に応じて第1X線検出器4を2次元イメージングデバイス6の視野から外しても良い。2次元イメージングデバイス6は、例えば図3(c)に示すような像となる。試料18は光学的に透明であるので、外周端辺に対応した光像27aは別にして、その試料18の内部構造に対応した光像は2次元イメージングデバイス6によって捕えることができない。一方、試料18に付けられたマーク29の光像29bは捕えることができる。
図2のCPU11はメモリ14内に格納されたソフトウエアに従って、X線トポグラフ23と光学像24とを合せ込む、すなわち合成する演算処理を行う。具体的には、CPU11は、X線トポグラフ23におけるX線マーク像29aのトポグラフ座標上での座標位置を特定し、他方、光学像24における光マーク光像29bのxy座標上での座標位置を特定し、両者が光学像24のxy座標上で重なり合うようにX線トポグラフ23の全体の座標値の換算を行う。
測定者は、図3(d)の画面を観察することにより、X線トポグラフ23における欠陥Dを目視によって認識できる。そして、測定者はその欠陥DをROI(Region of Interest:関心領域又は対象領域)と設定して、その領域についての詳しい構造を知りたい場合がある。例えば、欠陥Dの近傍領域についてロッキングカーブ測定を行って、定量的な情報を得たい場合がある。
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
多くのX線トポグラフの測定像は、試料18の表面と第1検出器4のX線受光面が平行 とは限らないので、像の幅が歪んで記録されることがある(図4(b)、図4(c)、図 4(d)参照)。この場合は、試料18の外形位置とX線マーク像29aの両方を用いて 、X線トポグラフ23と光学像24とを合わせ、合成演算処理を行う。
また、光学像24の視野よりも試料18の外形が大きい場合でも、X線マーク29を3 個以上適宜の位置に付ければ、X線トポグラフ23と光学像24とを合わせ、合成演算処 理を行うことができる。
X線マーク29は、例えば、「鉄の酸化物等を含んだ錆止め塗料」等を利用できるが、 好ましくは「取り除き」が容易な、「片面粘着テープ付のアルミニウム箔」の断片を利用 するのが良い。
多くの同質の試料を測定する場合は、前記のX線トポグラフ像と光学像とのゆがみの補 正を最初の1個の試料だけについて行っておけば、次の試料の測定は、外形位置の1ヶ所 又はX線マークの1ヶ所のみの基準点合せを行えば良い。
Claims (9)
- 試料の平面領域から出たX線を平面的なX線トポグラフとして検出し、当該X線トポグラフを信号として出力するX線トポグラフィ手段と、
前記試料の平面領域の光像を受光して当該光像を試料における平面位置情報によって特定された信号として出力する光学撮像手段と、
前記X線トポグラフの出力信号と前記光学撮像手段の出力信号とに基づいて合成画像データを生成する画像合成手段と
を有することを特徴とするX線回折装置。 - 前記画像合成手段は、前記試料に関して設定された基準位置に基づいて前記合成画像データを生成することを特徴とする請求項1記載のX線回折装置。
- 前記基準位置は、前記試料の端辺又は前記試料に設けられたマークであることを特徴とする請求項2記載のX線回折装置。
- 前記X線トポグラフィ手段は、複数の半導体X線受光素子を平面状又は線状に並べて成る半導体イメージセンサを有すること特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1つに記載のX線回折装置。
- 前記試料は光学的に透明な単結晶物質であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1つに記載のX線回折装置。
- 前記X線トポグラフィ手段において前記試料にX線が照射される領域よりも狭い領域で前記試料にX線を照射して、そのときに当該試料から出るX線を検出するX線測定系と、
前記試料を平行移動させる試料移動手段と、
をさらに有することを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1つに記載のX線回折装置。 - 前記X線測定系は、ロッキングカーブ測定装置、反射率測定装置、逆格子マップ測定装置、インプレーン測定装置、及びX線粉末回折装置の少なくとも1つであることを特徴とする請求項6記載のX線回折装置。
- 前記X線トポグラフィ手段及び前記X線測定系は共通のX線源を有することを特徴とする請求項6又は請求項7記載のX線回折装置。
- 請求項6から請求項8のいずれか1つに記載のX線回折装置を用いて測定を行うX線回折測定方法であって、
前記X線トポグラフィ手段の出力結果に基づいて結晶欠陥を求め、
前記画像合成手段により求められた前記合成画像データに基づいて、前記結晶欠陥の位置を前記平面位置情報によって特定し、
特定した平面位置情報に基づいて前記試料移動手段によって前記試料を移動させて前記結晶欠陥を前記X線測定系におけるX線照射位置へ移動させ、
当該X線測定系によって測定を行う
ことを特徴とするX線回折測定方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010271410A JP5599062B2 (ja) | 2010-12-06 | 2010-12-06 | X線回折装置及びx線回折測定方法 |
KR1020110127664A KR101594794B1 (ko) | 2010-12-06 | 2011-12-01 | 엑스선 회절장치 및 엑스선 회절측정방법 |
DE102011087537.9A DE102011087537B4 (de) | 2010-12-06 | 2011-12-01 | Röntgendiffraktionsvorrichtung und Röntgendiffraktions-Messverfahren |
US13/311,228 US9074992B2 (en) | 2010-12-06 | 2011-12-05 | X-ray diffraction apparatus and X-ray diffraction measurement method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010271410A JP5599062B2 (ja) | 2010-12-06 | 2010-12-06 | X線回折装置及びx線回折測定方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012122746A JP2012122746A (ja) | 2012-06-28 |
JP2012122746A5 JP2012122746A5 (ja) | 2013-02-28 |
JP5599062B2 true JP5599062B2 (ja) | 2014-10-01 |
Family
ID=46083116
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010271410A Active JP5599062B2 (ja) | 2010-12-06 | 2010-12-06 | X線回折装置及びx線回折測定方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9074992B2 (ja) |
JP (1) | JP5599062B2 (ja) |
KR (1) | KR101594794B1 (ja) |
DE (1) | DE102011087537B4 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101360906B1 (ko) * | 2012-11-16 | 2014-02-11 | 한국표준과학연구원 | 고분해능 x-선 로킹 커브 측정을 이용한 단결정 웨이퍼의 면방위 측정 방법 |
JP6206901B2 (ja) * | 2012-12-14 | 2017-10-04 | 大学共同利用機関法人 高エネルギー加速器研究機構 | 散乱強度分布の測定方法及び測定装置 |
KR101414205B1 (ko) | 2013-09-30 | 2014-07-01 | 주식회사 엘지실트론 | 웨이퍼의 기계적 손상 깊이를 측정하는 방법 |
CN103487452B (zh) * | 2013-10-14 | 2015-08-05 | 山东大学 | 以x射线单次测量实现对称性微纳米样品三维成像的方法 |
CN103592321A (zh) * | 2013-11-13 | 2014-02-19 | 常熟市宝华建筑装璜材料有限公司 | 基于x射线检测的钢管检测装置 |
JP6451062B2 (ja) | 2014-03-18 | 2019-01-16 | セイコーエプソン株式会社 | 電子デバイス、電子モジュール、電子機器および移動体 |
US10161887B2 (en) * | 2015-01-20 | 2018-12-25 | United Technologies Corporation | Systems and methods for materials analysis |
KR101784276B1 (ko) * | 2015-02-27 | 2017-10-12 | 주식회사 고영테크놀러지 | 기판 검사 방법 및 시스템 |
US9943272B2 (en) * | 2016-07-23 | 2018-04-17 | Rising Star Pathway, a California Corporation | X-ray laser microscopy system and method |
US11738887B2 (en) * | 2020-12-10 | 2023-08-29 | Textron Innovations Inc. | Method and system for evaluating rotor-mast fatigue damage |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS552968A (en) * | 1978-06-23 | 1980-01-10 | Toshiba Corp | X-ray topographic camera |
JPH09145641A (ja) * | 1995-11-24 | 1997-06-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 単結晶の結晶性評価方法及び装置 |
JPH09304307A (ja) * | 1996-05-16 | 1997-11-28 | Sony Corp | 結晶の格子歪み測定方法 |
JPH11326245A (ja) * | 1998-05-11 | 1999-11-26 | Sony Corp | X線回折顕微装置 |
JP3944330B2 (ja) * | 1999-04-12 | 2007-07-11 | 株式会社リガク | X線回折装置及びx線ロッキングカーブの測定方法 |
JP4228773B2 (ja) * | 2003-05-13 | 2009-02-25 | ソニー株式会社 | 基板検査装置 |
JP3904543B2 (ja) * | 2003-10-14 | 2007-04-11 | 株式会社リガク | X線結晶方位測定装置及びx線結晶方位測定方法 |
US7269245B2 (en) * | 2004-07-30 | 2007-09-11 | Bruker Axs, Inc. | Combinatorial screening system and X-ray diffraction and Raman spectroscopy |
JP4495631B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2010-07-07 | 株式会社リガク | X線単結晶評価装置 |
-
2010
- 2010-12-06 JP JP2010271410A patent/JP5599062B2/ja active Active
-
2011
- 2011-12-01 KR KR1020110127664A patent/KR101594794B1/ko active IP Right Grant
- 2011-12-01 DE DE102011087537.9A patent/DE102011087537B4/de active Active
- 2011-12-05 US US13/311,228 patent/US9074992B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20120140890A1 (en) | 2012-06-07 |
DE102011087537A1 (de) | 2012-06-06 |
JP2012122746A (ja) | 2012-06-28 |
KR20120062624A (ko) | 2012-06-14 |
DE102011087537B4 (de) | 2016-05-04 |
KR101594794B1 (ko) | 2016-02-17 |
US9074992B2 (en) | 2015-07-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5599062B2 (ja) | X線回折装置及びx線回折測定方法 | |
EP3026429B1 (en) | X-ray fluorescence analyzer and x-ray fluorescence analyzing method | |
JP5307503B2 (ja) | X線分析装置及びx線分析方法 | |
JP3904543B2 (ja) | X線結晶方位測定装置及びx線結晶方位測定方法 | |
JP2012122746A5 (ja) | ||
JP2007309685A (ja) | 検査装置及び検査方法 | |
KR102354765B1 (ko) | 형광 x 선 분석 장치 및 그 측정 위치 조정 방법 | |
TWI749029B (zh) | 複合檢查系統 | |
KR101790355B1 (ko) | X선 분석 장치 | |
KR101387844B1 (ko) | X선 분석 장치 및 x선 분석 방법 | |
JP2002310954A (ja) | 試料解析装置 | |
US8705698B2 (en) | X-ray analyzer and mapping method for an X-ray analysis | |
KR100956873B1 (ko) | X선을 이용한 검사 장치 | |
KR100936746B1 (ko) | Χ-선 토포그래피에 의한 결함의 3-차원 분포의 분석 | |
JP2013178246A (ja) | マイクロ回折方法及び装置 | |
JP5945205B2 (ja) | 試料分析装置 | |
KR20200015375A (ko) | X선 투과 검사 장치 및 x선 투과 검사 방법 | |
JP2004271269A (ja) | パターン検査方法及びパターン検査装置 | |
JP4616612B2 (ja) | 反射電子線検出装置 | |
JP4563701B2 (ja) | X線結晶方位測定装置及びx線結晶方位測定方法 | |
JP3567176B2 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
JP4565546B2 (ja) | X線分析方法及びx線分析装置 | |
KR20160026654A (ko) | 형광 x 선 분석 장치 및 그 시료 표시 방법 | |
JP2004271270A (ja) | パターン検査方法及びパターン検査装置 | |
JP2003207467A (ja) | X線分析装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121225 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121225 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121225 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131107 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140226 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140331 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140806 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140808 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5599062 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
SG99 | Written request for registration of restore |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316G99 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
SG99 | Written request for registration of restore |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316G99 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S803 | Written request for registration of cancellation of provisional registration |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316805 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S803 | Written request for registration of cancellation of provisional registration |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316805 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |