JP5587926B2 - 放射線撮影システム及びその制御方法 - Google Patents

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Description

本発明は、放射線により断層画像を撮影する放射線撮影システムと、その制御方法とに関するものである。
医療分野において、放射線、例えばX線を利用したX線撮影システムが知られている。X線撮影システムは、X線を発生するX線源を含むX線発生装置と、X線を受けてX線画像を撮影するX線撮影装置とからなる。X線撮影装置として、X線の入射量に応じた信号電荷を蓄積する画素がマトリックス状に配列されたフラットパネルディテクタ(FPD;flat panel detector)を検出パネルとして用いたX線画像検出装置が普及している。FPDは、画素毎に信号電荷を蓄積し、蓄積した信号電荷を信号処理回路で電圧信号に変換することで、被検体の画像情報を表すX線画像を検出し、これをデジタルな画像データとして出力する。
X線撮影システムには、被検体を透過したX線の線量を線量検出センサによって検出し、その積算値が予め設定した閾値に達したときにX線発生装置によるX線の照射を停止させる自動露出制御(AEC;Automatic Exposure Control)を行うものがある。また、線量検出センサを複数備えるX線撮影システムでは、撮影部位毎に診断時に最も注目すべき部分(関心領域、ROIともいう)にあたる採光野を設定して、採光野にある線量検出センサからのX線量を元にX線の照射停止を判定している。
X線撮影システムには、X線原を移動させて異なる照射角から被検体にX線を照射して複数回の撮影を行い、これらの撮影により得た複数の画像を再構成して所望の断層面を強調した断層画像を生成するトモシンセシス撮影を行なうものがある。トモシンセシス撮影では、X線の照射角によってX線が被検体を透過する距離、すなわち被検体の厚みが変化するため、一定の線量でトモシンセシス撮影を行なうと各画像の採光野の濃度が異なってしまう。そのため、特許文献1、2記載のX線撮影システムでは、X線の照射角に基づいて被検体の厚みの変化を予測し、予測した被検体の厚みに応じた線量のX線を照射している。
特表2000−501552号公報 特開2008−253555号公報
特許文献1、2記載のX線撮影システムでは、X線の照射角に基づいて被検体の厚みの変化を予測しているが、被検体の厚みの変化は撮影部位によって異なり、僅かな照射角の違いで厚みが大きく変化する部位や、ほとんど厚みが変化しない部位も存在する。そのため、X線の照射角に基づいてX線の照射線量を変化させるトモシンセシス撮影は、各画像の採光野の濃度を均一にするという目的において安定性に欠ける。
本発明の目的は、トモシンセシス撮影によって取得される一連の画像の採光野の濃度を一定にすることにある。
本発明の放射線撮影システムは、複数の照射位置で異なる方向から被検体に向けて放射線を照射する放射線源と、被検体を透過した放射線を受ける複数の画素が配列された検出パネルを有し、放射線源により複数の照射方向から照射された放射線を受けて一連の放射線画像を検出する放射線画像検出装置と、検出パネルの画素が設けられた撮像面に配置され被検体を透過した放射線の線量を検出する複数の線量検出センサと、放射線源の照射位置に応じて被検体を透過した放射線の線量検出に用いられる線量検出センサの採光野を設定する採光野設定手段と、採光野内の線量検出センサで検出された線量に基づいて一連の放射線画像の採光野の濃度を調整する濃度調整手段と、一連の放射線画像から被検体の断層画像を生成する断層画像生成手段とを備えている。
採光野設定手段は、被検体の関心領域の位置及び大きさと、放射線源の移動位置とに基づいて採光野を設定している。この場合、被検体の関心領域の位置及び大きさを設定する関心領域設定手段を備えていることが好ましい。
採光野設定手段は、放射線源の移動方向における関心領域の大きさをLROI、検出パネルの撮像面に垂直な方向における検出パネルと放射線源との距離をSID、検出パネルの撮像面に垂直な方向の関心領域の中心軸に対する放射線源の移動方向の位置情報をLXRAI、検出パネルの撮像面から関心領域との距離をHROIとしたときに、放射線源から採光野の放射線源に近い端縁までの距離X1と、放射線源から採光野の放射線源に遠い端縁までの距離X2とを下記式(1)、(2)により求めるようにしてもよい。
X1=SID/(SID−HROI)×(LXRAI−LROI/2)・・・(1)
X2=SID/(SID−HROI)×(LXRAI+LROI/2)・・・(2)
別の採光野設定手段は、放射線源から照射された放射線の照射野と、放射線源の移動位置とに基づいて採光野を設定している。この場合、放射線源に照射野領域を設定する照射野限定器を備えていることが好ましい。
採光野設定手段は、検出パネルの撮像面の中心位置に対する放射線源の移動方向における位置情報をL1、検出パネルの撮像面に対する放射線の照射角をθ1、照射野限定器の開放角度をθ2としたときに、放射線源から採光野の放射線源に近い端縁までの距離X1aと、放射線源から採光野の放射線源に遠い端縁までの距離X2aとを下記式(3)、(4)により求めるようにしてもよい。
X1a=SID・tan(θ1−θ2/2)・・・(3)
X2a=SID・tan(θ1+θ2/2)・・・(4)
更に別の採光野設定手段としては、放射線画像検出手段により検出された一連の放射線画像のうち、最初に検出された放射線画像から被検体の関心領域を特定し、この関心領域に対応した採光野と放射線源の移動位置とに基づいて、2回目以降の放射線画像の検出に用いられる採光野を設定するようにしてもよい。
濃度調整手段は、採光野内の線量検出センサで検出された線量の積算値と予め設定した照射停止閾値とを比較し、積算値が照射停止閾値に達した際に放射線源による放射線の照射を停止させる自動露出制御を行なうことが好ましい。
別の濃度調整手段を用いてもよく、この場合、採光野内の線量検出センサで検出された線量の積算値に基づいて、検出パネルから放射線画像の画像データを読み出す際に画像データのゲインを調節するのが好ましい。濃度調整手段によってゲインを調節する場合には、ゲインが調節された一連の放射線画像にゲインの逆数を掛けて正規化することが好ましい。
本発明の放射線撮影システムの制御方法は、放射線源の照射位置に応じて、検出パネルの画素が設けられた撮像面に配置されている複数の線量検出センサから、被検体を透過した放射線の線量検出に用いられる採光野を設定するステップと、採光野内の線量検出センサで検出された線量に基づいて一連の放射線画像の採光野の濃度を調整するステップと、一連の放射線画像から被検体の断層画像を生成するステップとを備えている。
本発明によれば、トモシンセシス撮影の各回の放射線撮影においてAECを行なうので、各放射線撮影により取得した一連の放射線画像の採光野の濃度バランスを良くすることができ、高画質な断層画像を取得することができる。また、各放射線撮影のAECでは、放射線源の照射位置に応じて設定された採光野を用いるので、一連の放射線画像の採光野を適切な濃度で撮影することができる。また、採光野は、放射線源の照射位置に基づいて自動的に設定されるので、簡単かつ迅速に採光野を設定することができる。
X線撮影システムの構成を示す概略図である。 線源制御装置の内部構成と線源制御装置と他の装置との接続関係を示す図である。 電子カセッテの内部構成を示すブロック図である。 電子カセッテのFPDの検出画素の配置を説明するための図である。 電子カセッテのAEC部および通信部の内部構成を示すブロック図である。 コンソールに設定された撮影条件を示す図である。 コンソールの内部構成を示すブロック図である。 コンソールの機能および情報の流れを示すブロック図である。 X線源の照射位置とROI情報とから求められた採光野を示す図である。 トモシンセシス撮影の処理の流れを示すフローチャートである。 AECの処理の流れを示すフローチャートである。 照射野から採光野を設定するようにしたコンソールの機能および情報の流れを示すブロック図である。 X線源の照射位置と照射野とから求められた採光野を示す図である。 一回目の撮影で取得したX線画像から二回目以降の撮影の採光野を設定するコンソールの機能および情報の流れを示すブロック図である。 一回目の撮影で取得したX線画像から照射野を特定した状態を示す図である。 読み出し動作時に積分アンプのゲインを設定する場合の構成を示す図である。 FPDのさらに別の態様を示す図である。
図1において、X線撮影システム2は、X線源10と、X線源10に対向して配置され被検体Mが載置される撮影台15と、被検体Mを透過したX線を検出してX線画像を出力する電子カセッテ13と、X線源10を予め設定された複数の位置に移動させる線源移動機構16と、X線源10が所定の位置(以下、照射位置という)に到達した時点で、X線源10から電子カセッテ13上の被検体Mに対してX線を照射するように制御する線源制御装置11と、電子カセッテ13を制御するとともに電子カセッテ13から順次送られてくる一連のX線画像を再構成して被検体Mの断層画像を生成するコンソール14とを備えている。
X線撮影システム2は、電子カセッテ13に対向して配置されたX線源10を複数の位置に移動しながら各照射位置においてX線源10から電子カセッテ13上の被検体Mに対して異なる方向よりX線を照射することによって、電子カセッテ13から複数枚のX線画像を取得し、この一連のX線画像をコンソール14により再構成して被検体Mの断層画像を取得するトモシンセシス撮影を行なう。図1の例では、電子カセッテ13を固定した状態で、線源移動機構16によってX線源10を電子カセッテ13の検出面と平行なX方向の直線軌道に沿って移動させた例を示しているが、X線源10と電子カセッテ13とを被検体Mを挟んで互いに反対方向に同期するように相対移動させてもよい。
なお、X線撮影システム2での撮影は、X線源10が予め設定された複数の位置に到達した時点で行われる個々の撮影という概念と、これら個々の撮影全体を1つの撮影として捉える概念が存在する。そこで以下では、個々の撮影を「X線撮影」と記し、個々の撮影全体を1つの撮影として捉えた撮影を「トモシンセシス撮影」と記す。
X線源10は、X線を放射するX線管17と、X線管17が放射するX線の照射野を矩形状に限定する照射野限定器(コリメータ)18とを有する。X線管17は、熱電子を放出するフィラメントからなる陰極と、陰極から放出された熱電子が衝突してX線を放射する陽極(ターゲット)とを有している。照射野限定器18は、例えば、X線を遮蔽する複数枚の鉛板を井桁状に配置し、X線を透過させる照射開口が中央に形成されたものであり、線源制御装置11の制御の下、鉛板の位置を移動することで照射開口の大きさを変化させて、照射野を限定する。
トモシンセシス撮影時の線源制御装置11は、X線源10を電子カセッテ13の撮像面と平行なX方向に移動させながらY方向の軸を中心に回動させ、移動経路上に設定された複数の照射位置F1、F2〜Fnからその照射位置に対応した照射角で被検体Mに対してX線が照射されるように、線源移動機構16の駆動を制御する。線源移動機構16は、天井から懸下されたアームと、アームの先端でX線源10を保持してY方向の軸を中心に首振りさせる保持部と、X線源10をアームごとXY方向に移動させるレールと、これらの各部を駆動するモータ等の駆動源とからなり、線源制御装置11の制御の下に自動で、または放射線技師等のオペレータにより手動でX線源10の位置を変えることが可能である。
図2に示すように、線源制御装置11は、トランスによって入力電圧を昇圧して高圧の管電圧を発生し、高電圧ケーブルを通じてX線源10に供給する高電圧発生器30と、X線源10が照射するX線のエネルギースペクトルを決める管電圧、単位時間当たりの照射量を決める管電流、およびX線の照射時間を制御する制御部31と、コンソール14との主要な情報、信号の送受信を媒介する通信I/F32とを備える。
制御部31には照射スイッチ12とメモリ33とタッチパネル34が接続されている。照射スイッチ12は、オペレータによって操作される例えば二段階押しのスイッチであり、一段階押しでX線源10のウォームアップを開始させるためのウォームアップ開始信号を発生し、二段階押しでX線源10に照射を開始させるための照射開始信号を発生する。これらの信号は信号ケーブルを通じて線源制御装置11に入力される。制御部31は、照射スイッチ12から照射開始信号を受けたときに高電圧発生器30からX線源10への電力供給を開始させる。
メモリ33は、管電圧、管電流照射時間積(mAs値)といった撮影条件を予め数種類格納している。撮影条件はタッチパネル34を通じてオペレータにより手動で設定される。線源制御装置11は、設定された撮影条件の管電圧や管電流照射時間積でX線を照射しようとする。AECはこれに対して必要十分な線量に到達したことを検出すると、線源制御装置11側で照射しようとしていた管電流照射時間積(照射時間)以下であってもX線の照射を停止するように機能する。なお、目標線量に達してAECによる照射停止の判断がされる前にX線の照射が終了して線量不足に陥ることを防ぐために、X線源10の撮影条件には電流照射時間積(照射時間でも可)の最大値が設定される。
照射信号I/F35は、電子カセッテ13の検出画素65(図3参照)の出力を元にX線の照射停止タイミングを規定する場合に電子カセッテ13と接続される。この場合、制御部31は、照射スイッチ12からウォームアップ開始信号を受けたときに、照射信号I/F35を介して問い合わせ信号を電子カセッテ13に送信させる。電子カセッテ13は問い合わせ信号を受信するとリセット処理の完了や蓄積開始処理等の準備処理を行う。そして、電子カセッテ13から問い合わせ信号の応答である照射許可信号を照射信号I/F35で受け、さらに照射スイッチ12から照射開始信号を受けたときに高電圧発生器30からX線源10への電力供給を開始させる。また、制御部31は、電子カセッテ13から発せられる照射停止信号を照射信号I/F35で受けたときに、高電圧発生器30からX線源10への電力供給を停止させ、X線の照射を停止させる。
電子カセッテ13は、周知の如くFPD40とFPD40を収容する可搬型の筐体(図示せず)とからなる。電子カセッテ13の筐体は略矩形状で偏平な形状を有し、平面サイズはフイルムカセッテやIPカセッテ(CRカセッテとも呼ばれる)と同様の大きさ(国際規格ISO4090:2001に準拠した大きさ)である。このため、フイルムカセッテやIPカセッテ用の既存の撮影台にも取り付け可能である。
電子カセッテ13は、FPD40の撮像面41がX線源10と対向する姿勢で保持されるように撮影台15に着脱自在にセットされる。電子カセッテ13は、撮影台15にセットするのではなく、被検体Mが仰臥するベッド上に置いたり被検体M自身に持たせたりして単体で使用することも可能である。
図3において、電子カセッテ13にはアンテナ42、およびバッテリ43が内蔵されており、コンソール14との無線通信が可能である。アンテナ42は、無線通信のための電波をコンソール14との間で送受信する。バッテリ43は、電子カセッテ13の各部を動作させるための電力を供給する。バッテリ43は、薄型の電子カセッテ13内に収まるよう比較的小型のものが使用される。また、バッテリ43は、電子カセッテ13から外部に取り出して専用のクレードルにセットして充電することも可能である。バッテリ43を無線給電可能な構成としてもよい。
電子カセッテ13には、アンテナ42に加えてソケット44が設けられている。ソケット44はコンソール14と有線接続するために設けられており、バッテリ43の残量不足等で電子カセッテ13とコンソール14との無線通信が不可能になった場合に使用される。ソケット44にコンソール14からのケーブルを接続した場合、コンソール14との有線通信が可能になる。この際、コンソール14から電子カセッテ13に給電してもよい。
アンテナ42およびソケット44は、通信部45に設けられている。通信部45は、アンテナ42またはソケット44と制御部46、メモリ47間の画像データを含む各種情報、信号(通信が正常に行われているか否かを検査するためのライフチェック信号等)の送受信を媒介する。
FPD40は、TFTアクティブマトリクス基板を有し、この基板上にX線の入射量に応じた信号電荷を蓄積する複数の画素50を配列してなる撮像面41を備えている。複数の画素50は、所定のピッチで二次元にi行(X方向)×j列(Z方向)のマトリクス状に配列されている。
FPD40はさらに、X線を可視光に変換するシンチレータ(蛍光体、図示せず)を有し、シンチレータによって変換された可視光を画素50で光電変換する間接変換型である。シンチレータは、CsI(ヨウ化セシウム)やGOS(ガドリウムオキシサルファイド)等からなり、画素50が配列された撮像面41の全面と対向するように配置されている。なお、シンチレータとFPD40は、X線の入射する側からみてシンチレータ、FPD40の順に配置されるPSS(Penetration Side Sampling)方式でもよいし、逆にFPD40、シンチレータの順に配置されるISS(Irradiation Side sampling)方式でもよい。また、シンチレータを用いず、X線を直接電荷に変換する変換層(アモルファスセレン等)を用いた直接変換型のFPDを用いてもよい。
画素50は、可視光の入射によって電荷(電子−正孔対)を発生する光電変換素子であるフォトダイオード51、フォトダイオード51が発生した電荷を蓄積するキャパシタ(図示せず)、およびスイッチング素子として薄膜トランジスタ(TFT)52を備える。
フォトダイオード51は、電荷を発生する半導体層(例えばPIN型)とその上下に上部電極および下部電極を配した構造を有している。フォトダイオード51は、下部電極にTFT52が接続され、上部電極にはバイアス線53が接続されており、バイアス線53は撮像面41内の画素50の行数分(i行分)設けられて結線54に結束されている。結線54はバイアス電源55に繋がれている。結線54、バイアス線53を通じて、バイアス電源55からフォトダイオード51の上部電極にバイアス電圧Vbが印加される。バイアス電圧Vbの印加により半導体層内に電界が生じ、光電変換により半導体層内で発生した電荷(電子−正孔対)は、一方がプラス、他方がマイナスの極性を持つ上部電極と下部電極に移動し、キャパシタに電荷が蓄積される。
TFT52は、ゲート電極が走査線56に、ソース電極が信号線57に、ドレイン電極がフォトダイオード51にそれぞれ接続される。走査線56と信号線57は格子状に配線されており、走査線56は撮像面41内の画素50の行数分(i行分)、信号線57は画素50の列数分(j列分)それぞれ設けられている。走査線56はゲートドライバ58に接続され、信号線57は信号処理回路59に接続される。
ゲートドライバ58は、TFT52を駆動することにより、X線の入射量に応じた信号電荷を画素50に蓄積する蓄積動作と、画素50から信号電荷を読み出す読み出し(本読み)動作と、リセット(空読み)動作とを行わせる。制御部46は、ゲートドライバ58によって実行される上記各動作の開始タイミングを制御する。
蓄積動作ではTFT52がオフ状態にされ、その間に画素50に信号電荷が蓄積される。読み出し動作では、ゲートドライバ58から同じ行のTFT52を一斉に駆動するゲートパルスG1〜Giを順次発生して、走査線56を一行ずつ順に活性化し、走査線56に接続されたTFT52を一行分ずつオン状態とする。画素50のキャパシタに蓄積された電荷は、TFT52がオン状態になると信号線57に読み出されて、信号処理回路59に入力される。
フォトダイオード51の半導体層には、X線の入射の有無に関わらず暗電荷が発生する。この暗電荷はバイアス電圧Vbが印加されているためにキャパシタに蓄積される。画素50において発生する暗電荷は、画像データに対してはノイズ成分となるので、これを除去するためにリセット動作が行われる。リセット動作は、画素50において発生する暗電荷を、信号線57を通じて掃き出す動作である。
リセット動作は、例えば、一行ずつ画素50をリセットする順次リセット方式で行われる。順次リセット方式では、信号電荷の読み出し動作と同様、ゲートドライバ58から走査線56に対してゲートパルスG1〜Giを順次発生して、画素50のTFT52を一行ずつオン状態にする。TFT52がオン状態になっている間、画素50から暗電荷が信号線57を通じて積分アンプ60に流れる。リセット動作では、読み出し動作と異なり、マルチプレクサ(MUX)61による積分アンプ60に蓄積された電荷の読み出しは行われず、各ゲートパルスG1〜Giの発生と同期して、制御部46からリセットパルスRSTが出力され、積分アンプ60がリセットされる。
順次リセット方式に代えて、配列画素の複数行を一グループとしてグループ内で順次リセットを行い、グループ数分の行の暗電荷を同時に掃き出す並列リセット方式や、全行にゲートパルスを入れて全画素の暗電荷を同時に掃き出す全画素リセット方式を用いてもよい。並列リセット方式や全画素リセット方式によりリセット動作を高速化することができる。
信号処理回路59は、積分アンプ60、MUX61、およびA/D変換器62等を備える。積分アンプ60は、各信号線57に対して個別に接続される。積分アンプ60は、オペアンプとオペアンプの入出力端子間に接続されたキャパシタとからなり、信号線57はオペアンプの一方の入力端子に接続される。積分アンプ60のもう一方の入力端子はグランド(GND)に接続される。積分アンプ60は、信号線57から入力される電荷を積算し、電圧信号D1〜Djに変換して出力する。各列の積分アンプ60の出力端子には、増幅器63、サンプルホールド(S/H)部64を介してMUX61が接続される。MUX61の出力側には、A/D変換器62が接続される。
MUX61は、パラレルに接続される複数の積分アンプ60から順に一つの積分アンプ60を選択し、選択した積分アンプ60から出力される電圧信号D1〜DjをシリアルにA/D変換器62に入力する。A/D変換器62は、入力された電圧信号D1〜Djをデジタルデータに変換して、電子カセッテ13に内蔵されるメモリ47に出力する。なお、MUX61とA/D変換器62の間に増幅器を接続してもよい。
MUX61によって積分アンプ60から一行分の電圧信号D1〜Djが読み出されると、制御部46は、積分アンプ60に対してリセットパルスRSTを出力し、積分アンプ60のリセットスイッチ60aをオンする。これにより、積分アンプ60に蓄積された一行分の信号電荷がリセットされる。積分アンプ60がリセットされると、ゲートドライバ58から次の行のゲートパルスが出力され、次の行の画素50の信号電荷の読み出しを開始させる。これらの動作を順次繰り返して全行の画素50の信号電荷を読み出す。
全行の読み出しが完了すると、一画面分のX線画像を表す画像データがメモリ47に記録される。この画像データはメモリ47から読み出され、通信部45を通じてコンソール14に出力される。こうして被検体MのX線画像が検出される。
制御部46は、線源制御装置11の制御部31からの問い合わせ信号を受信したタイミングで、FPD40にリセット動作を行わせて線源制御装置11に照射許可信号を返信する。そして、照射開始信号を受信したタイミングでFPD40の動作をリセット動作から蓄積動作へ移行させる。
FPD40は、上述のようにTFT52を介して信号線57に接続された画素50の他に、TFT52を介さず信号線57に短絡して接続された検出画素65を同じ撮像面41内に複数備えている。検出画素65は、被検体Mを透過して撮像面41に入射するX線の線量を検出するために利用される画素であり、照射開始検出センサとして機能したり、照射終了検出センサおよびAECセンサとして機能する。検出画素65は撮像面41内の画素50の数%程度を占める。
図4に示すように、検出画素65は、撮像面41内で局所的に偏ることなく撮像面41内に満遍なく散らばるよう、撮像面41の中心に関して左右対称な点線で示す波形の軌跡66に沿って設けられている。検出画素65は、同じ信号線57が接続された画素50の列に一個ずつ設けられ、検出画素65が設けられた列は、検出画素65が設けられない列を例えば二〜三列挟んで設けられる。検出画素65の位置はFPD40の製造時に既知であり、FPD40は全検出画素65の位置(座標)を不揮発性のメモリ(図示せず)に予め記憶している。なお、ここで示した検出画素65の配置は一例であり、適宜変更可能である。
検出画素65は信号線57との間にTFT52が設けられておらず、信号線57に直に接続されているので、検出画素65で発生した信号電荷は、直ちに信号線57に読み出される。同列にある通常の画素50がTFT52をオフ状態とされ、信号電荷を蓄積する蓄積動作中であっても同様である。このため検出画素65が接続された信号線57上の積分アンプ60には、検出画素65で発生した電荷が常に流入する。蓄積動作時、積分アンプ60に蓄積された検出画素65からの電荷は、所定のサンプリング周期でMUX61を介して電圧値としてA/D変換器62に出力される。
図3において、AEC部67は、制御部46により駆動制御される。AEC部67は、検出画素65が接続された信号線57からの電圧値(線量検出信号という)をA/D変換器62を介して取得する。
図5において、AEC部67は、採光野選択回路75、積分回路76、比較回路77、および閾値発生回路78を有する。採光野選択回路75は、コンソール14からの採光野の情報に基づき、撮像面41内に散らばった複数の検出画素65のうち、どの検出画素65の線量検出信号をAECに用いるかを選択する。積分回路76は、採光野選択回路75で選択された検出画素65からの線量検出信号を積算する。比較回路77は、X線の照射開始が検出されたときに積分回路76からの線量検出信号の積算値のモニタリングを開始する。そして、積算値と閾値発生回路78から与えられる照射停止閾値とを適宜のタイミングで比較する。積算値が閾値に達したとき、比較回路77は照射停止信号を出力する。
通信部45には、上述のアンテナ42とソケット44の他に照射信号I/F80が設けられている。照射信号I/F80には線源制御装置11の照射信号I/F35が接続される。照射信号I/F80は、問い合わせ信号の受信、問い合わせ信号に対する照射許可信号の送信、比較回路77の出力、すなわち照射停止信号の送信を行う。
コンソール14は、有線方式や無線方式により電子カセッテ13と通信可能に接続されており、電子カセッテ13の動作を制御する。具体的には、電子カセッテ13に対して撮影条件を送信して、FPD40の信号処理の条件(蓄積される信号電荷に応じた電圧を増幅するアンプのゲイン等)を設定させるとともに、電子カセッテ13の電源のオンオフ、省電力モードや撮影準備状態へのモード切り替え等の制御を行う。
コンソール14は、電子カセッテ13から送信されるX線画像データに対してオフセット補正やゲイン補正、欠陥補正等の各種画像処理を施す。欠陥補正では、検出画素65がある列の画素値を隣り合う検出画素65がない列の画素値で補間する。また、コンソール14は、電子カセッテ13で検出された一連のX線画像を再構成して被検体Mの所望の断面を示す断層画像を生成する。断層画像は、コンソール14のディスプレイ89(図7参照)に表示される他、そのデータがコンソール14内のストレージデバイス87やメモリ86(ともに図7参照)、あるいはコンソール14とネットワーク接続された画像蓄積サーバといったデータストレージに記憶される。
コンソール14は、患者の性別、年齢、撮影部位、撮影方法といった情報が含まれる検査オーダの入力を受け付けて、検査オーダをディスプレイ89に表示する。検査オーダは、HIS(病院情報システム)やRIS(放射線情報システム)といった患者情報や放射線検査に係る検査情報を管理する外部システムから入力されるか、オペレータにより手動入力される。検査オーダには、頭部、胸部、腹部、全脊椎、全下肢等の撮影部位、正面、側面、斜位、PA(X線を被検体Mの背面から照射)、AP(X線を被検体Mの正面から照射)等の撮影方向、1枚のX線画像を撮影する単純撮影や断層画像を撮影するトモシンセシス撮影等の撮影方法が含まれる。オペレータは、検査オーダの内容をディスプレイ89で確認し、その内容に応じた撮影条件をディスプレイ89の操作画面を通じて入力する。
図6に示すように、コンソール14では撮影部位毎に撮影条件を設定可能である。撮影条件には、例えば管電圧と、検出画素65の線量検出信号の積算値と比較してX線の照射停止を判断するための照射停止閾値等が記憶されている。撮影条件の情報は、ストレージデバイス87に格納されている。
図7において、コンソール14を構成するコンピュータは、CPU85、メモリ86、ストレージデバイス87、通信I/F88、ディスプレイ89、および入力デバイス90を備えている。これらはデータバス91を介して相互接続されている。
ストレージデバイス87は、例えばHDD(Hard Disk Drive)である。ストレージデバイス87には、制御プログラムやアプリケーションプログラム(以下、APという)92が記憶される。AP92は、検査オーダやX線画像の表示処理、X線画像に対する画像処理、撮影条件の設定等、X線撮影に関する様々な機能をコンソール14に実行させるためのプログラムである。
メモリ86は、CPU85が処理を実行するためのワークメモリである。CPU85は、ストレージデバイス87に記憶された制御プログラムをメモリ86へロードして、プログラムに従った処理を実行することにより、コンピュータの各部を統括的に制御する。通信I/F88は、RIS、HIS、画像蓄積サーバ、電子カセッテ13等の外部装置との無線または有線による伝送制御を行うネットワークインターフェースである。
入力デバイス90は、キーボードやマウス、あるいはディスプレイ89と一体となったタッチパネル等である。入力デバイス90により、撮影条件や、FPD40の撮像面41に垂直な方向における撮像面41の位置Z0からX線管17の焦点の位置Z1までの距離(SID;Source Image Distance、図1参照)と、ROI情報等が入力される。ROI情報とは、トモシンセシス撮影を行なう被検体Mの関心領域(ROI;Region of interest)の位置、大きさ、撮影台15からの高さ等の情報である。ROIの位置及び大きさは、例えば電子カセッテ13の撮像面の中心位置を基準としたXY座標によって入力される。撮影台15からのROIの高さは、具体的な数値が分れば数値でもよいし、予め設定されている数段階の範囲設定値から選択できるようにしてもよい。
図8において、コンソール14のCPU85は、AP92を起動してトモシンセシス撮影を選択すると、駆動条件設定部100、駆動制御部101、採光野設定部102、カセッテ制御部103、画像処理部104、再構成部105および表示制御部106として機能する。
駆動条件設定部100は、撮影部位及びROI情報に基づいて、トモシンセシス撮影時のX線源10の移動範囲、移動範囲内における各照射位置及び照射角、照射野限定器18の開放角度であるコリメータ角度を設定する。駆動条件設定部100は、ROIのサイズに応じてX線源10の移動範囲を設定する。例えば、ROIのサイズが大きい場合はX線源10の移動範囲を大きくし、ROIのサイズが小さい場合はX線源10の移動範囲を小さくする。また、駆動条件設定部100は、撮影部位に応じて断層画像を得るために必要な撮影数を設定し、その撮影数に応じてX線源10の各照射位置及び照射角を設定する。例えば、細密な断層画像が必要な撮影部位では撮影数を多くし、それほど細密な断層画像を必要としない撮影部位では撮影数を少なくする。
図9に示すように、X線源10の移動範囲及び照射位置は、電子カセッテ13の撮像面の中心に対向するX線源10の基準位置Fcを基準としたXY座標によって設定される。また、X線源10の照射角は、X線源10の照射位置からZ方向に延ばした基準ラインと、当該照射位置からROIの中心に延ばした照射ラインとの間の角度が設定される。駆動制御部101は、駆動条件設定部100で設定された各種駆動条件に応じて、線源制御装置11を介して線源移動機構16、照射野限定器18を駆動させる。
採光野設定部102は、入力デバイス90から入力されたSID及びROI情報と、駆動条件設定部100で設定されたX線源10の各照射位置とに基づいて、各照射位置における採光野を設定する。例えば、図9に示す照射位置F1の採光野を設定する場合、採光野設定部102は、「SID」、「HROI」、「LROI」及び「LXRAI」と、次式(1)、(2)とを用いて、採光野のX方向の両端までの距離X1、X2を算出する。距離X1、X2は、各撮影のX線源10の位置を原点としたときの、X線源10が首を振っている方向に対するX線源10からの距離である。距離X1は、X線源10から採光野のX線源10に近い端縁までの距離であり、距離X2は、X線源10から採光野のX線源10に遠い端縁までの距離である。この距離X1、X2と、X線源10と電子カセッテ13との相対位置情報とから、FPD40の撮像面41上における採光野の位置が特定される。
「HROI」は、FPD40の撮像面41からROIまでの高さであり、ROI情報として入力された撮影台15の上面からROIまでの高さH1に、採光野設定部102が予め記憶している撮像面41から撮影台15の上面までの高さH2を加算した値である。「LROI」は、X線源10の移動方向であるX方向のROIの大きさであり、ROI情報として入力された値が用いられる。「LXRAI」は、FPD40の撮像面41に垂直な方向のROIの中心軸に対するX線源10の移動方向の位置情報であり、駆動条件設定部100により設定されたX線源10のX方向位置と、ROI情報として入力されたROIの位置と、前述した「LROI」とに基づいて求められる。また、採光野設定部102は、同様にしてX線源10の全照射位置の採光野を設定する。なお、採光野のY方向座標は、ROI情報として入力されたROIのY方向位置及び大きさがそのまま用いられる。
X1=SID/(SID−HROI)×(LXRAI−LROI/2)・・・(1)
X2=SID/(SID−HROI)×(LXRAI+LROI/2)・・・(2)
カセッテ制御部103は、採光野設定部102で設定された採光野と、照射停止閾値の情報とを電子カセッテ13に提供する。採光野選択回路75は、カセッテ制御部103から提供される採光野の情報を元に、トモシンセシス撮影における各X線撮影の採光野を選択する。また、閾値発生回路78は、カセッテ制御部103から提供される照射停止閾値の情報を元に、トモシンセシス撮影における各X線撮影の照射停止閾値を発生する。
画像処理部104は、電子カセッテ13から入力された一連のX線画像のそれぞれに、上述したオフセット補正、ゲイン補正、欠陥補正等の各種画像処理を行なう。再構成部105は、一連のX線画像を加算して被検体MのROIの断層画像を作成する。表示制御部106は、断層画像や、撮影に必要な操作メニュー等をディスプレイ89に表示させる。
次に、図10、図11のフローチャートを参照しながら、X線撮影システム2においてトモシンセシス撮影を行う場合の処理手順を説明する。
まず、X線源10、撮影台15を撮影に適切な位置に配置した後、図10のステップ10(S10)に示すように、SIDを計測してこの値を入力デバイス90にてコンソール14に入力する。続いて被検体Mを撮影台15の上に載置させ、入力デバイス90を操作して、被検体MのROIの位置、大きさ、高さからなるROI情報をコンソール14に入力する(S11)。
SIDが不変で既に入力されていた場合、またはX線源10、撮影台15の高さ位置を検出するポテンショメータ等からなる位置センサが設けられ、位置センサの出力に基づきSIDを自動計算可能な場合はS10の手順を省いてもよい。
撮影部位、SIDの計測値およびROI情報は、駆動条件設定部100に入力される。駆動条件設定部100では、入力された各種パラメータに基づいてX線源10の移動範囲、照射位置、照射角、コリメータ角度が設定される(S12)。これらの情報は駆動制御部101等に出力される。
また、SIDの計測値、ROI情報、照射位置は、採光野設定部102に入力される。採光野設定部102では、入力された各種パラメータに基づいて全照射位置における採光野が設定される(S13)。採光野は、カセッテ制御部103によって、照射停止閾値とともに電子カセッテ13に送信される。
次いで、駆動制御部101の制御の下、線源移動機構16が駆動されて、X線源10が一回目の照射位置F1に移動される。また、線源制御装置11により照射野限定器18が駆動されて、駆動条件設定部100で設定されたコリメータ角度となるよう照射野が調整される(S14)。
この後、X線撮影システム2は、照射開始指示の待ち受け状態となる(S15)。オペレータにより照射スイッチ12が操作されて照射開始指示がなされると(S15でYES)、X線源10からX線の照射が開始され、これに伴いFPD40では電荷の蓄積動作が開始されて一回目の撮影が行われる(S16)。
電子カセッテ13ではFPD40の蓄積動作と同時にAEC部67で検出画素65の出力に基づくAECが行われている。図11に示すように、採光野選択回路75は、コンソール14のカセッテ制御部103から与えられた1回目の照射位置F1の採光野の情報に基づき、A/D変換器62から入力される複数の検出画素65の線量検出信号のうち、採光野に存在する検出画素65からの線量検出信号を選別し、選別した線量検出信号を積分回路76に出力する(S30)。積分回路76は検出信号を積算する(S31)。
閾値発生回路78は、カセッテ制御部103から与えられた照射停止閾値を発生し、これを比較回路77に出力する。比較回路77は、積分回路76からの検出信号の積算値と閾値発生回路78からの照射停止閾値とを比較(S32)し、積算値が閾値に達したとき(S33でYES)に照射停止信号を出力する。比較回路77から出力された照射停止信号は照射信号I/F80を介して線源制御装置11の照射信号I/F35に向けて送信される(S34)。
照射信号I/F35で照射停止信号を受けた場合、線源制御装置11では、制御部31により高電圧発生器30からX線源10への電力供給が停止され、これによりX線の照射が停止される。電子カセッテ13では、FPD40の動作が蓄積動作から読み出し動作に移行し、この読み出し動作により画像データが出力される。
FPD40から出力された画像データは、通信部45を介してコンソール14に有線または無線送信されて画像処理部104で各種画像処理が施される。一回目の撮影では画像データI1が取得される(図10のS17)。
一回目の撮影後、X線源10が二回目の照射位置F2に移動され(S18)、照射位置F2にて二回目のX線撮影が行われる(S19)。このとき、AEC部67では、カセッテ制御部103から与えられた2回目の照射位置F2の採光野の情報に基づき、A/D変換器62から入力される複数の検出画素65の線量検出信号のうち、採光野に存在する検出画素65からの線量検出信号を選別し、1回目のX線撮影と同様に、図11のS30〜S34が処理され、画像データI2が取得される(図10のS20)。以下同様にして、3回目からn回目の照射位置F3〜Fnで、各照射位置に応じて設定された採光野を用いたX線撮影が行なわれ、画像データInが取得される(S21)。
n回目の撮影終了後、再構成部105により、各照射位置F1、F2〜Fnで得られた画像データI1、I2、・・・、Inが加算され、被検体MのROIの断層画像が作成される(S22)。生成された断層画像のデータは表示制御部106によりディスプレイ89に表示される(S23)。
以上説明したように、本実施形態によれば、トモシンセシス撮影の各回のX線撮影においてAECを行なうので、各X線撮影により取得した一連のX線画像の採光野の濃度を一定にすることができ、高画質な断層画像を取得することができる。また、各X線撮影のAECでは、X線源10の照射位置に応じて設定された採光野を用いるので、被検体MのROIを適切な濃度で撮影することができる。また、採光野は、X線源10の照射位置とROI情報等に基づいて自動的に設定されるので、簡単かつ迅速に採光野を設定することができる。
本発明は、上記実施形態に限らず、本発明の要旨を逸脱しない限り種々の構成を採り得ることはもちろんである。
上記実施形態では、ROIの位置、大きさ、高さからなるROI情報に基づいて各照射位置における採光野を設定したが、照射野限定器18により規定されるX線の照射野に基づいて各照射位置における採光野を設定してもよい。例えば、図12に示すように、本実施形態のトモシンセシス撮影では、駆動条件設定部100で設定されたX線源10の各照射位置及び照射角と、コリメータ角度とを採光野設定部102に入力する。
図13に示す照射位置F1の採光野を設定する場合、採光野設定部102は、「SID」、「L1」、「θ1」及び「θ2」と、次式(3)、(4)とを用いて採光野のX方向の両端までの距離X1a、X2aを算出する。距離X1a、X2aは、各撮影のX線源10の位置を原点としたときの、X線源10が首を振っている方向に対するX線源10からの距離である。距離X1aは、X線源10から採光野のX線源10に近い端縁までの距離であり、距離X2aは、X線源10から採光野のX線源10に遠い端縁までの距離である。この距離X1a、X2aと、X線源10と電子カセッテ13との相対位置情報とから、電子カセッテ13の撮像面上における採光野の位置が特定される。
「L1」は、FPD40の撮像面41の撮像面の中心位置に対するX方向の位置情報である。「θ1」は、X線の照射角度であり、X線源10が真下を向いている状態に対する首振り角度として表されている。「θ2」は、照射野限定器18のコリメータ角度である。「L1」、「θ1」及び「θ2」は、駆動条件設定部100により設定された値が用いられる。また、採光野設定部102は、同様にしてX線源10の全照射位置の採光野を設定する。なお、採光野のY方向座標は、SIDとコリメータ角度θ2とから幾何学的に算出することができる。
X1a=SID・tan(θ1−θ2/2)・・・(3)
X2a=SID・tan(θ1+θ2/2)・・・(4)
本実施形態によれば、X線の照射野内の検出画素65を用いてAECを行なうので、各X線撮影により取得した一連のX線画像の採光野の濃度を一定にすることができ、高画質な断層画像を取得することができる。また、採光野は、X線源10の照射位置とコリメータ角度に基づいて自動的に設定されるので、簡単かつ迅速に採光野を設定することができる。
上記各実施形態では、X線源10の各照射位置ごとに採光野を算出して設定しているが、一回目の撮影により取得したX線画像を解析することにより、2回目以降の撮影で用いる採光野を設定してもよい。例えば、図14に示すように、トモシンセシス撮影が行なわれた際に、一回目の撮影の画像データを電子カセッテ13から採光野設定部102に入力させる。図15に示すように、採光野設定部102では、入力された画像データ110を解析して各画素の画素値からX線の照射野111を特定する。そして採光野設定部102は、特定した照射野111と駆動条件設定部100から入力された照射位置及び照射角とに基づいて、2回目以降のX線撮影に用いられる採光野を上述してきた実施形態と同様に、「SID」、「HROI」、「LROI」及び「LXRAI」等を用いて幾何学的に算出して設定する。
本実施形態によれば、一回目の撮影で取得したX線画像の解析結果から設定された採光野を用いて二回目以降のX線撮影のAECを行なうので、各X線撮影により取得した一連のX線画像の採光野の濃度が一定になり、高画質な断層画像を取得することができる。また、全ての撮影でX線画像を解析して採光野を抽出して撮影を行う場合に比較して、2回目以降の撮影に用いる採光野が計算により設定できるので、簡単かつ迅速に採光野を設定することができる。画像の解析で各撮影での採光野を抽出することに比べれば、線源の位置、ROI情報等によって採光野の位置を幾何学的に計算する方が、当然ながら計算式は簡単だからである。
なお、線源移動機構16によってX線源10を電子カセッテ13の検出面と平行なX方向の直線軌道に沿って移動させた例に限らず、X線源10と電子カセッテ13とを被検体Mを挟んで互いに反対方向に同期移動させるようにした場合も各回の撮影での採光野は同様にX線源の位置、ROI情報及び電子カセッテ13の位置で計算することができる。この場合、電子カセッテ13が動くため、採光野の中心位置は各回の撮影で不変となるが、採光野の大きさは各回の撮影で変わってくる。すなわち、例えば図1のFcの位置に比べ、X線源10に角度をつけたF1の位置の方が、電子カセッテ13上の採光野の中心位置は変わらないがX方向の採光野の大きさは大きくなる。
上記実施形態では、トモシンセシス撮影により取得した一連のX線画像の採光野の濃度を一定にするためにAECを用いているが、読み出し動作時の積分アンプのゲイン切り替えによって一連のX線画像の採光野の濃度を調整してもよい。この場合は、図16に示すように、積分アンプ60に代えてゲイン可変型の積分アンプ150を用いる。
図16において、積分アンプ150は、積分アンプ60と同様にオペアンプ150aとリセットスイッチ150cとを備える。オペアンプ150aの入出力端子間には、二つのキャパシタ150b、150dが接続され、キャパシタ150dにはゲイン切替スイッチ150eが接続されている。ゲイン切替スイッチ150eがオンのとき、積分アンプからの出力電圧信号VはV=q/(C1+C2)、ゲイン切替スイッチ150eがオフのときはV=q/C1となる。ただしqは蓄積電荷、C1、C2はそれぞれキャパシタ150b、150dの容量である。このようにゲイン切替スイッチ150eのオン/オフを切り替えることで、積分アンプ150のゲインを変化させることができる。なお、ここではキャパシタを二個接続して二段階でゲインを切り替える例を示すが、キャパシタを二個以上接続して、あるいはキャパシタに容量可変コンデンサを用い、ゲインを二段階以上変化可能に構成することが好ましい。
ゲイン設定部151は、AEC部67の代わりにFPDに設けられる。ゲイン設定部151は、FPDが蓄積動作を開始したときに動作し、読み出し動作時のゲイン切替スイッチ150eの動作を制御する。ゲイン設定部151には、信号処理回路59から定期的に線量検出信号が入力される。ゲイン設定部151は、線量検出信号が飽和しないよう、線量検出信号を出力するときは積分アンプ150のゲインを最小値に設定する。本例の場合はゲイン切替スイッチ150eをオンさせる。
ゲイン設定部151は、AEC部67と同様に、採光野設定部102で設定した採光野に存在する検出画素65からの線量検出信号の合計値、平均値、最大値、または最頻値を所定回数積算し、その積算値と予め設定された閾値とを比較する。積算値が閾値よりも大きい場合、ゲイン設定部151は、読み出し動作時にゲイン切替スイッチ150eをオンさせる。一方、撮像面41の採光野にあたる部分への到達累積線量が低く積算値が閾値以下であった場合は、読み出し動作時にゲイン切替スイッチ150eをオフさせて積分アンプ150のゲインを高くする。より具体的には、採光野の出力電圧信号Vの最大値および最小値がA/D変換のレンジの最大値および最小値に合うよう積分アンプ150のゲインを設定する。
なお、ゲイン設定部151は、トモシンセシス撮影によって取得した一連のX線画像の採光野の濃度バランスを保ち、再構成時の偽輪郭等のアーチファクトを抑えるため、一例のX線画像のそれぞれにゲインの逆数を掛けて正規化するのが好ましい。
X線の累積線量を低く設定した撮影では電圧信号Vの最大値と最小値の幅がA/D変換のレンジに対して狭く、こうした場合に得られるX線画像はノイズが目立つ不鮮明なものとなってしまうが、上記のように採光野にあたる部分への到達累積線量が低いときに積分アンプのゲインを高くすれば、ノイズが目立たない良好な画質のX線画像を得ることができる。このためX線源に設定する照射線量を抑制することができ、結果として患者の被曝線量を少なくすることができるという特段の効果が得られる。また、AECの照射停止閾値を低く設定しておいて早めにX線の照射を停止させ、足りない分は積分アンプのゲインを高くして補うことも可能であり、こうした場合も患者の被曝線量を低減することができる。
上記実施形態では、画像検出用の画素50とAECセンサとして働く検出画素65が各々独立して存在するため、検出画素65がある列の画素値を隣り合う検出画素65がない列の画素値で補間する欠陥補正を行う必要がある。このためX線画像の画質低下を招くおそれがある。そこで、FPDを図17に示すFPD160のような構成とすることで、欠陥補正を不要とする。
図17において、FPD160は、画像検出専用の第一画素161と画像検出兼AEC用の第二画素162とを備えている。第一、第二画素161、162は、上記実施形態の画素50と検出画素65同様、適当な割合でマトリクス状に配列されている。第一、第二画素161、162は、それぞれ二つのフォトダイオード163、164を有する。第一画素161のフォトダイオード163、164は並列に接続され、一端がTFT52を介して信号線57に接続されている。一方、第二画素162のフォトダイオード163は第一画素161と同様に一端がTFT52を介して信号線57に接続されているが、フォトダイオード164はTFT52を介さずに信号線57に直接接続されている。つまり第二画素162のフォトダイオード164は上記実施形態の検出画素65と同じ構成である。
第一画素161からは二つのフォトダイオード163、164で蓄積された電荷が読み出される。一方、第二画素162からはフォトダイオード163で蓄積された電荷のみが読み出される。第二画素162はフォトダイオード164がAECに用いられてX線画像の生成に寄与しない分、フォトダイオード163、164の開口面積が同じ場合は同じ入射線量では第一画素161よりも蓄積電荷量が略半分になるが、検出画素65の場所からは画素値が得られず、欠陥補正を行うしかない上記実施形態と比べれば、X線画像の画質劣化が抑えられる。フォトダイオード163、164の開口面積等に基づいて、第二画素162の画素値に乗算すると第一画素161の画素値相当になる係数等を予め求めておき、第二画素162の出力に該係数を乗算して補正すれば、欠陥補正を行わずにX線画像を生成することができ、FPDを構成する画素の一部をAEC用としたことによるX線画像の画質への悪影響を略完全に排除することができる。
上記各実施形態では、電子カセッテ13と撮影台15とが別体である例について説明したが、FPDが組み込まれた撮影台を用いてもよい。また、コンソール14と電子カセッテ13が別体である例で説明したが、コンソール14は独立した装置である必要はなく、電子カセッテ13にコンソール14の機能を搭載してもよい。同様に、線源制御装置11とコンソール14を一体化した装置としてもよい。また、可搬型のX線画像検出装置である電子カセッテに限らず、撮影台に据え付けるタイプのX線画像検出装置に適用してもよい。
本発明は、X線に限らず、γ線等の他の放射線を使用する撮影システムにも適用することができる。
2 X線撮影システム
10 X線源
11 線源制御装置
13 電子カセッテ
14 コンソール
40、160 FPD
50 画素
65 検出画素
67 AEC部
85 CPU
89 ディスプレイ
90 入力デバイス
102 採光野設定部

Claims (5)

  1. 複数の照射位置で異なる方向から被検体に向けて放射線を照射する放射線源と、
    被検体を透過した放射線を受ける複数の画素が配列された検出パネルを有し、前記放射線源により複数の照射方向から照射された放射線を受けて、一連の放射線画像を検出する放射線画像検出装置と、
    前記検出パネルの前記画素が設けられた撮像面に配置され、被検体を透過した放射線の線量を検出する複数の線量検出センサと、
    記被検体を透過した放射線の線量検出に用いられる前記線量検出センサの採光野を設定する採光野設定手段であり、前記放射線画像検出装置により検出された一連の放射線画像のうち、最初に検出された放射線画像から前記被検体の関心領域を特定し、前記関心領域に対応した採光野と前記放射線源の移動位置とに基づいて、2回目以降の放射線画像の検出で用いられる採光野を設定する採光野設定手段と、
    前記採光野内の前記線量検出センサで検出された線量に基づいて、前記一連の放射線画像の濃度を調整する濃度調整手段と、
    前記一連の放射線画像から、被検体の断層画像を生成する断層画像生成手段とを備えたことを特徴とする放射線撮影システム。
  2. 前記濃度調整手段は、前記採光野内の線量検出センサで検出された線量の積算値と予め設定した照射停止閾値とを比較し、前記積算値が前記照射停止閾値に達した際に前記放射線源による放射線の照射を停止させる自動露出制御を行なうことを特徴とする請求項1記載の放射線撮影システム。
  3. 前記濃度調整手段は、前記採光野内の前記線量検出センサで検出された線量の積算値に基づいて、前記検出パネルから前記放射線画像の画像データを読み出す際に、前記画像データのゲインを調節することを特徴とする請求項1または2記載の放射線撮影システム。
  4. 前記濃度調整手段は、ゲインが調節された一連の放射線画像にゲインの逆数を掛けて正規化することを特徴とする請求項記載の放射線撮影システム。
  5. 複数の照射位置で異なる方向から被検体に向けて放射線を照射する放射線源と、被検体を透過した放射線を受ける複数の画素が配列された検出パネルを有し、前記放射線源により複数の照射方向から照射された放射線を受けて、一連の放射線画像を検出する放射線画像検出装置とを備えたX線撮影システムの制御方法において、
    記検出パネルの前記画素が設けられた撮像面に配置されている複数の線量検出センサから、被検体を透過した放射線の線量検出に用いられる採光野を設定するステップであり、前記放射線画像検出装置により検出された一連の放射線画像のうち、最初に検出された放射線画像から前記被検体の関心領域を特定し、前記関心領域に対応した採光野と前記放射線源の移動位置とに基づいて、2回目以降の放射線画像の検出で用いられる採光野を設定するステップと、
    前記採光野内の前記線量検出センサで検出された線量に基づいて、前記一連の放射線画像の濃度を調整するステップと、
    前記一連の放射線画像から、被検体の断層画像を生成するステップとを備えたことを特徴とする放射線撮影システムの制御方法。
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