JP5576938B2 - マイクロリソグラフィのための照明光学ユニット - Google Patents
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Description
ここでIP及びISは、それぞれp偏光放射線及びs偏光放射線の強度を示している。第1のファセット光学要素の中心449では、2つの双方向矢印は同じ長さを有し、すなわち、2つの垂直な偏光方向の強度は同一の大きさのものである。従って、第1のファセット光学要素の中心449では、実質的に無偏光の放射線が存在する。それとは対照的に、第1のファセット光学要素407上の位置451には部分的に偏光された放射線が印加され、長手の双方向矢印によって表す主偏光方向は、中心449と入射位置451の間の接続線に対して垂直である。コレクターミラー5の回転対称性に起因して、第1のファセット光学要素上の各位置における主偏光方向において対応する関係がもたらされ、この場合、これをタンジェンシャル偏光分布と呼ぶ。すなわち、特定の主偏光方向を有する放射線が、第1のファセット光学要素407の各第1のファセット要素409に印加され、第1のファセット光学要素407上の第1のファセット要素409の位置から主偏光方向を判断することができる。この場合、タンジェンシャル偏光分布がもたらされ、長手の双方向矢印によって表しており、中心449と入射位置451の間の接続線に対して垂直な主偏光方向の放射線の割合は、中心449から外向きに増大する。ここで各第1のファセット要素409は、その方向が反射面の向きを空間的に定める法線ベクトルを有する反射面を有するので、各ファセット要素409は、このファセット要素上に入射する放射線の方向とそれに関する法線ベクトルの方向とから得られる特定の方向に入射放射線を反射する。対応する法線ベクトルの定義を用いて、放射線を第2のファセット光学要素11の第2のファセット要素の各々の上に誘導することができる。異なる主偏光方向を有する放射線が第1のファセット光学要素409の第1のファセット要素407に印加されるので、第1のファセット要素409の反射面の関係する法線ベクトルを適切に選択することにより、どの第2のファセット要素13にどの主偏光方向を有する放射線が印加されるかを決定することができる。従って、第1のファセット要素407の反射面の法線ベクトルを選択することにより、第2のファセット光学要素11上に所定の偏光分布を設定することができる。
を意味すると理解すべきである。第2のファセット光学要素511/611は、照明光学ユニット3の瞳平面に配置され、物体視野内に角度α、βで入射する放射線は、瞳平面内の特定の位置(x,y)から射出するので、第2のファセット光学要素511/611上の位置にわたる偏光分布は、単純に関数:
に対応する。
が、更に物体視野内の位置に依存するという効果を有する。それに応じて物体視野内の偏光分布は、実際には関数:
であり、ここで、x及びyは、物体視野内の位置を示している。特に、放射線の少なくとも一部が遮蔽除去されることに起因して、第1のファセット要素の全てが物体視野の照明に寄与するわけではない、図6a及び図6bを参照して説明した実施形態では、物体視野の照明に寄与するファセットの適切な選択により、物体視野内の位置(x,y)にわたる偏光分布の所定のプロフィールを得ることができる。これは、第1のファセット要素757を除く全ての第1のファセット要素が遮蔽除去される場合を考慮する時に特に明らかになる。この特殊な場合には、物体視野内の偏光分布の位置依存性は、第1のファセット要素757上の偏光分布の位置依存性に正確に対応する。
Claims (16)
- コレクターミラー(5,905)を含み、かつ物体平面(23)の物体視野(21)を照明するための複数の第1のファセット要素(9,209,409,709,809,861,863)を有する第1のファセット光学要素(7,207,407,707,807)を含み、各第1のファセット要素(9,209,409,709,809,861,863)が、その方向が反射面の向きを空間的に定める法線ベクトルを備えた反射面を有するEUVマイクロリソグラフィのための照明光学ユニット(3)であって、
コレクターミラー(5,905)が、照明光学ユニット(3)の作動中に第1のファセット光学要素(7,207,407,707,807)に印加される偏光分布を生成し、異なる偏光を有する放射線が印加される少なくとも2つの第1のファセット要素(9,209,409,709,809,861,863)が存在し、
前記第1のファセット光学要素(7,207,407,707,807)は、前記第1のファセット要素(9,209,409,709,809,861,863)の反射面の法線ベクトルが、照明光学ユニット(3)の前記作動中に物体視野(21)の位置で第1の所定の偏光分布がもたらされるように選択される少なくとも1つの第1の状態を有する、
ことを特徴とする照明光学ユニット。 - 前記コレクターミラー(5,905)によって生成され、かつ照明光学ユニット(3)の前記作動中に前記第1のファセット光学要素(7,207,407,707,807)に印加される前記偏光分布は、前記物体視野(21)の位置での前記所定の偏光分布とは異なる、
ことを特徴とする請求項1に記載の照明光学ユニット。 - 前記第1の所定の偏光分布は、前記物体視野(21)における少なくとも2つの位置で異なる、
ことを特徴とする請求項1及び請求項2のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。 - 前記第1の所定の偏光分布は、前記物体視野(21)の少なくとも1つの位置でタンジェンシャル偏光分布である、
ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。 - 入射放射線の角度分布が、前記物体視野(21)の少なくとも1つの位置で二重極形態を有し、この位置での前記偏光分布は、各極において主偏光方向が主二重極軸に対して垂直であるようなものである、
ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。 - 照明光学ユニット(3)が、前記物体視野上への前記第1のファセット要素(9,209,409,709,809,861,863)の重ね合わせ結像のための第2のファセット要素(13,213,513,613,655,813)を有する第2のファセット光学要素(11,211,511,611,811)を含む、
ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。 - コレクターミラー(5,905)を含み、かつ各第1のファセット要素(9,209,409,709,809,861,863)がその方向が反射面の向きを空間的に定める法線ベクトルを備えた反射面を有する物体平面(23)の物体視野(21)を照明するための複数の第1のファセット要素(9,209,409,709,809,861,863)を有する第1のファセット光学要素(7,207,407,707,807)と、該物体視野(21)上への該第1のファセット要素(9,209,409,709,809,861,863)の重ね合わせ結像のための第2のファセット要素を有する第2のファセット光学要素(11,211,511,611,811)とを含むEUVマイクロリソグラフィのための照明光学ユニット(3)であって、
コレクターミラー(5,905)が、照明光学ユニット(3)の作動中に第1のファセット光学要素(7,207,407,707,807)に印加される偏光分布を生成し、異なる偏光を有する放射線が印加される少なくとも2つの第1のファセット要素(9,209,409,709,809,861,863)が存在し、
前記第1のファセット光学要素(7,207,407,707,807)は、前記第1のファセット要素(9,209,409,709,809,861,863)の反射面の法線ベクトルが、照明光学ユニット(3)の前記作動中に第2のファセット光学要素(11,211,511,611,811)上に第1の所定の偏光分布がもたらされるように選択される少なくとも1つの第1の状態を有する、
ことを特徴とする照明光学ユニット。 - 前記第1の所定の偏光分布は、タンジェンシャル偏光分布である、
ことを特徴とする請求項7に記載の照明光学ユニット。 - 前記タンジェンシャル方向に向けられた主偏光方向の前記放射線の割合が、前記第2のファセット光学要素(553)の中心から外向きに増大する、
ことを特徴とする請求項8に記載の照明光学ユニット。 - 前記第1のファセット要素(9,209,409,709,809,861,863)の少なくとも1つの部分が、複数の位置を有し、該第1のファセット要素(9,209,409,709,809,861,863)の該部分の該第1のファセット要素(9,209,409,709,809,861,863)の少なくとも1つについて、第1の位置における前記光学面の前記法線ベクトルの方向が、第2の位置における前記反射面の該法線ベクトルの方向とは異なる、
ことを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。 - 前記第1のファセット光学要素(7,207,407,707,807)は、少なくとも1つの第2の状態を有し、前記第1及び第2の状態は、前記第1のファセット要素(9,209,409,709,809,861,863)の少なくとも1つの部分が異なる位置を取るという意味で異なり、
前記第2の状態にある前記第1のファセット要素(9,209,409,709,809,861,863)の前記反射面の前記法線ベクトルは、照明光学ユニットの前記作動中に前記第1の偏光分布とは異なる第2の所定の偏光分布がもたらされるように選択される、
ことを特徴とする請求項10に記載の照明光学ユニット。 - 前記コレクターミラー(5,905)は、偏光度を増大させるための二重コレクター(905)として具体化される、
ことを特徴とする請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。 - いかなる偏光要素も、コレクターミラー(5,905)と第1のファセット光学要素(7,207,407,707,807)との間のビーム経路に配置されない、
ことを特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。 - 偏光要素が、前記コレクターミラー(5,905)によって生成された前記偏光分布を変更する目的で該コレクターミラー(5,905)と前記第1のファセット光学要素(7,207,407,707,807)との間のビーム経路に配置される、
ことを特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。 - いかなる偏光要素も、前記第1のファセット光学要素(7,207,407,707,807)と前記物体視野(21)の間のビーム経路に配置されない、
ことを特徴とする請求項1から請求項14のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。 - 請求項1から請求項15のいずれか1項に記載の照明光学ユニット(3)、
を含むことを特徴とする投影露光装置(1)。
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