JP5562848B2 - 情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体 - Google Patents
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Description
本発明は、磁気ディスク等の情報記録媒体用ガラス基板及びこれを用いた情報記録媒体に関し、更に詳しくは、アルミノシリケートガラスからなる情報記録媒体用ガラス基板及びこれを用いた情報記録媒体に関する。
磁気、光、光磁気等の性質を利用した記録層を有する情報記録媒体のなかで、代表的なものとして磁気ディスクがある。磁気ディスク用基板として、従来はアルミニウム基板が広く用いられていた。しかし、近年、記録密度向上のための磁気ヘッド浮上量の低減の要請等に伴い、アルミニウム基板よりも表面の平滑性に優れ、しかも表面欠陥を減少させることができるガラス基板を用いる割合が増えてきている。中でも、イオン交換による化学強化処理を施すことで基板を強化することができるアルミノシリケートガラスからなるガラス基板は、高い耐衝撃性や耐振動性を有することから、好ましく用いられている。
このような情報記録媒体用ガラス基板において、表面欠陥を抑えて高密度記録に対応させるためには、ガラスの溶融過程で発生した気泡を、ガラス基板内にできるだけ残存させないことが必要である。従来は、ガラス成分中に、清澄剤としてＡｓ２Ｏ３やＳｂ２Ｏ３を含有させることにより、溶融ガラス中の気泡を除去（清澄）する方法が一般的であった（例えば、特許文献１参照）。
しかし、Ａｓ２Ｏ３やＳｂ２Ｏ３は毒性を有するため、環境上及び健康上の観点から、これらの使用を制限する動きが広がりつつある。そのため、清澄剤としてＡｓ２Ｏ３やＳｂ２Ｏ３を使用することなく、溶融ガラス中の気泡を除去する方法が検討され、溶融ガラスを減圧して気泡を除去する方法（例えば、特許文献２参照）が提案されている。
しかしながら、特許文献２に記載の方法によれば、複雑なプロセスと特殊な減圧脱泡装置が必要となるばかりでなく、減圧に伴うガラス成分の揮発によって、ガラス成分の変動が起こりやすいという問題があった。
本発明は上記のような技術的課題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、Ａｓ（ヒ素）及びＳｂ（アンチモン）のいずれの元素も含有せず、十分に気泡が除去された情報記録媒体用ガラス基板を提供すること、及び、これを用いた情報記録媒体を提供することである。
上記の課題を解決するために、本発明は以下の特徴を有するものである。
１． ガラス成分全体に対して、
６０〜７５質量％のＳｉＯ２と、
５〜１８質量％のＡｌ２Ｏ３と、
３〜１０質量％のＬｉ２Ｏと、
３〜１５質量％のＮａ２Ｏと、
０．５〜８質量％のＺｒＯ２と、を含有するアルミノシリケートガラスからなる情報記録媒体用ガラス基板において、
Ａｓ（ヒ素）及びＳｂ（アンチモン）のいずれの元素も含有せず、
ＳＯ３（亜硫酸）、Ｆ（フッ素）、Ｃｌ（塩素）、Ｂｒ（臭素）及びＩ（ヨウ素）からなる群の中から選ばれる少なくとも１種を清澄剤として含有し、
前記清澄剤の総量の、前記ＺｒＯ２に対するモル比率（前記清澄剤の総量／ＺｒＯ２）が、０．０５〜０．５０の範囲であることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
６０〜７５質量％のＳｉＯ２と、
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０．５〜８質量％のＺｒＯ２と、を含有するアルミノシリケートガラスからなる情報記録媒体用ガラス基板において、
Ａｓ（ヒ素）及びＳｂ（アンチモン）のいずれの元素も含有せず、
ＳＯ３（亜硫酸）、Ｆ（フッ素）、Ｃｌ（塩素）、Ｂｒ（臭素）及びＩ（ヨウ素）からなる群の中から選ばれる少なくとも１種を清澄剤として含有し、
前記清澄剤の総量の、前記ＺｒＯ２に対するモル比率（前記清澄剤の総量／ＺｒＯ２）が、０．０５〜０．５０の範囲であることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
２． 前記清澄剤は、ＳＯ３（亜硫酸）を含むことを特徴とする前記１に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
３． 前記清澄剤の含有量の合計は、ガラス成分全体に対して、１質量％以下であることを特徴とする前記１又は２に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
４． イオン交換による化学強化処理が施されていることを特徴とする前記１〜３のうちいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
５． 前記１〜４のうちいずれか１項に記載された情報記録媒体用ガラス基板の上に、記録層を有していることを特徴とする情報記録媒体。
本発明によれば、所定の清澄剤を、ガラス成分中のＺｒＯ２に対するモル比率が所定の範囲となるように含有させているため、当該清澄剤による溶融ガラス中へのガスの放出と吸収の機能を効果的に働かせることができ、高い清澄作用を得ることができる。従って、Ａｓ（ヒ素）及びＳｂ（アンチモン）のいずれの元素も含有させることなく、十分に気泡が除去された情報記録媒体用ガラス基板を得ることができる。
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
（情報記録媒体用ガラス基板）
本発明の情報記録媒体用ガラス基板は、ガラス成分全体に対して、６０〜７５質量％のＳｉＯ２と、５〜１８質量％のＡｌ２Ｏ３と、３〜１０質量％のＬｉ２Ｏと、３〜１５質量％のＮａ２Ｏと、０．５〜８質量％のＺｒＯ２と、を含有するアルミノシリケートガラスからなる。そのため、イオン交換による化学強化処理を施すことが可能であり、高い耐衝撃性や耐振動性を確保することができる。各成分を上記範囲に限定した理由は、以下の通りである。
本発明の情報記録媒体用ガラス基板は、ガラス成分全体に対して、６０〜７５質量％のＳｉＯ２と、５〜１８質量％のＡｌ２Ｏ３と、３〜１０質量％のＬｉ２Ｏと、３〜１５質量％のＮａ２Ｏと、０．５〜８質量％のＺｒＯ２と、を含有するアルミノシリケートガラスからなる。そのため、イオン交換による化学強化処理を施すことが可能であり、高い耐衝撃性や耐振動性を確保することができる。各成分を上記範囲に限定した理由は、以下の通りである。
ＳｉＯ２は、ガラスの網目構造を形成する重要な成分であり、化学的耐久性にも寄与するところが大きい。ＳｉＯ２の含有量が６０質量％より少ないと化学的耐久性が悪化する恐れがある。逆に７５質量％を超えると溶融温度が高くなりすぎてしまう。そのためＳｉＯ２の含有量は６０〜７５質量％の範囲とすることが必要である。その中でも好ましくは６０〜７１質量％の範囲である。
Ａｌ２Ｏ３は、ＳｉＯ２と共に網目構造を形成する重要な成分であり、化学的耐久性を向上させるだけではなく、イオン交換性能を向上させる働きを有している。Ａｌ２Ｏ３の含有量が５質量％より少ないと、化学的耐久性やイオン交換性能が低下する恐れがある。逆に１８質量％を超えると、耐失透性が悪化してしまう。このためＡｌ２Ｏ３の含有量は５〜１８質量％の範囲とすることが必要である。その中でも好ましくは９〜１４質量％の範囲である。
Ｌｉ２Ｏは、イオン交換による化学強化処理を施すために必要な成分である。化学強化処理においては、ガラス中のＬｉ＋イオンが、化学強化処理液中のＮａ＋イオンやＫ＋イオンとイオン交換されることによってガラス基板が強化される。Ｌｉ２Ｏの含有量が３質量％より少ないと、このイオン交換性能が低下する。逆に１０質量％を超えると、耐失透性や化学的耐久性が悪化してしまう。そのため、Ｌｉ２Ｏの含有量は３〜１０質量％とすることが必要である。その中でも好ましくは４〜６質量％の範囲である。
Ｎａ２Ｏは、イオン交換による化学強化処理を施すために必要な成分である。化学強化処理においては、ガラス中のＮａ＋イオンが、化学強化処理液中のＫ＋イオンとイオン交換されることによってガラス基板が強化される。Ｎａ２Ｏの含有量が３質量％より少ないと、このイオン交換性能が低下すると共に、耐失透性が悪化する。逆に１５質量％を超えると、化学的耐久性が低下してしまう。そのためＮａ２Ｏの含有量は３〜１５質量％とすることが必要である。その中でも好ましくは６〜１０質量％の範囲である。
ＺｒＯ２は、化学的耐久性を向上させるために必要な成分である。ＺｒＯ２の含有量が０．５質量％より少ないと、化学的耐久性が悪化する。逆に８質量％を超えると、耐失透性が悪化してしまう。そのためＺｒＯ２の含有量は０．５〜８質量％とすることが必要である。その中でも好ましくは１〜７質量％の範囲である。
Ａｓ２Ｏ３及びＳｂ２Ｏ３は、いずれも含有しない。ここで、含有しないとは、ガラスの原材料として意識的に含有させたものを排除する意味であって、他の成分の原料に不純物として含まれることによって不可避的に含有してしまう程度の微量であれば許容される。
本発明者による検討の結果、上記の各成分を有するガラス基板において、所定の清澄剤を、ガラス成分中のＺｒＯ２に対するモル比率が所定の範囲となるように含有させることにより、Ａｓ（ヒ素）及びＳｂ（アンチモン）のいずれの元素も含有させることなく、ガラス中の気泡を十分に除去することができることが明らかになった。即ち、本発明の情報記録媒体用ガラス基板は、ＳＯ３（亜硫酸）、Ｆ（フッ素）、Ｃｌ（塩素）、Ｂｒ（臭素）及びＩ（ヨウ素）からなる群の中から選ばれる少なくとも１種を、清澄剤として含有している。これらの清澄剤の総量の、ガラス成分中のＺｒＯ２に対するモル比率（上記清澄剤の総量／ＺｒＯ２）は、０．０５〜０．５０の範囲である。
このように、所定の清澄剤を、ガラス成分中のＺｒＯ２に対するモル比率が所定の範囲となるように含有させることにより、ガラス中の気泡を十分に除去することができる理由については、おおむね以下のように考えられる。
通常、清澄剤は、次の２つの働きによって溶融ガラス中の気泡の除去（清澄）に寄与している。
（ａ）１つ目は、溶融ガラスの温度を上げていく過程で、溶融ガラス中にガスを放出する働きである。溶融ガラス中の気泡は、その浮揚力で上昇し、溶融ガラスの表面に到達すると破れて消滅する。ここで、溶融ガラス中を気泡が上昇する速度は、気泡の大きさに大きく依存し、大きな気泡は上昇速度が速いために比較的容易に表面に到達するが、小さな気泡は上昇速度が遅く、表面に到達するまでには非常に長い時間が必要になる。溶融ガラスの温度を上げていく過程で清澄剤からガスが放出されると、それによって溶融ガラス中の気泡が大きく成長し、気泡の上昇速度が速くなるため、気泡の消滅が促進される。
本発明で用いる清澄剤であるＳＯ３（亜硫酸）、Ｆ（フッ素）、Ｃｌ（塩素）、Ｂｒ（臭素）、Ｉ（ヨウ素）においては、いずれも、溶融ガラスの温度が高くなるほど溶解度が減少するという特徴を有しているため、溶融ガラスの温度を上げていく過程で溶融ガラス中にガスを放出する働きがある。
（ｂ）２つ目は、溶融ガラスの温度を下げていく過程で、溶融ガラス中のガスを吸収する働きである。上記の清澄剤は、いずれも、溶融ガラスの温度が低くなるほど溶解度が増加するという特徴を有しているため、溶融ガラスの温度を下げていく過程で、気泡が溶融ガラスに取り込まれて消滅する。
このように、溶融ガラス中の気泡を十分に除去するためには、清澄剤の溶解度の変化によるガスの放出と吸収が、効果的に行われる必要がある。本発明者は、上記清澄剤について、溶融ガラスへの溶解度が温度によって変化する現象について鋭意検討を行い、溶解度の変化は、溶融ガラス中に共存する他の金属イオン、特にＺｒイオンの酸化還元反応の影響を大きく受けることを突き止めた。そして更に検討を進めた結果、所定のガラス成分を有するアルミノシリケートガラスにおいては、上記清澄剤の総量の、ＺｒＯ２に対するモル比率（上記清澄剤の総量／ＺｒＯ２）が、０．０５〜０．５０の範囲である場合に、溶解度の変化による清澄反応が非常に効果的に働くことを見いだしたのである。
清澄剤には、ＳＯ３（亜硫酸）、Ｆ（フッ素）、Ｃｌ（塩素）、Ｂｒ（臭素）及びＩ（ヨウ素）からなる群の中から選ばれる少なくとも１種を用いる。１種類のみを単独で用いてもよいし、２種以上を同時に用いてもよい。中でも、ＳＯ３（亜硫酸）含む清澄剤は、特に効果的に気泡を除去することができるため好ましい。
上記清澄剤の総量の、ＺｒＯ２に対するモル比率（上記清澄剤の総量／ＺｒＯ２）が、所定の範囲を外れると、溶解度の変化による清澄反応が不十分となり、溶融ガラス中の気泡を十分に除去することが困難になる。そのため、ＺｒＯ２に対するモル比率は、０．０５〜０．５０の範囲であることが必要であり、０．１〜０．４の範囲であることがより好ましい。
更に、上記の清澄剤の含有量の合計は、ガラス成分全体に対して、１質量％以下であることがより好ましい。清澄剤の含有量を１質量％以下とすることで、耐失透性を低下させることなく、清澄の効果を十分に発揮させることができる。
なお、ガラス基板の形状に特に制限はないが、中心孔を有する円盤状の基板が一般的である。ガラス基板の大きさや厚みに特に制限はない。例えば、外径は２．５インチ、１．８インチ、１インチ、０．８インチなど、厚みは、１ｍｍ、０．６４ｍｍ、０．４ｍｍなどが挙げられる。
（情報記録媒体用ガラス基板の製造方法）
上述のように、本発明の情報記録媒体用ガラス基板は、所定の清澄剤の働きによって十分に気泡を除去することができるため、製造のために複雑なプロセスや特殊な装置を必要とせず、公知の一般的な製造方法によって製造することができる。
上述のように、本発明の情報記録媒体用ガラス基板は、所定の清澄剤の働きによって十分に気泡を除去することができるため、製造のために複雑なプロセスや特殊な装置を必要とせず、公知の一般的な製造方法によって製造することができる。
通常は、情報記録媒体用ガラス基板の基になるブランク材を作製した後、内外周加工、研削・研磨加工、化学強化処理、洗浄などの工程を経て製造するのが一般的である。ブランク材の作製は、溶融ガラスをプレス成形して作製する方法や、シート状のガラスを切断して作製する方法が知られている。内外周加工は、中心孔の穿孔加工、内外周の形状や寸法精度確保のための研削加工、内外周の研磨加工等を行う工程である。研削・研磨加工は、記録層が形成される面の平坦度、表面粗さを満足させるための研削加工、研磨加工を行う工程である。通常は、粗研削加工、精研削加工、１次研磨加工、２次研磨加工といったようにいくつかの段階に分けて行われる場合が多い。化学強化処理は、化学強化処理液にガラス基板を浸漬することでガラス基板を強化する工程である。また、洗浄は、ガラス基板の表面に残った研磨剤や化学強化処理液等の異物を除去する工程である。
特に、本発明の情報記録媒体用ガラス基板は、所定のガラス成分を含有するアルミノシリケートガラスからなるため、化学強化処理を施すことにより、高い耐衝撃性や耐振動性を確保することができる。化学強化処理は、加熱された化学強化処理液にガラス基板を浸漬することによってガラス基板の成分であるリチウムイオン、ナトリウムイオンをこれらのイオンよりイオン半径の大きなナトリウムイオン、カリウムイオン等と置換するイオン交換法によって行われる。イオン半径の違いによって生じる歪みより、イオン交換された領域に圧縮応力が発生し、ガラス基板の表面が強化される。
化学強化処理液としては、ナトリウムイオンやカリウムイオンを含む溶融塩を用いることが一般的である。例えば、ナトリウムやカリウムの硝酸塩、炭酸塩、硫酸塩や、これらの混合溶融塩が挙げられる。中でも、融点が低く、ガラス基板の変形を防止できるという観点から、硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ３）と硝酸カリウム（ＫＮＯ３）の混合溶融塩を用いることが好ましい。
（情報記録媒体）
上述の情報記録媒体用ガラス基板に、少なくとも記録層を形成することで情報記録媒体を製造することができる。記録層は特に限定されず、磁気、光、光磁気等の性質を利用した種々の記録層を用いることができるが、特に磁性層を記録層として用いた情報記録媒体（磁気ディスク）の製造に好適である。
上述の情報記録媒体用ガラス基板に、少なくとも記録層を形成することで情報記録媒体を製造することができる。記録層は特に限定されず、磁気、光、光磁気等の性質を利用した種々の記録層を用いることができるが、特に磁性層を記録層として用いた情報記録媒体（磁気ディスク）の製造に好適である。
磁性層に用いる磁性材料としては、特に制限はなく公知の材料を適宜選択して用いることができるが、高い保持力を得るため、結晶異方性の高いＣｏを主成分とするＣｏ系合金などが好適である。具体的には、ＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯなどが挙げられる。また、磁性層を非磁性材料（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、ＣｒＶなど）で分割してノイズの低減を図った多層構成（例えば、ＣｏＰｔＣｒ／ＣｒＭｏ／ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒＰｔＴａ／ＣｒＭｏ／ＣｏＣｒＰｔＴａなど）としてもよい。
磁性層として、上記のＣｏ系材料の他、フェライト系や鉄−希土類系の材料や、ＳｉＯ２、ＢＮなどからなる非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＣｏＦｅ、ＣｏＮｉＰｔ等の磁性粒子が分散された構造のグラニュラーなどを用いることもできる。磁性層は、面内型及び垂直型の何れの記録形式であってもよい。
磁性層の形成方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂を、情報記録媒体用ガラス基板にスピンコートする方法や、スパッタリングによる方法、無電解メッキによる方法が挙げられる。磁性層の薄膜化、高密度化の観点からは、スパッタリングによる方法や無電解メッキによる方法が好ましい。
磁気ディスクには、更に必要により下地層を設けてもよい。下地層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、Ｎｉなどの非磁性金属が挙げられる。磁性層がＣｏを主成分とする場合には、磁気特性向上等の観点から、下地層の材料はＣｒ単体やＣｒ合金であることが好ましい。また、下地層は単層とは限らず、同一又は異種の材料からなる層を積層した複数層構造としても構わない。例えば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、ＮｉＡｌ／Ｃｒ、ＮｉＡｌ／ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ／ＣｒＶ等が挙げられる。
また、磁性層の表面に、磁性層の摩耗や腐食を防止するための保護層を設けてもよい。保護層としては、例えば、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ＺｒＯ２層、ＳｉＯ２層などが挙げられる。保護層は、単層でもよいし、同一又は異種の層からなる多層構成でもよい。これらの保護層は、下地層、磁性層などと共に、インライン型スパッタ装置で連続して形成することも可能である。また、Ｃｒ層の上にＳｉＯ２層を積層した保護膜を形成する場合、テトラアルコキシランをアルコール系の溶媒で希釈してコロイダルシリカ微粒子を分散させた溶液を、Ｃｒ層の上に塗布し、さらに焼成することでＳｉＯ２層を形成してもよい。
また、磁性層や保護層の表面に、磁気ヘッドの滑りをよくするための潤滑層を設けてもよい。潤滑層としては、例えば、パーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）等からなる液体潤滑剤を塗布し、必要に応じ加熱処理を行ったものなどが挙げられる。
以下、本発明の効果を確認するために行った実施例について説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
下記の表１〜表６に示すガラス成分となるように原料を調合した。清澄剤として、ＳＯ３（表１）、Ｆ（表２）、Ｃｌ（表３）、Ｂｒ（表４）、Ｉ（表５）、及び、ＳＯ３＋Ｆ（表６）をそれぞれ用いた。なお、いずれの場合も、ＡｓとＳｂは含有させなかった。
それぞれの原料を、９００℃〜１３００℃に加熱された溶融槽に投入し、溶融、清澄、撹拌均質化した後、溶融ガラスをプレス成形してブランク材を作製した。その後、内外周加工、研削・研磨加工を経て、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚み０．６３５ｍｍのガラス基板とした。
作製したガラス基板のそれぞれについて、残留する気泡の数の評価、及び溶融時の失透性の評価を行った。残留する気泡の数の評価は、ガラス基板の全面を対象とし、５０倍の光学顕微鏡を用いて、ガラス基板１枚あたりの気泡の数を測定することにより行った。失透性の評価は、ガラスの溶融粘性がｌｏｇη＝２．５となる温度をＴｌｏｇη＝２．５（℃）、液相温度をＴＬ（℃）としたときの両者の差ΔＴ（℃）（ΔＴ＝Ｔｌｏｇη＝２．５−ＴＬ）の数値で判断することにより行い、１５０℃≦ΔＴの場合を最も良好（◎）、５０℃≦ΔＴ＜１５０℃の場合を良好（○）、ΔＴ＜５０℃の場合を問題有り（×）とした。ここで液相温度ＴＬは、１５５０℃で２時間溶融保持後、温度勾配炉内で勾配を持たせて１０時間保持し急冷した後、ガラスの表面及び内部に失透物の発生が確認された温度である。また、Ｔｌｏｇη＝２．５は、撹拌式粘性測定機を用いて溶融したガラスの粘性を測定したときのｌｏｇη＝２．５となる温度である。各評価結果を表１〜表１０に併せて示す。
評価結果より、所定の清澄剤を、ガラス成分中のＺｒＯ２とのモル比率が所定の範囲となるように含有している本発明の実施例は、本発明の範囲外である比較例と比べて残留する気泡の数が顕著に少なく、十分に気泡が除去された情報記録媒体用ガラス基板を得ることができることが確認された。また、清澄剤の含有量の合計がガラス成分全体に対して１質量％以下である場合には、失透性が非常に良好であることが確認された。
Claims (4)
- ガラス成分全体に対して、
６０〜７５質量％のＳｉＯ２と、
５〜１８質量％のＡｌ２Ｏ３と、
３〜１０質量％のＬｉ２Ｏと、
３〜１５質量％のＮａ２Ｏと、
０．５〜８質量％のＺｒＯ２と、を含有するアルミノシリケートガラスからなる情報記録媒体用ガラス基板において、
Ａｓ（ヒ素）及びＳｂ（アンチモン）のいずれの元素も含有せず、
ＳＯ３（亜硫酸）、Ｆ（フッ素）、Ｃｌ（塩素）、Ｂｒ（臭素）及びＩ（ヨウ素）からなる群の中から選ばれる少なくとも１種を清澄剤として含有し、
前記清澄剤の総量の、前記ＺｒＯ２に対するモル比率（前記清澄剤の総量／ＺｒＯ２）が、０．０５〜０．５０の範囲であり、
前記清澄剤の含有量の合計は、ガラス成分全体に対して、１質量％以下であることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。 - 前記清澄剤は、ＳＯ３（亜硫酸）を含むことを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
- イオン交換による化学強化処理が施されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
- 請求項１〜３のうちいずれか１項に記載された情報記録媒体用ガラス基板の上に、記録層を有していることを特徴とする情報記録媒体。
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