JP5554819B2 - リソグラフィ機器及び方法 - Google Patents
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Description
本明細書では、IC(集積回路)の製造でリソグラフィ機器を使用することを具体的に参照することがあるが、本明細書で説明するリソグラフィ機器は、集積光学系、磁気ドメイン・メモリ用の誘導/検出パターン、フラット・パネル・ディスプレイ、薄膜磁気ヘッドなどの製造など、他の応用が可能であることを理解されたい。このような代替応用例の状況では、本明細書で用いる「ウエハ」又は「ダイ」という用語は、それぞれより一般の用語である「基板」又は「目標部分」と同義とみなし得ることが当業者には理解されよう。本明細書で言及する基板は、例えば、トラック(例えば典型的には、基板にレジスト層を塗布し、露光されたレジストを現像するツール)、或いは計測又は検査用のツール内で、露光前又は露光後に処理することができる。該当する場合には、上記その他の基板処理ツールに本明細書の開示を適用することができる。さらに、基板は、例えば多層ICを生成するために2回以上処理することがある。そのため、本明細書で用いる基板という用語は、複数の処理済み層をすでに含む基板を指すこともある。
図1に、本発明の実施例によるリソグラフィ投影機器100を概略的に示す。機器100は少なくとも、放射システム102、個々に制御可能な素子のアレイ104、物体テーブル106(例えば、基板テーブル)、及び投影システム(「レンズ」)108を備える。
図2に、本発明の一実施例による走査型リソグラフィ機器を平面図で示す。図3に、矢印Aの方向から見た図2の機器を側面図で示す。これらの図は、走査型走査モードを対象とするものである。
図5及び図6にそれぞれ、本発明の様々な実施例による、パネルが様々に配置された基板17及び18を平面図で示す。基板17、18の全体寸法は同じだが、これらの基板は、異なるフラット・パネル・ディスプレイ・サイズに対応するように設計される。図5の基板17は、4つの等しいサイズのパネル19に対応するように設計され、図6の基板18は、9つの等しいサイズのパネル20に対応するように設計される。各パネル上の位置合わせマーク10は、これらのパネル配置に適するように、且つ、露光中に基板17、18を位置合わせし得る精度が最大になるように配置される。
図2、図3、及び図5を参照すると、露光の準備に際して、基板17を基板テーブル1上に載せる。この工程は通常、数ミリメートルの精度で行うことができる。一実施例では、操作者は、位置合わせマーク10の列の数及びこれらの列の(y方向の)位置など、基板17の特徴を制御システム3にプログラムする。別の実施例では、操作者は、基板のタイプのコードを入力する。この場合、各基板タイプごとの位置合わせマークのデータは、制御システム3にあらかじめプログラムされている。いずれの実施例でも、この操作により、適切な数の、この場合には3つの位置合わせマーク検出器9が作動し、それぞれの直線駆動機構15によって、位置合わせマーク10の列の上の適切な位置に移動する。一実施例では、検出器9の視野は、基板テーブル1上での基板17の、数ミリメートル程度以内の位置決め誤差に対応することができる。或いは、各検出器9に対応する位置合わせマークの列の上で、検出器9の中心出しを行う何らかの走査手順を実施することが可能であろう。
以上、本発明の様々な実施例を説明してきたが、これらは単なる実施例として提示したものであり、限定的なものではないことを理解されたい。本発明の趣旨及び範囲を逸脱することなく、これらの実施例において形態及び細部の様々な変更を加えることができることが当業者には明らかであろう。そのため、本発明の広さ及び範囲は、上記で説明した実施例のいずれによっても限定されるべきではなく、添付の特許請求の範囲及びそれらの均等物によってのみ定義すべきである。
2 基板
3 制御システム
4 トロリー・フレーム
5a 支持脚
5b 支持脚
6 ガントリ
7 投影システム
9 位置合わせマーク検出器
10 位置合わせマーク
11 放射源
12 ビーム・スプリッタ
13 投影光学系
14 放射センサ
15 直線駆動機構
16 レーザ干渉計システム
17 基板
18 基板
19 パネル
20 パネル
100 リソグラフィ投影機器
102 放射システム
104 個々に制御可能な素子のアレイ、パターン化手段
106 物体テーブル、基板テーブル
108 投影システム、レンズ
110 放射ビーム
112 放射源
114 基板
116 位置決め装置
118 ビーム・スプリッタ
120 目標部分
122 放射ビーム
124 照明システム、照明器
126 調節装置、ビーム・エキスパンダ
128 調整装置
130 統合器
132 コンデンサ
134 干渉計測装置
136 ベース・プレート
138 干渉ビーム
140 ビーム・スプリッタ
409 位置合わせマーク検出器
Claims (13)
- フレームと、
複数の位置合わせマークが表面に設けられた基板を支持する基板テーブルと、
前記基板テーブルを第1の方向に移動させる駆動装置と、
前記フレームに結合され、前記第1の方向に垂直な第2の方向に移動可能な少なくとも3つの位置合わせマーク検出器と、を備え、
前記位置合わせマーク検出器の少なくとも1つは前記基板の中央区域内の場所に配置された位置合わせマークを検出するために設けられているリソグラフィ機器。 - 前記少なくとも3つの位置合わせマーク検出器は、前記フレームに結合され、前記第2の方向に移動可能である少なくとも5つの位置合わせマーク検出器を備える請求項1に記載のリソグラフィ機器。
- 前記少なくとも3つの位置合わせマーク検出器は、前記第2の方向に沿って配置されている請求項1または2に記載のリソグラフィ機器。
- 前記フレームは、前記第2の方向に前記基板テーブルの上のスペースを横切って設けられている請求項1から3のいずれかに記載のリソグラフィ機器。
- 前記位置合わせマーク検出器の1つ又は複数に関連しており、前記フレームに対する位置合わせマーク検出器の位置を求める位置センサをさらに備える請求項1から4のいずれかに記載のリソグラフィ機器。
- 前記位置合わせマーク検出器の1つ又は複数に関連しており、前記第2の方向に位置合わせマーク検出器を移動させる駆動機構と、
前記位置合わせマークの列の数と該列の前記第2の方向の位置とを含む前記基板の特徴に基づいて、前記複数の位置合わせマーク検出器のうち作動されるべき適切な数を決定し、作動されるべき位置合わせマーク検出器を前記駆動機構により前記第2の方向の適切な位置に移動させる制御システムと、をさらに備える請求項1から5のいずれかに記載のリソグラフィ機器。 - 各位置合わせマーク検出器に関連しており、前記フレームに対して相対的に検出器を前記第2の方向に直線運動させ、各検出器の直線運動が重なり合わないよう構成されている複数のリニア・モータを備える請求項1から6のいずれかに記載のリソグラフィ機器。
- 各位置合わせマーク検出器の前記第2の方向の移動範囲は、検出器を組み合わせることによって前記第2の方向に前記基板の全体をカバーするようになっている請求項1から7のいずれかに記載のリソグラフィ機器。
- 前記フレームにより支持される投影システムをさらに備える請求項1から8のいずれかに記載のリソグラフィ機器。
- 少なくとも3つの位置合わせマーク検出器を有するリソグラフィ装置のためのアライメント方法であって、
表面の第1の方向に配列されている位置合わせマークの少なくとも3つの列を有する基板を準備することと、
前記位置合わせマークの列の数を含む前記基板の特徴に基づいて、前記少なくとも3つの位置合わせマーク検出器のうち作動されるべき適切な数を決定することと、を含み、
前記位置合わせマーク検出器の少なくとも1つは前記基板の中央区域内の場所に配置された位置合わせマークを検出するために設けられている方法。 - 少なくとも3つの位置合わせマーク検出器を有するリソグラフィ装置のためのアライメント方法であって、
表面の第1の方向に配列されている位置合わせマークの少なくとも3つの列を有する基板を準備することと、
前記位置合わせマークの列の前記第1の方向に垂直な第2の方向の位置を含む前記基板の特徴に基づいて、前記少なくとも3つの位置合わせマーク検出器の前記第2の方向の適切な位置を決定することと、
決定された前記第2の方向の位置に位置合わせマーク検出器を移動させることと、を含み、
前記位置合わせマーク検出器の少なくとも1つは前記基板の中央区域内の場所に配置された位置合わせマークを検出するために設けられている方法。 - 前記少なくとも3つの位置合わせマーク検出器は、フレームに結合され、前記第1の方向に垂直な第2の方向に移動可能である少なくとも5つの位置合わせマーク検出器を備える請求項10または11に記載の方法。
- 前記少なくとも3つの位置合わせマーク検出器は、前記第1の方向に垂直な第2の方向に沿って配置されている請求項10から12のいずれかに記載の方法。
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