JP5552573B2 - 光学素子及びそれを用いた半導体発光装置 - Google Patents

光学素子及びそれを用いた半導体発光装置 Download PDF

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Description

本開示は光学素子及びそれを用いた半導体発光装置に関し、特に指向性を有する光を得ることができる光学素子及びそれを用いた半導体発光装置に関する。
近年、窒化ガリウム系材料又は砒化ガリウム系材料を用いた、高効率且つ高出力の発光ダイオード(Light Emitting Diode:LED)等の半導体発光素子が製品化されている。これに伴い、半導体発光素子を用いたディスプレイ装置用光源の製品化も行われている。半導体発光素子を用いたディスプレイ装置用光源として、画面の側面に配置したLEDの光を、画面の背面に配置した導光板を用いて、ディスプレイ装置の画面全面に導くエッジライト型の光源が注目されている。LEDよりも指向性に優れた半導体レーザ素子を用いることにより、ディスプレイ装置用光源のエネルギー損失をさらに低減することも検討されている(例えば、特許文献1を参照。)。
特開2009−158620号公報
しかしながら、前記従来のディスプレイ装置用光源には以下のような問題がある。一般にディスプレイ装置用光源は、レーザ素子等の発光素子から出射された光を、異なる波長の光に変換して用いる。波長の変換は、例えば、発光素子から出射された光を蛍光体を含む反射板等に入射させることにより行う。蛍光体に光を入射させると、蛍光体が励起され、入射した光とは波長が異なる蛍光光が放出される。しかし、蛍光体を用いて波長の変換を行うと、光の指向性が失われてしまう。このため、レーザ素子等の指向性に優れた発光素子を用いたとしても、指向性に優れたディスプレイ装置用光源を実現することは困難である。
本開示は、前記の問題を解決し、波長の変換を行った場合にも指向性を有する光が得られる光学素子及びそれを用いた半導体発光装置を実現できるようにすることを目的とする。
前記の目的を達成するため、本開示は光学素子を、蛍光体層から放射された光を平行光に変換する構成とする。
具体的に、本開示に係る第1の光学素子は、第1の波長の光により励起され、第1の波長とは異なる第2の波長の光を放射する蛍光体を含む蛍光体層と、蛍光体層の第1の面の上に形成され、蛍光体層に光を集光する第1の光学部材と、蛍光体層の第1の面と反対側の第2の面の上に形成され、蛍光体層から放射された光を平行光に変換する第2の光学部材とを備えている。
第1の光学素子は、蛍光体層の第1の面の上に形成され蛍光体層に光を集光する第1の光学部材と、第2の面の上に形成され蛍光体層から放射された光を平行光に変換する第2の光学部材とを備えている。このため、蛍光体層において第1の波長の光を第2の波長の光に変換すると共に、平行光として光学素子から出射させることができる。
第1の光学素子において、第1の光学部材は、集光レンズを有する第1の透明基板であっても、回折格子を有する第1の透明基板であってもよい。
第1の光学素子において、第2の光学部材は、第2の面の上に形成され、コリメートレンズを有する第2の透明基板であってもよい。
第2の光学素子は、第1の波長の光により励起され、第1の波長とは異なる第2の波長の光を放射する蛍光体を含む蛍光体層と、蛍光体層の第1の面の上に形成され、蛍光体層に光を集光し且つ蛍光体層から放射された光を平行光に変換する第3の光学部材とを備えている。
第2の光学素子は、蛍光体層の第1の面の上に形成され、蛍光体層に光を集光し且つ蛍光体層から放射された光を平行光に変換する第3の光学部材を備えている。このため、蛍光体層において第1の波長の光を第2の波長の光に変換すると共に、平行光として光学素子から出射させることができる。
第2の光学素子において、第3の光学部材は、蛍光体層と反対側の面に設けられた回折格子と、蛍光体層と対向する面に設けられた反射鏡とを有する第3の透明基板であってもよい。
第2の光学素子は、蛍光体層の第1の面と反対側の第2の面に形成された反射層をさらに備え、第3の光学部材は、凸レンズである構成としてもよい。
第1の光学素子は、蛍光体層と第1の光学部材又は第2の光学部材との間に形成され、蛍光体層よりも熱伝導率が高い熱伝導層をさらに備えていてもよい。
第2の光学素子は、蛍光体層の第1の面と反対側の第2の面に形成され、蛍光体層よりも熱伝導率が高い熱伝導層をさらに備えていてもよい。
これら場合において、熱伝導層は、酸化亜鉛、窒化アルミニウム又はダイヤモンドとしてもよい。また、熱伝導層は、多層膜としてもよい。
第1の光学素子において、蛍光体層は、それぞれが蛍光体を含む複数の第1の領域と、複数の第1の領域を囲み、第1の領域よりも熱伝導率が高い第2の領域とを有し、第1の光学部材は、複数の第1の領域のそれぞれに光を集光する構成としてもよい。
第2の光学素子において、蛍光体層は、それぞれが蛍光体を含む複数の第1の領域と、複数の第1の領域を囲み、第1の領域よりも熱伝導率が高い第2の領域とを有し、第3の光学部材は、複数の第1の領域のそれぞれに光を集光する構成としてもよい。
これらの場合において、第2の領域は、酸化亜鉛、窒化アルミニウム又はダイヤモンドとしてもよい。
本開示に係る半導体発光装置は、本開示のいずれかの光学素子と、第1の波長の光を出射する発光素子とを備えている。
本開示に係る半導体発光装置は、発光素子から出射された光を互いに並行な光軸を有する複数の光路に分割して、光学素子に入射させる光分岐部をさらに備えていてもよい。
本開示に係る光学素子及び半導体発光装置によれば、波長の変換を行った場合にも指向性を有する光が得られる光学素子及びそれを用いた半導体発光装置を実現できる。
(a)及び(b)は第1の実施形態に係る光学素子を示し、(a)は平面図であり、(b)は(a)のIb−Ib線における断面図である。 第1の実施形態に係る光学素子の動作を示す断面図である。 第1の実施形態に係る光学素子について蛍光体層の温度分布をシミュレーションした結果を示すグラフである。 (a)及び(b)はシミュレーションに用いた光学素子の構成を示し(a)は平面図であり、(b)は(a)のIVb−IVb線における断面図である。 第1の実施形態に係る光学素子を用いた画像表示装置の例を示す模式図である。 第1の実施形態に係る光学装置を用いた発光装置を示す断面図である。 (a)及び(b)は画像表示装置の動作例を示す模式図である。 (a)及び(b)は第1の実施形態に係る光学素子の第1変形例を示し、(a)は平面図であり、(b)は(a)のVIIIb−VIIIb線における断面図である。 第1変形例の光学素子を用いた画像表示装置の例を示す模式図である。 第1変形例の光学素子について蛍光体層の温度分布をシミュレーションした結果を示すグラフである。 第1の実施形態の光学素子の製造方法を工程順に示す断面図である。 第1の実施形態の光学素子の製造方法を工程順に示す断面図である。 第1の実施形態の光学素子の第2変形例を示す断面図である。 第2変形例の光学素子の製造方法を工程順に示す断面図である。 第2変形例の光学素子を用いた発光装置を示す断面図である。 第1の実施形態に係る光学素子の第3変形例を示す断面図である。 第1の実施形態に係る光学素子の第4変形例を示す断面図である。 第2の実施形態に係る光学素子を示す断面図である。 第2の実施形態に係る光学素子を用いた発光装置を示す模式図である。 第2の実施形態に係る光学素子の製造工程を工程順に示す断面図である。
本開示において、平行光とは、完全な平行光だけでなく、数度〜十数度程度の拡がりを有する略平行光を含む。
(第1の実施形態)
図1(a)及び(b)に示すように、第1の実施形態の光学素子110は、入射光の波長を変換して出射する蛍光体光学素子である。図1は、液晶テレビジョン受像器等のエッジライト型の光源に適した棒状の構成の光学素子110を示している。図1に示すように光学素子110は、蛍光体層113と、蛍光体層113の第1の面113aの上に熱伝導層114を介して設けられた第1の光学部材111と、第2の面113bの上に設けられた第2の光学部材112とを有している。
蛍光体層113は、第1の波長の入射光により励起され第2の波長の蛍光光を放出する蛍光体を含む。蛍光体は、どのようなものでもよいが例えば、セリウム添加イットリウムアルミニウムガーネット(YAG:Ce3+)若しくはβ−サイアロン等の希土類蛍光体又はセレン化カドミウム(CdSe)、セレン化亜鉛、硫化亜鉛若しくはリン化インジウム等の化合物半導体により形成されたコア/シェル型の量子ドット蛍光体等とすればよい。
熱伝導層114は、光の吸収が少なく且つ蛍光体層113よりも平均熱伝導率が高い層であればよい。例えば、酸化亜鉛(ZnO)膜、窒化アルミニウム(AlN)膜又はダイヤモンドからなる層とすればよい。
第1の光学部材111は、第1の透明基板111Aと、第1の透明基板111Aの第1の面に形成された微小レンズ111Bとを有している。第1の光学部材111は、第1の面と反対側の第2の面を蛍光体層113側にして熱伝導層114を介在させて蛍光体層113の第1の面113aの上に固定されている。第2の光学部材112は、第2の透明基板112Aと、第2の透明基板112Aの第1の面に形成された微小レンズ112Bとを有している。第2の光学部材112は、第1の面と反対側の第2の面を蛍光体層113側にして蛍光体層113の第2の面113bの上に固定されている。第1の透明基板111A及び第2の透明基板112Aは、ソーダライム、硼珪酸クラウンガラス(BK7)又は合成石英等とすればよい。通常は、第1の光学部材111が第2の光学部材112よりも厚い。また、第1の光学部材111の微小レンズ111Bは、第2の光学部材112の微小レンズ112Bよりも焦点距離が長い。
図2は、本実施形態の光学素子110の動作を示している。図2に示すように、第1の波長の光121を第1の光学部材111に入射させる。第1の波長の光121は、半導体レーザ素子等の発光素子(図示せず)とレンズ等の光学素子(図示せず)とを用いて発生させた平行光等とすればよい。発光素子は、例えば窒化ガリウム系の化合物半導体を用いた発光波長が430nm〜480nm程度の半導体レーザ素子等とすればよい。なお、発光波長が430nm〜480nmであるとは、発光光のピーク波長が430nm〜480nmの範囲にあるということを意味する。
第1の光学部材111に入射した平行光である第1の波長の光121は、集光レンズである微小レンズ111Bにより蛍光体層113の微小領域113cに集光される。蛍光体層113に含まれる蛍光体は第1の波長の光121を吸収し、第2の波長の光122を放射する。第1の波長が430nm〜480nm程度の場合には、YAG:Ce3+又はCdSe系量子ドット蛍光体を用いることにより、第2の波長を480nm〜700nm程度とすることができる。なお、第2の波長が480nm〜700nmであるとは、蛍光体から放出される第2の波長の光のピーク波長が480nm〜700nmの範囲にあり、第2の波長の光のスペクトル分布が480nm〜700nmにあるということを意味する。
蛍光体から放射された第2の波長の光122は、拡散光として蛍光体層113から出射される。第2の波長の光122のうち第2の光学部材112側に向かった光は、コリメートレンズである微小レンズ112Bにより平行光として光学素子110の外部へ出射される。蛍光体層113から出射された第2の波長の光122は拡散光であるが微小領域113cから出射されるため第2の光学部材112の微小レンズ112Bにより効率良く平行光とすることができる。また、第1の波長の光121の一部は蛍光体に吸収されず散乱されて第2の光学部材112側へ向かい、第2の波長の光と同様に平行光として光学素子110の外部へ出射される。
一方、蛍光体に吸収された第1の波長の光121の一部は、蛍光に変換されず熱に変換される。蛍光体層113において発生した熱は、蛍光体層113と接する熱伝導層114により、光学素子110の周縁部に効率良く伝達され放熱される。熱伝導層114は、第2の波長の1/4程度の厚さとすることが好ましい。このようにすれば、熱伝導層114が第2の波長の光122に対して反射膜として機能する。従って、蛍光体層113から出射された第2の波長の光122を効率良く第2の光学部材112側に導くことができる。
図1は、熱伝導層114が第1の面113aの上に形成されている例を示しているが、熱伝導層114を第2の面113bの上に形成してもよい。この場合には、熱伝導層114が、第1の波長の光121に対して反射膜として機能し、第2の波長の光122に対して反射膜として機能しにくい厚さとすることが好ましい。
以下に、熱伝導層114の効果について説明する。図3は、熱伝導層114をZnO(熱伝導率λ=5W/mK)とした場合とガラス(λ=0.3W/mK)とした場合とにおける蛍光体層の温度部分布をシミュレーションにより求めた結果を示している。シミュレーションには、図4に示すような光学素子において、微小レンズがない薄い光学部材により熱伝導層と蛍光体層とが挟まれた簡単な構造のモデルを用いた。また、光源(図示せず)には波長450nmの半導体レーザ素子、蛍光体はYAG:Ce3+を仮定し、適当なパラメータを設定した。光学素子の外形は長軸Lを45mm、短軸Dを5mmとし、長軸方向の側面に放熱板130が固定されている。このとき光学素子は放熱板130と熱的に接続されており、その界面が40℃で固定されているとした。また第1の光学部材111の厚さは0.5mm、第2の光学部材112の厚さが0.2mm、蛍光体層113及び熱伝導層114の厚さはともに0.1mmとした。第1の光学部材111は、長軸方向に9個の集光レンズを有し、各集光レンズに入射した励起光は、蛍光体層113上の1.0mm角程度の領域に集光されるとした。第1の光学部材111及び第2の光学部材112はガラスとし、蛍光体層113は熱伝導率がガラスとほぼ等しい樹脂材料とした。
ここで、光出力5Wの光源(図示せず)を配置し、分離素子(図示せず)において9分割された光(このとき10%のエネルギーロスが生じるとする)が個々の微小レンズ111Bにより蛍光体層113の微小領域113cに集光されるとする。微小領域113cに集光された0.5Wの光は、80%の変換効率(20%の損失)で第2の波長の光に変換され、波長変換される際に25%のストークスロスを生じるとする。この場合、微小領域113cには0.2Wのジュール熱が発生する。熱伝導層114がガラスからなる場合には、励起光が集光された微小領域の温度は光学素子中央部で最大で300℃を越えてしまう。蛍光体は一般的に200℃を越えると変換効率の低下が著しくなるため、この場合、光学素子の機能が大幅に低下する。一方、熱伝導層114がZnOからなる場合には、励起光が集光された微小領域の温度は150℃程度であり、光学素子の機能低下を大幅に抑制することができる。このように、熱伝導層114をZnOとすることにより放熱性を向上させることができ、局所的な温度の上昇を抑えることができる。このため、蛍光体による光の変換効率を向上させることができる。
表1には、種々の材料の熱伝導率を示している。ガラス及び樹脂材料の熱伝導率は0.3W/mK程度であるのに対し、ZnOの熱伝導率は5W/mK程度である。従って、熱伝導層114は、樹脂材料からなる蛍光体層113よりも熱伝導率が高い材料により形成すればより効果的であり、特に、熱伝導率が高いAlN又はダイヤモンド等を用いるとより効果的である。また、熱伝導層114を複数の層からなる多層膜としてもよい。熱伝導層114を多層膜とすることにより、第1の波長の光は反射しにくく、第2の波長の光は反射しやすい構成とすることが容易にできる。第2の波長の光を反射しやすくすれば、蛍光体層113から熱伝導層114側に放射された光を第2の光学部材112側に効率良く反射させることが可能となり、光の利用効率が向上する。熱伝導層114を多層膜とする場合には、全ての層が同一の材料からなる必要はない。この場合、熱伝導層114の平均の熱伝導率が蛍光体層113の熱伝導率よりも高くなるようにすればよい。この場合、例えば、屈折率が互いに異なり、熱伝導率が高い、サファイアとAlN膜とにより構成することで容易に上記の多層膜を形成することができる。なお、蛍光体層113が複数の材料からなり熱伝導率が均一でない場合には、蛍光体層113の平均の熱伝導率よりも熱伝導層114の熱伝導率が高くなるようにすればよい。
本実施形態の光学素子は、図5に示すような画像表示装置200用の光源として用いることができる。画像表示装置200は、複数の光源210を有している。光源210は、光源210から出射された光が導光板212に入射するように、導光板212の側面に配置されている。導光板212は画像表示部214の裏面に配置されている。図5は、光源210が5個設けられた例を示しているが、光源210の数は画像表示部214のサイズに応じて適宜変更してかまわない。
光源210となる半導体発光装置は、例えば図6に示すように、本実施形態の光学素子110と、半導体レーザ素子等の発光素子140と、発光素子140から出射された光を平行光として光学素子110に入射させる導光素子150とを有している。発光素子140は、半導体レーザ素子等の指向性が高い光を発生させる発光素子とすることが好ましい。発光素子140は、基台142の主面と平行な方向に光を出射するように、サブマウント141を介して基台142の上に固定されている。
導光素子150は、発光素子140から出射された光が入射するように基台142の上に固定されている。導光素子150は、光分岐部151と、発光素子140と光分岐部151との間に設けられたコリメートレンズ152とを有している。発光素子140から出射された光は、コリメートレンズ152により平行光とされた後、光分岐部151に入射する。光分岐部151は、入射した光の一部を反射し残部を透過する分離ミラーが複数積層されている。このため、光分岐部151に入射した光は、光軸が互いに並行な複数の光路に分岐される。
光分岐部151により複数の光路に分岐された光のそれぞれは、光学素子110における第1の光学部材111に設けられた複数の微小レンズ111Bに入射する。微小レンズ111Bの光軸と光分岐部151により分岐された光の光軸とが一致するように、光学素子110と導光素子150とは配置されている。光学素子110に入射した光は、先に説明したように波長が変換され第2の光学部材112の微小レンズ112Bにより平行光として出射される。
画像表示装置200は、光源210が平行光を出射するため以下のような利点を有している。光源210から出射された光は、導光板212に入射し、導光板212の内部を反射しながら導波すると共に一部が画像表示部214へと導かれる。光源210から出射された光が、平行光である場合には、光源210の光量を調整することにより画像表示部214の明るさを走査方向に沿って変化させることができる。例えば図7(a)には、上から2番目の位置に配置された光源210のみを発光させた状態を示し、図7(b)には、上から4番目の位置に配置された光源210のみを発光させた状態を示している。このように、複数の光源210の一部を発光させることにより、画像表示部214に入力された信号のうち必要な部分のみを画像として表示させることができる。従って、画像表示装置をより精密に制御することが可能となる。
図1は、集光レンズ及びコリメートレンズである微小レンズを一列に配置した例を示したが、図8(a)及び(b)に示すように、微小レンズ111B及び112Bがマトリックス状に配置された光学素子110Aとしてもよい。微小レンズをマトリックス状に配置した光学素子110Aを用いることにより図9に示すような画像表示装置250を実現できる。発光素子251から出射された光は、コリメートレンズ252により平行光とされた後、光学素子110Aに入射する。光学素子110Aに入射した光は、第1の光学部材111の微小レンズ111Bにより複数の集光領域のそれぞれに集光される。各集光領域において生成された蛍光光は、対応する微小レンズ112Bによりそれぞれ平行光として出射される。光学素子110Aから出射された平行光は、光変調素子253に入射する。光変調素子253において入射光が変調されて画像が生成され、投影レンズ254により投影画像255が投影される。
微小レンズをマトリックス状に配置した場合には、蛍光体層113における光が集光される微小領域からの放熱がシングルラインの場合よりも重要となる。図10は、熱伝導層114をガラス(λ=0.3W/mK)とした場合、ZnO(λ=5W/mK)とした場合、AlN膜(λ=230W/mK)とした場合、及びダイヤモンド(λ=1500W/mK)とした場合における蛍光体層113の温度部分布をシミュレーションにより求めた結果を示している。シミュレーションに用いた光学素子は、光の入射領域が45mm角であり、微小レンズが9×9のマトリックス状に配置され、各集光レンズが1mm角の領域に集光するとした。光源からの入射光が40Wであり81個に分割されて微小領域に集光されるとすると個々の微小領域には0.5Wの光が集光される。この際に生じる発熱は、先に述べた場合と同様に0.2Wとし、光学素子の周囲が放熱板(図示せず)により40℃に固定され、微小レンズ面は熱的に断熱されているとすると、熱伝導層114がガラスからなる場合には光学素子中央部の集光領域の温度が突出して高くなり、4000℃を超えるところまで上昇する。しかし、熱伝導層114がAlN膜又はダイヤモンドからなる場合には集光領域の温度は周囲の温度よりも若干高くなるだけであり、温度も150℃以下とすることができる。
このように、微小レンズをマトリックス状に配置した場合にも、熱伝導率が高い熱伝導層114を設けることにより放熱性を向上させ、蛍光体における光の変換効率を向上させることができる。図8は、微小レンズが9×9のマトリックスに配置された例を示しているが、どのようなサイズのマトリックスとしてもよい。
本実施形態の光学素子は、以下のようにして形成すればよい。まず、図11(a)に示すように第1の光学部材111となる第1の透明基板111Aの第1の面の上にレジスト等からなるマスクパターン161を形成する。透明基板は例えばBK7等のガラスとすればよい。次に、図11(b)に示すように第1の透明基板111Aの第1の面をフッ酸等のエッチング液により選択的にエッチングする。これにより、集光レンズである微小レンズ111Bを有する第1の光学部材111が得られる。次に、図11(c)に示すように第1の光学部材111の第2の面の上にZnO又はダイヤモンド等からなる熱伝導層114を形成する。熱伝導層114はスパッタ法又は化学気相堆積(CVD)法等により形成すればよい。次に、図11(d)に示すように熱伝導層114の上に、蛍光体層113となる蛍光体を含有させた紫外線硬化型の樹脂113Aを熱伝導層114の上に塗布する。蛍光体は入射光及び出射光の波長に応じて適宜選択すればよいが、例えばYAG:Ce3+等とすればよい。紫外線硬化型の樹脂は、シリコーン樹脂又はエポキシ樹脂等とすればよい。なお、蛍光体層を形成する樹脂は、紫外線硬化型の樹脂に限らず熱硬化型の樹脂等を用いることも可能である。さらに、蛍光体層を蛍光体粒子と低融点ガラス等の透明無機材料とを用いて構成してもよい。
次に、図12(a)に示すように第2の光学部材112となる第2の透明基板112Aを樹脂113Aの上に貼り付けた後、樹脂113Aに紫外線を照射することにより硬化させて蛍光体層113を形成すると共に第2の透明基板112Aを接着する。次に、図12(b)に示すように、第2の透明基板112Aの上にレジスト等からなるマスクパターン162を形成する。マスクパターン162は微小レンズ111Bに対して位置合わせする。次に、第2の透明基板112Aをフッ酸等のエッチング液により選択的にエッチングする。これにより、コリメートレンズである微小レンズ112Bを有する第2の光学部材112が形成される。
微小レンズ111B及び112Bが一列だけの場合も、マトリックス状に配置された場合も同様にして形成することができる。
第1の透明基板111Aの厚さを10mm程度と比較的厚くすることにより、第1の光学部材111の上に、熱伝導層114、蛍光体層113及び第2の光学部材112を容易に形成することが可能となる。また、第2の透明基板112Aは3mm程度と比較的薄くすることにより微小レンズ112Bを曲率が比較的大きいコリメートレンズとすることが可能となり、蛍光体層113の微小領域から全方位に放射された光をより効率良く平行光とすることができる。
なお、微小レンズをエッチングにより形成する方法を示したが、低温度軟化透明材料と金型を用いて形成してもよい。
図1等には、蛍光体層とは別に熱伝導層が形成された例を示した。しかし、蛍光体は、光が集光される領域にのみ存在していればよい。このため、図13に示すような構成の光学素子110Bとしてもよい。光学素子110Bは、蛍光体を含む第1の領域173Aと、第1の領域173Aを囲み、第1の領域173Aよりも熱伝導率が高い第2の領域173Bとを有する蛍光体層173を有している。第1の領域173Aは、YAG:Ce3+等の蛍光体を含む樹脂層とすればよい。第2の領域173Bは、ZnO又はダイヤモンド等の第1の領域173Aよりも熱伝導率が高い層とすればよい。
光学素子110Bは以下のようにして形成すればよい。まず、図11(a)及び(b)に示した工程と同様の工程により、微小レンズ111Bを有する第1の光学部材111を形成する。次に、図14(a)に示すように、第1の光学部材111の第2の面の上に第2の領域173BとなるZnO層等をスパッタ法又はCVD法により形成する。続いて、ZnO層等をパターニングして、第1の光学部材111が露出する複数の開口部173aを形成する。次に、図14(b)に示すように開口部173aを埋めるように、第1の領域173Aとなる蛍光体を含有させた紫外線硬化型樹脂を塗布する。蛍光体は入射光及び出射光の波長に応じて適宜選択すればよいが、例えばYAG:Ce3+等とすればよい。紫外線硬化型樹脂は、シリコーン樹脂又はエポキシ樹脂等とすればよい。この後、図12(a)〜(c)の工程と同様の工程により、紫外線硬化型樹脂の硬化及び第2の光学部材112の形成等を行えばよい。
なお、蛍光体層を形成する樹脂は、紫外線硬化型の樹脂に限らず熱硬化型の樹脂等を用いることも可能である。さらに、蛍光体層を、蛍光体粒子と低融点ガラス等の無機透明材料とを用いて構成してもよい。例えば、スピンオングラス等の無機透明材料を用いることにより、パターニング等が容易となるという利点が得られる。
光学素子110Bは、光学素子110のように微小レンズが一列に配置された構成としても、光学素子110Aのように微小レンズがマトリックス状に配置された構成としてもよい。光学素子110Bは、光学素子110及び光学素子110Aと同様に用いることができるが、図15に示すように複数の発光素子261と組み合わせてもよい。各発光素子261から出射された光は、対応するコリメートレンズ262により平行光とされた後、光学素子110Bに入射する。なお、光学素子110及び光学素子110Aについてもこのような構成とすることができる。
図16に示すように、第1の透明基板181Aと回折格子181Bとを有する第1の光学部材181を用いて、蛍光体層173の第1の領域173Aに光を集光する光学素子110Cとしてもよい。このような構成とすることにより、コリメートレンズ262が不要となるため、部品点数を低減することができる。なお、熱伝導層と一体となった蛍光体層173に代えて、蛍光体層と熱伝導層とを別々に形成してもよい。
図17に示すように、微小レンズ112Bに代えて反射鏡191Cにより蛍光を平行光に変換する構成の光学素子110Dとしてもよい。光学素子110Dは、第1の面に回折格子191Bを有し第2の面に反射鏡191Cを有する第1の透明基板191Aと、第2の透明基板192と、第2の透明基板192の上に熱伝導層194を介在させて形成された蛍光体層193とを有している。反射鏡191Cは、放物線をその対称軸の周りに回転させることによりできる放物面を有する放物面鏡とすればよい。発光素子261から放射された光は、回折格子191Bにより反射鏡191Cを透過し、蛍光体層193に集光される。蛍光体層193に集光された光は所定の波長の光となり、反射鏡191Cに入射する。反射鏡191に入射した光は、反射されると共にコリメートされ第2の透明基板192を透過して出射される。蛍光体層193に入射された光はランバーシャン反射するため、ランバーシャン反射光を利用することができ、光の利用効率をさらに向上させることができるという利点を有する。
(第2の実施形態)
図18に示すように、第2の実施形態の光学素子310は、第1の基板311と、第1の基板311の上に反射層314を介在させて形成された蛍光体層313と、蛍光体層313の上に形成された微小レンズ312とを有している。
第1の基板311はシリコン基板等とすればよい。反射層314は銀又はアルミニウム等の可視光の反射率が高い金属材料とすればよい。蛍光体層313は、蛍光体粒子とバインダ材料とが混合された蛍光体含有材料からなる第1の領域313Aと、第1の領域313Aを囲むように形成された第2の領域313Bとを有している。蛍光体は、YAG:Ce3+をはじめとする希土類蛍光体又は量子ドット蛍光体等とすればよい。バインダ材料は、樹脂又は透明無機材料等とすればよい。樹脂の場合には、シリコーン又はエポキシ等の透明樹脂とすればよく、透明無機材料の場合には、低融点ガラス等のガラス材料とすればよい。第2の領域313Bは、グラフェン、ダイヤモンド又はZnO等の第1の領域313Aよりも熱伝導率が高い材料とすればよい。微小レンズ312はガラス等からなり、蛍光体層313における第1の領域313Aに焦点が合うように形成されている。
図19は、実施形態の光学素子310を用いた発光装置300の構成及び動作方法を示している。発光装置300は、発光素子340と、発光素子340から出射された光を平行光とするコリメートレンズ352と、平行光を反射させて光学素子310に入射させるダイクロイックミラー360とを有している。
ダイクロイックミラー360により反射されて光学素子310に入射した光は、光学素子310の微小レンズ312により蛍光体層313の第1の領域313Aに集光される。第1の領域313Aに集光された光は蛍光体により所定の波長の光に変換され、ランバーシャン反射される。反射された光は微小レンズ312により平行光となり光学素子310から出射される。光学素子310から出射された光はダイクロイックミラー360を透過し、平行光として発光装置300から出射される。
蛍光体層313において光の波長を変換する際に発生する熱は、蛍光体層313の第2の領域310B及び反射層314により効率良く光学素子310の周縁部に伝達され、放熱される。
本実施形態の光学素子310は以下のようにして形成すればよい。まず、図20(a)に示すように、シリコン基板等である第1の基板311の上に、銀又はアルミニウム等からなる反射層314を蒸着法、スパッタ法又はCVD法等により形成する。続いて、蛍光体層313の第2の領域313Bとなるグラフェン、ダイヤモンド又はZnO等からなる層を形成した後、フォトリソグラフィー、エッチング及びリフトオフ等の半導体プロセス技術を用いて複数の開口部313aを形成する。次に、図20(b)に示すように、第1の領域313Aとなる蛍光体を含む樹脂を開口部313aを埋めるようにスピンコート法等を用いて塗布する。次に、図20(c)に示すように、透明基板である第2の基板312Aを蛍光体層313の上に接着した後、第2の基板312Aの上にレジストマスク351を形成する。レジストマスク351は、第1の領域313Aに一致するように形成する。次に、図20(d)に示すようにフッ酸等を用いたウエットエッチングにより第2の基板312Aを選択的にエッチングして微小レンズ312を形成する。
図20には、それぞれが独立した微小レンズ312を形成する例を示したが、第2の基板312Aの厚さ及び必要とする微小レンズ312の曲率等によっては、第2の基板312Aの一方の面に一体となった微小レンズ312が形成されている構成としてもよい。この場合には、微小レンズ312の接合部の厚さを可能な限り薄くすることが好ましい。
なお、微小レンズ312をウエットエッチングにより形成する方法について説明したが、あらかじめ金型等を用いて微小レンズ312を形成した第2の基板312Aを、微小レンズ312と第1の領域313Aとの位置合わせを行った上で、蛍光体層313と接着してもよい。
第1及び第2の実施形態では、発光素子が半導体レーザ素子である場合について主に説明したが、指向性に優れた光源であればどのようなものを用いてもよい。例えば、スーパールミネッセントダイオード等を用いてもよい。
なお、第1及び第2の実施形態では、第1の波長の光の波長を430nm〜480nmとしたが蛍光体を励起できる波長の光であればどの波長でもよい。例えば、波長350nm〜390nmの紫外光及び波長390nm〜430nmの近紫外光でもよい。
また第1及び第2の実施形態では、蛍光体をYAG:Ce3+を中心に述べたがこの限りではない。例えば、波長530nm付近の緑色の蛍光を第2の波長の光としたい場合には、ユーロピウム添加のβサイアロン結晶やシリケート結晶でもよい。またCe添加Ca3Sc2Si312又はCe添加CaSc24等によっても高い変換効率で波長520nm付近の緑色の第2の波長の光を得ることができる。また、波長640nm付近の赤色の蛍光を第2の波長の光としたい場合にはユーロピウム添加の(Sr,Ca)AlSiN3又はCaAlSiN3等を用いればよい。
なお、第1及び第2の実施形態では、蛍光体層として1種類の蛍光体を用いる方法についてのみ述べたがこの限りではない。例えば、蛍光体層の蛍光体を面内で変えることにより複数の波長の光を第2の波長の光として出射させることができる。例えば、波長430nm〜430nmの第1の波長の光と、緑色及び赤色を発する蛍光体とを組み合わせて光学素子を構成することにより、白色の光を発する半導体発光装置を構成することができる。また、緑色及び赤色を発する蛍光体と、例えば(Ba,Sr)MgAl1017:Eu又は(Sr,Ca,Ba,Mg)10(PO46Cl2:Eu等の青色を発する蛍光体とを組み合わせた光学素子を構成することで、紫外光又は近紫外光等の励起光により白色の光を発する半導体発光装置を構成することができる。
本開示に係る光学素子は、波長の変換を行った場合にも指向性を有する光が得られ、エネルギー損失が小さい光源装置等に用いる光学素子等として有用である。
110 光学素子
110A 光学素子
110B 光学素子
110C 光学素子
110D 光学素子
111 第1の光学部材
111A 第1の透明基板
111B 微小レンズ
112 第2の光学部材
112A 第2の透明基板
112B 微小レンズ
113 蛍光体層
113A 樹脂
113a 第1の面
113b 第2の面
113c 微小領域
114 熱伝導層
121 光
122 光
130 放熱板
140 発光素子
141 サブマウント
142 基台
150 導光素子
151 光分岐部
152 コリメートレンズ
161 マスクパターン
162 マスクパターン
173 蛍光体層
173A 第1の領域
173B 第2の領域
173a 開口部
181 第1の光学部材
181A 第1の透明基板
181B 回折格子
191 反射鏡
191A 第1の透明基板
191B 回折格子
191C 反射鏡
192 第2の透明基板
193 蛍光体層
194 熱伝導層
200 画像表示装置
210 光源
212 導光板
214 画像表示部
250 画像表示装置
251 発光素子
252 コリメートレンズ
253 光変調素子
254 投影レンズ
255 投影画像
261 発光素子
262 コリメートレンズ
300 発光装置
310 光学素子
310A 第1の領域
310B 第2の領域
311 第1の基板
312 微小レンズ
312A 第2の基板
313 蛍光体層
313A 第1の領域
313B 第2の領域
313a 開口部
314 反射層
340 発光素子
351 レジストマスク
352 コリメートレンズ
360 ダイクロイックミラー

Claims (11)

  1. 第1の波長の光により励起され、前記第1の波長とは異なる第2の波長の光を放射する蛍光体を含む蛍光体層と、
    前記蛍光体層の第1の面の上に形成され、前記蛍光体層に光を集光する第1の光学部材と、
    前記蛍光体層の前記第1の面と反対側の第2の面の上に形成され、前記蛍光体層から放射された光を平行光に変換する第2の光学部材とを備え、
    前記蛍光体層は、
    それぞれが前記蛍光体を含む複数の第1の領域と、
    前記複数の第1の領域を囲み、前記第1の領域よりも熱伝導率が高い第2の領域とを有し、
    前記第1の光学部材は、複数の前記第1の領域のそれぞれに光を集光する、光学素子。
  2. 前記第1の光学部材は、集光レンズを有する第1の透明基板である、請求項1に記載の光学素子。
  3. 前記第1の光学部材は、回折格子を有する第1の透明基板である、請求項1に記載の光学素子。
  4. 前記第2の光学部材は、前記第2の面の上に形成され、コリメートレンズを有する第2の透明基板である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学素子。
  5. 前記蛍光体層と前記第1の光学部材又は前記第2の光学部材との間に形成され、前記蛍光体層よりも熱伝導率が高い熱伝導層をさらに備えている、請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学素子。
  6. 前記熱伝導層は、酸化亜鉛、窒化アルミニウム又はダイヤモンドからなる、請求項5に記載の光学素子。
  7. 前記熱伝導層は、多層膜である、請求項5に記載の光学素子。
  8. 第1の波長の光により励起され、前記第1の波長とは異なる第2の波長の光を放射する蛍光体を含む蛍光体層と、
    前記蛍光体層の第1の面の上に形成され、複数のレンズを有し、前記蛍光体層に光を集光し且つ前記蛍光体層から放射された光を平行光に変換する光学部材と、
    前記蛍光体層の第2の面の上に形成された反射層とを備え、
    前記蛍光体層は、
    それぞれが前記蛍光体を含む複数の第1の領域と、
    前記複数の第1の領域を囲み、前記第1の領域よりも熱伝導率が高い第2の領域とを有し、
    前記複数のレンズは、複数の前記第1の領域のそれぞれに光を集光し、且つ前記第1の領域から放射された光を平行光に変換し、前記反射層は前記第1の領域から放射された光の一部を前記複数のレンズ側に反射する、光学素子。
  9. 第1の透明基板と、前記第1の透明基板の互いに反対側に設けられた回折格子及び反射鏡とを有する光学部材と
    それぞれが第1の波長の光により励起され、前記第1の波長とは異なる第2の波長の光を放射する蛍光体を含む複数の蛍光体層と、前記蛍光体層よりも熱伝導率が高い複数の熱伝導層と、第2の透明基板とを有し、前記第2の透明基板の一主面上に前記熱伝導層を挟んで前記蛍光体層が形成された蛍光体基板とを備え、
    前記光学部材は、前記第2の透明基板の前記一主面に対向する側に前記反射鏡が来るように、前記蛍光体基板から離れて配置され、
    前記回折格子は前記蛍光体層に前記第1の波長の光を集中し、
    前記反射鏡は前記蛍光体層に光を集光し且つ前記蛍光体層から放射された前記第2の波長の光を平行光に変換する、光学素子。
  10. 前記第2の領域は、酸化亜鉛、窒化アルミニウム又はダイヤモンドからなる、請求項1〜のいずれか1項に記載の光学素子。
  11. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の光学素子と、
    前記第1の波長の光を出射する発光素子と、
    前記発光素子から出射された光を互いに並行な光軸を有する複数の光路に分割して、前記光学素子に入射させる光分岐部とを備えている、半導体発光装置。
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