JP5537058B2 - 試料作製装置、及び試料作製装置における制御方法 - Google Patents
試料作製装置、及び試料作製装置における制御方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5537058B2 JP5537058B2 JP2009080851A JP2009080851A JP5537058B2 JP 5537058 B2 JP5537058 B2 JP 5537058B2 JP 2009080851 A JP2009080851 A JP 2009080851A JP 2009080851 A JP2009080851 A JP 2009080851A JP 5537058 B2 JP5537058 B2 JP 5537058B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- ion beam
- probe
- transfer means
- extracted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/28—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
- G01N1/286—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q involving mechanical work, e.g. chopping, disintegrating, compacting, homogenising
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
2 試料上マーク
3 試料摘出部
4 周囲加工穴
5,105 プローブ
6 底切り加工パターン
7 プローブ接着デポ膜
8 底切り加工穴
9 薄壁下側の加工溝
10 再付着膜
11 FIB
12 マーク付きプローブ
13 プローブ上マーク
14,15 プローブ先端点
16 プローブ先端段差
17 ガスノズル
18 試料キャリア
19 キャリア上マーク
20 摘出試料
21 キャリア固定用デポ膜加工パターン
22 キャリア固定用デポ膜
23 薄膜化部
24 回転プローブ
25 回転プローブ先端
26 基板分離加工パターン
27 マーク位置測定時のFIB走査範囲
100 荷電粒子線装置
101 イオンビームカラム
102 電子ビームカラム
103 真空試料室
104 試料ステージ
106 プローブ駆動部
108 検出器
109 ディスプレイ
110 計算処理部
111 試料
112 ノズル先端
115 デポガス源
121 イオンビーム制御手段
122 電子ビーム制御手段
123 検出器制御手段
124 ステージ制御手段
125 デポガス源制御手段
126 プローブ制御手段
Claims (21)
- 試料を載置できる試料ステージと、
イオンビームを照射できるイオンビーム光学系と、
前記イオンビームの照射により前記試料から分離された摘出試料を移送できる移送手段と、
前記イオンビーム光学系を制御できる演算装置と、
前記イオンビームを前記試料に照射して前記摘出試料を前記試料から分離する際に、前記試料において前記摘出試料となる領域に形成されているマークと、それ以外の領域に形成されているマークを測定し、当該マーク間の相対位置が、イオンビームの照射を停止する所定条件となった場合に前記イオンビームの照射を停止するように制御する制御手段と、
を備えていることを特徴とする試料作製装置。 - 試料を載置できる試料ステージと、
イオンビームを照射できるイオンビーム光学系と、
前記イオンビームの照射により前記試料から分離された摘出試料を移送できる移送手段と、
前記イオンビーム光学系を制御できる演算装置と、
前記イオンビームを前記試料に照射して前記摘出試料を前記試料から分離する際に、前記試料において前記摘出試料となる領域を保持する前記移送手段に形成されているマークと、前記試料において前記摘出試料となる領域以外の領域に形成されているマークを測定し、当該マーク間の相対位置が、イオンビームの照射を停止する所定条件となった場合に前記イオンビームの照射を停止するように制御する制御手段と、
を備えていることを特徴とする試料作製装置。 - 試料を載置できる試料ステージと、
イオンビームを照射できるイオンビーム光学系と、
前記イオンビームの照射により前記試料から分離された摘出試料を移送できる移送手段と、
前記イオンビーム光学系を制御できる演算装置と、
前記試料ステージを移動させて前記摘出試料に当該移送手段を接触させる際に、当該移送手段に形成されているマークと、前記試料において前記摘出試料となる領域以外の領域に形成されているマークを測定し、当該マーク間の相対位置が、前記試料ステージを停止する所定条件となった場合に前記試料ステージを停止するように制御する制御手段と、
を備えていることを特徴とする試料作製装置。 - 試料を載置できる試料ステージと、
イオンビームを照射できるイオンビーム光学系と、
前記イオンビームの照射により前記試料から分離された摘出試料を移送できる移送手段と、
前記摘出試料を保持できる試料ホルダと、
前記イオンビーム光学系を制御できる演算装置と、
前記移送手段に保持されている前記摘出試料を前記試料ホルダに移送する際に、前記摘出試料を移送する前記移送手段に形成されているマークと、前記試料ホルダに形成されているマークを測定し、当該マーク間の相対位置が、前記移送手段の移動を停止する所定条件となった場合に前記移送手段の移動を停止するように制御する制御手段と、
を備えていることを特徴とする試料作製装置。 - 請求項1に記載の試料作成装置であって、
電子ビームを照射できる電子ビームカラムを備え、
当該電子ビームにより前記摘出試料となる領域に形成されているマークと、前記それ以外の領域に形成されているマークの測定を行うことを特徴とすることを特徴とする試料作製装置。 - 請求項5に記載の試料作成装置であって、
前記移送手段に形成されているマークを測定する際の前記イオンビームの走査範囲は、前記試料を加工する際の前記イオンビームの走査範囲から広げたものであることを特徴とする試料作製装置。 - 請求項1〜4のいずれかに記載の試料作成装置であって、
前記イオンビームが、集束イオンビームであることを特徴とする試料作製装置。 - 請求項1〜4のいずれかに記載の試料作成装置であって、
前記イオンビームが、投射型イオンビームであることを特徴とする試料作製装置。 - 請求項1〜4のいずれかに記載の試料作成装置であって、
前記移送手段が、プローブを含むことを特徴とする試料作製装置。 - 請求項9記載の試料作成装置であって、
前記プローブにおける前記摘出試料と接触予定領域との間に段差が設けられていることを特徴とする試料作製装置。 - 請求項9記載の試料作成装置において、
前記プローブが、プローブ軸方向に並んだ2個以上の段差を先端に有することを特徴とする試料作製装置。 - 請求項9記載の試料作製装置において、
前記プローブが、プローブ軸の略垂直方向に並んだ少なくとも2個以上の段差を先端に有することを特徴とする試料作製装置。 - 請求項1〜4のいずれかに記載の試料作成装置であって、
前記移送手段が、マイクロマニピュレーターを含むことを特徴とする試料作製装置。 - 請求項1〜4のいずれかに記載の試料作成装置であって、
前記摘出試料と前記移送手段の間に圧力が生じるように、前記試料ステージ、及び/又は前記移送手段を微小駆動させることを特徴とする試料作製装置。 - 請求項1〜4のいずれかに記載の試料作成装置であって、
前記摘出試料と前記移送手段の間に圧力が生じるように、前記試料ステージと前記移送手段の相対平行移動、及び/又は相対傾斜移動を行うことを特徴とする試料作製装置。 - 請求項9〜12記載の試料作成装置であって、
前記摘出試料と前記プローブの間に圧力が生じるように、前記プローブをプローブ軸回りに回転させることを特徴とする試料作製装置。 - 請求項1〜4記載の試料作成装置であって、
前記試料にイオンビームを照射することにより、前記試料において前記摘出試料となる領域に形成されているマーク、及び/又は前記試料において前記摘出試料となる領域以外の領域に形成されているマーク、を作成することを特徴とする試料作製装置。 - 試料を載置できる試料ステージと、イオンビームを照射できるイオンビーム光学系と、前記イオンビームの照射により前記試料から分離された摘出試料を移送できる移送手段と、前記イオンビーム光学系を制御できる演算装置と、を備えた試料作製装置における制御方法であって、
前記イオンビームを前記試料に照射して前記摘出試料を前記試料から分離する際に、前記試料において前記摘出試料となる領域に形成されているマークと、それ以外の領域に形成されているマークを測定し、当該マーク間の相対位置が、イオンビームの照射を停止する所定条件となった場合に前記イオンビームの照射を停止することを特徴とする試料作製装置における制御方法。 - 試料を載置できる試料ステージと、イオンビームを照射できるイオンビーム光学系と、前記イオンビームの照射により前記試料から分離された摘出試料を移送できる移送手段と、前記イオンビーム光学系を制御できる演算装置と、を備えた試料作製装置における制御方法であって、
前記イオンビームを前記試料に照射して前記摘出試料を前記試料から分離する際に、前記試料において前記摘出試料となる領域を保持する移送手段に形成されているマークと、前記試料において前記摘出試料となる領域以外の領域に形成されているマークを測定し、当該マーク間の相対位置が、イオンビームの照射を停止する所定条件となった場合に前記イオンビームの照射を停止することを特徴とする試料作製装置における制御方法。 - 試料を載置できる試料ステージと、イオンビームを照射できるイオンビーム光学系と、前記イオンビームの照射により前記試料から分離された摘出試料を移送できる移送手段と、前記イオンビーム光学系を制御できる演算装置と、を備えた試料作製装置における制御方法であって、
前記試料ステージを移動させて前記摘出試料に当該移送手段を接触させる際に、当該移送手段に形成されているマークと、前記試料において前記摘出試料となる領域以外の領域に形成されているマークを測定し、当該マーク間の相対位置が、前記試料ステージを停止する所定条件となった場合に前記試料ステージを停止することを特徴とする試料作製装置における制御方法。 - 試料を載置できる試料ステージと、イオンビームを照射できるイオンビーム光学系と、前記イオンビームの照射により前記試料から分離された摘出試料を移送できる移送手段と、前記摘出試料を保持できる試料ホルダと、前記イオンビーム光学系を制御できる演算装置と、を備えた試料作製装置における制御方法であって、
前記移送手段に保持されている前記摘出試料を前記試料ホルダに移送する際に、前記摘出試料を移送する前記移送手段に形成されているマークと、前記試料ホルダに形成されているマークを測定し、当該マーク間の相対位置が、前記移送手段の移動を停止する所定条件となった場合に前記移送手段の移動を停止することを特徴とする試料作製装置における制御方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009080851A JP5537058B2 (ja) | 2009-03-30 | 2009-03-30 | 試料作製装置、及び試料作製装置における制御方法 |
PCT/JP2009/005580 WO2010116428A1 (ja) | 2009-03-30 | 2009-10-23 | 試料作製装置、及び試料作製装置における制御方法 |
US13/203,807 US8710464B2 (en) | 2009-03-30 | 2009-10-23 | Specimen preparation device, and control method in specimen preparation device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009080851A JP5537058B2 (ja) | 2009-03-30 | 2009-03-30 | 試料作製装置、及び試料作製装置における制御方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010230612A JP2010230612A (ja) | 2010-10-14 |
JP2010230612A5 JP2010230612A5 (ja) | 2011-04-28 |
JP5537058B2 true JP5537058B2 (ja) | 2014-07-02 |
Family
ID=42935741
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009080851A Expired - Fee Related JP5537058B2 (ja) | 2009-03-30 | 2009-03-30 | 試料作製装置、及び試料作製装置における制御方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8710464B2 (ja) |
JP (1) | JP5537058B2 (ja) |
WO (1) | WO2010116428A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8759765B2 (en) * | 2011-08-08 | 2014-06-24 | Omniprobe, Inc. | Method for processing samples held by a nanomanipulator |
TWI664658B (zh) | 2014-06-30 | 2019-07-01 | 日商日立高新技術科學股份有限公司 | 自動試料製作裝置 |
JP6552383B2 (ja) * | 2014-11-07 | 2019-07-31 | エフ・イ−・アイ・カンパニー | 自動化されたtem試料調製 |
CN105203364B (zh) * | 2015-10-27 | 2017-12-29 | 山东省科学院海洋仪器仪表研究所 | 海水中有机污染物富集装置及富集方法 |
JP6885576B2 (ja) * | 2017-01-19 | 2021-06-16 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 荷電粒子ビーム装置 |
JP6931214B2 (ja) * | 2017-01-19 | 2021-09-01 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 荷電粒子ビーム装置 |
JP7109051B2 (ja) * | 2018-03-30 | 2022-07-29 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 荷電粒子ビーム装置 |
JP7308710B2 (ja) * | 2019-09-25 | 2023-07-14 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 集束イオンビーム装置 |
CN111812124B (zh) * | 2020-06-24 | 2023-06-13 | 上海华力集成电路制造有限公司 | 一种失效分析去层方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2774884B2 (ja) | 1991-08-22 | 1998-07-09 | 株式会社日立製作所 | 試料の分離方法及びこの分離方法で得た分離試料の分析方法 |
JPH09306402A (ja) * | 1996-05-14 | 1997-11-28 | Hitachi Ltd | イオンビーム制限絞り板、マスク、集束イオンビーム装置及び投射型イオンビーム装置 |
US6828566B2 (en) * | 1997-07-22 | 2004-12-07 | Hitachi Ltd | Method and apparatus for specimen fabrication |
US6538254B1 (en) | 1997-07-22 | 2003-03-25 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for sample fabrication |
JP3695181B2 (ja) | 1998-11-20 | 2005-09-14 | 株式会社日立製作所 | 基板抽出方法及びそれを用いた電子部品製造方法 |
JP3843637B2 (ja) * | 1999-02-23 | 2006-11-08 | 株式会社日立製作所 | 試料作製方法および試料作製システム |
JP3851464B2 (ja) | 1999-03-04 | 2006-11-29 | 株式会社日立製作所 | マニピュレータおよびそれを用いたプローブ装置、試料作製装置 |
JP4408538B2 (ja) | 2000-07-24 | 2010-02-03 | 株式会社日立製作所 | プローブ装置 |
EP1209737B2 (en) * | 2000-11-06 | 2014-04-30 | Hitachi, Ltd. | Method for specimen fabrication |
JP2002150983A (ja) * | 2000-11-09 | 2002-05-24 | Jeol Ltd | マニピュレータ |
JP4135143B2 (ja) * | 2003-04-22 | 2008-08-20 | 株式会社島津製作所 | 基板検査装置 |
JP2005345347A (ja) * | 2004-06-04 | 2005-12-15 | Hitachi High-Technologies Corp | 微小試料作製装置、微小試料設置具及び微小試料加工方法 |
TWI255339B (en) * | 2004-12-23 | 2006-05-21 | Powerchip Semiconductor Corp | Method of applying micro-protection in defect analysis |
US7312448B2 (en) * | 2005-04-06 | 2007-12-25 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Method and apparatus for quantitative three-dimensional reconstruction in scanning electron microscopy |
JP2007018935A (ja) * | 2005-07-08 | 2007-01-25 | Hitachi High-Technologies Corp | プローブ付き顕微鏡及びプローブ接触方法 |
JP4520926B2 (ja) * | 2005-10-14 | 2010-08-11 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料解析方法 |
JP2007194096A (ja) * | 2006-01-20 | 2007-08-02 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子ビーム装置、及び荷電粒子ビーム装置を用いた試料のピックアップ方法 |
US7423263B2 (en) * | 2006-06-23 | 2008-09-09 | Fei Company | Planar view sample preparation |
US8134124B2 (en) * | 2006-10-20 | 2012-03-13 | Fei Company | Method for creating S/tem sample and sample structure |
JP4784888B2 (ja) | 2006-11-09 | 2011-10-05 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | Fibによるアトムプローブ分析用試料の作製方法とそれを実施する装置 |
-
2009
- 2009-03-30 JP JP2009080851A patent/JP5537058B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-23 US US13/203,807 patent/US8710464B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-23 WO PCT/JP2009/005580 patent/WO2010116428A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8710464B2 (en) | 2014-04-29 |
JP2010230612A (ja) | 2010-10-14 |
WO2010116428A1 (ja) | 2010-10-14 |
US20110309245A1 (en) | 2011-12-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5537058B2 (ja) | 試料作製装置、及び試料作製装置における制御方法 | |
US10340119B2 (en) | Automated TEM sample preparation | |
JP6586261B2 (ja) | 大容量temグリッド及び試料取り付け方法 | |
CN109817502B (zh) | 带电粒子束装置 | |
EP1202320B1 (en) | Method and apparatus for charged particle beam microscopy | |
TWI758356B (zh) | 帶電粒子束裝置 | |
KR102522414B1 (ko) | 하전 입자 빔 장치 | |
KR101550921B1 (ko) | 단면 가공 방법 및 장치 | |
CN110335800B (zh) | 带电粒子束装置 | |
JP6700897B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
TW201643927A (zh) | 針對自動s/tem擷取及計量學而使用已知形狀的層狀物之型樣匹配 | |
JP6542608B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
KR102358551B1 (ko) | 자동 시료편 제작 장치 | |
US9111721B2 (en) | Ion beam device and machining method | |
US10539489B2 (en) | Methods for acquiring planar view STEM images of device structures | |
JP6105530B2 (ja) | 自動試料片作製装置 | |
JP6885637B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JP2016050854A (ja) | 自動試料片作製装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110307 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110307 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110307 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130709 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130909 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140401 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140425 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5537058 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |