JP5504634B2 - ライフタイムの評価方法 - Google Patents
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実際にイオン注入等により拡散層が形成されたシリコン単結晶ウエーハのライフタイムを測定すると、本来のライフタイム値の10分の1程度の値を示す場合が多かった。
それでも、しばしば金属汚染起因と推定される素子特性の劣化が起こり、撮像素子の安定した製造を難しくしてきた。そして、モニターの汚染と製品ウエーハそのものの汚染が同じとの仮定が崩れる場合がしばしばあることが判っている。
そしてSEMI(Semiconductor Equipment and Materials International)で標準化されているのもこの2つの方法だけである。
これによって、従来測定できなかった拡散層が形成されたシリコン単結晶ウエーハのライフタイムを精度良く評価することができる。そしてこのような評価方法を、イオン注入拡散層が形成されたシリコン単結晶ウエーハを製造する際のイオン注入後の金属不純物汚染の有無の評価に用いることによって、金属不純物濃度の低いイオン注入拡散層を有するシリコン単結晶ウエーハを低コストで歩留りよく製造することに効果的なものとなる。
このように、ボロン、リン、砒素、アンチモン、炭素のうち少なくとも1種類の元素がイオン注入されたシリコン単結晶ウエーハは、基板からのキャリア拡散防止やゲッタリングに有効ではあるが、拡散層を形成する過程で、金属汚染が起こりやすくなるという問題があったが、従来は拡散層が形成されたウエーハそのもののライフタイムの評価を行うことが難しかった。また熱処理炉の清浄度を定期的にモニターウエーハ(鏡面ウエーハ)のライフタイムで管理するのが一般的であった。しかし本発明のライフタイムの評価方法によれば、このようなイオン注入拡散層が形成されたシリコン単結晶ウエーハも評価することができる。
このように、1×1014〜1×1016atoms/cm2のドーズ量でイオン注入し、表層に十分抵抗率の低い拡散層を形成することにより、この拡散層がμPCD法によるライフタイム測定においてパッシベーション膜の役割を果たすようになる。また、高濃度にドーパント不純物が拡散された層は金属不純物に対するゲッタリング能力が高いものが多い。本発明のライフタイムの評価方法であれば、このようなイオン注入拡散層によるゲッタリング効果も含めた総合的な金属汚染状況を把握できる。このため、金属汚染に敏感なデバイス用の基板を製造する際に、本発明の評価方法は好適なものである。
このように、本発明のライフタイムの評価方法は、表面から少なくとも5μm以下の深さに拡散層が形成されたシート抵抗が10Ω/□以上のシリコン単結晶ウエーハに対して有効である。パッシベーション効果は、薄い表層領域に低抵抗の領域が形成された場合に大きくなり、シート抵抗が10Ω/□以上であれば、バルクの抵抗率変化を測定できるので、結果として高濃度なライフタイム評価を実施することができる。例えば撮像デバイス用のエピタキシャル層直下の低抵抗拡散層も薄く抵抗率が低いことが必要な場合が多いため、本発明の評価方法は好適なものである。
この場合も、ケミカルパッシベーションなどでパッシベーション処理を行った後、拡散層及びエピタキシャル層が形成された表面とは反対側の表面から励起光及び高周波の照射を行い、ライフタイムを測定することで、エピタキシャルウエーハのバルクのライフタイム値を測定することができる。
このような本発明の評価方法であれば、拡散工程からエピタキシャル工程を通じて起こる金属不純物汚染を製品ウエーハのライフタイムによって総合的に評価することができるので、装置の汚染管理による汚染管理方法に比べて、高精度の管理が可能となる。
エピタキシャル工程を開始する際、抵抗率の制御が正しく行われているか確認する為の時間とさほど変わらない時間でライフタイムの測定が可能となるので、金属汚染評価の結果待ちで製造を長時間止める必要がなくなる為、量産工程に適用が十分行えるものである。
そしてこのような簡易・高精度な評価を行うことができる本発明の評価方法で、製品ウエーハ自体のライフタイムの測定が可能となり、汚染の原因、起源の把握や精度の高い汚染評価を行うことができ、低コストで高品質なシリコン単結晶ウエーハを安定して製造することが可能となる。
前述のように、従来、無理と考えられてきたイオン注入層や拡散層が形成されたシリコン単結晶ウエーハのライフタイムを、精度よく且つ簡易に測定するための評価方法の開発が待たれていた。
製品を抜き取って汚染評価が出来れば、上述の製品ウエーハのハンドリング・洗浄・検査工程も含めた管理、モニターが可能になる。この結果と、装置管理モニターの結果を比較することで多くの工程中の汚染に関する知見が得られることになる。
この時定数は一般にライフタイムと呼ばれ、シリコン中に固溶する鉄などの重金属不純物の濃度に大きく依存する。ウエーハライフタイムの測定において問題になるのは、表面再結合である。なぜなら実質的に得られる減衰曲線から求まるτobsは、バルクライフタイム(再結合ライフタイム)τbulk、表面ライフタイムτsurfを用いて、
1/τobs = 1/τbulk + 1/τsurf
と表されるからである。
そしてバルクライフタイムτbulkからウエーハ中の不純物濃度を評価する。バルクライフタイムτbulkは、シリコンのような間接遷移型の半導体では、金属不純物が作る不純物準位(ディープレベル)の密度によってその大きさが主に決まる。
このようなことから、通常の方法でライフタイムを測定すると拡散ウエーハでは1〜2桁小さなライフタイム値が得られることが大半であった。
そしてこれによって、イオン注入層や拡散層の影響をほぼ避けることができ、よってウエーハライフタイムを評価できることを知見し、本発明を完成させた。
μPCD法によるウエーハライフタイム測定は、試料(ウエーハ)に対して光を当てて、発生する少数キャリアの寿命をマイクロ波の反射率の変化で検出することで、試料中の金属不純物を評価するものである。
ウエーハライフタイム測定装置10は、例えば、少なくとも、高周波(以下μ波もしくはマイクロ波とも記載(波長1.0〜10.0GHz))を導波管を用いて測定対象のシリコン単結晶ウエーハに照射するためのμ波発振器13と、10〜100Wのレーザーダイオードを用いてパルス光をウエーハに照射し、ウエーハのキャリア濃度を約2桁増加させるための励起光照射装置12と、シリコン単結晶ウエーハ16への入射高周波とそれからの反射波をアイソレートするためのサーキュレータ15と、シリコン単結晶ウエーハ16を移動させて数ミリピッチでウエーハ内の特定領域の光導電減衰(photo conductivity decay)曲線を測定し、少数キャリアライフタイムを演算処理により求めるための検出器14を有する。
この時準備するシリコン単結晶ウエーハは、一般的に用いられているもので良く、例えばCZ法で育成したシリコン単結晶棒からスライスして作製したものを用いればよい。またその導電型や結晶方位や結晶径等は、対象となる半導体装置に適したものとなるように適宜選択することができる。但し、抵抗率は1Ω・cm以上、より望ましくは5Ω・cm以上のものであることが望ましい。
そして、イオン注入後に、拡散熱処理を行って、イオン注入層をイオン注入拡散層(拡散層)11aとし、拡散シリコン単結晶ウエーハ(拡散済シリコン単結晶ウエーハ)11を得る。
上述のように本発明のライフタイムの評価方法であれば、このようなウエーハのライフタイムも評価することができるため、ゲッタリング能力を含めた総合的な金属汚染状態を短時間で且つ安価に評価することができる。
バイポーラIC、バイCMOSIC用の島状の領域に埋め込み拡散層が形成される、いわゆるパターン付き埋め込み拡散ウエーハに対しても、片面拡散であれば、本発明のライフタイムの評価方法を適用することができることはもちろんである。埋め込み層がn型低抵抗だけでなく、そこにp型の低抵抗層が形成された基板に対しても本発明のライフタイムの評価方法を適用することができる。
このように、拡散層が形成された側の表面上にエピタキシャル層が形成されても、エピタキシャルウエーハをパッシベーション処理すれば、拡散層との境界でキャリアが表面再結合することは殆どないため、評価を行うことができる。
このような拡散層が形成された側の表面にエピタキシャル層が形成されたシリコン単結晶ウエーハは、撮像素子等の半導体装置の製造の基板としてよく用いられる。また、バイポーラIC、バイCMOSICでは、パターンは拡散層上のエピタキシャル層に形成される。このようなシリコン単結晶ウエーハを製造する際にも金属不純物濃度を評価することは非常に重要であり、本発明の評価方法はこのような場合にも好適であり、それによって低不純物濃度のエピタキシャルウエーハを得ることができる。
ケミカルパッシベーションであれば、パッシベーション膜を短時間に容易に形成することができ、より迅速にウエーハのライフタイムを評価することができる。また、熱酸化であれば、界面準位が低い酸化膜を表面に形成することができる。このため、表面再結合を抑制することができ、高い感度で正確にウエーハライフタイムを評価することができる。
この時のライフタイム測定方法としては、μPCD法等が挙げられる。
そしてこの際、図1(a)に示したように、イオン注入拡散層11aが形成された表面とは反対側の表面に対して励起光を照射し、また高周波の入射及びその反射波の検出を行う。
また、ウエーハライフタイムは、短時間に測定可能である為、ウエーハのライフタイム分布を高精度に測定ができるので、そのパターンから、汚染の原因が搬送ロボットのチャックであるとか、キャリアの接触部であるといったことが比較的容易に推察できる点が汚染管理に有効である。
(実施例・比較例)
まず、シリコン単結晶ウエーハとして、約10Ωcmの直径200mm(厚さ725μm)p型鏡面ウエーハを準備した。
その後、ボロンをドーズ量1×1015atoms/cm2、90keVの加速エネルギーの条件でイオン注入し、そして洗浄を行った。
そして、1000℃、10分、窒素雰囲気中のアニールによって結晶性の回復を図り、またその後、酸素ガス雰囲気に切り換えて約300Å(30nm)の酸化膜を形成した。
またこれら図2(a)(b)の測定条件は、モニターウエーハを測定する際に用いられている標準的な条件で行った。
図2(a)、(b)に示すように、同じ拡散シリコン単結晶ウエーハに対して励起光の照射と高周波の入反射以外は同一の条件で行ったにも係わらず、ライフタイムの絶対値が大きく異なっている。
それに対して、図3(b)に示すように、本発明の評価方法の場合、減衰初期の表面の影響(表面再結合)により生ずる急峻な減少は見られなくなり、イオン注入拡散層が形成されていないシリコン単結晶ウエーハでのライフタイム測定のPCD波形と同様な減衰が得られるようになった。
この場合は、励起光を照射する表面にパッシベーション膜としての酸化膜が形成されていないので、表面再結合の寄与が大きくなり、ライフタイムの絶対値は小さくなる。このように、この程度の低いライフタイム値しか得られない場合は、一般的には、局所汚染はS/Nの悪化により確認できなくなる。そして従来の評価方法と同様に、ライフタイムから不純物濃度を評価することはできなかった。
この時のライフタイムは平均769μsec(最大1027μsec・最小188μsec)であった。
以上から、イオン注入拡散層が形成されたシリコン単結晶ウエーハに対して、本発明の評価方法によるライフタイム測定を行うことで、ウエーハに対する汚染を評価することが可能であることが確認できた。
11…拡散シリコン単結晶ウエーハ、 11a…拡散層、 11b…パッシベーション膜、
12…励起光照射装置、
13…μ波発振器、
14…検出器、
15…サーキュレータ、
16…シリコン単結晶ウエーハ。
Claims (5)
- 片面にドーパント不純物が拡散されたシリコン単結晶ウエーハのライフタイムを評価する方法であって、
前記ライフタイムを評価する際に、前記拡散シリコン単結晶ウエーハの全表面に対してパッシベーションを行い、その後、前記拡散面とは反対側の表面に対して励起光の照射と、高周波の入射及びその反射波の検出を行うことでライフタイムの評価をすることを特徴とするライフタイムの評価方法。 - 前記拡散シリコン単結晶ウエーハは、ボロン、リン、砒素、アンチモン、炭素のうち少なくとも1種類の元素がイオン注入されたものとすることを特徴とする請求項1に記載のライフタイムの評価方法。
- 前記イオン注入は、ドーズ量が1×1014〜1×1016atoms/cm2の範囲とすることを特徴とする請求項2に記載のライフタイムの評価方法。
- 前記拡散シリコン単結晶ウエーハは、イオン注入後拡散熱処理によって結晶性の回復がなされたもので、且つ表面から少なくとも5μm以下の深さに拡散層が形成されたものとすることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載のライフタイムの評価方法。
- イオン注入された片面拡散ウエーハの拡散面側にエピタキシャル層が形成されたエピタキシャルウエーハのライフタイムを評価する方法であって、
前記ライフタイムを評価する際に、前記エピタキシャルウエーハの全表面に対してパッシベーションを行い、その後、前記拡散面とは反対側の表面に対して励起光の照射と、高周波の入射及びその反射波の検出を行うことでライフタイムの評価をすることを特徴とするエピタキシャルウエーハのライフタイムの評価方法。
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