JP5504098B2 - 位置ずれ量検出方法および該位置ずれ量検出方法を用いた外観検査方法 - Google Patents
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Description
また、本発明の外観検査方法は、上記した位置ずれ量検出方法を用いて、位置ずれ量取得工程により取得された位置ずれ量に基づき、被検査基板の位置合わせを行い、被検査基板の外観検査を行う検査工程と、を備えることを特徴とする。
次に閾値の設定について説明する。特徴画像の位置を検出するための誤差を[−0.5,+0.5]の一様乱数と仮定すると、その標準偏差は約0.28555となる。したがって、特徴画像の位置がすべて正常に検出できているならば、推定される推定基準点位置のばらつきについても、標準偏差の1.75(0.50000÷0.28555)倍以内に収まっていると期待できる。そして、実験的に閾値としては推定基準点位置と仮基準点位置との距離の標準偏差に1.40ないし1.50倍の係数を掛けた値を用いることが適切であるという結果を得ることができた。さらに最適な値として、推定基準点位置と仮基準点位置との距離の標準偏差を√2(ルート2)倍した閾値を用いることが適切である。
このように閾値を設定し、不正な特徴画像位置を削除することで、以降の繰り返し処理では不正な特徴画像位置を用いないようにする。これにより、特徴画像位置として取得された位置が誤検出等であった場合の位置ずれ量の精度低下を防ぐことができる。
なお、閾値において係数を適宜設定することで、不正な特徴画像位置を削除する精度を調整することが可能である。例えば、係数を大きくすることで特徴画像位置を不正か否かを判定する基準を緩和することができる。
<変形例>
2 基板保持部
3 撮像部
4 コンピュータ
5 参照基板
6 被検査基板
21 ステージ
22 ステージ駆動部
41 演算部
42 記憶部
44 表示部
45 入力部
49 参照画像
51 対象画像
401 位置ずれ量取得部
402 参照テーブル生成部
403 検査部
412 特徴画像位置取得部
413 推定基準位置設定部
414 距離指標値算出部
415 仮基準点位置設定部
421 基準画像データ
422 基準画像位置座標
423 基準点位置座標
424 参照テーブル
425 位置ずれ量
490 基準点位置
491a、491b、491c、491d 基準画像
492a、492b、492c、492d 基準画像位置
510 仮基準点位置
511a、511b,511c、511d 特徴画像
512a、512b、512c、512d 特徴画像位置
513a、513b、513c、513d 推定基準点位置
514 不正特徴画像位置判定部
W 基板
θ 回転角
κ 伸縮倍率
Claims (4)
- ステージに載置された参照基板を撮像し取得した複数の基準画像に対応する前記ステージ上での位置を示す基準画像位置と、前記ステージの回転中心である基準点位置とのそれぞれの相対位置情報を参照テーブルとして生成する準備工程と、
被検査基板を撮像し取得した前記基準画像に画像情報が近似する特徴画像の前記ステージ上での位置をあらわす特徴画像位置を取得する特徴画像位置取得工程と、
前記参照テーブルを参照して、各前記特徴画像位置からみた前記基準点位置に相当するそれぞれの前記ステージ上での位置を推定基準点位置として設定する推定基準点位置設定工程と、
前記推定基準点位置設定工程で取得したそれぞれの前記推定基準点位置の平均位置を仮基準点位置として設定する仮基準位置設定工程と、
前記基準点位置を中心とする回転角を所定の分解能で変位させつつ、前記回転角ごとに前記推定基準点位置と前記仮基準点位置との距離の標準偏差または距離の分散をそれぞれ算出する距離指標値算出工程と、
前記距離指標値算出工程で算出される距離の標準偏差または距離の分散が最小となるときの回転角および仮基準点位置と前記基準点位置との位置差分値を位置ずれ量として取得する位置ずれ量取得工程と、を備えることを特徴とする位置ずれ量検出方法。 - 前記特徴画像位置取得工程により取得された前記特徴画像位置が、前記基準画像の画像情報が近似する特徴画像の位置として取得されたか否かを判定する不正特徴画像位置判定工程とをさらに備え、
前記不正特徴画像位置判定工程は、前記推定基準点位置と前記仮基準点位置との距離の値が、前記距離の標準偏差に基づき設定される閾値よりも大きい場合、前記推定基準点位置に対応する特徴画像位置を不正と判定し、不正な特徴画像位置を削除することを特徴とする請求項1に記載の位置ずれ量検出方法。 - 前記特徴画像位置取得工程の前に、前記被検査基板に対してプリアライメントを行うプリアライメント工程をさらに備えることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の位置ずれ量検出方法。
- 請求項1ないし請求項3のいずれか一項に記載の位置ずれ量検出方法を用い、
前記位置ずれ量取得工程により取得された前記位置ずれ量に基づき、前記被検査基板の位置合わせを行い、前記被検査基板の外観検査を行う検査工程と、
を備えることを特徴とする外観検査方法。
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Families Citing this family (9)
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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