JP5485415B2 - オレフィンの(共)三量体化用触媒系、その調製方法ならびにその触媒系を用いるオレフィンの(共)三量体化用およびオレフィンオリゴマーの(共)重合用プロセス - Google Patents
オレフィンの(共)三量体化用触媒系、その調製方法ならびにその触媒系を用いるオレフィンの(共)三量体化用およびオレフィンオリゴマーの(共)重合用プロセス Download PDFInfo
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Description
本発明を後記の一連の実施例を用いて説明し、ここに、以下の略語が用いられる:
TEA − トリエチルアルミニウム
DEAC − 塩化ジエチルアルミニウム
Сr(ЕН)3 − 2−エチルヘキサン酸クロム(III)
2,5−DMP − 2,5−ジメチルピロール
1−C6 − ヘキセン−1
С6 − 異性体ヘキセンの混合物
С8 − 異性体オクテンの混合物
С10 − 異性体デセンの混合物
С12+ − ドデセンから始まる不飽和重炭化水素の混合物
NC − 標準状態(273K、101325Pa)に基づいて計算されたこと
Comp. − 比較の
比較例1
18.5mgのСr(ЕН)3および11.0mgのDMPをフラスコに入れた。7mlのトルエンを添加した。ヘプタン中の144mg/ml ТEА溶液の1.5mlを乾燥箱に入れ、次いでフラスコに添加した。溶液の色は5分で灰色がかった茶色になった。15分後、溶媒を室温にて真空下蒸発させた。残渣をヘプタン(4ml)で希釈した。得られた溶液は、エチレン三量体化反応における触媒系試験に用いた。
活性、g/(gСr・hr):14,700
合計ヘキセン−1選択性:60.7%
反応混合物組成物の残りの分析結果を表1に示す。
18.5mgのСr(ЕН)3および11.0mgのDMPをフラスコに入れた。7mlのトルエンを添加した。トルエン(1ml)をヘプタン中の144mg/ml ТEА溶液の1.5mlに添加した。得られた溶液は、400Wの定格出力で2.5分間UHF照射に曝露した。その後、Сr(ЕН)3およびDMPを含むТEАの溶液を照射終了後40秒間にフラスコに添加した。溶液の色は5分で黄色がかった茶色になった。溶媒を15分で室温にて真空下蒸発させた。残渣をヘプタン(4ml)で希釈した。得られた溶液はエチレン三量体化反応における触媒系の試験に用いた。
活性、g/(gСr・hr):26,600
合計ヘキセン−1選択性:62.9%
反応混合物組成物の残りの分析結果を表1に示す。
56.0mgのСr(ЕН)3および33.0mgのDPMをフラスコに入れた。5mlのトルエンを加えた。次いで、ヘプタン中の144mg/ml ТEА溶液の1.2mlを添加した。溶媒を15分で室温にて真空下蒸発させた。その後、フラスコ中の残渣をヘプタン(4ml)で希釈した。得られた溶液は、エチレン三量体化反応における触媒系の試験に用いた。
活性、g/(gСr・hr):3,600
合計ヘキセン−1選択性:66.3%
反応混合物組成物の残りの分析結果を表1に示す。
56.0mgのСr(ЕН)3および33.0mgのDMPをフラスコに入れた。5mlのトルエンを添加した。ヘプタン中の144mg/ml TEA溶液の1.2mlを1mlのトルエンと混合した。得られた溶液は、400Wの定格出力で3分間UHF照射に曝露した。その後、有機アルミニウム化合物の溶液を照射終了後40秒間にСr(ЕН)3およびDMPを含むフラスコに添加した。混合後、混合物を閉じたフラスコ中で10分間同一条件下のUHF照射に曝露した。ТEАの溶媒を添加後15分で室温にて真空下蒸発させた。その後、フラスコ中の残渣をヘプタン(4ml)で希釈した。得られた溶液は、エチレン三量体化反応における触媒系試験に用いた。
活性、g/(gСr・hr):6,500
合計ヘキセン−1選択性:56.5%
反応混合物組成物の残りの分析結果を表1に示す。
実施例1および2は、触媒系の活性が、クロム源との混合前のアルキルアルミニウムのUHF照射の場合に、UHF照射を用いない同様の例と比較して増加することを示す。
38.0mgのСr(ЕН)3および22.0mgのDMPをフラスコに入れた。7mlのトルエンを添加した。ヘプタン中の144mg/ml ТEА溶液の0.8mlをトルエン中のТEА(32mg/ml)およびDEAC(25mg/ml)を含む1.1mlの溶液と混合し、得られた溶液をトルエン中のСr(ЕН)3およびDMPに添加した。溶媒を20分で室温にて真空下蒸発させた。その後、フラスコ中の残渣をヘプタン(4ml)で希釈した。得られた溶液は、エチレン三量体化反応における触媒系試験に用いた。
活性、g/(gСr・hr):12,400
合計ヘキセン−1選択性:72.9%
反応混合物組成物の残りの分析結果を表1に示す。
38mgのСr(ЕН)3および22.0mgのDMPをフラスコに入れた。7mlのトルエンを添加した。ヘプタン中の144mg/ml TEA溶液の0.8mlをトルエン中のТEА(32mg/ml)およびDEAC(25mg/ml)の1.1mlの溶液と混合した。得られた溶液は、400Wの定格出力で3分間UHF照射に曝露した。その後、有機アルミニウム化合物の溶液を照射終了後40秒間にСr(ЕН)3およびDMPを含むフラスコに添加した。溶媒を20分で室温にて真空下蒸発させた。次いで、フラスコ中の残渣をヘプタン(4ml)で希釈した。得られた溶液は、エチレン三量体化反応における触媒系試験に用いた。
活性、g/(gСr・hr):28,700
合計ヘキセン−1選択性:85.0%
反応混合物組成物の残りの分析結果を表1に示す。
実施例3および比較例3は、触媒系の活性および目的生成物選択性の双方が、アルキルアルミニウムおよびハロゲン化物源のUHF照射の場合に、UHF照射のない同様の例と比較して増加することを示す。
38.0mgのСr(ЕН)3および22.0mgのDMPをフラスコに入れた。5mlのトルエンを添加した。ヘプタン中の154mg/ml ТEА溶液の0.9mlおよびヘプタン中の37mg/ml DEAC溶液の0.6mlを0.5mlのトルエンと混合した。得られた溶液をСr(ЕН)3およびDMPを含むフラスコに添加した。溶媒を15分で室温にて真空下蒸発させた。次いで、フラスコ中の残渣をヘプタン(4ml)で希釈した。得られた溶液は、エチレン三量体化反応における触媒系試験に用いた。
活性、g/(gСr・hr):4,500
合計ヘキセン−1選択性:85.7%
反応混合物組成物の残りの分析結果を表1に示す。
38.0mgのСr(ЕН)3および22.0mgのDMPをフラスコに入れた。5mlのトルエンを添加した。ヘプタン中の154mg/ml ТEА溶液の0.9mlおよびヘプタン中の37mg/ml DEAC溶液の0.6mlを0.5mlのトルエンと混合した。得られた溶液は、400Wの定格出力で1分間UHF照射に曝露した。その後、トルエン中のСr(ЕН)3およびDMPに対する有機アルミニウム化合物の溶液は、照射終了後40秒間に添加した。溶媒を15分で室温にて真空下蒸発させた。次いで、フラスコ中の残渣をヘプタン(4ml)で希釈した。得られた溶液は、エチレン三量体化反応における触媒系試験に用いた。
活性、g/(gСr・hr):9,300
合計ヘキセン−1選択性:70.6%
反応混合物組成物の残りの分析結果を表1に示す。
38.0mgのСr(ЕН)3および22.0mgのDMPをフラスコに入れた。5mlのトルエンを添加した。ヘプタン中の154mg/ml ТEА溶液の0.9mlおよびヘプタン中の37mg/ml DEAC溶液の0.6mlを0.5mlのトルエンと混合した。得られた溶液は、400Wの定格出力で6分間UHF照射に曝露した。その後、有機アルミニウム化合物の溶液を照射終了後40秒間にトルエン中のCr(EH)3およびDMPに添加した。溶媒を15分で室温にて真空下蒸発させた。次いで、フラスコ中の残渣をヘプタン(4ml)で希釈した。得られた溶液は、エチレン三量体化反応における触媒系試験に用いた。
活性、g/(gСr・hr):18,700
合計ヘキセン−1選択性:73.6%
反応混合物組成物の残りの分析結果を表1に示す。
実施例4および5は、触媒系の活性が、照射(比較例4)がない試験と比較して、アルキルアルミニウムおよびハロゲン化物源のUHF照射により増加することを示す。それによって、実施例5におけるより長い照射時間の結果、活性がより大きく増加する。
38.0mgのСr(ЕН)3および22.0mgのDMPをフラスコに入れた。5mlのトルエンを添加した。
ヘプタン中の154mg/ml ТEА溶液の0.9mlおよびヘプタン中の37mg/ml DEAC溶液の0.6mlを0.5mlのトルエンと混合した。有機アルミニウム化合物の得られた溶液をトルエン中のCr(EH)3およびDMPに添加した。45秒後、得られた混合物は400Wの定格出力で6分間のUHF照射に曝露した。溶媒をUHF照射終了後9分で室温にて真空下蒸発させた。次いで、フラスコ中の残渣をヘプタン(4ml)で希釈した。得られた溶液は、エチレン三量体化反応における触媒系試験に用いた。
活性、g/(gСr・hr):9,000
合計ヘキセン−1選択性:70.0%
反応混合物組成物の残りの分析結果を表1に示す。
実施例6は、触媒系に含まれたアルキルアルミニウムのUHF照射が、UHF照射(比較例4)がない系と比較して、系の活性における増加を引き起こすことを示すが、観察された増加は、クロム源との混合前の同一期間のアルキルアルミニウムのUHF照射の場合(実施例5)よりも低かった。
38.0mgのСr(ЕН)3および22.0mgのDMPをフラスコに入れた。5mlのトルエンを添加した。ヘプタン中の154mg/ml ТEА溶液の0.9ml、およびヘプタン中の37mg/ml DEAC溶液の0.6mlを0.5mlのトルエンと混合した。得られた溶液は、400Wの定格出力で6分間UHF照射に曝露した。その溶液は、照射終了後3分でトルエン中のCr(EH)3およびDMPと混合することにより、触媒系を生成するために用いた。溶媒を15分で室温にて真空下蒸発させた。次いで、フラスコ中の残渣をヘプタン(4ml)で希釈した。得られた溶液は、エチレン三量体化反応における触媒系試験に用いた。
活性、g/(gСr・hr):11,200
合計ヘキセン−1選択性:75.6%
反応混合物組成物の残りの分析結果を表1に示す。
実施例5と比較した実施例7は、アルキルアルミニウムのUHF照射による活性の増加の効果が、照射の終了およびクロム源との混合の間の時間延長で減少することを示す。
76.0mgのСr(ЕН)3および44.0mgのDMPをフラスコに入れた。5mlのトルエンを添加した。次いで、ヘプタン中の154mg/ml ТEА溶液の0.85mlおよびヘプタン中の198mg/ml DEAC溶液の0.3mlを添加した。溶媒を10分で室温にて真空下蒸発させた。次いで、フラスコ中の残渣をヘプタン(4ml)で希釈した。得られた溶液は、エチレン三量体化反応における触媒系試験に用いた。
結果を表1に示す。
38mgのСr(ЕН)3および22.0mgのDMPをフラスコに入れた。7mlのトルエンを添加した。ヘプタン中の144mg/ml TEA溶液の0.2mlならびにトルエン中のTEA(32mg/ml)およびDEAC(25mg/ml)の溶液の1.1mlを室温および400Wの定格出力で3分間UHF照射に曝露した。その後、有機アルミニウム化合物の溶液を照射終了後40秒間にトルエン中のCr(EH)3およびDMPに添加した。溶媒を15分で室温にて真空下蒸発させた。次いで、フラスコ中の残渣をヘプタン(4ml)で希釈した。得られた溶液は、エチレン三量体化反応における触媒系試験に用いた。
活性、g/(gСr・hr):16,200
合計ヘキセン−1選択性:95.5%
反応混合物組成物の残りの分析結果を表1に示す。
57.0mgのСr(ЕН)3および33.0mgのDMPをフラスコに入れた。5mlのトルエンを添加した。ヘプタン中の154mg/ml ТEА溶液の0.7mlおよびヘプタン中の198mg/ml DEAC溶液の0.3mlを1mlのトルエンと混合した。得られた溶液は400Wの定格出力で3分間UHF照射に曝露した。その後、有機アルミニウム化合物の溶液を照射終了後40秒間にトルエン中のCr(EH)3およびDMPに添加した。溶液の色は15分で黄褐色になった。溶媒を真空下の室温で蒸発させた。次いで、フラスコ中の残渣をヘプタン(4ml)で希釈した。得られた溶液は、エチレン三量体化反応における触媒系試験に用いた。
活性、g/(gСr・hr):5,800
合計ヘキセン−1選択性:97.4%
反応混合物組成物の残りの分析結果を表1に示す。
実施例8および9は、より少量の有機アルミニウム化合物中での反応の高選択性、および形成したデセン(С10)副生成物の量の相当な減少を達成する可能性を示す。比較のため、特許RU2104088において、UHF照射がないエチレンオリゴマー化の反応の1:3:15:3のСr(ЕН)3:DMP:ТEА:DEAC比での触媒系の活性は、38バールのエチレン圧力にて16,800g/(gСr・hr)であり;ヘキセン−1選択性は86%であった。特許米国第6455648号において、最大のヘキセン選択性が、1:3:11:8のСr(ЕН)3:DMP:ТEА:DEAC比および51バールのエチレン圧力にて、96.4%であった。
38.0mgのСr(ЕН)3および22.0mgのDMPをフラスコに入れた。5mlのトルエンを添加した。ヘプタン中の154mg/ml ТEА溶液の0.9mlをヘプタン中の198mg/ml DEAC溶液の0.4mlと混合した。得られた溶液はトルエン中のСr(ЕН)3およびDMPに添加した。溶媒を15分で室温にて真空下蒸発させた。次いで、フラスコ中の残渣をヘプタン(4ml)で希釈した。得られた溶液は、エチレン三量体化反応における触媒系試験に用いた。
活性、g/(gСr・hr):28,800;反応中の平均圧力:19.5バール。
合計ヘキセン−1選択性:94.9%
反応混合物組成物の残りの分析結果を表1に示す。
38.0mgのСr(ЕН)3および22.0mgのDMPをフラスコに入れた。5mlのトルエンを添加した。ヘプタン中の154mg/ml ТEА溶液の0.8mlをヘプタン中の198mg/ml DEAC溶液の0.2mlと混合した。得られた溶液は、400Wの定格出力で6分間UHF照射に曝露した。その後、有機アルミニウム化合物の溶液を照射終了後40秒間にトルエン中のCr(EH)3およびDMPに添加した。溶媒を15分で室温にて真空下蒸発させた。次いで、フラスコ中の残渣をヘプタン(4ml)で希釈した。得られた溶液は、エチレン三量体化反応における触媒系試験に用いた。
活性、g/(gСr・hr):53,700;反応中の平均圧力:20.4バール。
合計ヘキセン−1選択性:88.9%
反応混合物組成物の残りの分析結果を表1に示す。
実施例10は、より低い平均圧力のエチレンで触媒系の高活性を達成する可能性を示す。比較のため、特許RU2104088において、エチレンオリゴマー化反応での触媒系の最大の活性は、38バール(実施例8012)のエチレン圧力にて66,400g/(gСr・hr)であった。特許米国第7384886号において、バッチ式反応器の使用での触媒の活性は、46バール(実施例4)のエチレン圧力で34,325g/(gСr・30分)または68,650g/(gСr・hr)であった。
28.5mgのСr(ЕН)3および16.5mgのDMPをフラスコに入れた。2.5mlのヘプタンを添加した。ヘプタン中の154mg/ml ТEА溶液の2.2mlをヘプタン中の20mg/ml CHCl3溶液の0.7mlと混合した。得られた溶液はトルエン中のСr(ЕН)3およびDMPに添加した。得られた溶液は、15分以内にエチレン三量体化反応における触媒系試験に用いた。
活性、g/(gСr・hr):5,500
合計ヘキセン−1選択性:81.6%
反応混合物組成物の残りの分析結果を表2に示す。
28.5mgのСr(ЕН)3および16.5mgのDMPをフラスコに入れた。2.5mlのヘプタンを添加した。ヘプタン中の154mg/ml ТEА溶液の2.2mlは、400Wの定格出力で6分間UHF照射に曝露した。その溶液をヘプタン中のCHCl3の20mg/ml溶液の0.7mlと混合した。次いで、照射終了後40秒までに、得られた混合物をトルエン中のCr(EH)3およびDMPに添加した。得られた溶液は、15分以内にエチレン三量体化反応における触媒系試験に用いた。
活性、g/(gСr・hr):12,400
合計ヘキセン−1選択性:86.9%
反応混合物組成物の残りの分析結果を表2に示す。
28.5mgのСr(ЕН)3および16.5mgのDMPをフラスコに入れた。2.5mlのヘプタンを添加した。ヘプタン中の154mg/ml ТEА溶液の2.2mlをヘプタン中の20mg/ml CHCl3溶液の0.7mlと混合した。得られた溶液は、400Wの定格出力で6分間UHF照射に曝露した。次いで、照射終了後40秒までに、得られた混合物をトルエン中のCr(EH)3およびDMPに添加した。
得られた溶液は、15分以内にエチレン三量体化反応における触媒系試験に用いた。
活性、g/(gСr・hr):24,700
合計ヘキセン−1選択性:77.6%
反応混合物組成物の残りの分析結果を表2に示す。
111.0mgのСr(ЕН)3および66.0mgのDMPを50mlの丸底フラスコに入れた。5mlのトルエンを添加した。ヘプタン中の216mg/ml TEA溶液の1.9mlをヘプタン中の24.1mg/ml DEAC溶液の5mlと混合した。得られた溶液は、400Wの定格出力で6分間UHF照射に曝露した。次いで、照射終了後40秒までに得られた混合物をトルエン中のСr(ЕН)3およびDMPに添加した。溶媒を15分で室温にて真空下蒸発させた。次いで、フラスコ中の残りをヘプタン(14ml)により希釈した。得られた溶液は、エチレン三量体化反応における触媒系試験に用いた。
13.9mgのСr(ЕН)3および13.8mgのDMPを50mlの丸底フラスコに入れた。5mlのトルエンを添加した。ヘプタン中の216mg/ml TEA溶液の0.58mlをヘプタン中のDEACの120mg/ml溶液の0.35mlと混合した。得られた溶液は、400Wの定格出力で6分間UHF照射に曝露した。次いで、照射終了後30秒までに、得られた混合物をトルエン中のСr(ЕН)3およびDMPに添加した。溶媒を15分で室温にて真空下蒸発させた。触媒を調製するために、フラスコ中の残渣を14mlのヘプタンで希釈した。
111.0mgのСr(ЕН)3および66.0mgのDMPを50mlの丸底フラスコに入れた。5mlのトルエンを添加し、フラスコを乾燥窒素により満たした。ヘプタン中の216mg/ml TEA溶液の1.9mlをヘプタン中の24.1mg/ml DEAC溶液の5.0mlと混合した。得られた溶液は、400Wの定格出力で6分間UHF照射に曝露し、照射終了後30秒までに、得られた混合物をトルエン中のСr(ЕН)3およびDMPに添加した。溶媒を15分で室温にて真空下蒸発させた。触媒を調製するために、フラスコ中の残渣を8mlのヘプタンで希釈した。
9.5mgのСr(ЕН)3および28.1mgのDMPを50mlの丸底フラスコに入れた。5mlのトルエンを添加し;フラスコを乾燥窒素で満たした。
エチレンを19バールの圧力まで反応器に添加した。触媒の調製した溶液を反応器に添加した。反応中、温度を80℃に維持し、圧力は流量計を介してエチレンの添加により20バールに維持し;反応混合物を800rpmにて撹拌した。触媒添加後30分で、反応器中の圧力を雰囲気に低下させ、反応器を0℃に冷却した。反応器からの試料は、13.3%のヘキセン−1、および0.5%の混合物のデセンを含んだ。圧力を低下させる前のエチレン吸収量は、88.0g(88kg/gCr)であった。ヘプタン中の24.1mg/ml DEAC溶液の10mlおよび1mlの触媒懸濁液−微球状三塩化チタン(0.47g/LのTiCl3)を添加した。反応は2時間で5mlのイソプロパノールの添加によりクエンチした。溶媒を蒸発させ、残渣を7日間空気乾燥し、10ミリバールおよび50℃で24時間乾燥させた。平均分子量8.76×106および分散7.7の弾性ポリマーの収率は、42gであった。
Claims (27)
- クロム源化合物、窒素含有配位子およびアルキルアルミニウムを混合することを含む、オレフィン単量体の(共)三量体化の反応用の触媒系の調製方法であって、
該触媒系を調製する際に、アルキルアルミニウムがUHF照射に曝露されることを特徴とする該方法。 - UHF照射の周波数が、0.3〜20GHzの範囲で選択され、アルキルアルミニウムが、0.5〜20分間UHF照射に曝露されることを特徴とする請求項1記載の方法。
- UHF照射の周波数が2.45GHzであることを特徴とする請求項1記載の方法。
- 窒素含有配位子がピロール環を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1記載の方法。
- 窒素含有配位子が2,5−ジメチルピロールであることを特徴とする請求項4記載の方法。
- アルキルアルミニウムがトリアルキルアルミニウムであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1記載の方法。
- トリアルキルアルミニウムがトリエチルアルミニウムであることを特徴とする請求項6記載の方法。
- (共)三量体化触媒を調製する際に、ハロゲン化物源の式RmXn(式中、Rが有機または無機基であり、Xはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素であり、n>0およびm+n>0である)をさらに添加することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1記載の方法。
- Rが、アルミニウム、シリコン、ゲルマニウム、水素、ホウ素、リチウム、スズ、ガリウム、インジウム、鉛またはその混合物であることを特徴とする請求項8記載の方法。
- Rが炭化水素基または金属有機基であることを特徴とする請求項8記載の方法。
- 該ハロゲン化物が、塩化ジエチルアルミニウム、二塩化エチルアルミニウム、または無水塩化アルミニウムであることを特徴とする請求項8記載の方法。
- アルキルアルミニウムが、触媒混合物の残りの成分との混合後に、UHF照射に曝露されることを特徴とする請求項1または8記載の方法。
- アルキルアルミニウムおよびハロゲン化物源の混合物が、クロム源および窒素含有配位子との混合前に、UHF照射に曝露されることを特徴とする請求項8〜11のいずれか1記載の方法。
- アルキルアルミニウムが、ハロゲン化物、クロム源および窒素含有配位子との混合前にUHF照射に曝露されることを特徴とする請求項8〜11のいずれか1記載の方法。
- 調製された(共)三量体化触媒系が、1モルのクロム源(元素クロムに基づいて計算)当たり、1〜50モルの窒素含有配位子、1〜300モルのアルキルアルミニウム(元素アルミニウムに基づいて計算)、および用いた場合の1〜150モルのハロゲン化物源(元素ハロゲンに基づいて計算)を含むことを特徴とする請求項1〜14のいずれか1記載の方法。
- 調製された該触媒系が、1モルのクロム源(元素クロムに基づいて計算)当たり、1モル〜15モルの窒素含有配位子;5モル〜100モルのアルキルアルミニウム(元素アルミニウムに基づいて計算)、および用いた場合の1モル〜20モルのハロゲン化物源(元素ハロゲンに基づいて計算)を含むことを特徴とする請求項15記載の方法。
- 無酸素および無水の条件下で行なわれることを特徴とする請求項1〜16のいずれか1記載の方法。
- クロム源および窒素含有配位子が、アルキルアルミニウムの添加前に混合されることを特徴とする請求項17記載の方法。
- 2〜30個の炭素原子を含むオレフィン単量体の(共)三量体化の反応用の触媒系であって、
クロム源、窒素含有配位子、UHF照射されたアルキルアルミニウム、および任意で、ハロゲン化物源を含む該触媒系。 - オレフィン単量体が2〜6個の炭素原子を含む請求項19記載の触媒系。
- 分子中に2〜30個の炭素原子、および少なくとも1つの末端オレフィン二重結合を有するオレフィン化合物の(共)三量体化プロセスであって、
請求項19記載の触媒系の存在下、または請求項1記載の方法により調製された触媒系の存在下、(共)三量体化の段階を含むことを特徴とする該プロセス。 - オレフィン化合物が、エチレン、1−ブテン、1−ヘキセンまたはその混合物であることを特徴とする請求項21記載のプロセス。
- オレフィンオリゴマーの重合または共重合のプロセスであって、
オレフィンオリゴマーが、請求項21または22記載のプロセスによって(共)三量体化の反応で生成されることを特徴とする該プロセス。 - (共)三量体化反応で形成された1以上のオレフィンオリゴマーが、重合の反応前に(共)三量体化反応の反応混合物から分離されることを特徴とする請求項23記載のプロセス。
- 2〜6個の炭素原子を有するオレフィン単量体が、オレフィンオリゴマーとの共重合のために添加されることを特徴とする請求項23または24記載のプロセス。
- オレフィン単量体が、エチレン、プロピレン、ブテン−1またはヘキセン−1であることを特徴とする請求項25記載のプロセス。
- オレフィンオリゴマーの重合または共重合の反応が、オレフィン単量体の(共)三量体化と同時に行なわれることを特徴とする請求項23記載のプロセス。
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