JP5470512B2 - Humidity detection sensor - Google Patents
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Description
本発明は、高分子感湿膜を誘電体とした湿度検出センサに関する。 The present invention relates to a humidity detection sensor using a polymer moisture sensitive film as a dielectric.
湿度変化測定に用いられる湿度検出センサには、吸収又は放出した水分量に応じて誘電率が変化する高分子感湿膜を誘電体とした静電容量型の湿度検出センサがある。容量型湿度検出センサは、湿度に応じて静電容量が変化するセンサ部と、湿度によらず一定の静電容量を保持する基準部とを備えており、センサ部と基準部との間の容量差分を電圧に変換して出力する。センサ部及び基準部は、高分子感湿膜を一対の電極で挟持し、その上に保護層を積層してなる積層構造を有する。このような湿度検出センサとしては、例えば特許文献1に記載されているものがある。 As a humidity detection sensor used for humidity change measurement, there is a capacitance type humidity detection sensor using a polymer moisture-sensitive film whose dielectric constant changes according to the amount of absorbed or released water as a dielectric. The capacitive humidity detection sensor includes a sensor unit that changes its capacitance according to humidity, and a reference unit that maintains a constant capacitance regardless of humidity, and is provided between the sensor unit and the reference unit. Capacitance difference is converted to voltage and output. The sensor part and the reference part have a laminated structure in which a polymer moisture sensitive film is sandwiched between a pair of electrodes and a protective layer is laminated thereon. An example of such a humidity detection sensor is described in Patent Document 1.
上記湿度検出センサにおいて、高分子感湿膜を一対の電極で挟持する平行平板型の電極構造を採用する場合、センサ部の高分子感湿膜を外界に露出させるために、高分子感湿膜上に形成された電極を部分的に除去する必要がある。この場合、高分子感湿膜上に電極層を形成した後に、この電極層をミリング加工などのドライエッチング法で除去することが考えられる。 In the above humidity detection sensor, when a parallel plate type electrode structure in which the polymer moisture sensitive film is sandwiched between a pair of electrodes is employed, the polymer moisture sensitive film is exposed in order to expose the polymer moisture sensitive film of the sensor part to the outside. It is necessary to partially remove the electrode formed thereon. In this case, after forming an electrode layer on the polymer moisture-sensitive film, it can be considered to remove the electrode layer by a dry etching method such as milling.
しかしながら、高分子感湿膜上の電極層をミリングにより除去すると、その際に高分子感湿膜もミリングされてしまい、高分子感湿膜がミリングによる厚さ分布を持ってしまう。このように高分子感湿膜が厚さ分布を有すると、湿度検出センサの感度にばらつきが生じることとなる。 However, if the electrode layer on the polymer moisture-sensitive film is removed by milling, the polymer moisture-sensitive film is also milled at that time, and the polymer moisture-sensitive film has a thickness distribution due to milling. Thus, when the polymer moisture-sensitive film has a thickness distribution, the sensitivity of the humidity detection sensor varies.
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、感度ばらつきのない平行平板型の湿度検出センサを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of this point, and an object thereof is to provide a parallel plate type humidity detection sensor having no sensitivity variation.
本発明の湿度検出センサは、基板と、前記基板上に設けられ、湿度に応じて誘電率が変化する高分子感湿膜を一対の電極で挟持し、前記高分子感湿膜が部分的に外界に露出する感湿領域を持つセンサ部と、少なくとも前記一対の電極のうちの上側の電極上に形成された保護層と、を具備し、前記保護層は、前記センサ部における前記感湿領域以外の領域であって、前記高分子感湿膜が前記一対の電極で挟持された挟持領域及び当該挟持領域と前記感湿領域との間に配置され前記高分子感湿膜が前記一対の電極で挟持されない領域上に形成されており、前記挟持領域と前記感湿領域との間の領域は、前記挟持領域の高分子感湿膜の厚さと略同じ厚さの高分子感湿膜を有すると共に、少なくとも前記一対の電極間の電界の漏れ領域を含む幅を有することを特徴とする。 The humidity detection sensor of the present invention includes a substrate and a polymer moisture sensitive film that is provided on the substrate and has a dielectric constant that changes according to the humidity between a pair of electrodes. A sensor unit having a moisture-sensitive region exposed to the outside, and a protective layer formed on at least the upper electrode of the pair of electrodes, wherein the protective layer is the moisture-sensitive region in the sensor unit. A region where the polymer moisture sensitive film is sandwiched between the pair of electrodes, and the polymer moisture sensitive film is disposed between the sandwiched region and the moisture sensitive region. The region between the sandwiched region and the moisture sensitive region has a polymer moisture sensitive film having a thickness substantially the same as the thickness of the polymer moisture sensitive film in the sandwiched region. together, having a width including a leakage area of the electric field between at least the pair of electrodes It is characterized in.
この構成によれば、感湿領域以外の領域において、一対の電極で挟持された高分子感湿膜の厚さと略同じ厚さの高分子感湿膜を有する領域を設けているので、高分子感湿膜における、上部電極と下部電極との間に電界が印加されたときの漏れ電界のパスを確保することができる。その結果、湿度検出センサの感度のばらつきを小さくすることが可能となる。 According to this configuration, in the region other than the moisture sensitive region, the region having the polymer moisture sensitive film having a thickness substantially the same as the thickness of the polymer moisture sensitive film sandwiched between the pair of electrodes is provided. In the moisture sensitive film, a leakage electric field path can be secured when an electric field is applied between the upper electrode and the lower electrode. As a result, it is possible to reduce variations in sensitivity of the humidity detection sensor.
本発明の湿度検出センサにおいては、前記高分子感湿膜上の電極は、フォトリソグラフィー及びエッチングによりパターニングされてなることが好ましい。 In the humidity detection sensor of the present invention, the electrode on the polymer moisture sensitive film is preferably patterned by photolithography and etching.
本発明の湿度検出センサにおいては、前記高分子感湿膜上の電極は、フォトリソグラフィー及びエッチングによりパターニングされてなるシード層と、前記シード層上に形成されためっき層とで構成されていることが好ましい。 In the humidity detection sensor of the present invention, the electrode on the polymer moisture-sensitive film is composed of a seed layer patterned by photolithography and etching, and a plating layer formed on the seed layer. Is preferred.
本発明の湿度検出センサによれば、基板と、前記基板上に設けられ、湿度に応じて誘電率が変化する高分子感湿膜を一対の電極で挟持し、前記高分子感湿膜が部分的に外界に露出する感湿領域を持つセンサ部と、少なくとも前記一対の電極のうちの上側の電極上に形成された保護層と、を具備し、前記感湿領域以外の領域において、前記一対の電極で挟持された高分子感湿膜の厚さと略同じ厚さの高分子感湿膜を有する領域を前記上側の電極の近傍に有するので、感度ばらつきのない平行平板型の湿度検出センサを実現することができる。 According to the humidity detection sensor of the present invention, a substrate and a polymer moisture-sensitive film that is provided on the substrate and whose dielectric constant changes according to humidity are sandwiched between a pair of electrodes, and the polymer moisture-sensitive film is partially And a protective layer formed on at least an upper electrode of the pair of electrodes, and in the region other than the moisture sensitive region, the pair of sensors is provided. In the vicinity of the upper electrode, there is a region having a polymer moisture sensitive film having a thickness substantially the same as the thickness of the polymer moisture sensitive film sandwiched between the electrodes. Can be realized.
以下、本発明の実施の形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明の実施の形態に係る湿度検出センサの構成を示すブロック図である。図1に示す湿度検出センサは、吸収又は放出した水分量に応じて誘電率が変化する高分子感湿材料を用いた高分子膜湿度センサである。この湿度検出センサは、基板10上に、湿度によって静電容量C20が変化するセンサ部20と、湿度によらず一定の静電容量C30を保持する基準部30と、このセンサ部20と基準部30とに電気的に接続し、該センサ部20と基準部30との間の容量差分ΔC(=C20−C30)を電圧に変換して外部回路に出力する回路部40とを有している。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a humidity detection sensor according to an embodiment of the present invention. The humidity detection sensor shown in FIG. 1 is a polymer film humidity sensor using a polymer moisture-sensitive material whose dielectric constant changes according to the amount of moisture absorbed or released. The humidity detection sensor includes a
回路部40には、外部回路との接続用パッド40aが設けられている。パッド40aを介して湿度検出センサに接続された外部回路において、湿度検出センサの出力(容量差分ΔCに対応する電圧)から湿度変化(相対湿度)を検出する。
The
図2は、本発明の実施の形態に係る湿度検出センサのセンサ部及び基準部を示す平面図である。図2において、右側がセンサ部20であり、左側が基準部30である。センサ部20及び基準部30は、下部電極、高分子感湿膜54及び上部電極が積層された構造を有する。すなわち、センサ部20及び基準部30は、湿度に応じて誘電率が変化する高分子感湿膜を一対の電極(下部電極及び上部電極)で挟持してなる平行平板構造を有する。
FIG. 2 is a plan view showing a sensor unit and a reference unit of the humidity detection sensor according to the embodiment of the present invention. In FIG. 2, the right side is the
湿度により静電容量が変化するセンサ部20においては、図3(a),(b)に示すように、基板51上に熱酸化膜52を介して下部電極53が形成されている。下部電極53上には、湿度に応じて誘電率が変化する高分子感湿膜54が形成されており、高分子感湿膜54上には、部分的に上部電極55が形成されている。さらに、図3(b)に示すように、露出した上部電極55を保護するための保護層56が形成されている。上部電極55の感湿領域A(高分子感湿膜54が部分的に外界に露出する領域)には、高分子感湿膜54を外界に露出させる複数の開口部54aが形成されている。なお、保護層56にも高分子感湿膜54を外界に露出させる複数の開口部が形成されている。開口部54aは、図3(b)に示すように、左右上下方向に所定間隔をあけて並設されており、平面矩形状をなしている。この開口部54aの数、平面形状及び形成位置は任意である。
In the
本発明者らは、センサ部において上部電極55を部分的に除去する際に、ミリング加工を採用すると、上部電極55のみを除去することができず、高分子感湿膜54も除去してしまうことに着目した。ミリング加工を行うと、上部電極55が存在しない領域(感湿領域)の高分子感湿膜54の厚さが薄くなってしまう、すなわち、下部電極53と上部電極55とで挟持された高分子感湿膜54(感湿領域以外の領域)の厚さと、上部電極55が存在しない領域(感湿領域)の厚さとが異なってしまう。そして、本発明者らは、このように感湿領域以外の領域の高分子感湿膜の厚さと、感湿領域の高分子感湿膜の厚さとが異なると、すなわち、高分子感湿膜54の厚さにばらつきが生じると(厚さ分布を持つと)、湿度検出センサの感度にばらつきが生じることを見出した。
When the milling process is adopted when the
ここで、上部電極をミリング加工で部分的に除去する場合の感度のばらつきについて説明する。すなわち、高分子感湿膜上に電極材料をスパッタリング法により成膜した後に、その上にレジスト層を形成し、感湿領域以外の領域にレジスト層が残存するようにレジスト層をパターニングし、残存したレジスト層をマスクとして電極材料をミリング加工して除去する。例えば、上部電極の膜厚を200nmとする場合、ミリング量はプロセスマージンを考慮して300nmと設定する。このため、この設定から高分子感湿膜は100nm削られることになる。ただし、ミリング量には分布(約10%)が生じるため、実際には高分子感湿膜はウェハ内で85nm〜115nmの範囲で削られることになる(ミリング分布は総ミリング量の10%となる)。 Here, the sensitivity variation when the upper electrode is partially removed by milling will be described. That is, after forming an electrode material on the polymer moisture-sensitive film by sputtering, a resist layer is formed thereon, and the resist layer is patterned so that the resist layer remains in a region other than the moisture-sensitive region. The electrode material is removed by milling using the resist layer as a mask. For example, when the film thickness of the upper electrode is 200 nm, the milling amount is set to 300 nm in consideration of the process margin. For this reason, the polymer moisture-sensitive film is scraped by 100 nm from this setting. However, since a distribution (about 10%) occurs in the milling amount, the polymer moisture sensitive film is actually scraped in the range of 85 nm to 115 nm in the wafer (the milling distribution is 10% of the total milling amount). Become).
本発明者らの実験データから、図2に示す素子デザインで高分子感湿膜が200nm削れると容量が41.2fF減少することから、85nm〜115nmの膜厚変化で容量が6.18fF変化することになる。素子の感度(容量の変化率)は素子容量に対して決まっているので、上記6.18fFのばらつきはそのまま感度ばらつきにつながる。例えば、素子容量が200fFで容量変化率が20%である場合、感度は0.4fF/%となる。また、高分子感湿膜の削れ量にばらつきが無い場合は、感度もばらつきが無いことになる。 From the experimental data of the present inventors, the capacitance decreases by 41.2 fF when the polymer moisture-sensitive film is scraped by 200 nm in the element design shown in FIG. 2, so that the capacitance changes by 6.18 fF when the film thickness changes from 85 nm to 115 nm. It will be. Since the sensitivity (change rate of capacitance) of the element is determined with respect to the element capacitance, the 6.18 fF variation directly leads to sensitivity variation. For example, when the element capacitance is 200 fF and the capacitance change rate is 20%, the sensitivity is 0.4 fF /%. Further, when there is no variation in the shaving amount of the polymer moisture sensitive film, the sensitivity is also not varied.
上記のばらつきを考慮して素子容量を計算すると、
(1)200−6.18/2=196.91fF
(2)200+6.18/2=203.09fF
となり、感度は、
(1)196.91×0.2/100=0.393fF/%
(2)203.09×0.2/100=0.406fF/%
のばらつきとなる。すなわち、この上部電極形成工程のみで3%前後の感度ばらつきが生じることとなる。当然、ウェハ間の中心値もばらつきを持つことになるので、さらに感度ばらつきが大きくなる。When calculating the element capacitance taking the above variations into account,
(1) 200−6.18 / 2 = 196.91 fF
(2) 200 + 6.18 / 2 = 203.09 fF
And the sensitivity is
(1) 196.91 × 0.2 / 100 = 0.393 fF /%
(2) 203.09 × 0.2 / 100 = 0.406 fF /%
Variation. That is, a sensitivity variation of about 3% occurs only in the upper electrode forming step. Naturally, since the center value between wafers also varies, the sensitivity variation further increases.
そこで、本発明者らは、感湿領域以外の領域において、一対の電極で挟持された高分子感湿膜の厚さと略同じ厚さの高分子感湿膜を有する領域を上部電極の近傍に有することにより、すなわち、上部電極の近傍において、高分子感湿膜の体積を確保した領域を設けることにより、湿度検出センサの感度にばらつきが抑えられることを見出して本発明をするに至った。 Therefore, the present inventors set a region having a polymer moisture sensitive film having a thickness substantially the same as the thickness of the polymer moisture sensitive film sandwiched between the pair of electrodes in a region other than the moisture sensitive region in the vicinity of the upper electrode. In other words, it was found that variation in the sensitivity of the humidity detection sensor can be suppressed by providing a region in which the volume of the polymer moisture-sensitive film is secured in the vicinity of the upper electrode.
すなわち、本発明の骨子は、感湿領域以外の領域において、一対の電極で挟持された高分子感湿膜の厚さと略同じ厚さの高分子感湿膜を有する領域を上部電極の近傍に有することにより、感度にばらつきの小さい、感度が安定した湿度検出センサを実現することである。 That is, the main point of the present invention is that in a region other than the moisture sensitive region, a region having a polymer moisture sensitive film having a thickness substantially the same as the thickness of the polymer moisture sensitive film sandwiched between the pair of electrodes is disposed in the vicinity of the upper electrode. By having it, it is to realize a humidity detection sensor with a small sensitivity variation and a stable sensitivity.
図3(b)に示すセンサ部20においては、感湿領域A以外の領域B+領域C(参照符号54b)で、一対の電極53,55で挟持された高分子感湿膜54の厚さD1と略同じ厚さD2の高分子感湿膜54を有する領域Bを有する。この領域Bは、領域Cの上部電極55の近傍に位置する。また、感湿領域Aでは、高分子感湿膜54の厚さD3が薄くなっている。このように、感湿領域Aで高分子感湿膜54の厚さD3が薄くなっていても、領域Bを設けることにより、高分子感湿膜54における、上部電極55と下部電極53との間に電界が印加されたときの漏れ電界のパスを確保することができるので、湿度検出センサの感度のばらつきを小さくすることが可能となる。したがって、領域Bの幅Wは、少なくとも一対の電極53,55間の電界の漏れ領域(漏れ電界のパスを確保できる領域)を含む幅であることが好ましい。In the
図3(b)に示すような構造、すなわち、一対の電極53,55で挟持された高分子感湿膜54の厚さD1と略同じ厚さD2の高分子感湿膜54を有する領域B及び高分子感湿膜54の厚さD3が薄い感湿領域Aを有する構造は、上部電極55のパターニングの際に、フォトリソグラフィー及びエッチングによるウェット工程で処理を行い、次いで保護層56を形成した後に、異方性エッチングやミリング加工などのドライ工程で保護層56に開口部を形成することにより実現することができる。The structure as shown in FIG. 3B, that is, the polymer moisture-
したがって、上部電極55をスパッタリング法などで電極材料を被着して形成する場合には、電極材料をフォトリソグラフィー及びエッチングしてパターニングして上部電極55を形成する。一方、上部電極55をめっき法で電極材料を被着して形成する場合には、電極材料を被着してめっきシード層を形成し、このめっきシード層をフォトリソグラフィーによりパターニングする。その後、レジストをフレームとして電気めっき処理を施して、めっきシード層上にめっき層を形成して上部電極を形成する。めっきシード層は、めっき層を保護しており、ウェット工程にてエッチングして除去する。
Therefore, when the
湿度にかかわらず静電容量が変化しない基準部30においては、基板上に熱酸化膜を介して下部電極が形成されている。下部電極上には、下部電極全体を覆うようにして高分子感湿膜が形成されている。高分子感湿膜上には、高分子感湿膜全体を覆うようにして上部電極が形成されている。基準部30全体には、露出した上部電極を保護するための保護層が形成されている。
In the
基板51としては、表面が絶縁体で保護された基板(例えば、シリコン基板)などを用いることができる。下部電極52及び上部電極55を構成する材料としては、例えばAl、AlCu、Ta、Ti、NiFe、Niなどを用いることができる。高分子感湿膜54を構成する材料としては、パターニングが容易なポリイミドなどを用いることができる。また、保護層56としては、例えば窒化シリコン(SiNx)膜、SiO2膜、Al2O3/SiO2積層膜、SiO2/SiN積層膜などを用いることができる。As the
本実施の形態に係る湿度検出センサにおいては、図2に示すように、下部電極21はセンサ部20と基準部30とで共通に設けられている。下部電極21には、センサ部20と基準部30との間のほぼ中間の位置から下部電極配線が引き出され、この下部電極配線が回路部40の電極パッド40aに接続されている。このように下部電極配線をセンサ部20と基準部30との間のほぼ中間の位置から引き出すことにより、センサ部20と基準部30の電気的な対称性が良くなり、センサ容量C20と基準容量C30のばらつきを低減させることができる。In the humidity detection sensor according to the present embodiment, as shown in FIG. 2, the
また、高分子感湿膜54及び上部電極55は、図2に示すように、センサ部20と基準部30とで個別に設けられている。上部電極55には、上部電極55と回路部40の電極パッド40aとを接続する上部電極配線がそれぞれ設けられている。上部電極配線は、一対の上部電極55からそれぞれ一定の幅寸法で延在する配線パターンであって、その幅寸法は、センサ部20と基準部30で生じる寄生容量が同一になるように調整されている。これにより、寄生容量によるセンサ容量C20と基準容量C30のばらつきを低減させることができる。Further, the polymer moisture
上記構成を有する湿度検出センサにおいては、次のようにして湿度を検出する。まず、センサ部20では、感湿領域Aにおいて開口部54aを介して高分子感湿膜54が外界に露出している。このため、高分子感湿膜54は、雰囲気中の湿度(水分量)に応じて吸収又は放出する水分量が変化し、誘電率εが変化する。このため、下部電極53と上部電極55との間の静電容量C20が変化する。一方、基準部30では、高分子感湿膜54が外界に露出しないので、雰囲気中の湿度(水分量)が変化しても高分子感湿膜54中の水分量は変化せず、誘電率εも変化しない。このため、下部電極53と上部電極55との間には一定の静電容量C30が保持される。そして、センサ部20の静電容量C20と基準部30の静電容量C30との間の容量差分を求めることにより、湿度により変化した静電容量(差分値)を測定することができる。本湿度検出センサにおいては、この差分値を電圧に変換して出力するように構成されている。In the humidity detection sensor having the above configuration, the humidity is detected as follows. First, in the
次に、湿度検出センサの製造方法について説明する。図4(a)〜(e)は、本発明の実施の形態に係る湿度検出センサの製造方法を説明するための断面図である。 Next, a manufacturing method of the humidity detection sensor will be described. 4A to 4E are cross-sectional views for explaining a method for manufacturing a humidity detection sensor according to an embodiment of the present invention.
まず、図4(a)に示すように、シリコン基板51を熱酸化して熱酸化膜(SiO2膜)52を形成する。次いで、図4(b)に示すように、熱酸化膜52上に下部電極53を形成する。すなわち、下部電極53は、熱酸化膜52を有するシリコン基板51の全面に電極材料を被着し、その上にレジスト層を形成し、パターニングしてマスクとし、そのマスクを介して電極材料をエッチングすることにより形成する。下部電極53は、センサ部20及び基準部30で共通である。なお、この下部電極53を形成する際に、回路部40の配線導体とパッド40aを同時に形成する。First, as shown in FIG. 4A, the
次いで、図4(c)に示すように、下部電極53上に、下部電極53を覆うように、センサ部20、基準部30それぞれで高分子感湿膜54を形成する。すなわち、高分子感湿膜54は、シリコン基板51の全面に高分子材料(例えばポリイミド)を塗布し、硬化させ、その上にレジスト層を形成し、パターニングしてマスクとし、そのマスクを介して高分子材料をエッチングすることにより形成する。または、高分子感湿膜54は、感光性の高分子材料を用いてフォトリソグラフィーによりパターンを形成し、高分子材料を硬化させることによって形成する。高分子感湿膜54は、センサ部20及び基準部30でそれぞれ個別である。
Next, as illustrated in FIG. 4C, the polymer moisture
次いで、図4(d)に示すように、高分子感湿膜54上に、高分子感湿膜54を覆うように、センサ部20、基準部30それぞれで上部電極55を形成する。すなわち、上部電極55は、シリコン基板51の全面に電極材料を被着し、その上にレジスト層を形成し、パターニングしてマスクとし、そのマスクを介して電極材料をエッチングすることにより形成する。これにより、上部電極55に開口部55a(感湿領域A+領域Bに相当する幅)を形成する。なお、上部電極55は、センサ部20及び基準部30でそれぞれ個別である。
Next, as shown in FIG. 4D, the
次いで、図4(e)に示すように、湿度検出センサ全体に保護層構成材料を被着することにより、センサ部20及び基準部30上に保護層56を形成する。次いで、感湿領域A以外の領域(領域B+領域C)をマスクした状態でドライエッチングなどの異方性エッチングで開口部56a,54aを形成する。このようにして、一対の電極53,55で挟持された高分子感湿膜54の厚さD1と略同じ厚さD2の高分子感湿膜54を有する領域Bを有する本発明の湿度検出センサを作製することができる。Next, as shown in FIG. 4E, a
次に、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。
実施例として、図3(b)に示す構造、すなわち、一対の電極53,55で挟持された高分子感湿膜54の厚さD1と略同じ厚さD2の高分子感湿膜54を有する領域Bを有する構造を持つ湿度検出センサを作製した。このとき、上部電極及び下部電極は、それぞれ厚さ0.2μmのAl膜とし、高分子感湿膜は、厚さ1.0μmのポリイミド膜とし、保護層は、厚さ1.0μmのSiNx膜とした。また、領域Bの幅は、1.5μmとした。この湿度検出センサについて、感度のばらつきを調べた。感度のばらつきは、LCRメータにより測定した。その結果、感度ばらつきが6%であり、非常に小さかった。Next, examples performed for clarifying the effects of the present invention will be described.
As an example, the structure shown in FIG. 3B, that is, the polymer moisture
比較として、上部電極近傍に上記領域Bを有しない構造、すなわち、ミリング加工により上部電極を部分的に除去した構造を有すること以外は実施例と同様にして湿度検出センサを作製した。この湿度検出センサについて、感度のばらつきを実施例と同様にして調べた。その結果、感度ばらつきが11%であり、非常に大きかった。 As a comparison, a humidity detection sensor was produced in the same manner as in the example except that the region B was not provided in the vicinity of the upper electrode, that is, a structure in which the upper electrode was partially removed by milling. For this humidity detection sensor, the variation in sensitivity was examined in the same manner as in the example. As a result, the sensitivity variation was 11%, which was very large.
このように、本発明に係る湿度検出センサにおいては、感湿領域以外の領域において、一対の電極で挟持された高分子感湿膜の厚さと略同じ厚さの高分子感湿膜を有する領域を上部電極の近傍に有するので、高分子感湿膜における、上部電極と下部電極との間に電界が印加されたときの漏れ電界のパスを確保することができる。その結果、湿度検出センサの感度のばらつきを小さくすることが可能となる。このように、本発明によれば、感度ばらつきのない平行平板型の湿度検出センサを実現することができる。 Thus, in the humidity detection sensor according to the present invention, in a region other than the moisture sensitive region, a region having a polymer moisture sensitive film having a thickness substantially the same as the thickness of the polymer moisture sensitive film sandwiched between the pair of electrodes. In the vicinity of the upper electrode, it is possible to secure a leakage electric field path when an electric field is applied between the upper electrode and the lower electrode in the polymer moisture-sensitive film. As a result, it is possible to reduce variations in sensitivity of the humidity detection sensor. Thus, according to the present invention, it is possible to realize a parallel plate type humidity detection sensor with no sensitivity variation.
本発明は上記実施の形態に限定されず、適宜変更して実施することができる。上記実施の形態においては、センサ部と基準部とを備えた湿度検出センサについて説明しているが、本発明はこれに限定されず、センサ部のみで構成された湿度検出センサにも同様に適用することができる。また、上記実施の形態における材料、各層の配置位置、厚さ、大きさ、製法などは適宜変更して実施することが可能である。その他、本発明は、本発明の範囲を逸脱しないで適宜変更して実施することができる。 The present invention is not limited to the above embodiment, and can be implemented with appropriate modifications. In the above embodiment, a humidity detection sensor including a sensor unit and a reference unit has been described. However, the present invention is not limited to this, and is similarly applied to a humidity detection sensor including only the sensor unit. can do. In addition, the material, the arrangement position of each layer, the thickness, the size, the manufacturing method, and the like in the above embodiment can be changed as appropriate. In addition, the present invention can be implemented with appropriate modifications without departing from the scope of the present invention.
本件は、2009年11月30日出願の特願2009−272427に基づく。この内容は、全てここに含めておく。
This case is based on Japanese Patent Application No. 2009-272427 filed on Nov. 30, 2009. All this content is included here.
Claims (3)
前記保護層は、前記センサ部における前記感湿領域以外の領域であって、前記高分子感湿膜が前記一対の電極で挟持された挟持領域及び当該挟持領域と前記感湿領域との間に配置され前記高分子感湿膜が前記一対の電極で挟持されない領域上に形成されており、
前記挟持領域と前記感湿領域との間の領域は、前記挟持領域の高分子感湿膜の厚さと略同じ厚さの高分子感湿膜を有すると共に、少なくとも前記一対の電極間の電界の漏れ領域を含む幅を有することを特徴とする湿度検出センサ。 A substrate and a polymer moisture sensitive film that is provided on the substrate and whose dielectric constant changes according to humidity are sandwiched between a pair of electrodes, and the polymer moisture sensitive film has a moisture sensitive region that is exposed to the outside through an opening. A sensor unit, and a protective layer formed on at least the upper electrode of the pair of electrodes,
The protective layer is a region other than the moisture sensitive region in the sensor unit, wherein the polymer moisture sensitive film is sandwiched between the pair of electrodes, and between the sandwiched region and the moisture sensitive region. The polymer moisture sensitive film is formed on a region not sandwiched between the pair of electrodes,
The region between the sandwich region and the moisture sensitive region has a polymer moisture sensitive film having a thickness substantially the same as the thickness of the polymer moisture sensitive film in the sandwich region, and at least an electric field between the pair of electrodes. A humidity detection sensor having a width including a leak region .
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