JP5425998B2 - 基板保持部材、基板搬送アーム及び基板搬送装置 - Google Patents
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Description
ことを特徴とする。
(第1の実施の形態)
始めに、図1から図14を参照し、第1の実施の形態に係る基板搬送装置、基板搬送アーム及び基板保持部材について説明する。
次に、塗布膜形成装置におけるウェハWの流れについて説明する。先ず外部からキャリアCがキャリア載置部21に搬入され、受け渡し手段22によりキャリアC内からウェハWが取り出される。ウェハWは、受け渡し手段22から棚ユニットU1の受け渡しユニット28を介して基板搬送装置3に受け渡され、所定のユニットへ順次搬送される。例えば洗浄ユニット25にて所定の洗浄処理が行われ、加熱ユニット26の一つにて加熱乾燥が行われた後、冷却ユニット27にて所定の温度に調整され、塗布ユニット23にて塗布膜の成分が溶剤に溶解されたレジスト液の塗布処理が行われる。
(第1の実施の形態の変形例)
次に、図15を参照し、第1の実施の形態に係る基板保持部材の変形例について説明する。
(第2の実施の形態)
次に、図16から図18を参照し、第2の実施の形態に係る基板搬送装置、基板搬送アーム及び基板保持部材について説明する。
(第2の実施の形態の変形例)
次に、図19を参照し、第2の実施の形態に係る基板保持部材の変形例について説明する。
(第3の実施の形態)
次に、図20から図22を参照し、第3の実施の形態に係る基板搬送装置、基板搬送アーム及び基板保持部材について説明する。
(第3の実施の形態の第1の変形例)
次に、図23を参照し、第3の実施の形態に係る基板保持部材の第1の変形例について説明する。
(第3の実施の形態の第2の変形例)
次に、図24を参照し、第3の実施の形態に係る基板保持部材の第2の変形例について説明する。
22 受け渡し手段
23 塗布ユニット
24 現像ユニット
25 洗浄ユニット
26 加熱ユニット
27 冷却ユニット
28 受け渡しユニット
29 受け渡し手段
3 基板搬送装置
30 内縁
31 基板搬送アーム
32 基台
32a 案内溝
33、34 案内レール
35、36 連結部材
37 回転駆動部
38 回転軸部
4、4a〜4d 基板保持部材
5、5d〜5f 裏面保持部
51 裏面保持部本体部
52、52d〜52f 当接部
6、6a〜6d 端面当接部
61、61a〜61d 規制部
62、62a〜62d 傾斜部
7 基板保持部材本体部
71 上面部
72 側面部
73 貫通孔
8 R形状部
81 オーバーハング部
A 付着物
B1 キャリアブロック
B2 処理部
B3 インターフェイス部
B4 露光装置
C キャリア
D1、D2 水平距離
H1、H2 高さ
PF0、PF1、PF2 平面
PR 薬液
U1、U2 棚ユニット
W ウェハ
θ1、θ2、θ3、θ4 傾斜角
Claims (9)
- 基板搬送装置の基板搬送アームに取り付けられ、基板の周縁を載置して該基板を保持する基板保持部材であって、
基板の裏面に当接して該基板を保持する裏面保持部と、
基板の端面に当接する端面当接部と、
前記裏面保持部及び前記端面当接部が取り付けられ、一体的に前記基板搬送アームに取り付け可能な基板保持部材本体部と
を有し、
前記端面当接部は、載置する基板の半径方向に変形可能に、前記基板保持部材本体部に取り付けられることを特徴とする基板保持部材。 - 前記端面当接部の水平断面が薄肉形状に形成されている、ことを特徴とする請求項1に記載の基板保持部材。
- 前記端面当接部は、下方側の部分であって水平面からの傾斜角が大きな接触部を含む規制部と、上方側の部分であって水平面からの傾斜角が小さな傾斜面を含む傾斜部とを有し、
前記規制部は、前記接触部で基板と接触する、ことを特徴とする請求項2に記載の基板保持部材。 - 前記規制部と前記傾斜部との境界付近に角部を更に有する、ことを特徴とする請求項3に記載の基板保持部材。
- 前記規制部及び前記傾斜部の厚さが0.5mm〜1.5mmの範囲内である、ことを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の基板保持部材。
- 前記端面当接部の水平断面がつづら折り状に形成されている、ことを特徴とする請求項1に記載の基板保持部材。
- 前記端面当接部は、基板の端面から該端面当接部に力が加わった場合に、前記つづら折り状の水平断面を変形する、ことを特徴とする請求項6に記載の基板保持部材。
- 請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の基板保持部材が取り付けられた基板搬送アーム。
- 請求項8に記載の基板搬送アームを備えた基板搬送装置。
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