JP5420447B2 - 薄膜基板、表示装置、加熱装置、薄膜基板加熱方法及び表示装置製造方法 - Google Patents
薄膜基板、表示装置、加熱装置、薄膜基板加熱方法及び表示装置製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5420447B2 JP5420447B2 JP2010040087A JP2010040087A JP5420447B2 JP 5420447 B2 JP5420447 B2 JP 5420447B2 JP 2010040087 A JP2010040087 A JP 2010040087A JP 2010040087 A JP2010040087 A JP 2010040087A JP 5420447 B2 JP5420447 B2 JP 5420447B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- thin film
- conductive film
- film substrate
- heating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
図1A及び図1Bは、本発明の第1実施形態に係る表示装置用の薄膜トランジスタ基板10の概略を示した図である。図1Aは薄膜トランジスタ基板10の平面図であり、図1Bは、図1AのIB−IB線における断面図である。薄膜トランジスタ基板10は、ガラス基板である絶縁性基板11と、絶縁性基板11の一方の面上で外縁に沿って内側に形成された導電膜12とで構成されている。なお、導電膜12が形成された反対側の面には半導体回路を構成するための薄膜が形成されている。導電膜12の膜厚は0.01〜1mmである。導電膜12の材料は絶縁性基板11に成膜可能な導電性材料であり、例えば、ガラス基板に対しては、金、銀、銅、プラチナ、アルミニウム、チタン、クロム、タンタル、スズ、亜鉛、およびこれらを基材とした合金や、ポリアセチレン、ポリアズレン、ポリフェニレン、ポリフェニルアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリチエニレンビニレンなどの導電性ポリマーなどを用いることができる。これらの導電性材料は、スパッタリング、スピンコート、インクジェットなどの方法により、パターニング用のマスクを使用して絶縁性基板11の片面に成膜される。なお、絶縁性基板11の外周部に設けられた導電膜12の幅Bは、後述する半導体回路18が設けられた領域、すなわち液晶ディスプレイの表示領域の外に形成されるようにすることで、非透明な導電性材料を用いることができる。
図7は、本発明の比較例に係るカラーフィルタ基板50及び加熱装置55について示す図である。カラーフィルタ基板50は、第1実施形態の薄膜トランジスタ基板10と同様に、ガラス基板である絶縁性基板51と、絶縁性基板51の一方の面上で外縁に沿って内側に形成された導電膜52とで構成されている。また、加熱装置55は、第1実施形態の加熱装置55と同様に、カラーフィルタ基板50を加熱する際に発熱する発熱プレート56と、内部に負圧を発生することにより薄膜トランジスタ基板10を吸着して固定させる吸着穴57と、により構成されている。
Claims (14)
- 切断されることにより表示パネル基板となる表示パネル領域が複数配置され、薄膜が形成される薄膜基板であって、
絶縁性の基材からなる絶縁性基板と、
前記絶縁性基板の一方の面上で、前記絶縁性基板の外縁に沿って内側に形成された導電膜である周囲導電膜と、
前記絶縁性基板の前記周囲導電膜の内側に、前記表示パネル領域毎に開口が形成されるように格子状に形成された導電膜である格子状導電膜と、を備える薄膜基板。 - 前記形成された格子状に形成された導電膜の領域が切断される、ことを特徴とする請求項1に記載の薄膜基板。
- 前記周囲導電膜及び前記格子状導電膜は、表示領域となる領域の周囲の領域に、光を遮る材料により形成されている、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の薄膜基板。
- 薄膜が形成される薄膜基板であって、
絶縁性の基材からなる絶縁性基板と、
前記絶縁性基板の一方の面上で、前記絶縁性基板の外縁に沿って内側に形成された導電膜である周囲導電膜と、
前記絶縁性基板の前記周囲導電膜の内側に、前記周囲導電膜とは独立して複数箇所に形成された導電膜である独立導電膜と、を備える薄膜基板。 - 前記周囲導電膜及び前記独立導電膜は、表示領域となる領域の周囲の領域に、光を遮る材料により形成されている、ことを特徴とする請求項4に記載の薄膜基板。
- 少なくとも外縁に沿って内側に導電膜が形成される薄膜基板の加熱工程に用いられる加熱装置であって、
前記薄膜基板の一方の面上で、前記薄膜基板の外縁に沿った内側の複数箇所を吸着する吸着部と、
前記薄膜基板を加熱するために、高温となる発熱プレート部と、
前記薄膜基板の前記導電膜と前記吸着部とを剥離し、前記薄膜基板を支持する基板支持部と、を備える加熱装置。 - 前記吸着部は、前記複数箇所の内側の格子状に点在する複数箇所で更に吸着する、ことを特徴とする請求項6に記載の加熱装置。
- 薄膜基板の一方の面上で、前記薄膜基板の外縁に沿って内側に形成された導電膜の一部を吸着し、発熱プレート部に前記薄膜基板を固定する吸着工程と、
前記発熱プレート部が発熱することにより、前記吸着工程において固定された前記薄膜基板を加熱する加熱工程と、
前記加熱工程の後、前記吸着部による吸着を停止し、前記薄膜基板の前記導電膜と前記吸着部とを剥離し、前記薄膜基板を支持する剥離支持工程と、を備える薄膜基板製造方法。 - 前記吸着工程では、前記形成された導電膜の内側に、更に格子状に形成された導電膜の一部を更に吸着し、
前記基板支持工程では、前記格子状に形成された導電膜を更に剥離する、ことを特徴とする請求項8に記載の薄膜基板製造方法。 - 前記吸着工程では、前記形成された導電膜の内側に、更にそれぞれ独立して複数箇所に形成された導電膜の一部を更に吸着し、
前記基板支持工程では、前記複数箇所に形成された導電膜を更に剥離する、ことを特徴とする請求項8に記載の薄膜基板製造方法。 - 前記吸着工程において、前記導電膜に囲われた内側の領域は、前記発熱プレート部との間で密閉される、ことを特徴とする請求項8に記載の薄膜基板製造方法。
- 請求項8〜11のいずれかの一つの薄膜基板加熱方法により薄膜基板を加熱する加熱工程と、
前記加熱工程を経て製造された前記薄膜基板を切断する切断工程と、を備える表示装置製造方法。 - 前記切断工程の前に、前記薄膜基板及び絶縁性の基材からなる他の薄膜基板とを、前記薄膜基板と前記他の薄膜基板との間に液晶組成物を封止して接着する接着工程を更に備える、ことを特徴とする請求項12に記載の表示装置製造方法。
- 前記切断工程においては、前記薄膜基板上の導電膜が形成された領域を切断する、ことを特徴とする請求項12に記載の表示装置製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010040087A JP5420447B2 (ja) | 2010-02-25 | 2010-02-25 | 薄膜基板、表示装置、加熱装置、薄膜基板加熱方法及び表示装置製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010040087A JP5420447B2 (ja) | 2010-02-25 | 2010-02-25 | 薄膜基板、表示装置、加熱装置、薄膜基板加熱方法及び表示装置製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011173363A JP2011173363A (ja) | 2011-09-08 |
JP5420447B2 true JP5420447B2 (ja) | 2014-02-19 |
Family
ID=44686698
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010040087A Expired - Fee Related JP5420447B2 (ja) | 2010-02-25 | 2010-02-25 | 薄膜基板、表示装置、加熱装置、薄膜基板加熱方法及び表示装置製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5420447B2 (ja) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002049051A (ja) * | 2000-08-03 | 2002-02-15 | Toray Ind Inc | 液晶表示装置用基板および液晶表示装置 |
JP2002189228A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-07-05 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及びその製造方法、並びに投射型表示装置 |
JP2004233912A (ja) * | 2003-02-03 | 2004-08-19 | Nakan Corp | 液晶パネル配向塗膜乾燥装置 |
JP5045107B2 (ja) * | 2007-01-05 | 2012-10-10 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置、及びこれを備えた電子機器 |
JP2009098425A (ja) * | 2007-10-17 | 2009-05-07 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置及びその製造方法 |
-
2010
- 2010-02-25 JP JP2010040087A patent/JP5420447B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011173363A (ja) | 2011-09-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9591748B2 (en) | Capacitance touch panel module and fabrication method thereof | |
TWI394732B (zh) | 密封玻璃包封之方法 | |
CN107909927A (zh) | 一种柔性显示面板及其制备方法 | |
US20140150244A1 (en) | Adhesive-free carrier assemblies for glass substrates | |
CN104409408A (zh) | 一种刚性基板及柔性显示器的制作方法 | |
JP2015116694A (ja) | 樹脂層付き支持基板の製造方法、ガラス積層体の製造方法、電子デバイスの製造方法 | |
KR20180002047A (ko) | 배면 시트, 배면 시트의 제조방법 및 이를 포함하는 폴더블 디스플레이 | |
WO2016123957A1 (zh) | 封装方法、显示面板及显示装置 | |
JP5420447B2 (ja) | 薄膜基板、表示装置、加熱装置、薄膜基板加熱方法及び表示装置製造方法 | |
US11744140B2 (en) | Flexible display panel and fabrication method thereof | |
JP2019144347A (ja) | 表示装置の製造方法 | |
TWI628079B (zh) | 玻璃基板的製造方法 | |
TWI224575B (en) | Supporting construction and loading equipment of substrate and robot hand | |
TW201608428A (zh) | 觸控面板 | |
WO2016180079A1 (zh) | 显示面板及其制作方法、显示装置 | |
EP3399551B1 (en) | Method for preparing oled display device | |
WO2013078729A1 (zh) | 一种液晶显示装置及其制作方法 | |
JP2008034504A (ja) | 電気光学装置の製造方法、及び製造装置 | |
KR101794550B1 (ko) | 지지기판과 그 제조방법 및 디스플레이 장치용 기판의 제조방법 | |
WO2020084981A1 (ja) | デバイス連結体の製造方法、及び、デバイス連結体 | |
JP2007095885A (ja) | 電気光学装置の製造方法 | |
JP2006066375A (ja) | 有機電界発光表示装置の製造方法、及びそれに用いるレーザ熱転写方法 | |
KR100659058B1 (ko) | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 박막 증착 방법 | |
TW201931338A (zh) | 可撓性電子裝置及其製作方法 | |
TW201900401A (zh) | 用於處理基板之方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121211 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130828 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130903 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130930 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131029 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131120 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5420447 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |