JP5418020B2 - 撮像装置 - Google Patents

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Description

本発明は、撮像装置に関する。
撮像後の画像に対して画像処理をする撮像装置がある(特許文献1を参照)。
特開2006−067521号公報
撮像装置は、撮像する場合の操作性を考慮して設計されているので、画像処理を撮像装置上で実行する場合の操作に使用できるユーザインターフェースは乏しい。このため、画像にミニチュア効果を与える等の画像処理を実行する場合に、ユーザがパラメータの値を変更する手立てが撮像装置に用意されていない場合がある。
そこで、上記課題を解決すべく、本発明の一態様として、元画像に含まれる帯状の注目領域(580)について、元画像における注目領域の幅および位置に対する指示を受け付ける入力部(390)と、指示された注目領域を元画像から除いた背景領域(590)の空間周波数を、注目領域の空間周波数よりも低くする画像処理をする処理部(420)とを備える撮像装置が提供される。
撮像装置100を正面側から見た斜視図である。 撮像装置100の背面図である。 撮像装置100内部構造を示す模式図である。 主制御部300の構造を示すブロック図である。 ASIC400の構造と機能を示すブロック図である。 画像処理が選択される場合の、表示画像501の一例を示す図である。 画像処理が選択された場合の表示画像502の一例を示す図である。 画像処理における画像データの流れを示すフローチャートである。 マスクパターン601の一例を示す図である。 画像処理における操作手順を示すフローチャートである。 位置が変更された注目領域580を含む表示画像503を示す図である。 表示画像503対応するマスクパターン602を示す図である。 位置が変更された注目領域580を含む表示画像504を示す図である。 表示画像504に対応するマスクパターン603を示す図である。 向きが異なる表示画像505を示す図である。 表示画像505に対応するマスクパターン604を示す図である。 傾きが異なる表示画像506を示す図である。 表示画像506に対応するマスクパターン605を示す図である。 幅が変更された注目領域580を含む表示画像507を示す図である。 表示画像507に対応するマスクパターン606を示す図である。 他のマスクパターン607を示す図である。 幅が変更された注目領域580を含む表示画像508を示す図である。 表示画像508に対応するマスクパターン608を示す図である。 他のマスクパターン609を示す図である。
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
図1は、撮像システム101を正面側からみた斜視図である。撮像システム101は、撮像装置100およびレンズユニット200を備える。図1の撮像システム101において、レンズユニット200は撮像装置100からユーザにより着脱可能であるが、これに限られず、レンズユニット200が撮像装置100から取り外せない撮像システム101であってもよい。
撮像装置100には、電源スイッチ161、レリーズスイッチ191、ダイヤルスイッチ180等のスイッチが設けられる。電源スイッチ161は撮像装置100の電源投入および遮断の操作に用いられ、レリーズスイッチ191は撮像のタイミングを指示するのに用いられる。ダイヤルスイッチ180は、撮像装置100の各種機能および撮像条件の複数の選択肢を切り換えるのに用いられる。
図2は、撮像装置100の背面図である。撮像装置100の背面には、カラー表示ができる主表示部172が配される。主表示部172は、高い解像度と広い表示面積を有して、撮影された画像を再生する場合に使用される。
また、主表示部172は、撮像装置100の動作条件等を設定する場合にも、ユーザに対するインターフェースの一部として用いられる。更に、後述する画像処理においても、ユーザインターフェースとして使用される。
撮像装置100の背面には、十字キー193が配される。十字キー193は、上下左右に配された4つのスイッチを少なくとも含む。
また更に、撮像装置の背面においては、撮像モード、再生モード、設定モード等の撮像装置100の動作モードの設定に応じて、主表示部172の周囲に配された押しボタンスイッチに割り当てられる機能が変化する。後述する画像処理を実行する動作モードでは、OKボタン195、縮小表示ボタン197、再生ボタン199および十字キー193が、操作ボタンとして使用される。
図3は、撮像装置100の内部構造を示す模式図である。撮像装置100の前面には、マウント130にレンズユニット200が装着されて、撮像システム101を形成する。
撮像装置100は、主鏡240、ペンタプリズム270、接眼光学系290を含む光学系と、主制御部300を含む制御系とが収容される。光学系において、主鏡240は、入射光の光路上に傾斜して配置される待機位置と、入射光を避けて上昇する撮影位置(図中に点線で示す)との間を移動する。
待機位置にある主鏡240は、入射光の大半を、上方に配置されたフォーカシングスクリーン272に導く。フォーカシングスクリーン272は、レンズユニット200の撮像光学系230の合焦位置に配置され、撮像光学系230により形成された画像を結像させる。
フォーカシングスクリーン272に結像された画像は、ペンタプリズム270を介して接眼光学系290から観察される。これにより、接眼光学系290からは、フォーカシングスクリーン272上の映像を正像として見ることができる。
ペンタプリズム270および接眼光学系290の間には、ファインダLCD294に形成された表示画像を、フォーカシングスクリーン272の映像に重畳させるハーフミラー292が配置される。これにより、接眼光学系290の出射端においては、フォーカシングスクリーン272の映像と、ファインダLCD294の映像とを併せて見ることができる。なお、ファインダLCD294には、撮像システム101の撮影条件、設定条件等の情報が表示される。
また、ペンタプリズム270の出射光の一部は、測光部330に導かれる。測光部330は、入射光の強度およびその分布等を測定して、撮影条件を決定する場合に測定結果を参照させる。測光部330は、後述する主制御部300に含まれる。
一方、入射光の入射面に対する主鏡240の裏面には、副鏡242が配置される。副鏡242は、主鏡240の一部を透過した入射光を、下方に配置された位相差検出型焦点検出部310に導く。位相差検出型焦点検出部310は、後述する主制御部300に含まれ、主鏡240が待機位置にある場合に、撮像光学系230の焦点が被写体に合う位置を検出する。なお、主鏡240が撮影位置に移動した場合は、副鏡242も入射光の光路から退避する。
レンズユニット200からの入射光に対して主鏡240の後方には、シャッタ250、光学フィルタ282およびイメージセンサ280が光軸Xに沿って配置される。シャッタ250がレリーズされる場合は、その直前に主鏡240が撮影位置に移動するので、入射光は直進してイメージセンサ280に入射される。これにより、入射光の形成する画像が、イメージセンサ280において電気信号に変換される。
主制御部300は、上記のような種々の動作を総合的に制御する。また、主制御部300は、レンズユニット200と信号を交換して、絞り部162の開閉等も制御する。更に、主制御部300は、露出の自動化、シーンモードの実行、ブラケット撮影の実行等にも寄与する。
更に、主制御部300は、撮像装置100の動作モードとして、後述する画像処理が指示された場合に、画像処理を実行する。主制御部300の詳細な構造については、図4を参照して後述する。
レンズユニット200は、撮像装置100のマウント130に結合されたレンズ鏡筒210と、レンズ鏡筒210に収容された絞り装置220および撮像光学系230とを含む。絞り装置220は、撮像装置100からの指示に応じて開閉して、撮像光学系230の被写界深度を変化させる。
撮像光学系230は、複数のレンズ群231、232、233を含む。レンズ群231、232、233の一部を光軸Xの方向に移動させることにより、撮像光学系の焦点位置が変化するので、被写体に焦点を合わせることができる。また、レンズ群231、232、233の一部または全部を移動させることにより、撮像光学系230の焦点距離を変えて撮像倍率を変化させる。
なお、レンズユニット200は、図示していない接続端子を介して、撮像装置100に対して電気的にも結合される。これにより、レンズユニット200は、撮像装置100から電力を供給される。また、撮像に伴ってレンズユニット200が操作された場合に、焦点距離、被写体深度等の撮像情報を、撮像装置100の主制御部300に電気信号として伝える。
図4は、主制御部300の構造を示すブロック図である。主制御部300は、既に説明した位相差検出型焦点検出部310および測光部330の他に、傾き検出部320、レンズユニット通信回路350、プロセッサ360、主記憶回路380、入力受付部390およびASIC400を有する。また、撮像装置100に装着された不揮発性記憶媒体382も、主制御部300の制御下にある。
傾き検出部320は、加速センサ、ジャイロセンサ等を用いて、重力方向に対する撮像装置100の姿勢を検出する。これにより、撮像した画像が、横長の画像となる横位置で撮影されたか、縦長の画像となる縦位置で撮影されたかを検出して記録する。また、何れかの位置で撮影されたものの、撮像装置100が水平または垂直に対して傾いていた場合に、傾きの大きさをも検出する。検出結果は、撮像情報の一部として、プロセッサ360に参照される。また、傾き情報は、撮像情報の一部として撮影画像に付随して記録される(画像ファイルに含まれてもよい)。
レンズ通信回路350は、レンズユニット200との通信を司り、位相差検出型焦点検出部310の算出結果に応じてレンズユニット200に駆動信号を送信する。また、レンズユニット200が操作された場合に、撮像倍率等の撮像条件に関する情報を受信する。
入力受付部390は、外部からの指示を受け付ける。ここでいう指示は、例えば、後述する画像処理における、注目領域の位置、注目領域の幅、背景領域における空間周波数の低下量の分布等の指示も含む。入力受付部390に受け付けられた指示は、プロセッサ360および主記憶回路380を介して、例えば、ASIC400にも転送される。
電源スイッチ161が投入された状態で、レリーズスイッチ191が半押しされると、測光部330は被写体の測光を開始する。また、位相差検出型焦点検出部310は、撮像光学系230を合焦させるべくレンズユニット200を駆動する条件を算出する。また、タイミング発生器374によりアナログ信号処理回路376およびアナログ/デジタル変換器378が同期される。
レリーズスイッチ191が半押しから更に深く押し込まれると、レンズユニット200が駆動されて、撮像光学系230を合焦させる。また、測光部330の測定結果を参照して設定された撮像条件で絞り装置220が絞り込まれる。更に、シャッタ250が開放されて、イメージセンサ280が露光される。
例えばCCDであるイメージセンサ280は、入射光に応じた電荷を蓄積する。更に、タイミング発生器374に同期して垂直駆動回路372に駆動されたイメージセンサ280は蓄積された電荷を出力する。
アナログ信号処理回路376は、OBクランプ回路、自動利得制御回路、二重相関サンプリング回路等を含み、アナログ画像信号の黒レベル再生、波形整形、雑音除去等の処理をした後に出力する。出力されたアナログ画像信号は、アナログ/デジタル変換器378においてデジタル画像信号に変換される。
デジタル画像信号は、バッファ410に格納され、ASIC400により後述する画像処理を受ける。ASIC400における画像処理については後述する。
なお、主制御部300は、位相差検出型焦点検出部310の他に、イメージセンサ280から得られた画像から空間周波数のコントラストを検出して焦点を検出する、コントラスト検出型焦点検出部309を有する。これにより、イメージセンサ280から得られた画像を主表示部172で参照しつつ撮像することもできる。
図5は、ASIC400の構造と機能を示すブロック図である。ASIC400は、撮像装置100の撮像に伴う画像処理と、撮像により得られた画像に対して、撮像後の画像処理とを実行する。
ASIC400は、作業領域となるバッファ410から入力画像411を獲得して処理する。バッファ410は、アナログ/デジタル変換器378、プロセッサ360、主表示部172に接続される。バッファ410は、後述する画像後処理においても作業領域となる。
また、ASIC400は、バッファ410に対してアクセス可能な画像処理部420、圧縮モジュール430、書込/読出モジュール440、αブレンドモジュール450およびローパスモジュール460を有する。書込/読出モジュール440は、主記憶回路380に対するデータの入出力の他に、ASIC400の外部に配された不揮発性記憶媒体382への情報の読み書きも担う。更に、ASIC400は、画像処理部420に対する入力を有する位置初期値生成部470、幅初期値生成部480および低下量初期値生成部490を有する。
アナログ/デジタル変換器378において生成されたデジタル画像信号はバッファ410に入力画像411として格納される。画像処理部420は、入力画像411から抽出したホワイトバランス調整値を参照して、ホワイトバランス等を調整した処理画像412として、再びバッファ410に格納される。
続いて、処理画像412は、圧縮モジュール430により圧縮される。圧縮モジュール430により、例えば、JPEG形式でフォーマットされた圧縮画像413は、再びバッファ410に格納される。
また、圧縮画像413からは、主表示部172に表示される表示用画像が生成され、主表示部172に表示される。更に、圧縮画像413は、書込/読出モジュール440により、主記憶回路380を経由して、フラッシュメモリカード等の不揮発性記憶媒体382に記録される。
なお、撮像装置100の設定によっては、アナログ/デジタル変換器378からバッファ410に転送されたデジタル画像信号を、画像処理をすることなく、RAWファイルとして不揮発性記憶媒体382に保存する場合もある。更に、RAWファイルを圧縮したものが保存される場合、RAWファイルと圧縮画像とが併せて保存される場合等がある。
ASIC400は、上記のような撮像画像に対する画像処理の他に、不揮発性記憶媒体382から読み出した対象画像414に対しても画像処理を実行する。このような画像処理を実行する場合は、入力受付部390が受け付けた画像処理の指示が、ASIC400に転送される。以下、対象画像414を元画像とした画像処理について説明する。
図6は、ASIC400に実行させる画像処理の内容を指定する場合に、主表示部172に表示される表示画像501の一例を示す。表示画像501は、選択肢として、スモールピクチャー511、画像合成512、RAW現像513、簡単レタッチ514、ミニチュア効果515を並べて表示する。
この表示画像501に対して、例えば、十字キー193の上下方向を指示する領域を押すことにより、表示画像501のハイライト枠516を移動させ、選択する画像処理を指定できる。図示の例では、ミニチュア効果515が、ハイライト枠516に包囲されている。更に、図示の状態でOKボタン195を押すことにより、画像処理内容を確定することができる。
なお、主表示部172の周縁部には、操作できるボタン類と、その機能がガイド520として表示される。これにより、次の操作が案内されるので、操作に不慣れなユーザも操作を迷うことが防止される。
図7は、図6に示した表示画像で画像処理内容がミニチュア効果515に確定された場合に、主表示部172に表示される表示画像502を示す。表示画像502は、木および人を含む対象画像414を表示すると共に、水平に長い帯状の注目領域580を包囲した領域指定枠582を画像に重ねて表示している。
なお、ミニチュア効果は、水平な帯状の注目領域580に対して、それ以外の領域である背景領域590の画像の空間周波数を低下させることにより、画像が恰もミニチュア模型を撮影したかのように見せる画像処理である。このため、ミニチュア効果が得られる画像処理では、注目領域580の位置および広さと、背景領域590のぼけ具合を適切に指定することにより、より高い効果が得られる。
なお、ミニチュア効果を得る画像処理の指定が入力されて、図7に示した表示画像501が表示される場合、注目領域580の位置、幅および処理の強さについて、それぞれの初期値が、位置初期値生成部470、幅初期値生成部480および低下量初期値生成部490から画像処理部420に与えられる。これにより、ASIC400は、図7に示した領域指定枠582を含む画像を生成することができる。
図8は、背景領域590の空間周波数を低くする場合に、ASIC400が実行する処理を示すフローチャートである。図示のように、対象画像414の画像信号が入力されると(S101)、ローパスモジュール460により、対象画像(原画像)414の画像信号に対するローパスフィルタ処理が実行される(S102)。
ローパスフィルタ処理を受けた対象画像414の画像信号(以降ではローパス処理後信号と称す)は空間周波数が低下するので、撮像装置100において焦点がずれたまま撮像された画像のようなぼけが生じる。また、画像処理部420は、上記ローパスフィルタ処理を受けた画像を、元の対象画像とブレンドする場合に、領域指定枠582が指定した注目領域580をマスクするマスクパターン601を生成する(S103)。
図9は、生成されるマスクパターン601の一例を示す図である。図中、最も黒い部分は、後述するαブレンド処理工程で行われる、S102で生成されたローパス処理後信号に対する加重平均割合が0%となるエリアを示す。黒さの度合いは、ローパス処理後信号に対する加重平均される割合(加重平均の重みに相当)を示すものであり、黒さが濃くなるに応じてその割合(重み)は低下する(逆に図9において、マスクパターンが白く(透明に)なるエリアほど、ローパス処理後信号が加重平均される際の割合が高くなる(重みが重くなる))。図示のように、マスクパターン601は、画像の高さ方向の中央付近をマスクし、画像の高さ(上下)方向に沿って、周辺(上端又は下端)に近づくにつれてマスクパターンの透過率(白さ)が高くなっている。なお、参考までに、マスクパターン601の右側に、マスクパターン601の透過率のプロファイルを示す。
再び図8を参照すると、αブレンドモジュール450は、マスクパターン601に従って、当初の対象画像414とローパスフィルタ処理した画像とをブレンドする(S104)。
ここで、αブレンドモジュール450の行う処理について詳述する。αブレンドモジュール450は、対象画像414の原画像と、原画像414に対してローパスフィルタリング処理を施したローパスフィルタ処理画像とを、各画素ごとに(画素単位で)、マスクパターン601で設定された割合で加重平均(画素混合)処理する。
例えば、図9に示すマスクパターンに基づいて加重平均(画素混合)処理する場合を説明すると、この図9のマスクパターンでは、中央部の画素に関しては、原画像414の信号(以後、「原画信号」と称す)を100%とし且つステップS102で生成されたローパス処理後信号を0%として、互いの画像信号間の対応する位置の画素の信号を加重平均(混合)する。反対に図9のマスクパターンでは、周辺部(上下端)に近づくほど透過率(白さ)が増しており、周辺部では先ほどとは逆に、加重平均する際の原画信号の重みを軽くしローパス処理後信号の重みを重くすることになる。
これにより、注目領域580の空間周波数の変化を少なくしつつ、背景(周辺)領域590はローパスフィルタ処理の影響を強くなった、ミニチュア効果の施された画像が生成される。
図10は、画像処理全体の処理の流れを示すフローチャートである。図示のように、以下に説明する撮像装置100の操作手順では、まず、注目領域580の位置を指定する指示が入力される(S201)。注目領域580の場所は、例えば、注目領域580の上辺の、画像における高さ方向の位置を決定することにより指定される。また、後述するように、注目領域580に傾きが求められる場合は、それが位置指定の一部として指定される(S202)。
次に、注目領域580の長手方向に直交する幅を指定する指示が入力される(S203)。これにより、注目領域580の広さが指定される。続いて、ミニチュア効果の強さとして背景(周辺)領域に対する処理の強さ(ローパスフィルタのローパス度合い)が指定される(S204)。画像処理の条件がすべて入力された場合、撮像装置100はミニチュア効果が得られる画像処理を開始する。
図11は、注目領域580を指定する領域指定枠582を下方に移動させる操作を示す図である。図11には、図7に示した表示画像502と比較した場合に、領域指定枠582の位置が低くなった表示画像503が表示される。
ユーザは、ガイド521を参照して、領域指定枠582を下方に移動させる操作が、十字キー193の下向きの領域を押すことであることを知る。これにより、ユーザが十字キー193の当該領域を押すと、領域指定枠582は徐々に移動し、十字キー193を離した時点で停止する。しかしながら、再び十字キー193を押すと移動する。最終的に、領域指定枠582の位置は、OKボタン195を押すことにより保存され、確定される。
OKボタン195を押す前にガイド522に従ってOKボタン195を押すことにより、そのときに表示されている領域指定枠582の指定に従って対象画像414にミニチュア効果を掛けた場合の画像をプレビューできる。これにより、領域指定枠582の位置を確定させる前に、その位置で得られる効果を確認できる。
図12は、図11に示した表示画像503に対応して生成されたマスクパターン602を示す図である。図12のマスクパターン602の濃い領域は下方に寄っている。これにより、図9に示したマスクパターン601と比較した場合に、より低い領域がマスクされる。
図13は、注目領域580を指定する領域指定枠582を上方に移動させる操作を示す図である。図7に示した表示画像502と比較した場合に、図13には、領域指定枠582の位置が高くなった表示画像504が表示される。
ユーザは、ガイド523を参照して、領域指定枠582を上方に移動させる操作が、十字キー193の上向きの領域を押すことであることを知る。これにより、ユーザが十字キー193の当該領域を押すと、領域指定枠582は上方に移動し、十字キー193を離した時点で停止する。ユーザが再び十字キー193を押すと領域指定枠582は上昇する。最終的に、領域指定枠582の位置は、OKボタン195を押すことにより保存され、確定される。
図14は、図13に示した表示画像503による指定に対応して生成されたマスクパターン603を示す図である。図示のように、マスクパターン602の濃い(黒い)領域は上方に寄っている。これにより、図9に示したマスクパターン601と比較した場合に、より高い領域がマスクされる。
なお、上記のように、マスクパターン602、603は、透過率のプロファイルが非対称になっている。これにより、ミニチュア効果をかけた対象画像では、被写体を見上げた(マスクパターン603の場合)、あるいは、見下ろした(マスクパターン602の場合)効果が得られる。
図15は、縦長の対象画像415が主表示部172に表示される表示画像505を示す図である。対象画像(原画像)415が縦長であることは、撮像情報として記録される、対象画像415の撮像時における傾き検出部320の検出結果により判別される(カメラの撮影姿勢がいわゆる縦位置撮影姿勢である場合に、そのことが傾き検出部320の検出結果から判別できる)。
対象画像415が縦長である場合でも、領域指定枠582は、この縦長の画像415に対して水平方向(横方向)に長い帯状の領域を示す。縦位置撮影姿勢で撮影された画像には、既述したように縦位置撮影であることを示す情報が画像に付随して記録されているので、カメラはこの情報に基づいて、図15に示すような配置で領域指定枠582を自動的に設定する。
図16は、図15に示した表示画像505に対応するマスクパターン604を示す図である。図示のように、マスクパターン604は、全体して縦長の矩形をなして、高さ方向の中央において、最も濃い(黒い)マスクを形成する。また、マスクパターン604は、上端および下端に向かって徐々に透過率が高くなるパターンを有する。このマスクパターン604を使って、図8にて既述した如きαブレンド処理を原画像を415として処理することにより、図15に示した注目領域580の内側では空間周波数が殆ど低下せず、背景領域590で空間周波数が低下するミニチュア効果画像を出力できる。
ところで、領域指定枠582の位置の初期値を、単純に画像の中央、あるいは、画像の一端とした場合、領域指定枠582に包囲された領域が、注目領域580として適切な領域か否かは不明である。このため、ミニチュア効果が映える領域指定枠582の位置は、ユーザが自ら模索しなくてはならない。また、画像処理に不慣れなユーザの場合、注目領域580の位置を決定する判断基準がなく、領域指定枠582の位置をなかなか指定できない。
そこで、例えば、位置初期値生成部470は、処理対象画像において、空間周波数の変化が急峻な領域に、注目領域580および背景領域590の境界が位置するように、位置初期値を選択してもよい。これにより、領域指定枠582の最終的な指定位置に近い位置初期値を提供し得る。また、操作に習熟していないユーザは、領域指定枠582をデフォルトの位置においたまま画像処理しても、ある程度のミニチュア効果が得られるという利点がある。
なお、位相差検出型焦点検出部310は、画面上で指定されたある点における焦点のずれを検出して、合焦に要するレンズの駆動量を算出する。このため、対象画像全体の空間周波数分布を把握することはできない。しかしながら、コントラスト検出型焦点検出部309は、画像全体のコントラストを監視するので、空間周波数の分布を把握できる。検出した分布は撮像情報に格納できる。
図17は、傾いた対象画像416を含む表示画像506を示す図である。図示のように、ユーザは、撮像装置100が縦位置でも横位置でもない、傾いた状態で撮像する場合がある。そこで、主制御部300に含まれる傾き検出部320の検出結果を、撮像画像に撮像情報の一部として記録して、画像処理に当たってこれを参照することにより、位置初期値生成部470は、処理画像内における水平方向に対して水平な帯状の領域指定枠582を生成する。これにより、ユーザが領域指定枠582を回転させる付加的な操作をすることなく、適切な向きの領域指定枠582が表示される。
図18は、図17に示す表示画像506に対応するマスクパターン605を示す図である。図示のように、マスクパターン605の略中央には、濃い(黒い)マスクパターンが、領域指定枠582と同じ傾斜で配される。このマスクパターン605を使って、図8にて既述した如きαブレンド処理を原画像を416として処理することにより、対象画像416には、その画像の傾きに関わらず最適な(その画像の水平度に応じた)ミニチュア効果を与えられる。
なお、入力受付部390に傾きを指定する情報がユーザに入力されることにより、帯状の領域指定枠582の画像中の傾きが任意に変更されてもよい。さらにまた、位置初期値生成部470が対象画像416の傾斜を検出して、領域指定枠582を傾けた初期値を生成するようにしてもよい。その場合に位置初期値生成部470は、対象画像416をハイパス処理してエッジを検出し、所定の長さの直線のエッジの有無を検知し、直線が検知された場合に当該直線を所定被写体(例えばビルや地平線など)により示される垂直または水平と認識し、上記初期値を生成する。これにより、ユーザの操作が一段階省かれるので、迅速に画像処理を開始できる。なお、位置初期値生成部470が領域指定枠582を自動的に傾けて表示した場合でも、ユーザは、領域指定枠582の傾きを更に変更できる。
図19は、幅が変更された注目領域580を含む表示画像507を示す図である。例えば、ガイド524の表示に従って、撮像装置100のダイヤルスイッチ180を操作することにより領域指定枠582の幅が変更される。図示の例では、ダイヤルスイッチ180の手前側縁部を左側に向かって移動させることにより、処理対象の画像に重なる領域指定枠582の幅が狭くなる。
図20は、図19に示す表示画像507に表示された領域指定枠582に対応するマスクパターン606を示す図である。マスクパターン606は、図9に示したマスクパターン601に比較すると、高さ方向の中央の濃いパターンの幅が顕著に狭い。これにより、対象画像414には、ミニチュア効果がより強く施される。
なお、OKボタン195を押す前に、縮小表示ボタン197を押すことにより、そのときに表示されている領域指定枠582の指定に従って対象画像414にミニチュア効果を掛けた場合の画像をプレビューできる。これにより、領域指定枠582の幅を確定させる前に、その位置で得られる効果を確認できる。
図21は、図19に示す領域指定枠582に対応する他のマスクパターン607を示す図である。マスクパターン607も、中央の濃いパターンの幅(高さ)は、図20に示したマスクパターン606と大きく変わらない。しかしながら、マスクパターン607の右側に示したプロファイルから判るように、マスクパターン607は、両端における透過率の変化が抑制されている。このようなプロファイルのマスクパターン607を用いて画像処理することにより、対象画像414に対して、より穏やかなミニチュア効果が得られる。
図22は、幅が変更された注目領域580を含む表示画像508を示す図である。例えば、ガイド525の表示に従って、撮像装置100のダイヤルスイッチ180を操作することにより領域指定枠582の幅が変更される。図示の例では、ダイヤルスイッチ180の手前側縁部を右側に向かって移動させることにより、処理対象の画像に重なる領域指定枠582の幅が広くなる。
図23は、図22に示す表示画像508に表示された領域指定枠582に対応するマスクパターン608を示す図である。マスクパターン608は、図9に示したマスクパターン601に比較すると、高さ方向中央の濃いパターンの幅が顕著に広い。これにより、対象画像414には、ミニチュア効果がより穏やかに施される。
図24は、図22に示す領域指定枠582に対応する他のマスクパターン609を示す図である。マスクパターン609も、中央の濃いパターンの幅(高さ)は、図20に示したマスクパターン608と大きく変わらない。しかしながら、マスクパターン607の右側に示したプロファイルから判るように、マスクパターン607は、両端における透過率の変化が拡大している。このようなプロファイルのマスクパターン607を用いて画像処理することにより、対象画像414に対してやや強いミニチュア効果を与えることができる。
上記のようにして、ユーザは、領域指定枠582の幅(高さ)を変更できる。領域指定枠582の幅がユーザの希望する広さになった場合、ユーザは、撮像装置100のOKボタン195を押して領域指定枠582の幅を確定できる。
なお、領域指定枠582の幅の初期値が一定である場合、領域指定枠582の幅初期値が注目領域580の幅として適切な広さか否かは相関が少ない。このため、ミニチュア効果が際立つ領域指定枠582の幅は、ユーザが自ら模索しなくてはならない。また、画像処理に不慣れなユーザの場合は、注目領域580の幅を決定することが難しい。
そこで、例えば、幅初期値生成部480は、処理対象画像の撮像情報から獲得した被写体までの距離を参照して、生成する初期値を変更してもよい。即ち、被写体までの距離が短いほど生成する幅の初期値を狭くして、被写体までの距離が長いほど生成する幅の初期値を広くするようにしてもよい。
これにより、求める領域指定枠582の指定幅に近い位置初期値を提供することができる。また、ユーザが画像処理になれていない場合も、デフォルトのままでも有効な画像処理ができる。
更に、マスクパターン606、607の選択、あるいは、マスクパターン608、609の選択に関しても、ミニチュア効果が際立つマスクパターン606、607、608、609をユーザが自ら模索しなくてはならない。また、画像処理に不慣れなユーザの場合は決定が難しい。従って、低下量初期値生成部490が、より蓋然性の高いマスクパターン606、607、608、609を当初から提示することが好ましい。
そこで、例えば、対象画像414の撮像情報から獲得した撮像光学系の焦点距離を参照して、焦点距離が短いほど低下量初期値生成部490が、空間周波数の変化量が大きいマスクパターン606、609を選択するようにしてもよい。また、画像処理の対象となる画像の撮像情報から獲得した撮像光学系の被写界深度を参照して、被写界深度が浅いほど、画像処理部における空間周波数の低下量がより大きいマスクパターン606、609を選択するようにしてもよい。
いずれの場合も、入力受付部390は、低下量初期値生成部490が提示したマスクパターン606、607を、他のものに変更することを受け付ける。これにより、最終的に、ユーザが求めるミニチュア効果を得ることができる。
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
100 撮像装置、101 撮像システム、130 マウント、161 電源スイッチ、162 絞り部、172 主表示部、180 ダイヤルスイッチ、191 レリーズスイッチ、193 十字キー、195 OKボタン、197 縮小表示ボタン、199 再生ボタン、200 レンズユニット、210 レンズ鏡筒、220 絞り装置、230 撮像光学系、231、232、233 レンズ群、240 主鏡、242 副鏡、250 シャッタ、270 ペンタプリズム、272 フォーカシングスクリーン、280 イメージセンサ、282 光学フィルタ、290 接眼光学系、292 ハーフミラー、294 ファインダLCD、300 主制御部、309 コントラスト検出型焦点検出部、310 位相差検出型焦点検出部、320 傾き検出部、330 測光部、350 レンズユニット通信回路、360 プロセッサ、372 垂直駆動回路、374 タイミング発生器、376 アナログ信号処理回路、378 アナログ/デジタル変換器、382 不揮発性記憶媒体、380 主記憶回路、390 入力受付部、400 ASIC、410 バッファ、411 入力画像、412 処理画像、413 圧縮画像、414、415、416 対象画像、420 画像処理部、430 圧縮モジュール、440 書込/読出モジュール、450 αブレンドモジュール、460 ローパスモジュール、470 位置初期値生成部、480 幅初期値生成部、490 低下量初期値生成部、501、502、503、504、505、506、507、508 表示画像、511 スモールピクチャー、512 画像合成、513 RAW現像、514 簡単レタッチ、515 ミニチュア効果、516 ハイライト枠、520、521、522、523、524、525 ガイド、580 注目領域、582 領域指定枠,590 背景領域、601、602、603、604、605、606、607、608、609 マスクパターン

Claims (9)

  1. 一画像内に部分的に設定される前記一画像の水平方向に延在する帯状の注目領域内の空間周波数よりも、前記一画像内の前記注目領域以外の領域の空間周波数低くする画像処理を実行して、前記一画像にミニチュア効果を付与する処理部を備えた画像処理装置であって、
    前記一画像内において、前記注目領域の、前記水平方向に垂直な方向における幅および位置を前記一画像から取得した情報に基づいて決定する決定部を有し、
    前記処理部は、前記決定部で決定された前記注目領域に基づいて、前記一画像に前記画像処理を実行することを特徴とする画像処理装置。
  2. 前記決定部は、
    前記画像の撮像情報から獲得した被写体までの距離に基づいて、前記距離が短いほど、前記注目領域の前記幅の初期値を狭くする幅初期値生成部を更に備える、ことを特徴とする請求項1に記載の画像処理装置
  3. 前記決定部は、
    前記画像において空間周波数の変化が急峻な領域に、前記注目領域の前記位置の初期値を設定する位置初期値生成部を更に備える、ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の画像処理装置
  4. 前記一画像内において、前記注目領域の、前記水平方向に垂直な方向における幅および位置の少なくとも一方について指示を受け付ける入力部を更に有し、
    前記決定部は、前記入力部の指示に基づいて、前記注目領域の、前記水平方向に垂直な方向における幅および位置の少なくとも一方を任意に決定する、ことを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載の画像処理装置
  5. 前記決定部は、
    前記画像の撮像情報から獲得した前記画像の傾きを示す情報に基づいて、前記注目領域の傾きを決定する傾き決定部を更に備える、ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の画像処理装置
  6. 前記傾きを変更する指示を受け付ける傾き入力部を更に有することを特徴とする請求項5に記載の画像処理装置
  7. 前記処理部は、
    前記一画像の撮像情報から獲得した撮像光学系の焦点距離に基づいて、前記焦点距離が短いほど、前記処理部における空間周波数の低下量を大きくする処理量決定部を更に備える、ことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の画像処理装置
  8. 前記処理部は、
    前記画像の撮像情報から獲得した撮像光学系の被写界深度に基づいて、前記被写界深度が浅いほど、前記処理部における空間周波数の低下量をより大きくする処理量決定部を更に備える、ことを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の画像処理装置
  9. 前記処理部における前記空間周波数の低下量を変更する指示を受け付ける入力部を更に有することを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の画像処理装置
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