JP5394032B2

JP5394032B2 - Reduced water generator

Info

Publication number: JP5394032B2
Application number: JP2008254966A
Authority: JP
Inventors: 純平大江; 有紀子三嶋; 洋須田; 良典才ノ本; 幸康浅野; 泰浩小村; 友宏山口
Original assignee: Panasonic Corp; Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Corp; Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2008-09-30
Filing date: 2008-09-30
Publication date: 2014-01-22
Anticipated expiration: 2028-09-30
Also published as: JP2010084201A

Description

本発明は、還元成分が溶解された還元水を発生する還元水発生装置に関するものである。 The present invention relates to a reduced water generator that generates reduced water in which a reducing component is dissolved.

従来より、アンチエイジングや食品の長期保存などを目的として、還元成分（例えば、水素分子やアスコルビン酸）が溶解された還元水（例えば、水素水やアスコルビン酸水溶液）を利用することが行われている。 Conventionally, for the purpose of anti-aging or long-term storage of foods, it has been performed to use reduced water (for example, hydrogen water or ascorbic acid aqueous solution) in which a reducing component (for example, hydrogen molecule or ascorbic acid) is dissolved. Yes.

特許文献１には、この種の還元水を製造できる水素水給水装置が提案されている。この種の水素水給水装置では、住戸へ給水されるべき水の一部が、戸外に設置された電気分解槽へ導入されて水素ガス及び酸素ガスを含んだ水とされる。その後、水素ガス及び酸素ガスを含んだ水が前記住戸へ給水されるべき水と混合された状態で住戸へ給水される。
特開２００５−１０５２８９号公報 Patent Document 1 proposes a hydrogen water supply device that can produce this type of reduced water. In this type of hydrogen water supply apparatus, a part of the water to be supplied to the dwelling unit is introduced into an electrolysis tank installed outside to be water containing hydrogen gas and oxygen gas. Thereafter, water containing hydrogen gas and oxygen gas is supplied to the dwelling unit in a state where it is mixed with water to be supplied to the dwelling unit.
JP 2005-105289 A

ところで、この種の水素水給水装置は、先述したように、水素水は、住戸へ供給されるべき水が、戸外に設置された電気分解槽へ導入されて水素ガス及び酸素ガスを含んだ水とされ、その後、住戸へ供給されるべき水と混合されて生成される。そのため、この種の水素水給水装置は、水素水を発生させるために、住戸への給水経路及び戸外に設置された電気分解槽を大掛かりに使用する必要があるため、水素水を簡便に発生させにくい。また、この種の水素水給水装置は、住戸への給水経路及び戸外に設置された電気分解槽を含んで構成されているため、コンパクトな構成ではなく、美顔器やサウナスーツ等、ユーザが通常持ち運びをするような物品に内蔵させることが困難である。 By the way, as described above, this type of hydrogen water supply apparatus is a water containing hydrogen gas and oxygen gas when water to be supplied to a dwelling unit is introduced into an electrolysis tank installed outdoors. And then mixed with water to be supplied to the dwelling unit. For this reason, this type of hydrogen water supply apparatus needs to use the water supply path to the dwelling unit and the electrolysis tank installed outside in order to generate hydrogen water. Hateful. In addition, since this type of hydrogen water supply apparatus is configured to include a water supply path to the dwelling unit and an electrolysis tank installed outside the house, the user does not have a compact structure, such as a facial device or a sauna suit. It is difficult to incorporate it into an article that is carried around.

したがって、還元水を簡便に発生させることが所望され、また、コンパクトな構成であることも所望される。 Therefore, it is desirable to generate reduced water easily, and it is also desirable to have a compact configuration.

本発明は、上記の問題を解決するためになされたもので、還元水を簡便に発生させることができ、かつ、コンパクトな構成とすることができる還元水発生装置を提供することを目的とするものである。 The present invention has been made to solve the above-described problem, and an object of the present invention is to provide a reduced water generator that can easily generate reduced water and can have a compact configuration. Is.

本発明の一局面に係る還元水発生装置は、水中で酸性成分を発生させ、前記水中で発生した前記酸性成分がイオン化して発生する陽イオン及び陰イオンを含む酸性水溶液を生成する酸性水溶液生成部と、前記酸性水溶液に含まれる前記陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する還元成分生成部と、前記還元成分生成部により生成された前記還元成分を水中で溶解させて、前記還元成分が溶解された還元水を生成する還元水生成部と、を備えており、前記酸性水溶液生成部は、前記酸性水溶液を生成するための水又は前記酸性水溶液を貯留する貯留部と、前記貯留部内に配置された第１の電極と、前記貯留部内に配置された第２の電極と、前記第１の電極及び前記第２の電極との間に挟持されて設けられ、前記貯留部と連通する貫通孔を有する絶縁スペーサと、前記第１の電極及び前記第２の電極へ高電圧を印加して、前記絶縁スペーサの前記貫通孔で沿面放電を行って、前記酸性成分の原料を生成するための高電圧印加部と、からなる放電部と、前記絶縁スペーサの前記貫通孔へ送風を導入して、前記沿面放電が行われている前記貫通孔で前記酸性成分の原料を生成させ、前記貫通孔で生成された前記酸性成分の原料を前記貯留部に貯留された前記水へ溶解させて前記酸性成分を発生させる送風部と、を備えることを特徴とする（請求項１）。 An apparatus for generating reduced water according to one aspect of the present invention generates an acidic component in water, and generates an acidic aqueous solution containing a cation and an anion generated by ionizing the acidic component generated in the water. A reducing component generating unit that generates a reducing component by giving electrons to the cation contained in the acidic aqueous solution and reducing the reducing component generated by the reducing component generating unit in water, A reduced water generator that generates reduced water in which the reducing component is dissolved, and the acidic aqueous solution generator is water for generating the acidic aqueous solution or a reservoir that stores the acidic aqueous solution; A first electrode disposed in the reservoir, a second electrode disposed in the reservoir, and the first electrode and the second electrode, the reservoir being interposed between the first electrode and the second electrode; Penetrating through A high voltage for generating a raw material of the acidic component by applying a high voltage to the first spacer and the second electrode and performing creeping discharge in the through hole of the insulating spacer. Introducing air to the through hole of the insulating spacer and the discharge part comprising the voltage application part, generating the raw material of the acidic component in the through hole where the creeping discharge is performed, A blower unit that dissolves the generated raw material of the acidic component in the water stored in the storage unit to generate the acidic component (Claim 1).

この構成によれば、酸性水溶液生成部が、水中で酸性成分を発生させ、前記水中で発生した前記酸性成分がイオン化して発生する陽イオン及び陰イオンを含む酸性水溶液を生成する。この酸性水溶液生成部では、放電部が、第１の電極及び第２の電極へ高電圧を印加して絶縁スペースの貫通孔で沿面放電を行う。また、送風部が貫通孔へ送風を導入して、貯留部外部から貫通孔を通過して貯留部内部の水へ行き渡る泡を大量に発生させる。これにより、貫通孔において酸性成分の原料が大量に生成される。 According to this structure, an acidic aqueous solution production | generation part produces | generates an acidic component in water, and produces | generates the acidic aqueous solution containing the cation and anion which the said acidic component generated in the water ionizes and generate | occur | produces. In the acidic aqueous solution generation unit, the discharge unit applies a high voltage to the first electrode and the second electrode to perform creeping discharge through the through hole of the insulating space. Moreover, a ventilation part introduces ventilation to a through-hole, and produces a lot of foam which passes through a through-hole from the storage part exterior, and spreads to the water inside a storage part. Thereby, the raw material of an acidic component is produced | generated in large quantities in a through-hole.

そして、この貫通孔で生成された酸性成分の原料が、送風部による送風により、貫通孔と連通する貯留部へ導入されて、貯留部に貯留された水へ溶解されて酸性成分とされる。水へ溶解された酸性成分は、水中でイオン化して陽イオン及び陰イオンとなり、その結果、貯留部に貯留されている水が陽イオンの濃度が高い酸性水溶液とされる。 And the raw material of the acidic component produced | generated by this through-hole is introduce | transduced into the storage part connected with a through-hole by the ventilation by a ventilation part, is melt | dissolved in the water stored by the storage part, and is made into an acidic component. The acidic component dissolved in water is ionized in water to become a cation and an anion, and as a result, the water stored in the storage part is made into an acidic aqueous solution having a high cation concentration.

また、この構成によれば、還元成分生成部は、酸性水溶液に含まれる陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する。また、還元水生成部は、還元成分生成部により生成された還元成分を水に溶解させて、還元成分が溶解された還元水を生成する。 Moreover, according to this structure, a reducing component production | generation part produces | generates a reducing component by giving an electron to the cation contained in acidic aqueous solution, and reduce | restoring. The reduced water generating unit dissolves the reduced component generated by the reduced component generating unit in water to generate reduced water in which the reduced component is dissolved.

そのため、酸性水溶液を生成する処理、前記処理により生成された酸性水溶液に含まれる陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する処理、前記処理により生成された還元成分を水に溶解させる処理を順次行えば、還元水が発生するので、還元水を簡便に発生させることができる。また、酸性水溶液生成部において、放電部が、絶縁スペーサが有する貫通孔が貯留部と連通した状態で配置されているので、放電部と貯留部とをコンパクトに一体形成できるので、装置全体をコンパクトにすることができる。 Therefore, a process for generating an acidic aqueous solution, a process for generating a reduced component by applying electrons to cations contained in the acidic aqueous solution generated by the process, and a reducing component generated by the process are dissolved in water. If the treatment is sequentially performed, reduced water is generated, so that the reduced water can be easily generated. Further, in the acidic aqueous solution generation part, the discharge part is arranged in a state where the through hole of the insulating spacer communicates with the storage part, so that the discharge part and the storage part can be integrally formed in a compact manner, so that the entire apparatus is compact. Can be.

また、酸性成分の原料が、放電部と送風部とにより貯留部内の水に高濃度で溶解されて酸性成分とされ、その酸性成分がイオン化して陽イオン及び陰イオンとなるため、陽イオンが高濃度に溶解された酸性水溶液を生成することができる。 In addition, since the raw material of the acidic component is dissolved at high concentration in the water in the storage unit by the discharge unit and the blower unit to be an acidic component, and the acidic component is ionized to become a cation and an anion, An acidic aqueous solution dissolved in a high concentration can be produced.

上記構成において、前記陽イオンは水素イオンであり、前記還元成分生成部は、水素よりもイオン化傾向が大きな元素で構成され、前記酸性水溶液に含まれる前記水素イオンを還元して、前記還元物質として水素分子を生成する還元物質と、前記水素分子の生成量を調節する調節部と、を備える構成とすることができる（請求項２）。 In the above configuration, the cation is a hydrogen ion, and the reducing component generation unit is composed of an element having a higher ionization tendency than hydrogen, and reduces the hydrogen ion contained in the acidic aqueous solution as the reducing substance. A reducing substance that generates hydrogen molecules and a control unit that adjusts the amount of hydrogen molecules generated can be provided (claim 2).

この構成によれば、還元成分生成部において、水素よりもイオン化傾向が大きな元素で構成され、酸性水溶液に含まれる陽イオンを還元して、還元成分として水素分子を生成する還元物質が使用され、水素分子の生成量を還元量を調節する調節部を備える。 According to this configuration, the reducing component generation unit is configured with an element that has a greater ionization tendency than hydrogen, and a reducing substance that generates hydrogen molecules as a reducing component by reducing cations contained in the acidic aqueous solution is used. A control unit is provided for adjusting the reduction amount of the generated hydrogen molecule.

そのため、還元水発生装置は、酸性水溶液に高濃度で含まれる水素イオンを容易に還元して水素分子を生成することができる。また、高濃度で含まれる水素イオンを基に生成される水素分子の生成量を任意かつ容易に調節することができるので、還元水として、幅広い水素濃度を有する水素水を容易に発生させることができる。 Therefore, the reduced water generator can easily reduce hydrogen ions contained at a high concentration in the acidic aqueous solution to generate hydrogen molecules. In addition, since the amount of hydrogen molecules generated based on hydrogen ions contained at a high concentration can be arbitrarily and easily adjusted, hydrogen water having a wide range of hydrogen concentrations can be easily generated as reduced water. it can.

上記構成において、前記還元物質は、前記調節部へ着脱可能にされている構成とすることができる（請求項３）。この構成によれば、還元物質が水素イオンを還元して、還元物質の体積が減少した際には、体積が減少した還元物質を調節部から取り外して、新たな還元物質を調節部へ取り付けることができる。 The said structure WHEREIN: The said reducing substance can be set as the structure which can be attached or detached to the said adjustment | control part (Claim 3). According to this configuration, when the reducing substance reduces hydrogen ions and the volume of the reducing substance decreases, the reducing substance with the reduced volume is removed from the adjustment unit, and a new reducing substance is attached to the adjustment unit. Can do.

上記構成において、前記還元物質は、前記調節部により前記酸性水溶液に浸される範囲が調節可能にされている構成とすることができる（請求項４）。この構成によれば、還元物質が酸性水溶液に浸される範囲を調節して、水素分子の生成量を自在に調節できる。 In the above-described configuration, the reducing substance may be configured such that a range in which the reducing substance is immersed in the acidic aqueous solution is adjustable. According to this configuration, the amount of hydrogen molecules generated can be freely adjusted by adjusting the range in which the reducing substance is immersed in the acidic aqueous solution.

上記構成において、前記酸性水溶液を生成するための水を取得する水取得部を備える構成とすることができる（請求項５）。この構成によれば、ユーザが酸性水溶液を生成するための水を装置へ補充する必要がない。 The said structure WHEREIN: It can be set as the structure provided with the water acquisition part which acquires the water for producing | generating the said acidic aqueous solution (Claim 5). According to this configuration, it is not necessary for the user to replenish the apparatus with water for generating the acidic aqueous solution.

上記構成において、前記水取得部が、冷媒ガスを高温高圧に圧縮した後放熱させて冷媒液とする放熱部と、前記冷媒液を減圧した後気化させて前記冷媒ガスとする冷却部と、を備えており、前記冷却部による冷却により空気中の水分を結露させて前記水を取得する構成とすることができる（請求項６）。 In the above-described configuration, the water acquisition unit compresses the refrigerant gas to a high temperature and a high pressure and then dissipates the heat to make the refrigerant liquid, and the cooling unit makes the refrigerant liquid vaporize after depressurizing the refrigerant liquid. It is possible to obtain a configuration in which the water is obtained by condensation of moisture in the air by cooling by the cooling unit.

この構成によれば、冷却部による冷却効果により空気中の水分を結露させて水を取得する。そのため、ユーザが酸性水溶液を生成するための水を装置へ補充する必要がない。 According to this configuration, water in the air is condensed by the cooling effect of the cooling unit to acquire water. Therefore, it is not necessary for the user to replenish the apparatus with water for generating the acidic aqueous solution.

上記構成において、前記水取得部が、冷却面による冷却により、空気中の水分を結露させて前記水を取得するペルチェ素子を備える構成とすることができる（請求項７）。 The said structure WHEREIN: The said water acquisition part can be set as the structure provided with the Peltier element which condenses the water | moisture content in air and acquires the said water by cooling by a cooling surface (Claim 7).

この構成によれば、装置の体積が小さく、騒音や振動が生じないペルチェ素子で水を取得できるので、水取得部をコンパクトにすることができるとともに、水取得に騒音や振動が生じない。 According to this configuration, since the volume of the apparatus is small and water can be acquired by a Peltier element that does not generate noise and vibration, the water acquisition unit can be made compact and noise and vibration are not generated in water acquisition.

上記構成において、前記水取得部が、空気中の水分を吸着する吸着剤と、前記吸着剤を加熱して前記吸着剤に吸着された前記水分を脱離させるヒーターと、を備える構成とすることができる（請求項８）。 In the above configuration, the water acquisition unit includes an adsorbent that adsorbs moisture in the air, and a heater that heats the adsorbent and desorbs the moisture adsorbed on the adsorbent. (Claim 8).

この構成によれば、吸着剤が空気中の水分を吸着し、吸着剤に吸着された水分が、酸性水溶液の生成のために使用されるので、酸性水溶液を生成するための水を、装置に通電しなくても空気中から取得できるので、消費電力の抑制を図ることができる。 According to this configuration, the adsorbent adsorbs moisture in the air, and the moisture adsorbed on the adsorbent is used to generate the acidic aqueous solution. Therefore, water for generating the acidic aqueous solution is supplied to the apparatus. Since it can be acquired from the air without being energized, power consumption can be suppressed.

上記構成において、前記還元水生成部により生成された前記還元水を霧化させる還元水霧化部を備える構成とすることができる（請求項９）。この構成によれば、還元水が霧化されるので、離れた場所や広い範囲に還元水を散布することができる。 The said structure WHEREIN: It can be set as the structure provided with the reduced water atomization part which atomizes the said reduced water produced | generated by the said reduced water production | generation part (Claim 9). According to this configuration, since the reduced water is atomized, the reduced water can be sprayed to a remote place or a wide range.

上記構成において、前記還元水霧化部が、前記還元水に超音波を放射して霧化させる超音波放射素子を備える構成とすることができる（請求項１０）。この構成によれば、粒径がナノメートルサイズの液滴を散布することができる。 The said structure WHEREIN: The said reduced water atomization part can be set as the structure provided with the ultrasonic radiation element which radiates and atomizes an ultrasonic wave to the said reduced water (Claim 10). According to this configuration, droplets having a particle size of nanometer size can be dispersed.

上記構成において、前記還元水霧化部が、表面弾性波を発生して、前記表面弾性波により前記還元水を霧化させる表面弾性波発生部を備える構成とすることができる（請求項１１）。この構成によれば、表面弾性波が伝播する振動面を、還元水の水面と同じ高さに位置させることができるので、装置をコンパクトにすることができる。 The said structure WHEREIN: The said reduced water atomization part can be set as the structure provided with the surface acoustic wave generation part which generate | occur | produces a surface acoustic wave and atomizes the said reduced water by the said surface acoustic wave. . According to this configuration, since the vibration surface on which the surface acoustic wave propagates can be positioned at the same height as the water surface of the reducing water, the apparatus can be made compact.

上記構成において、前記還元水霧化部が、高電圧が印加されることで発生する高電界により前記還元水を霧化させる静電霧化部を備える構成とすることができる（請求項１２）。この構成によれば、粒径がナノメートルサイズの液滴を散布することができる。 The said structure WHEREIN: The said reduced water atomization part can be set as the structure provided with the electrostatic atomization part which atomizes the said reduced water by the high electric field which generate | occur | produces when a high voltage is applied (Claim 12). . According to this configuration, droplets having a particle size of nanometer size can be dispersed.

上記構成において、前記還元水霧化部が、前記還元水を加圧する加圧部と、前記加圧部により加圧された前記還元水を射出するための複数の小孔と、を備える構成とすることができる（請求項１３）。この構成によれば、還元水を大量に霧化させることができる。 In the above configuration, the reduced water atomization unit includes a pressurizing unit that pressurizes the reduced water, and a plurality of small holes for injecting the reduced water pressurized by the pressurizing unit; (Claim 13). According to this structure, a large amount of reduced water can be atomized.

本発明によれば、酸性水溶液を生成する処理、前記処理により生成された酸性水溶液に含まれる陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する処理、前記処理により生成された還元成分を水に溶解させる処理を順次行えば、還元水が発生するので、還元水を簡便に発生させることができる。 According to the present invention, a treatment for producing an acidic aqueous solution, a treatment for giving electrons to cations contained in the acidic aqueous solution produced by the treatment and reducing them to produce a reducing component, and a reducing component produced by the treatment If the process of dissolving in water is sequentially performed, reduced water is generated, and thus reduced water can be generated easily.

また、酸性水溶液生成部において、放電部が、絶縁スペーサが有する貫通孔が貯留部と連通した状態で配置されているので、放電部と貯留部とをコンパクトに一体形成できるので、装置全体をコンパクトにすることができる。 Further, in the acidic aqueous solution generation part, the discharge part is arranged in a state where the through hole of the insulating spacer communicates with the storage part, so that the discharge part and the storage part can be integrally formed in a compact manner, so that the entire apparatus is compact. Can be.

以下、本発明の一実施形態に係る還元水発生装置について説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る還元水発生装置の機能構成の一例を示すブロック図である。 Hereinafter, the reduced water generator concerning one embodiment of the present invention is explained. FIG. 1 is a block diagram illustrating an example of a functional configuration of a reduced water generator according to an embodiment of the present invention.

図１に示す還元水発生装置１は、酸性水溶液生成部２と、水取得部３と、還元成分生成部４と、還元水生成部５と、還元水霧化部６と、を備える。 A reduced water generator 1 shown in FIG. 1 includes an acidic aqueous solution generation unit 2, a water acquisition unit 3, a reduced component generation unit 4, a reduced water generation unit 5, and a reduced water atomization unit 6.

このような還元水発生装置１において、酸性水溶液生成部２は、水中で酸性成分を発生させ、水中で発生した酸性成分がイオン化して発生する陽イオン及び陰イオンを含む酸性水溶液を生成する。ここに、酸性成分は、過酸化水素や硝酸が挙げられ、これら過酸化水素や硝酸が水に溶解すれば、少なくとも、陽イオンとして水素イオンが発生する。また、水取得部３は、酸性水溶液を生成するための水を取得する。そのため、ユーザが酸性水溶液を生成するための水を補充する必要がなくなる。 In such a reduced water generator 1, the acidic aqueous solution generator 2 generates an acidic component in water, and generates an acidic aqueous solution containing cations and anions generated by ionizing the acidic component generated in water. Examples of the acidic component include hydrogen peroxide and nitric acid. When these hydrogen peroxide and nitric acid are dissolved in water, at least hydrogen ions are generated as cations. Moreover, the water acquisition part 3 acquires the water for producing | generating acidic aqueous solution. This eliminates the need for the user to replenish water for producing the acidic aqueous solution.

また、還元成分生成部４は、酸性水溶液に含まれる陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する。すなわち、酸性成分は酸性水溶液内においてはイオン化するため、酸性水溶液は少なくとも酸性成分から発生した陽イオンを含んでいる。ここに、酸性成分から発生した陽イオンは、酸性成分が過酸化水素や硝酸である際には水素イオンである。この場合、還元成分生成部４は、酸性水溶液に溶解されることによりイオン化した過酸化水素や硝酸から発生した水素イオンに電子を与えて還元し、還元成分として水素分子を生成する。 Moreover, the reducing component production | generation part 4 gives an electron to the cation contained in acidic aqueous solution, and reduce | generates, and produces | generates a reducing component. That is, since the acidic component is ionized in the acidic aqueous solution, the acidic aqueous solution contains at least a cation generated from the acidic component. Here, the cation generated from the acidic component is a hydrogen ion when the acidic component is hydrogen peroxide or nitric acid. In this case, the reducing component generator 4 gives electrons to hydrogen ions generated from hydrogen peroxide or nitric acid ionized by being dissolved in the acidic aqueous solution and reduces the hydrogen ions to generate hydrogen molecules as reducing components.

また、還元水生成部５は、還元成分生成部４により生成された還元成分を水に溶解させて、還元成分が溶解された還元水を生成する。ここに、還元水は、本実施形態では水素水である。また、還元水霧化部６は、還元水生成部５により生成された還元水を霧化させる。そのため、還元水を離れた場所や広い範囲に散布することができる。 Moreover, the reduced water production | generation part 5 melt | dissolves the reduced component produced | generated by the reduced component production | generation part 4 in water, and produces | generates the reduced water by which the reduced component was melt | dissolved. Here, the reduced water is hydrogen water in the present embodiment. Further, the reduced water atomization unit 6 atomizes the reduced water generated by the reduced water generation unit 5. Therefore, it is possible to spray the reduced water over a remote place or a wide range.

図２は、本発明の一実施形態に係る還元水発生装置の具体的構成の一例を示す図である。以下、図２に示す還元水発生装置１は、本明細書において、「具体的構成例１」とされる。 FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a specific configuration of the reduced water generator according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, the reduced water generator 1 shown in FIG. 2 is referred to as “specific configuration example 1” in the present specification.

［具体的構成例１］
以下、「上流」、「下流」との記載は、送風部２６から導入される送風に対する上流、下流をそれぞれ示すものとする。 [Specific Configuration Example 1]
Hereinafter, the descriptions of “upstream” and “downstream” indicate upstream and downstream with respect to the air blown from the blower unit 26, respectively.

図２に示す還元水発生装置１において、酸性水溶液生成部２は、貯留部２０、放電部２５、及び、送風部２６を備える。このような酸性水溶液生成部２において、貯留部２０は、図１に示す水取得部３としても設けられており、酸性水溶液Ｍ１の原料となる水、又は、酸性水溶液Ｍ１を貯留する。このような貯留部２０は、放電部２５の下流側に密着して配置されるタンクであり、その内部空間が、絶縁スペーサ２１の貫通孔２１ａと連通している。 In the reduced water generator 1 shown in FIG. 2, the acidic aqueous solution generation unit 2 includes a storage unit 20, a discharge unit 25, and a blower unit 26. In such an acidic aqueous solution generation unit 2, the storage unit 20 is also provided as the water acquisition unit 3 shown in FIG. 1, and stores water that is a raw material of the acidic aqueous solution M1 or the acidic aqueous solution M1. Such a reservoir 20 is a tank arranged in close contact with the downstream side of the discharge part 25, and its internal space communicates with the through hole 21 a of the insulating spacer 21.

また、酸性水溶液生成部２において、放電部２５は、貯留部２０と一体形成されており、微小な貫通孔２１ａを有する絶縁スペーサ２１と、絶縁スペーサ２１の上流側に配置された上流側電極（第１の電極）２２と、絶縁スペーサ２１の下流側に配置された下流側電極（第２の電極）２３と、上流側電極２２及び下流側電極２３へ高電圧を印加して、絶縁スペーサ２１の貫通孔２１ａで沿面放電を行って、貫通孔２１ａで酸性成分の原料を生成するための高電圧印加部２４と、を備える。尚、前記第１の電極が前記下流側電極２３で構成され、前記第２の電極が前記上流側電極２２で構成されることも挙げられる。 Further, in the acidic aqueous solution generation unit 2, the discharge unit 25 is formed integrally with the storage unit 20, and an insulating spacer 21 having a minute through hole 21 a and an upstream electrode (on the upstream side of the insulating spacer 21 ( A high voltage is applied to the first electrode) 22, the downstream electrode (second electrode) 23 disposed on the downstream side of the insulating spacer 21, the upstream electrode 22, and the downstream electrode 23, thereby insulating the spacer 21. A high voltage application unit 24 for generating creeping discharge in the through hole 21a and generating a raw material of an acidic component in the through hole 21a. The first electrode may be composed of the downstream electrode 23 and the second electrode may be composed of the upstream electrode 22.

このような放電部２５において、絶縁スペーサ２１はセラミックスボード等の不導体で構成されており、金属等の導体で構成されている上流側電極２２及び下流側電極２３で挟持された構成とされている。尚、絶縁スペーサ２１が有する貫通孔２１ａの孔径は、数十μｍ〜数ｍｍ程度、好ましくは、数１００μｍである。尚、前記貫通孔２１ａは、数１００μｍ程度と非常に微小径に設けているため、空気の流通を確保しながらも、貯留部２０に貯留されている水が貫通孔２１ａに侵入することを、表面張力により防止できる。 In such a discharge part 25, the insulating spacer 21 is made of a nonconductor such as a ceramic board, and is sandwiched between an upstream electrode 22 and a downstream electrode 23 made of a conductor such as metal. Yes. In addition, the hole diameter of the through-hole 21a which the insulating spacer 21 has is about several tens of micrometers-several mm, Preferably, it is several hundred micrometers. In addition, since the through hole 21a is provided with a very small diameter of about several hundreds μm, it is ensured that water stored in the storage unit 20 enters the through hole 21a while ensuring air circulation. Can be prevented by surface tension.

また、上流側電極２２及び下流側電極２３は、高電圧印加部２４に接続されている。上流側電極２２及び下流側電極２３は、高電圧印加部２４により、マイクロプラズマ放電用の高電圧が印加される。これにより、上流側電極２２及び下流側電極２３に挟持された絶縁スペーサ２１が有する貫通孔２１ａで沿面放電が生じる。 The upstream electrode 22 and the downstream electrode 23 are connected to the high voltage application unit 24. A high voltage for microplasma discharge is applied to the upstream electrode 22 and the downstream electrode 23 by the high voltage application unit 24. As a result, creeping discharge occurs in the through-hole 21 a of the insulating spacer 21 sandwiched between the upstream electrode 22 and the downstream electrode 23.

また、酸性水溶液生成部２において、送風部２６は、放電部２５の上流側に位置して設けられており、絶縁スペーサ２１の貫通孔２１ａへ送風を導入する。これにより、貯留部２０の外部から貫通孔２１ａを通過して貯留部２０の内部へと行き渡る泡Ｂを大量に発生させることができ、放電部２５の放電により沿面放電が生じている貫通孔２１ａにおいて酸性成分の原料が大量に生成される。 Further, in the acidic aqueous solution generation unit 2, the air blowing unit 26 is provided on the upstream side of the discharge unit 25, and introduces air into the through hole 21 a of the insulating spacer 21. Thereby, it is possible to generate a large amount of bubbles B that pass through the through hole 21 a from the outside of the storage unit 20 and reach the inside of the storage unit 20, and the through hole 21 a in which creeping discharge is generated by the discharge of the discharge unit 25. A large amount of raw material of acidic components is produced in

そして、この貫通孔２１ａで大量に生成された酸性成分の原料が、送風部２６による送風により、貫通部２１ａと連通して配置された貯留部２０へ導入されて、貯留部２０に貯留された水へ溶解される。 And the raw material of the acidic component produced | generated in large quantities by this through-hole 21a was introduce | transduced into the storage part 20 arrange | positioned by communicating with the penetration part 21a by the ventilation by the ventilation part 26, and was stored by the storage part 20 Dissolved in water.

ここに、酸性成分の原料は、酸性成分が先述した過酸化水素や硝酸である場合には、スーパーオキサイドラジカル、ヒドロキシラジカル、窒素酸化物、硝酸イオンが挙げられる。このような酸性成分の原料が、貯留部２０に貯留されている水の中に溶け込んで過酸化水素や硝酸が発生する。 When the acidic component is hydrogen peroxide or nitric acid as described above, examples of the raw material for the acidic component include superoxide radicals, hydroxy radicals, nitrogen oxides, and nitrate ions. The raw material of such an acidic component dissolves in the water stored in the storage unit 20 to generate hydrogen peroxide and nitric acid.

つまり、スーパーオキサイドラジカル、ヒドロキシラジカルが水に溶け込んで過酸化水素が発生して、貯留部２０に貯留されている水が、過酸化水素が溶解された水に変質する。また、窒素酸化物、硝酸イオンが水に溶け込んで硝酸が発生して、貯留部２０に貯留されている水が、硝酸が溶解された水に変質する。そして、貯留部２０に貯留されている水は、過酸化水素や硝酸が溶解された水に変質した際には、過酸化水素や硝酸が、陽イオン及び陰イオンにイオン化することにより、少なくとも陽イオンとして水素イオンが含まれた水となる。 That is, superoxide radicals and hydroxy radicals are dissolved in water to generate hydrogen peroxide, and the water stored in the storage unit 20 is transformed into water in which hydrogen peroxide is dissolved. Further, nitrogen oxides and nitrate ions dissolve in water to generate nitric acid, and the water stored in the reservoir 20 is transformed into water in which nitric acid is dissolved. When the water stored in the reservoir 20 is transformed into water in which hydrogen peroxide and nitric acid are dissolved, the hydrogen peroxide and nitric acid are ionized into cations and anions, so that at least positive The water contains hydrogen ions as ions.

このような酸性水溶液生成部２によれば、放電部２５が、貯留部２０の上流側において、絶縁スペーサ２１が有する貫通孔２１ａが貯留部２０と連通した状態で配置されているので、放電部２５と貯留部２０とをコンパクトに一体形成できるので、装置全体をコンパクトにすることができる。 According to such an acidic aqueous solution generation unit 2, the discharge unit 25 is arranged on the upstream side of the storage unit 20 with the through hole 21 a included in the insulating spacer 21 communicating with the storage unit 20. 25 and the storage part 20 can be integrally formed in a compact manner, so that the entire apparatus can be made compact.

また、酸性成分の原料が、放電部２５及び送風部２６により貯留部２０内の水に高濃度で溶解されるため、陽イオンが高濃度に含まれた酸性水溶液Ｍ１を生成することができる。 Moreover, since the raw material of an acidic component is melt | dissolved in the water in the storage part 20 with high concentration by the discharge part 25 and the ventilation part 26, the acidic aqueous solution M1 in which the cation was contained in high concentration can be produced | generated.

また、図２に示す還元水発生装置１において、還元成分生成部４は、水素よりもイオン化傾向が大きな元素で構成され、酸性水溶液Ｍ１に含まれる水素イオンを還元して、還元成分として水素分子を生成する還元物質４Ａと、水素分子の生成量を調節する調節部４Ｂと、を備える。 Further, in the reduced water generator 1 shown in FIG. 2, the reducing component generation unit 4 is composed of an element that has a higher ionization tendency than hydrogen, reduces hydrogen ions contained in the acidic aqueous solution M1, and uses hydrogen molecules as reducing components. 4A, and a regulating unit 4B that regulates the amount of hydrogen molecules produced.

このような還元成分生成部４において、還元物質４Ａは、本実施形態では亜鉛である。尚、還元物質４Ａは亜鉛以外にも、水素よりもイオン化傾向が大きい元素で構成された物質が挙げられる。また、調節部４Ｂは、還元物質４Ａが着脱可能に取り付けられており、還元物質４Ａが酸性水溶液Ｍ１に浸される範囲を調節する機能を有する。尚、調節部４Ｂは、本実施形態では、貯留部２０の内部空間において上下に移動することが可能な調節棒である。しかしながら、調節部４Ｂは、貯留部２０の内部空間において上下に移動する構成には限られない。 In such a reducing component generation unit 4, the reducing substance 4A is zinc in the present embodiment. In addition, the reducing substance 4A includes a substance composed of an element having a higher ionization tendency than hydrogen other than zinc. The adjusting unit 4B is detachably attached to the reducing substance 4A, and has a function of adjusting a range in which the reducing substance 4A is immersed in the acidic aqueous solution M1. In addition, the adjustment part 4B is an adjustment bar which can move up and down in the internal space of the storage part 20 in this embodiment. However, the adjustment unit 4B is not limited to a configuration that moves up and down in the internal space of the storage unit 20.

つまり、調節部４Ｂは、還元物質４Ａが酸性水溶液Ｍ１に浸される範囲を調節できる機構が挙げられる。例えば、調節部４Ｂを回転させて還元物質４Ａの酸性水溶液Ｍ１の液面に対する角度を調節することにより、還元物質４Ａが酸性水溶液Ｍ１に浸される範囲が調節されてもよい。また、調節部４Ｂの回転が、手動だけではなく、モータの回転により行われてもよい。 That is, the adjustment unit 4B includes a mechanism that can adjust the range in which the reducing substance 4A is immersed in the acidic aqueous solution M1. For example, the range in which the reducing substance 4A is immersed in the acidic aqueous solution M1 may be adjusted by rotating the adjusting unit 4B to adjust the angle of the reducing substance 4A with respect to the liquid surface of the acidic aqueous solution M1. Further, the adjustment unit 4B may be rotated not only manually but also by rotation of a motor.

このような還元成分生成部４において、還元物質（亜鉛）４Ａは、調節部（調節棒）４Ｂが貯留部２０の内部空間において上下に移動することに伴って、酸性水溶液Ｍ１に浸される範囲が大小する。 In such a reducing component generation unit 4, the reducing substance (zinc) 4 A is immersed in the acidic aqueous solution M 1 as the adjusting unit (adjusting rod) 4 B moves up and down in the internal space of the storage unit 20. Is big or small.

還元物質（亜鉛）４Ａにおいて、酸性水溶液Ｍ１に浸された範囲が、酸性水溶液Ｍ１に含まれる水素イオンを還元する。すなわち、還元物質（亜鉛）４Ａにおいて、酸性水溶液Ｍ１に浸された範囲が、酸性成分が酸性水溶液Ｍ１においてイオン化して発生した水素イオンへ電子を与え、自らは亜鉛イオンとなる。その結果、水素イオンが電子を受け取って水素原子となり、水素原子が２つづつ結合して水素分子となる。 In the reducing substance (zinc) 4A, the range immersed in the acidic aqueous solution M1 reduces hydrogen ions contained in the acidic aqueous solution M1. That is, in the reducing substance (zinc) 4A, the range immersed in the acidic aqueous solution M1 gives electrons to the hydrogen ions generated by the acidic components ionized in the acidic aqueous solution M1, and becomes itself zinc ions. As a result, hydrogen ions receive electrons and become hydrogen atoms, and two hydrogen atoms are bonded together to form hydrogen molecules.

このような還元成分生成部４によれば、酸性水溶液Ｍ１に高濃度で含まれる水素イオンを容易に還元して、還元成分Ｍ２として水素分子を生成することができる。また、高濃度で含まれる水素イオンを基に生成される水素分子の生成量を任意かつ容易に調節することができるので、還元水Ｍ３として、幅広い水素濃度を有する水素水を容易に発生させることができる。 According to such a reducing component generation unit 4, hydrogen ions contained in the acidic aqueous solution M1 at a high concentration can be easily reduced to generate hydrogen molecules as the reducing component M2. In addition, since the amount of hydrogen molecules generated based on hydrogen ions contained at a high concentration can be arbitrarily and easily adjusted, hydrogen water having a wide range of hydrogen concentrations can be easily generated as the reduced water M3. Can do.

また、図２に示す還元水発生装置１において、貯留部２０において還元物質４Ａの略真上に相当する位置からは還元成分供給管７が導出されており、この還元成分供給管７を介して還元水生成部５が接続されている。ここに、還元成分Ｍ２である水素分子は空気よりも比重が非常に小さいので還元物質４Ａの略真上に上昇するから、還元成分供給管７が、先述したように、還元物質４Ａの略真上から導出されている。 Further, in the reduced water generator 1 shown in FIG. 2, a reducing component supply pipe 7 is led out from a position corresponding to substantially above the reducing substance 4 A in the storage unit 20. The reduced water production | generation part 5 is connected. Here, since the hydrogen molecule as the reducing component M2 has a specific gravity much smaller than that of air, the hydrogen molecule rises almost directly above the reducing substance 4A. Derived from above.

還元成分供給管７にはポンプ８Ａが設けられており、このポンプ８Ａが還元成分Ｍ２を還元水生成部５へ送り出す。これにより、還元成分Ｍ２が還元水生成部５へ導入されて還元水Ｍ３が生成される。 The reducing component supply pipe 7 is provided with a pump 8 A, and this pump 8 A sends the reducing component M 2 to the reduced water generator 5. Thereby, the reducing component M2 is introduce | transduced into the reducing water production | generation part 5, and the reducing water M3 is produced | generated.

また、図２に示す還元水発生装置１において、還元水生成部５からは還元水供給管９が導出されており、この還元水供給管９を介して還元水霧化部９が接続されている。還元水供給管９にはポンプ８Ｂが設けられており、このポンプ８Ｂが還元水Ｍ３を還元水霧化部６へ送り出す。還元水霧化部６は、ポンプ８Ｂにより還元水生成部５から送り出された還元水Ｍ３をミスト状に霧化して噴射する。 Further, in the reduced water generator 1 shown in FIG. 2, a reduced water supply pipe 9 is led out from the reduced water generation section 5, and the reduced water atomization section 9 is connected via the reduced water supply pipe 9. Yes. The reduced water supply pipe 9 is provided with a pump 8B, and this pump 8B sends the reduced water M3 to the reduced water atomization section 6. The reduced water atomization unit 6 atomizes the reduced water M3 sent out from the reduced water generation unit 5 by the pump 8B in a mist form and injects it.

このような還元水発生装置１によれば、酸性水溶液Ｍ１を生成する処理、前記処理により生成された酸性水溶液Ｍ１に含まれる陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する処理、前記処理により生成された還元成分を水に溶解させる処理を順次行えば、還元水Ｍ３が発生するので、還元水Ｍ３を簡便に発生させることができる。 According to such a reduced water generator 1, the process of generating the acidic aqueous solution M1, the process of generating a reducing component by giving electrons to the cations contained in the acidic aqueous solution M1 generated by the process and reducing the cation, If the process which dissolves the reducing component produced | generated by the process in water is performed sequentially, since the reduced water M3 will generate | occur | produce, the reduced water M3 can be generated easily.

ここで、本発明の一実施形態に係る還元水発生装置として、図２に示す還元水発生装置１以外にも、様々な具体的構成例が挙げられる。尚、以下に示す具体的構成例２〜４は、主として水取得部３の種々の構成例を示している。また、以下に示す具体的構成例５〜８は、主として還元水霧化部６の種々の構成例を示している。また、以下に示す具体的構成例９は、還元水発生装置１が物品に内蔵された例を示している。 Here, as the reduced water generation apparatus according to an embodiment of the present invention, various specific configuration examples can be given in addition to the reduced water generation apparatus 1 shown in FIG. Specific configuration examples 2 to 4 shown below mainly show various configuration examples of the water acquisition unit 3. Further, specific configuration examples 5 to 8 shown below mainly show various configuration examples of the reduced water atomization unit 6. Further, a specific configuration example 9 shown below shows an example in which the reduced water generator 1 is built in an article.

図３は、本発明の一実施形態に係る還元水発生装置の具体的構成例２を示す図である。尚、図２に示す還元水発生装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。 FIG. 3 is a diagram showing a specific configuration example 2 of the reduced water generator according to the embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol as the code | symbol shown in FIG. 2 is attached | subjected to the element same as the reducing water generator 1 shown in FIG. Moreover, description is abbreviate | omitted.

［具体的構成例２］
図３に示す還元水発生装置１において、水取得部３は、冷媒ガスを高温高圧に圧縮した後放熱させて冷媒液とする放熱部３４と、冷媒液を減圧した後気化させて冷媒ガスとする冷却部３７と、を備える。すなわち、水取得部３は、放熱部３４及び冷却部３７を有した熱交換器を備える。 [Specific Configuration Example 2]
In the reduced water generator 1 shown in FIG. 3, the water acquisition unit 3 includes a heat radiating unit 34 that compresses the refrigerant gas to a high temperature and a high pressure and then dissipates the heat to make a refrigerant liquid; And a cooling unit 37. That is, the water acquisition unit 3 includes a heat exchanger having a heat radiating unit 34 and a cooling unit 37.

このような水取得部３において、放熱部３４及び冷却部３７は、冷凍サイクル部Ｆに備えられている。そして、放熱部３４は、冷媒ガスを高温高圧に圧縮する圧縮器３５と、高温高圧とされた冷媒ガスを放熱することで冷却して冷媒液とする凝縮器３６とを備える。 In such a water acquisition unit 3, the heat radiating unit 34 and the cooling unit 37 are provided in the refrigeration cycle unit F. The heat radiating section 34 includes a compressor 35 that compresses the refrigerant gas to a high temperature and a high pressure, and a condenser 36 that cools the refrigerant gas to a refrigerant liquid by radiating the high temperature and pressure refrigerant.

また、冷却部３７は、ドライヤＤにより乾燥された冷媒液を減圧して気化しやすくする膨張弁３０と、減圧された冷媒液を気化させて冷媒ガスとする蒸発器３１と、蒸発器３１に当接して設けられた熱伝導部材３２と、熱伝導部材３２に当接して設けられた結露水発生部３３と、を備える。 In addition, the cooling unit 37 includes an expansion valve 30 that depressurizes the refrigerant liquid dried by the dryer D and facilitates vaporization, an evaporator 31 that vaporizes the depressurized refrigerant liquid to form refrigerant gas, and an evaporator 31 The heat conducting member 32 provided in contact with the heat conducting member 32 and the condensed water generating part 33 provided in contact with the heat conducting member 32 are provided.

このような冷却部３７において、結露水発生部３３、熱伝導部材３２、及び、蒸発器３１は、熱的に接続されており、蒸発器３１による冷却の効果が、熱伝導部材３２を通じて結露水発生部３３に及ぶ。その結果、結露水発生部３３が冷却され、結露水発生部３３の周囲の空気が冷却されて結露水発生部３３の表面に結露水（以下、単に「水」という）Ｗが付着する。尚、結露水発生部３３と熱伝導部材３２とは一体形成されていてよい。また、結露水発生部３３に熱伝導部材３２が固着されていてもよい。また、結露水発生部３３に熱伝導部材３２が接触していてもよい。いずれの場合も、結露水発生部３３と熱伝導部材３２とで熱を高効率でやり取りできる構成が好ましい。 In such a cooling unit 37, the dew condensation water generation unit 33, the heat conduction member 32, and the evaporator 31 are thermally connected, and the effect of cooling by the evaporator 31 is caused by the dew condensation water through the heat conduction member 32. The generation unit 33 is reached. As a result, the condensed water generating unit 33 is cooled, the air around the condensed water generating unit 33 is cooled, and condensed water (hereinafter simply referred to as “water”) W adheres to the surface of the condensed water generating unit 33. In addition, the dew condensation water generation part 33 and the heat conductive member 32 may be integrally formed. Further, the heat conduction member 32 may be fixed to the dew condensation water generation unit 33. Further, the heat conducting member 32 may be in contact with the dew condensation water generation unit 33. In any case, a configuration in which heat can be exchanged between the condensed water generation unit 33 and the heat conduction member 32 with high efficiency is preferable.

このような冷却部３７により結露水発生部３３に発生した水Ｗは、水タンクＴに流入し、酸性水溶液生成部２に吸い上げられる。酸性水溶液生成部２に吸い上げられた水Ｗは、酸性水溶液生成部２、還元成分生成部４、及び、還元水生成部５により還元水Ｍ３とされ、還元水霧化部６により霧化され、送風ファン１０による送風により散布される。 The water W generated in the condensed water generation unit 33 by such a cooling unit 37 flows into the water tank T and is sucked up by the acidic aqueous solution generation unit 2. The water W sucked up by the acidic aqueous solution generation unit 2 is converted into reduced water M3 by the acidic aqueous solution generation unit 2, the reducing component generation unit 4, and the reduced water generation unit 5, and is atomized by the reduced water atomization unit 6. It is sprayed by the air blow by the blower fan 10.

このような水取得手段３によれば、冷却部３７の冷却効果により空気中の水分を結露させて水を取得するため、ユーザが酸性水溶液Ｍ１を生成するための水を補充する必要がない。 According to such water acquisition means 3, since the water in the air is condensed by the cooling effect of the cooling unit 37 to acquire water, it is not necessary for the user to replenish water for generating the acidic aqueous solution M1.

図４は、本発明の一実施形態に係る還元水発生装置の具体的構成例３を示す図である。尚、図２に示す還元水発生装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。 FIG. 4 is a diagram illustrating a specific configuration example 3 of the reduced water generator according to the embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol as the code | symbol shown in FIG. 2 is attached | subjected to the element same as the reducing water generator 1 shown in FIG. Moreover, description is abbreviate | omitted.

［具体的構成例３］
図４に示す還元水発生装置１において、水取得部３は、冷却面４０による冷却により、空気中の水分を結露させて水を取得するペルチェ素子３８を備える。 [Specific Configuration Example 3]
In the reduced water generator 1 shown in FIG. 4, the water acquisition unit 3 includes a Peltier element 38 that acquires water by dewing moisture in the air by cooling with the cooling surface 40.

ペルチェ素子３８は、前記冷却面４０及び放熱面４２を備える。そして、冷却面４０には結露水発生部３３が取り付けられている。尚、冷却面４０と結露水発生部３３とは熱的に接続されていればよい。一方、放熱面４２には放熱フィン４３が取り付けられている。 The Peltier element 38 includes the cooling surface 40 and the heat radiating surface 42. A condensed water generator 33 is attached to the cooling surface 40. In addition, the cooling surface 40 and the dew condensation water generation part 33 should just be thermally connected. On the other hand, heat radiation fins 43 are attached to the heat radiation surface 42.

このような水取得部３において、ペルチェ素子用電源４１によりペルチェ素子３８が通電された際には、ペルチェ素子３８の冷却面４０が冷却され、その冷却効果が結露水発生部３３に及ぶ。そのため、結露水発生部３３も冷却されて、結露水発生部３３の周囲の空気が冷却されて結露水発生部３３の表面に水Ｗが付着する。一方、ペルチェ素子３８の放熱面４２からは熱が発生するが、その熱は放熱フィン４３により放熱される。 In such a water acquisition unit 3, when the Peltier device 38 is energized by the Peltier device power supply 41, the cooling surface 40 of the Peltier device 38 is cooled, and the cooling effect reaches the condensed water generation unit 33. Therefore, the dew condensation water generation unit 33 is also cooled, the air around the dew condensation water generation unit 33 is cooled, and the water W adheres to the surface of the dew condensation water generation unit 33. On the other hand, heat is generated from the heat radiation surface 42 of the Peltier element 38, but the heat is radiated by the heat radiation fins 43.

このようなペルチェ素子３８により結露水発生部３３に発生した水Ｗは、水タンクＴに流入し、酸性水溶液発生部２に吸い上げられる。酸性水溶液生成部２に吸い上げられた水Ｗは、酸性水溶液生成部２、還元成分生成部４、及び、還元水生成部５により還元水Ｍ３とされ、還元水霧化部６により霧化され、送風ファン１０による送風により散布される。 The water W generated in the dew condensation water generation unit 33 by such a Peltier element 38 flows into the water tank T and is sucked up by the acidic aqueous solution generation unit 2. The water W sucked up by the acidic aqueous solution generation unit 2 is converted into reduced water M3 by the acidic aqueous solution generation unit 2, the reducing component generation unit 4, and the reduced water generation unit 5, and is atomized by the reduced water atomization unit 6. It is sprayed by the air blow by the blower fan 10.

このような水取得部３によれば、装置の体積が小さく、騒音や振動が生じないペルチェ素子３８で水を取得できるので、水取得部３をコンパクトにすることができるとともに、水取得に騒音や振動が生じない。 According to such a water acquisition part 3, since the volume of the apparatus is small and water can be acquired by the Peltier element 38 which does not generate noise and vibration, the water acquisition part 3 can be made compact and noise can be acquired in water acquisition. And vibration does not occur.

図５は、本発明の一実施形態に係る還元水発生装置の具体的構成例４を示す図である。尚、図２に示す還元水発生装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。 FIG. 5 is a diagram showing a specific configuration example 4 of the reduced water generator according to the embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol as the code | symbol shown in FIG. 2 is attached | subjected to the element same as the reducing water generator 1 shown in FIG. Moreover, description is abbreviate | omitted.

［具体的構成例４］
図５に示す還元水発生装置１において、水取得部３は、空気中の水分を吸着する吸着剤４５と、吸着剤４５を加熱して吸着剤４５に吸着された水分を脱離させるヒーター４９と、を備える。ここに、吸着剤４５は、例えば、ゼオライトが好適である。 [Specific Configuration Example 4]
In the reduced water generator 1 shown in FIG. 5, the water acquisition unit 3 includes an adsorbent 45 that adsorbs moisture in the air, and a heater 49 that heats the adsorbent 45 and desorbs moisture adsorbed on the adsorbent 45. And comprising. Here, the adsorbent 45 is preferably, for example, zeolite.

このような水取得部３において、ハウジング５１内の下部には、ポリプロピレン等の硬質素材からなる水タンクＴが設けられており、この水タンクＴの上開口Ｔａを吸着体４４で閉塞している。 In such a water acquisition unit 3, a water tank T made of a hard material such as polypropylene is provided in the lower part of the housing 51, and the upper opening Ta of the water tank T is closed by the adsorbent 44. .

吸着体４４は、主体となる吸着材４５と、吸着剤４５の裏面側に配設された網等の通水性がある硬質の裏板４６と、吸着剤４５の表面側に配設された透湿性且つ非透水性のフィルム４７とで構成されている。そして、裏板４６は、水タンクＴの上開口Ｔａに設けられた受け部４８に支持されており、裏板４６上に吸着材４５が充填され、上開口Ｔａの上端がフィルム４７でシールされている。また、吸着体４４内には、ヒーター４９が設けられている。 The adsorbent 44 includes a main adsorbent 45, a hard back plate 46 having water permeability such as a net disposed on the back side of the adsorbent 45, and a transparent disposed on the front side of the adsorbent 45. It is composed of a wet and water-impermeable film 47. The back plate 46 is supported by a receiving portion 48 provided in the upper opening Ta of the water tank T, the adsorbent 45 is filled on the back plate 46, and the upper end of the upper opening Ta is sealed with a film 47. ing. A heater 49 is provided in the adsorbent 44.

また、吸着体４４には水搬送部５０が嵌挿されており、水搬送部５０の下端部が、水タンクＴの下部に位置しており、水搬送部５０の上端部がハウジング５１の上部に位置している。 The adsorbent 44 is fitted with a water transport unit 50, the lower end of the water transport unit 50 is positioned below the water tank T, and the upper end of the water transport unit 50 is the upper part of the housing 51. Is located.

このような水搬送部５０は、棒状の形状とされており、水タンクＴに溜まった水を先端（上端）に毛細管現象で搬送するための細い孔を形成したもの又は多孔質の材料で形成されている。 Such a water conveyance part 50 is made into the shape of a rod, and is formed with a thin hole for conveying water accumulated in the water tank T to the tip (upper end) by capillary action or a porous material. Has been.

このような水取得部３において、空気中の水分が破線矢印で示すように、フィルム４７を介して吸着材４５に吸着される。このように空気中の水分が吸着した吸着剤４５から水分を脱離させるには、ヒーター４９に通電する。そして、ヒーター４９により熱せられた吸着剤４５からは、水分が脱離する。吸着材４５から脱離した水は裏板４６から水タンクＴ内に流れて溜まる。一方、吸着剤４５に水分を吸着させるには、ヒーター４９への通電を停止する。 In such a water acquisition part 3, the water | moisture content in air is adsorb | sucked by the adsorbent 45 through the film 47, as shown with the broken line arrow. In order to desorb moisture from the adsorbent 45 that has adsorbed moisture in the air in this way, the heater 49 is energized. Then, moisture is desorbed from the adsorbent 45 heated by the heater 49. The water desorbed from the adsorbent 45 flows into the water tank T from the back plate 46 and accumulates. On the other hand, to cause the adsorbent 45 to adsorb moisture, the energization to the heater 49 is stopped.

このようにして水タンクＴに溜まった水は、水搬送部５０における毛細管現象により、酸性水溶液生成部２へ送られる。酸性水溶液生成部２に送られた水Ｗは、酸性水溶液生成部２、還元成分生成部４、及び、還元水生成部５により還元水Ｍ３とされ、還元水霧化部６により霧化され、送風ファン１０による送風により散布される。 The water accumulated in the water tank T in this way is sent to the acidic aqueous solution generation unit 2 by capillary action in the water transport unit 50. The water W sent to the acidic aqueous solution generation unit 2 is converted into reduced water M3 by the acidic aqueous solution generation unit 2, the reducing component generation unit 4, and the reduced water generation unit 5, and is atomized by the reduced water atomization unit 6. It is sprayed by the air blow by the blower fan 10.

この構成によれば、吸着剤４５が空気中の水分を吸着し、吸着剤４５に吸着された水分が、酸性水溶液Ｍ１の生成のために使用されるので、酸性水溶液Ｍ１を生成するための水を、装置に通電しなくても空気中から取得できるので、消費電力の抑制を図ることができる。 According to this configuration, the adsorbent 45 adsorbs moisture in the air, and the moisture adsorbed on the adsorbent 45 is used for generating the acidic aqueous solution M1, so that water for generating the acidic aqueous solution M1 is used. Can be acquired from the air without energizing the device, so that power consumption can be suppressed.

図６は、本発明の一実施形態に係る還元水発生装置の具体的構成例５を示す図である。尚、図２に示す還元水発生装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。 FIG. 6 is a diagram showing a specific configuration example 5 of the reduced water generator according to one embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol as the code | symbol shown in FIG. 2 is attached | subjected to the element same as the reducing water generator 1 shown in FIG. Moreover, description is abbreviate | omitted.

［具体的構成例５］
図６に示す還元水発生装置１において、還元水霧化部６は、還元水Ｍ３に超音波を放射して霧化させる超音波放射素子６０を備える。このような超音波放射素子６０は、基板６１、断熱層６２、及び、発熱体６３を備える。 [Specific Configuration Example 5]
In the reduced water generator 1 shown in FIG. 6, the reduced water atomization unit 6 includes an ultrasonic radiation element 60 that emits ultrasonic waves to the reduced water M3 to atomize. Such an ultrasonic radiating element 60 includes a substrate 61, a heat insulating layer 62, and a heating element 63.

超音波放射素子６０において、基板６１は例えばシリコン基板からなる。また、断熱層６２は、基板６１の厚み方向の一表面側に形成されており、基板６１に比べて熱伝導率が十分に小さな多孔質シリコン層からなる。また、発熱層６３は、断熱層６２上に形成され、断熱層６２よりも熱伝導率及び導電率が大きな金属薄膜（例えば、金薄膜）からなる。 In the ultrasonic radiation element 60, the substrate 61 is made of, for example, a silicon substrate. The heat insulating layer 62 is formed on one surface side in the thickness direction of the substrate 61, and is made of a porous silicon layer having a sufficiently smaller thermal conductivity than the substrate 61. The heat generating layer 63 is formed on the heat insulating layer 62 and is made of a metal thin film (for example, a gold thin film) having a higher thermal conductivity and conductivity than the heat insulating layer 62.

このような超音波放射素子６０において、発熱体６３への交流電流の通電に伴う発熱体６３と媒体（例えば、空気）との熱交換により、超音波が発生する。 In such an ultrasonic radiating element 60, ultrasonic waves are generated by heat exchange between the heating element 63 and a medium (for example, air) accompanying energization of an alternating current to the heating element 63.

このような超音波放射素子６０により、還元水生成部５により生成された還元水Ｍ３に対して、超音波が放射される。その結果、還元水Ｍ３の液面が順次霧化され、粒径がナノメートルサイズの液滴を散布することができる。 By such an ultrasonic radiation element 60, ultrasonic waves are radiated to the reduced water M3 generated by the reduced water generator 5. As a result, the liquid surface of the reduced water M3 is successively atomized, and droplets having a particle size of nanometer size can be dispersed.

図７は、本発明の一実施形態に係る還元水発生装置の具体的構成例６を示す図である。尚、図２に示す還元水発生装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。 FIG. 7 is a diagram showing a specific configuration example 6 of the reduced water generator according to the embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol as the code | symbol shown in FIG. 2 is attached | subjected to the element same as the reducing water generator 1 shown in FIG. Moreover, description is abbreviate | omitted.

［具体的構成例６］
図７に示す還元水発生装置１において、還元水霧化部６は、表面弾性波を発生して、表面弾性波により還元水Ｍ３を霧化させる表面弾性波発生部６４を備える。このような表面弾性波発生部６４は、基板６１の一表面の一端に設けられ、高周波電源が接続された振動子から構成されている。このような表面弾性波発生部６４では、振動子が振動した際には、その振動波が基板６１の前記一表面上を表面弾性波となって伝播する。 [Specific Configuration Example 6]
In the reduced water generator 1 shown in FIG. 7, the reduced water atomization unit 6 includes a surface acoustic wave generator 64 that generates surface acoustic waves and atomizes the reduced water M3 with the surface acoustic waves. Such a surface acoustic wave generation unit 64 is provided at one end of one surface of the substrate 61 and is constituted by a vibrator to which a high frequency power source is connected. In such a surface acoustic wave generator 64, when the vibrator vibrates, the vibration wave propagates as a surface acoustic wave on the one surface of the substrate 61.

一方、基板６１の前記一表面の他端には凹状の水溜め部２０が設けられており、水溜め部２０には、水溜め部２０に水Ｗが溜まった状態で水Ｗに浸される陽極５３及び陰極５４が設けられている。この陽極５３及び陰極５４は、水溜め部２０に溜まった水Ｗを電気分解して陰極５４側に還元水（ここでは水素水）Ｍ３を生成する機能を有している。つまり、陽極５３及び陰極５４は、先述した、酸性水溶液生成部２、還元成分生成部４、及び、還元水生成部５の機能を１つに集約したものである。 On the other hand, a concave water reservoir 20 is provided at the other end of the one surface of the substrate 61, and the water reservoir 20 is immersed in the water W while the water W is accumulated in the water reservoir 20. An anode 53 and a cathode 54 are provided. The anode 53 and the cathode 54 have a function of electrolyzing the water W collected in the water reservoir 20 to generate reduced water (here, hydrogen water) M3 on the cathode 54 side. That is, the anode 53 and the cathode 54 are a combination of the functions of the acidic aqueous solution generator 2, the reducing component generator 4, and the reduced water generator 5 described above.

また、このような還元水発生装置１において、水取得部３は、ペルチェ素子３８で構成されており、ペルチェ素子３８へ通電した際には、ペルチェ素子３８の冷却部４０による冷却効果により空気中の水分を結露させて水Ｗを取得する。そして、取得された液体Ｗは毛細管５２を毛細管現象により移動して、基板６１上の水溜め部２０へと送られる。 Further, in such a reduced water generator 1, the water acquisition unit 3 includes the Peltier element 38, and when the Peltier element 38 is energized, the water acquisition unit 3 is in the air due to the cooling effect of the cooling unit 40 of the Peltier element 38. Water W is obtained by condensing the water. The acquired liquid W moves through the capillary tube 52 by capillary action and is sent to the water reservoir 20 on the substrate 61.

このような還元水発生装置１によれば、ペルチェ素子３８への通電により取得された水Ｗは、陽極５３及び陰極５４により電気分解されて、陰極５４側で還元水Ｍ３（ここでは水素水）となる。そして、還元水Ｍ３は、表面弾性波発生部６４により発生され基板６１上に伝播される表面弾性波によって霧化され還元水ミストとなり、送風ファン１０によって空間へと散布される。 According to such a reduced water generator 1, the water W acquired by energizing the Peltier element 38 is electrolyzed by the anode 53 and the cathode 54 and reduced water M3 (here, hydrogen water) on the cathode 54 side. It becomes. The reduced water M3 is atomized by the surface acoustic wave generated by the surface acoustic wave generator 64 and propagated on the substrate 61 to be reduced water mist, and is sprayed into the space by the blower fan 10.

このような還元水発生装置１によれば、表面弾性波が伝播する振動面を、還元水Ｍ３の水面と同じ高さに位置させることができるので、装置１をコンパクトにすることができる。 According to such a reduced water generator 1, since the vibration surface on which the surface acoustic wave propagates can be positioned at the same height as the water surface of the reduced water M3, the apparatus 1 can be made compact.

尚、このような還元水発生装置１において、水取得部３は、ペルチェ素子３８への通電により水Ｗを取得する構成には限定されない。例えば、具体的構成例２に例示する熱交換器の冷却部を使用する構成、及び、具体的構成例４に例示する吸着剤４５による水分吸着効果を使用する構成が挙げられる。 In such a reduced water generator 1, the water acquisition unit 3 is not limited to a configuration that acquires the water W by energizing the Peltier element 38. For example, the structure using the cooling part of the heat exchanger illustrated in the specific configuration example 2 and the configuration using the moisture adsorption effect by the adsorbent 45 illustrated in the specific configuration example 4 can be given.

図８は、本発明の一実施形態に係る還元水発生装置の具体的構成例７を示す図である。尚、図２に示す還元水発生装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。 FIG. 8 is a diagram illustrating a specific configuration example 7 of the reduced water generator according to the embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol as the code | symbol shown in FIG. 2 is attached | subjected to the element same as the reducing water generator 1 shown in FIG. Moreover, description is abbreviate | omitted.

［具体的構成例７］
図８に示す還元水発生装置１において、還元水霧化部６は、放電電極６５及び対向電極６６と、放電電極６５に還元水Ｍ３を供給する還元水供給管６７と、放電電極６５に高電圧を印加する高電圧印加部６８と、を備える。 [Specific Configuration Example 7]
In the reduced water generator 1 shown in FIG. 8, the reduced water atomization unit 6 includes a discharge electrode 65 and a counter electrode 66, a reduced water supply pipe 67 that supplies reduced water M 3 to the discharge electrode 65, and a high voltage to the discharge electrode 65. And a high voltage application unit 68 for applying a voltage.

このような還元水霧化部６において、還元水送水管６７に流入した還元水Ｍ３は、還元水供給管６７を通り放電電極６５の先端部６５ａまで送られる。 In such a reduced water atomization unit 6, the reduced water M 3 that has flowed into the reduced water supply pipe 67 passes through the reduced water supply pipe 67 and is sent to the tip 65 a of the discharge electrode 65.

このように放電電極６５に還元水Ｍ３が供給された状態で、高電圧印加部６８により放電電極６５と対向電極６６との間に高電圧を印加した際には、放電電極６５の先端部６５ａに供給された還元水Ｍ３と対向電極６６との間にクーロン力が働き、還元水Ｍ３の液面が局所的に錐状に盛り上がる。このように還元水Ｍ３の液面が局所的に錐状に盛り上がった箇所がテーラーコーンＴである。 When a high voltage is applied between the discharge electrode 65 and the counter electrode 66 by the high voltage application unit 68 in a state where the reduced water M3 is supplied to the discharge electrode 65 in this way, the tip 65a of the discharge electrode 65 is provided. The Coulomb force acts between the reduced water M3 supplied to the counter electrode 66 and the counter electrode 66, and the liquid level of the reduced water M3 is locally raised in a conical shape. The tail cone T is where the liquid surface of the reduced water M3 rises locally in a conical shape.

このようにテーラーコーンＴが形成されると、該テーラーコーンＴの先端に電荷が集中してテーラーコーンＴの先端における電界強度が大きくなり、テーラーコーンＴの先端に生じるクーロン力が大きくなる。すると、更にテーラーコーンＴが成長する。 When the tailor cone T is formed in this way, electric charges concentrate on the tip of the tailor cone T, the electric field strength at the tip of the tailor cone T increases, and the Coulomb force generated at the tip of the tailor cone T increases. Then, the tailor cone T grows further.

このようにテーラーコーンＴが成長し該テーラーコーンＴの先端に電荷が集中して電荷の密度が高密度となると、テーラーコーンＴの先端部分の還元水Ｍ３が大きなエネルギー（高密度となった電荷の反発力）を受け、表面張力を超えて***・飛散（レイリー***）を繰り返す。その結果、ナノメートルサイズの粒径を有する還元水Ｍ３が大量に発生する。 When the tailor cone T grows in this way and the charge concentrates on the tip of the tailor cone T and the density of the charge becomes high, the reduced water M3 at the tip of the tailor cone T has a large energy (charge with a high density). Repulsion force) and repeats splitting and scattering (Rayleigh splitting) exceeding the surface tension. As a result, a large amount of reduced water M3 having a nanometer size particle size is generated.

このような還元水発生装置１によれば、粒径がナノメートルサイズの液滴を散布することができる。尚、図８に示す還元水発生装置１において、放電電極６５及び対向電極６６で静電霧化部が構成されているが、対向電極６６が必ず設けられていなければならないことはなく、放電電極６５のみで静電霧化部が構成されていてもよい。この場合でも、放電電極６５において放電が生じて、静電霧化された還元水Ｍ３が、図示しない筐体方向などに向かって散布される。 According to such a reduced water generator 1, droplets having a particle size of nanometer size can be dispersed. In the reducing water generator 1 shown in FIG. 8, the discharge electrode 65 and the counter electrode 66 constitute an electrostatic atomization section. However, the counter electrode 66 is not necessarily provided, and the discharge electrode The electrostatic atomization part may be comprised only by 65. Even in this case, a discharge is generated in the discharge electrode 65, and the electrostatically atomized reduced water M3 is sprayed toward the housing (not shown).

図９は、本発明の一実施形態に係る還元水発生装置の具体的構成例８を示す図である。尚、図２に示す還元水発生装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。 FIG. 9 is a diagram illustrating a specific configuration example 8 of the reduced water generator according to the embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol as the code | symbol shown in FIG. 2 is attached | subjected to the element same as the reducing water generator 1 shown in FIG. Moreover, description is abbreviate | omitted.

［具体的構成例８］
図９に示す還元水発生装置１において、還元水霧化部６が、還元水Ｍ３を加圧するポンプ（加圧部）１７と、ポンプ１７により加圧された還元水Ｍ３を射出するための複数の小孔１９と、を備える。 [Specific Configuration Example 8]
In the reduced water generator 1 shown in FIG. 9, the reduced water atomization section 6 has a pump (pressurization section) 17 that pressurizes the reduced water M3 and a plurality of sections for injecting the reduced water M3 pressurized by the pump 17. A small hole 19.

このような還元水発生装置１において、水取得部３より得られた水Ｗは、酸性水溶液生成部２、還元成分生成部４、及び、還元水生成部５により還元水Ｍ３とされる。そして、還元水Ｍ３は、ポンプ１７によってサウナスーツＸ１内に張り巡らされた配管１８へと供給される。配管１８へ供給された還元水Ｍ３は、配管１８に複数設けられた小孔１９より噴霧される。この構成によれば、還元水Ｍ３を大量に霧化させることができる。 In such a reduced water generator 1, the water W obtained from the water acquisition unit 3 is converted into reduced water M 3 by the acidic aqueous solution generator 2, the reduced component generator 4, and the reduced water generator 5. The reduced water M3 is supplied to the pipe 18 stretched around the sauna suit X1 by the pump 17. The reduced water M3 supplied to the pipe 18 is sprayed from a plurality of small holes 19 provided in the pipe 18. According to this configuration, it is possible to atomize the reduced water M3 in a large amount.

図１０は、本発明の一実施形態に係る還元水発生装置の具体的構成例９を示す図である。尚、図２に示す還元水発生装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。 FIG. 10 is a diagram illustrating a specific configuration example 9 of the reduced water generation device according to the embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol as the code | symbol shown in FIG. 2 is attached | subjected to the element same as the reducing water generator 1 shown in FIG. Moreover, description is abbreviate | omitted.

［具体的構成例９］
図１０に示す還元水発生装置１は、美顔器Ｘ２に内蔵されて使用されている。このような美顔器Ｘ１は、還元水Ｍ３を還元ミストとして放出する還元ミストノズル１１及びスチームを放出するスチームノズル１２をそれぞれ１個づつ備えている。 [Specific Configuration Example 9]
The reduced water generator 1 shown in FIG. 10 is used by being incorporated in the facial device X2. Such a facial device X1 includes one reducing mist nozzle 11 that discharges the reducing water M3 as a reducing mist and one steam nozzle 12 that discharges steam.

具体的には、スチームを放出する際は水タンクＴに貯水した水は、水タンクＴと接続されたボイラー１１に送られ、ヒーター１４で加熱されて気化する。ボイラー１１は、スチーム経路１５と接続されている。ボイラー１１により発生したスチームは、スチーム経路１５を通じてスチームノズル１２へと送られ、スチームノズル１２より吐出される。 Specifically, when discharging steam, the water stored in the water tank T is sent to the boiler 11 connected to the water tank T, and is heated by the heater 14 to be vaporized. The boiler 11 is connected to the steam path 15. Steam generated by the boiler 11 is sent to the steam nozzle 12 through the steam path 15 and discharged from the steam nozzle 12.

一方、還元ミスト散布の際には、美顔器Ｘ１は、水タンクＴに貯水された水を給水管１３により、酸性水溶液生成部２、還元成分生成部４、及び、還元水生成部５へ送り込み、還元水Ｍ３を生成する。生成された還元水Ｍ３は、還元水供給管９により還元水霧化部６へと送られ、霧化されることで、還元ミストとして還元ミストノズル１１より吐出される。 On the other hand, when spraying the reduced mist, the facial device X1 sends the water stored in the water tank T to the acidic aqueous solution generator 2, the reduced component generator 4, and the reduced water generator 5 through the water supply pipe 13. Then, reduced water M3 is generated. The generated reduced water M3 is sent to the reduced water atomization unit 6 through the reduced water supply pipe 9, and is atomized to be discharged from the reduced mist nozzle 11 as reduced mist.

尚、本実施形態に係る還元水発生装置１は、サウナスーツＸ１や美顔器Ｘ２の他、空気調和器、ヘアドライヤ、ヘアアイロン、サウナ装置、ユニットバスなど、各種の物品に内蔵させることができる。 In addition, the reduced water generator 1 which concerns on this embodiment can be incorporated in various articles | goods, such as an air conditioner, a hair dryer, a hair iron, a sauna apparatus, a unit bath other than the sauna suit X1 and the beautiful face device X2.

本発明の一実施形態に係る還元水発生装置の機能構成の一例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows an example of a function structure of the reduced water generator which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る還元水発生装置の具体的構成例１を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example 1 of the reduced water generator which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る還元水発生装置の具体的構成例２を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example 2 of the reduced water generator which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る還元水発生装置の具体的構成例３を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example 3 of the reduced water generator which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る還元水発生装置の具体的構成例４を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example 4 of the reduced water generator which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る還元水発生装置の具体的構成例５を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example 5 of the reduced water generator which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る還元水発生装置の具体的構成例６を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example 6 of the reduced water generator which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る還元水発生装置の具体的構成例７を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example 7 of the reduced water generator which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る還元水発生装置の具体的構成例８を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example 8 of the reduced water generator which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る還元水発生装置の具体的構成例９を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example 9 of the reduced water generator which concerns on one Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１還元水発生装置
２酸性水溶液生成部
３水取得部
４還元成分生成部
４Ａ還元物質
４Ｂ調節部
５還元水生成部
６還元水霧化部
１７ポンプ
１９小孔
２０貯留部
２５放電部
２１絶縁スペーサ
２１ａ貫通孔
２２上流側電極
２３下流側電極
２４高電圧印加部
２６送風部
３４放熱部
３５冷却部
３８ペルチェ素子
４０冷却面
４５吸着剤
４９ヒーター
６０超音波放射素子
６４表面弾性波発生部
６５放電電極
６６対向電極
Ｍ１酸性水溶液
Ｍ２還元成分
Ｍ３還元水 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Reduced water generator 2 Acidic aqueous solution production | generation part 3 Water acquisition part 4 Reductive component production | generation part 4A Reducing substance 4B Control part 5 Reducing water production | generation part 6 Reducing water atomization part 17 Pump 19 Small hole 20 Storage part 25 Discharge part 21 Insulating spacer 21a Through-hole 22 Upstream electrode 23 Downstream electrode 24 High voltage application section 26 Blower section 34 Heat radiation section 35 Cooling section 38 Peltier element 40 Cooling surface 45 Adsorbent 49 Heater 60 Ultrasonic radiation element 64 Surface acoustic wave generating section 65 Discharge electrode 66 Counter electrode M1 acidic aqueous solution M2 reducing component M3 reducing water

Claims

水中で酸性成分を発生させ、前記水中で発生した前記酸性成分がイオン化して発生する陽イオン及び陰イオンを含む酸性水溶液を生成する酸性水溶液生成部と、
前記酸性水溶液に含まれる前記陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する還元成分生成部と、
前記還元成分生成部により生成された前記還元成分を水中で溶解させて、前記還元成分が溶解された還元水を生成する還元水生成部と、
を備えており、
前記酸性水溶液生成部は、
前記酸性水溶液を生成するための水又は前記酸性水溶液を貯留する貯留部と、
前記貯留部内に配置された第１の電極と、前記貯留部内に配置された第２の電極と、前記第１の電極及び前記第２の電極との間に挟持されて設けられ、前記貯留部と連通する貫通孔を有する絶縁スペーサと、前記第１の電極及び前記第２の電極へ高電圧を印加して、前記絶縁スペーサの前記貫通孔で沿面放電を行って、前記酸性成分の原料を生成するための高電圧印加部と、からなる放電部と、
前記絶縁スペーサの前記貫通孔へ送風を導入して、前記沿面放電が行われている前記貫通孔で前記酸性成分の原料を生成させ、前記貫通孔で生成された前記酸性成分の原料を前記貯留部に貯留された前記水へ溶解させて前記酸性成分を発生させる送風部と、
を備えることを特徴とする還元水発生装置。 An acidic aqueous solution generating unit that generates an acidic component in water, and generates an acidic aqueous solution containing a cation and an anion generated by ionizing the acidic component generated in the water;
A reducing component generation unit that generates electrons by reducing electrons by giving electrons to the cations contained in the acidic aqueous solution;
A reduced water generator that dissolves the reduced component generated by the reduced component generator in water to generate reduced water in which the reduced component is dissolved; and
With
The acidic aqueous solution generator is
Water for producing the acidic aqueous solution or a reservoir for storing the acidic aqueous solution;
A first electrode disposed in the reservoir, a second electrode disposed in the reservoir, and the first electrode and the second electrode, the reservoir being interposed between the first electrode and the second electrode; Applying a high voltage to the insulating spacer having a through hole communicating with the first electrode and the second electrode, performing creeping discharge in the through hole of the insulating spacer, A high voltage application unit for generating, a discharge unit comprising:
Air is introduced into the through hole of the insulating spacer, the raw material of the acidic component is generated in the through hole where the creeping discharge is performed, and the raw material of the acidic component generated in the through hole is stored. A blower unit that dissolves in the water stored in the unit to generate the acidic component;
A reduced water generator comprising:

前記陽イオンは水素イオンであり、
前記還元成分生成部は、
水素よりもイオン化傾向が大きな元素で構成され、前記酸性水溶液に含まれる前記水素イオンを還元して、前記還元成分として水素分子を生成する還元物質と、
前記水素分子の生成量を調節する調節部と、
を備えることを特徴とする請求項１に記載の還元水発生装置。 The cation is a hydrogen ion;
The reducing component generator is
A reducing substance that is composed of an element having a greater ionization tendency than hydrogen, reduces the hydrogen ions contained in the acidic aqueous solution, and generates hydrogen molecules as the reducing component;
A regulator that regulates the amount of hydrogen molecules produced;
The reduced-water generator of Claim 1 characterized by the above-mentioned.

前記還元物質は、前記調節部へ着脱可能にされていることを特徴とする請求項２に記載の還元水発生装置。 The reduced water generating apparatus according to claim 2, wherein the reducing substance is detachable from the adjusting unit.

前記還元物質は、前記調節部により前記酸性水溶液に浸される範囲が調節可能にされていることを特徴とする請求項２に記載の還元水発生装置。 The reduced water generator according to claim 2, wherein a range of the reducing substance immersed in the acidic aqueous solution is adjustable by the adjusting unit.

前記酸性水溶液を生成するための水を取得する水取得部を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の還元水発生装置。 The reduced water generator according to any one of claims 1 to 4, further comprising a water acquisition unit that acquires water for generating the acidic aqueous solution.

前記水取得部が、冷媒ガスを高温高圧に圧縮した後放熱させて冷媒液とする放熱部と、前記冷媒液を減圧した後気化させて前記冷媒ガスとする冷却部と、を備えており、
前記冷却部による冷却により空気中の水分を結露させて前記水を取得することを特徴とする請求項５に記載の還元水発生装置。 The water acquisition unit includes a heat dissipating unit that radiates heat after compressing the refrigerant gas to a high temperature and high pressure, and a cooling unit that vaporizes the refrigerant liquid after depressurizing the refrigerant liquid, and
The reduced water generator according to claim 5, wherein the water is obtained by condensing moisture in the air by cooling by the cooling unit.

前記水取得部が、冷却面による冷却により、空気中の水分を結露させて前記水を取得するペルチェ素子を備えることを特徴とする請求項５に記載の還元水発生装置。 The reduced water generator according to claim 5, wherein the water acquisition unit includes a Peltier element that acquires moisture by condensing moisture in the air by cooling with a cooling surface.

前記水取得部が、空気中の水分を吸着する吸着剤と、前記吸着剤を加熱して前記吸着剤に吸着された前記水分を脱離させるヒーターと、を備えることを特徴とする請求項５に記載の還元水発生装置。 The said water acquisition part is provided with the adsorption agent which adsorb | sucks the water | moisture content in air, and the heater which heats the said adsorption agent and desorb | sucks the said water | moisture content adsorbed by the said adsorption agent. The reduced water generator described in 1.

前記還元水生成部により生成された前記還元水を霧化させる還元水霧化部を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の還元水発生装置。 The reduced water generator according to any one of claims 1 to 8, further comprising a reduced water atomization unit that atomizes the reduced water generated by the reduced water generation unit.

前記還元水霧化部が、前記還元水に超音波を放射して霧化させる超音波放射素子を備えることを特徴とする請求項９に記載の還元水発生装置。 The reduced water generating apparatus according to claim 9, wherein the reduced water atomization unit includes an ultrasonic radiation element that irradiates the reduced water with ultrasonic waves to atomize the reduced water.

前記還元水霧化部が、表面弾性波を発生して、前記表面弾性波により前記還元水を霧化させる表面弾性波発生部を備えることを特徴とする請求項９に記載の還元水生成装置。 The reduced water generation apparatus according to claim 9, wherein the reduced water atomization unit includes a surface acoustic wave generation unit that generates a surface acoustic wave and atomizes the reduced water by the surface acoustic wave. .

前記還元水霧化部が、高電圧が印加されることで発生する高電界により前記還元水を霧化させる静電霧化部を備えることを特徴とする請求項９に記載の還元水発生装置。 The reduced water generation apparatus according to claim 9, wherein the reduced water atomization unit includes an electrostatic atomization unit that atomizes the reduced water by a high electric field generated when a high voltage is applied. .

前記還元水霧化部が、前記還元水を加圧する加圧部と、前記加圧部により加圧された前記還元水を射出するための複数の小孔と、を備えることを特徴とする請求項９に記載の還元水発生装置。 The reduced water atomization unit includes a pressurizing unit that pressurizes the reduced water, and a plurality of small holes for injecting the reduced water pressurized by the pressurizing unit. Item 10. A reduced water generator according to Item 9.