JP2010082213A - Hair care appliance incorporating reduced water mist spraying device - Google Patents

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JP2010082213A JP2008254970A JP2008254970A JP2010082213A JP 2010082213 A JP2010082213 A JP 2010082213A JP 2008254970 A JP2008254970 A JP 2008254970A JP 2008254970 A JP2008254970 A JP 2008254970A JP 2010082213 A JP2010082213 A JP 2010082213A
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Yukiko Mishima
有紀子 三嶋
Junpei Oe
純平 大江
Hiroshi Suda
洋 須田
Yukiyasu Asano
幸康 浅野
Tomohiro Yamaguchi
友宏 山口
Yasuhiro Komura
泰浩 小村
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Panasonic Electric Works Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hair care appliance incorporating a reduced water mist spraying device, which generates and atomizes reduced water and sprays the atomized reduced water as reduced water mist. <P>SOLUTION: A reduced water mist generating device 1 is incorporated, which includes: a water acquiring section 3 for acquiring water for generating reduced water, where a reduced component to be obtained by reducing cations generated when an acidic component is ionized in water, is dissolved; a reduced water generating unit U for generating the reduced water from the water obtained by the water acquiring section 3; a reduced water atomizing section 6 for atomizing the reduced water which is generated by the reduced water generating unit U; and a spraying section 7 for spraying the reduced water atomized by the reduced water atomizing section 6 as the reduced water mist. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、還元成分が溶解された還元水を還元水ミストとして散布できる還元水ミスト散布装置を内蔵したヘアケア機器に関するものである。   The present invention relates to a hair care device having a built-in reducing water mist spraying device capable of spraying reducing water in which a reducing component is dissolved as reducing water mist.

従来より、髪にマイナスイオンを吹き付けて、髪のトリートメントを行うことができるヘアケア機器が使用されている。   Conventionally, hair care devices that can perform hair treatment by spraying negative ions on the hair have been used.

特許文献１には、この種のヘアケア機器としてヘアドライヤが例示されている。このようなヘアドライヤは、髪を温風で乾燥させるとともに、髪にマイナスイオンを吹き付けて髪のトリートメントを行うことができる。このようなヘアドライヤを使用することにより、髪をコーティングすることができる。
特開２００２−１９１４２６号公報 Patent Literature 1 exemplifies a hair dryer as this type of hair care device. Such a hair dryer can dry the hair with warm air and perform hair treatment by spraying negative ions on the hair. The hair can be coated by using such a hair dryer.
JP 2002-191426 A

ところで、髪のトリートメントを行う際には、髪をコーティングすることの他に、髪に艶や潤いを与えること、髪の酸化を防止すること、育毛や発毛の促進を行うこと、が所望される。そのためには、ヘアケア機器が、抗酸化作用を有する水素水等の還元水を髪に散布できることが望ましい。また、還元水を髪に散布するには、還元水を還元水ミストとして散布できることが望ましい。   By the way, when performing hair treatment, in addition to coating the hair, it is desired to give the hair gloss and moisture, to prevent hair oxidation, and to promote hair growth and hair growth. The For this purpose, it is desirable that the hair care device can spray reduced water such as hydrogen water having an antioxidant effect on the hair. Moreover, in order to spray reduced water on hair, it is desirable that reduced water can be sprayed as reduced water mist.

本発明は、上記の問題を解決するためになされたもので、還元水の生成及び霧化を行い、霧化された還元水を還元水ミストとして散布することができる還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器を提供することを目的とするものである。   The present invention was made in order to solve the above-described problem, and is produced with a reduced water mist spraying device capable of generating and atomizing reduced water and spraying the atomized reduced water as reduced water mist. The object is to provide a hair care device.

本発明の一局面に係る還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器は、酸性成分が水中でイオン化して発生した陽イオンを還元して得られた還元成分が溶解された還元水を生成するための水を取得する水取得部と、前記水取得部により取得された前記水から前記還元水を生成する還元水生成ユニットと、前記還元水生成ユニットにより生成された前記還元水を霧化させる還元水霧化部と、前記還元水霧化部により霧化された前記還元水を還元水ミストとして髪へ散布する散布部と、からなる還元水ミスト散布装置を内蔵することを特徴とする（請求項１）。   A hair care device with a built-in reduced water mist spraying apparatus according to one aspect of the present invention is for generating reduced water in which a reduced component obtained by reducing a cation generated by ionizing an acidic component in water is dissolved. A water acquisition unit that acquires water, a reduced water generation unit that generates the reduced water from the water acquired by the water acquisition unit, and reduced water that atomizes the reduced water generated by the reduced water generation unit A reducing water mist spraying device comprising an atomizing section and a spraying section for spraying the reduced water atomized by the reduced water atomizing section to the hair as reduced water mist is incorporated. 1).

この構成によれば、ヘアケア機器が、水から還元成分が溶解された還元水を生成し、生成した還元水を霧化し、霧化した還元水を散布する一連の処理を行える。   According to this configuration, the hair care device can perform a series of processes for generating reduced water in which a reducing component is dissolved from water, atomizing the generated reduced water, and spraying the atomized reduced water.

また、還元水を、人の髪や皮膚の隅々まで散布することができるので、髪に艶や潤いを与えること、髪の酸化を防止すること、育毛や発毛の促進を行うことが実現できる。また、パーマ液や毛染め液が塗布されて電子を奪われて酸化してダメージを負った髪が還元されるので、髪のダメージが回復する。   In addition, since it is possible to spray reduced water to every corner of human hair and skin, it is possible to give gloss and moisture to hair, prevent hair oxidation, and promote hair growth and hair growth. it can. In addition, the hair damage is recovered because the permanent hair or hair dyeing solution is applied and electrons are taken away and oxidized and damaged hair is reduced.

尚、この構成において、水の取得、還元水の生成、還元水の霧化、及び、還元水の散布という各々の処理が行われるタイミングは、例えば以下のタイミングが挙げられる。   In addition, in this structure, the timing at which each process of acquisition of water, production | generation of reduced water, atomization of reduced water, and dispersion | distribution of reduced water is performed, for example, includes the following timings.

すなわち、水の取得、還元水の生成、還元水の霧化、及び、還元水の散布が同時に行われることが挙げられる。また、水の取得と還元水の生成とが同時に行われ、その後、還元水の霧化及び散布が行われることも挙げられる。また、水の取得が行われ、その後、還元水の生成、還元水の霧化、及び、還元水の散布が同時に行われることが挙げられる。   That is, acquisition of water, generation of reduced water, atomization of reduced water, and spraying of reduced water are performed simultaneously. Moreover, acquisition of water and the production | generation of reduced water are performed simultaneously, and the atomization and dispersion | distribution of reduced water are performed after that. Moreover, acquisition of water is performed, and generation | occurrence | production of reduced water, atomization of reduced water, and sprinkling of reduced water are performed simultaneously after that.

上記構成において、前記水取得部が、冷媒ガスを高温高圧に圧縮した後放熱させて冷媒液とする放熱部と、前記冷媒液を減圧した後気化させて前記冷媒ガスとする冷却部と、を備えており、前記冷却部による冷却により空気中の水分を結露させて前記水を取得する構成とすることができる（請求項２）。   In the above-described configuration, the water acquisition unit compresses the refrigerant gas to a high temperature and a high pressure and then dissipates the heat to make the refrigerant liquid, and the cooling unit makes the refrigerant liquid vaporize after depressurizing the refrigerant liquid. It is possible to provide a configuration in which the water is obtained by condensation of moisture in the air by cooling by the cooling unit.

この構成によれば、冷却部による冷却効果により空気中の水分を結露させて水を取得する。そのため、ユーザが還元水を生成するための水を装置へ補充する必要がない。   According to this configuration, water in the air is condensed by the cooling effect of the cooling unit to acquire water. Therefore, it is not necessary for the user to replenish the apparatus with water for generating reduced water.

上記構成において、前記水取得部が、冷却面による冷却により、空気中の水分を結露させて前記水を取得するペルチェ素子を備える構成とすることができる（請求項３）。   The said structure WHEREIN: The said water acquisition part can be set as the structure provided with the Peltier device which condenses the water | moisture content in the air and acquires the said water by cooling by a cooling surface (Claim 3).

この構成によれば、装置の体積が小さく、騒音や振動が生じないペルチェ素子で水を取得できるので、水取得部をコンパクトにすることができるとともに、水取得に騒音や振動が生じない。   According to this configuration, since the volume of the apparatus is small and water can be acquired by a Peltier element that does not generate noise and vibration, the water acquisition unit can be made compact and noise and vibration are not generated in water acquisition.

上記構成において、前記水取得部が、空気中の水分を吸着する吸着剤と、前記吸着剤を加熱して前記吸着剤に吸着された前記水分を脱離させるヒーターと、を備える構成とすることができる（請求項４）。   In the above configuration, the water acquisition unit includes an adsorbent that adsorbs moisture in the air, and a heater that heats the adsorbent and desorbs the moisture adsorbed on the adsorbent. (Claim 4).

この構成によれば、吸着剤が空気中の水分を吸着し、吸着剤に吸着された水分が、還元水の生成のために使用されるので、還元水を生成するための水を、装置に通電しなくても空気中から取得できるので、消費電力の抑制を図ることができる。   According to this configuration, the adsorbent adsorbs moisture in the air, and the moisture adsorbed on the adsorbent is used to generate reduced water. Therefore, water for generating reduced water is supplied to the apparatus. Since it can be acquired from the air without being energized, power consumption can be suppressed.

上記構成において、前記還元水生成ユニットは、水中で酸性成分を発生させ、前記水中で発生した前記酸性成分がイオン化して発生する陽イオン及び陰イオンを含む酸性水溶液を生成する酸性水溶液生成部と、前記酸性水溶液に含まれる前記陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する還元成分生成部と、前記還元成分生成部により生成された前記還元成分を水中で溶解させて、前記還元成分が溶解された還元水を生成する還元水生成部と、を備えており、前記酸性水溶液生成部は、前記酸性水溶液を生成するための水又は前記酸性水溶液を貯留するとともに、外壁に貫通孔が形成された貯留部と、前記貯留部内に貯留された前記水又は前記酸性水溶液と接する第１の電極と、前記外壁の前記貫通孔と連通する貫通孔を有する絶縁スペーサと、前記第１の電極との間に前記絶縁スペーサを挟持する第２の電極と、前記第１の電極及び前記第２の電極へ高電圧を印加して、前記絶縁スペーサの前記貫通孔で沿面放電を行って、前記酸性成分の原料を生成するための高電圧印加部と、からなる放電部と、前記絶縁スペーサの前記貫通孔へ送風を導入して、前記沿面放電が行われている前記貫通孔で前記酸性成分の原料を生成させ、前記貫通孔で生成された前記酸性成分の原料を前記貯留部に貯留された前記水へ溶解させて前記酸性成分を発生させる送風部と、を備える構成とすることができる（請求項５）。   In the above configuration, the reduced water generation unit generates an acidic component in water, and generates an acidic aqueous solution containing a cation and an anion generated by ionizing the acidic component generated in the water; A reduction component generation unit that generates electrons by reducing electrons by giving electrons to the cations contained in the acidic aqueous solution, and the reduction component generated by the reduction component generation unit is dissolved in water to reduce the reduction A reduced water generating unit that generates reduced water in which components are dissolved, and the acidic aqueous solution generating unit stores water for generating the acidic aqueous solution or the acidic aqueous solution, and has a through-hole in an outer wall. And a first electrode that is in contact with the water or the acidic aqueous solution stored in the storage portion, and a through hole that communicates with the through hole in the outer wall. A second electrode sandwiching the insulating spacer between the first electrode and the first electrode, and applying a high voltage to the first electrode and the second electrode to pass through the insulating spacer. The creeping discharge is performed by introducing air into the through hole of the insulating spacer and the discharge portion comprising a high voltage application unit for performing creeping discharge in the hole to generate the raw material of the acidic component. A blowing section that generates a raw material of the acidic component in the through hole that is generated, dissolves the raw material of the acidic component generated in the through hole in the water stored in the storage section, and generates the acidic component; (Claim 5).

この構成によれば、酸性水溶液生成部が、水中で酸性成分を発生させ、前記水中で発生した前記酸性成分がイオン化して発生する陽イオン及び陰イオンを含む酸性水溶液を生成する。この酸性水溶液生成部では、放電部が、第１の電極及び第２の電極へ高電圧を印加して絶縁スペースの貫通孔で沿面放電を行う。また、送風部が絶縁スペースの貫通孔へ送風を導入して、貯留部外部から、絶縁スペーサの貫通孔を通過して貯留部内部の水へ行き渡る泡を大量に発生させる。これにより、絶縁スペーサの貫通孔において酸性成分の原料が大量に生成される。   According to this structure, an acidic aqueous solution production | generation part produces | generates an acidic component in water, and produces | generates the acidic aqueous solution containing the cation and anion which the said acidic component generated in the water ionizes and generate | occur | produces. In the acidic aqueous solution generation unit, the discharge unit applies a high voltage to the first electrode and the second electrode to perform creeping discharge through the through hole of the insulating space. Moreover, a ventilation part introduces ventilation to the through-hole of an insulation space, and generates a lot of foam which passes through the through-hole of an insulating spacer from the exterior of a storage part, and spreads to the water inside a storage part. Thereby, a large amount of the raw material of the acidic component is generated in the through hole of the insulating spacer.

そして、この絶縁スペーサの貫通孔で生成された酸性成分の原料が、送風部による送風により、外壁の貫通孔を通じて貯留部へ導入され、貯留部に貯留された水へ溶解されて酸性成分とされる。水へ溶解された酸性成分は、水中でイオン化して陽イオン及び陰イオンとなり、その結果、貯留部に貯留されている水が陽イオンの濃度が高い酸性水溶液とされる。   And the raw material of the acidic component produced | generated by the through-hole of this insulating spacer is introduce | transduced into a storage part through the through-hole of an outer wall by the ventilation by a ventilation part, and is dissolved in the water stored by the storage part, and is made into an acidic component. The The acidic component dissolved in water is ionized in water to become a cation and an anion, and as a result, the water stored in the storage part is made into an acidic aqueous solution having a high cation concentration.

また、この構成によれば、還元成分生成部は、酸性水溶液に含まれる陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する。また、還元水生成部は、還元成分生成部により生成された還元成分を水に溶解させて、還元成分が溶解された還元水を生成する。   Moreover, according to this structure, a reducing component production | generation part produces | generates a reducing component by giving an electron to the cation contained in acidic aqueous solution, and reduce | restoring. The reduced water generating unit dissolves the reduced component generated by the reduced component generating unit in water to generate reduced water in which the reduced component is dissolved.

そのため、酸性水溶液を生成する処理、前記処理により生成された酸性水溶液に含まれる陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する処理、前記処理により生成された還元成分を水に溶解させる処理を順次行えば、還元水が発生するので、還元水を簡便に発生させることができる。また、酸性水溶液生成部において、放電部が、絶縁スペーサが有する貫通孔が、貯留部に形成された外壁の貫通孔と連通した状態で配置されているので、放電部と貯留部とをコンパクトに一体形成できるので、装置全体をコンパクトにすることができる。   Therefore, a process for generating an acidic aqueous solution, a process for generating a reduced component by applying electrons to cations contained in the acidic aqueous solution generated by the process, and a reducing component generated by the process are dissolved in water. If the treatment is sequentially performed, reduced water is generated, so that the reduced water can be easily generated. Further, in the acidic aqueous solution generation part, the discharge part is arranged in a state where the through hole of the insulating spacer communicates with the through hole of the outer wall formed in the storage part, so that the discharge part and the storage part can be made compact. Since it can be integrally formed, the entire apparatus can be made compact.

上記構成において、前記外壁が前記絶縁スペーサとして用いられており、前記外壁の貫通孔が前記絶縁スペーサの貫通孔として用いられている構成とすることができる（請求項６）。また、前記外壁が前記第１の電極として用いられている構成とすることもできる（請求項７）。これらの構成によれば、酸性水溶液生成部の部品点数が減少する。   The said structure WHEREIN: The said outer wall is used as the said insulating spacer, It can be set as the structure by which the through-hole of the said outer wall is used as a through-hole of the said insulating spacer. The outer wall may be used as the first electrode (claim 7). According to these structures, the number of parts of an acidic aqueous solution production | generation part reduces.

上記構成において、前記陽イオンは水素イオンであり、前記還元成分生成部は、水素よりもイオン化傾向が大きな元素で構成され、前記酸性水溶液に含まれる前記水素イオンを還元して、前記還元成分として水素分子を生成する還元物質と、前記水素分子の生成量を調節する調節部と、を備える構成とすることができる（請求項８）。   In the above configuration, the cation is a hydrogen ion, and the reducing component generation unit is composed of an element having a larger ionization tendency than hydrogen, and reduces the hydrogen ion contained in the acidic aqueous solution as the reducing component. A reducing substance that generates hydrogen molecules and a control unit that adjusts the amount of hydrogen molecules generated can be provided (claim 8).

この構成によれば、還元成分生成部において、水素よりもイオン化傾向が大きな元素で構成され、酸性水溶液に含まれる陽イオンを還元して、還元成分として水素分子を生成する還元物質が使用され、水素分子の生成量を還元量を調節する調節部を備える。   According to this configuration, the reducing component generation unit is configured with an element that has a greater ionization tendency than hydrogen, and a reducing substance that generates hydrogen molecules as a reducing component by reducing cations contained in the acidic aqueous solution is used. A control unit is provided for adjusting the reduction amount of the generated hydrogen molecule.

そのため、還元水ミスト散布装置は、酸性水溶液に高濃度で含まれる水素イオンを容易に還元して水素分子を生成することができる。また、高濃度で含まれる水素イオンを基に生成される水素分子の生成量を任意かつ容易に調節することができるので、還元水として、幅広い水素濃度を有する水素水を容易に発生させることができる。   Therefore, the reduced water mist spraying device can easily reduce hydrogen ions contained at a high concentration in the acidic aqueous solution to generate hydrogen molecules. In addition, since the amount of hydrogen molecules generated based on hydrogen ions contained at a high concentration can be arbitrarily and easily adjusted, hydrogen water having a wide range of hydrogen concentrations can be easily generated as reduced water. it can.

上記構成において、前記還元物質は、前記調節部へ着脱可能にされている構成とすることができる（請求項９）。この構成によれば、還元物質が水素イオンを還元して、還元物質の体積が減少した際には、体積が減少した還元物質を調節部から取り外して、新たな還元物質を調節部へ取り付けることができる。   The said structure WHEREIN: The said reducing substance can be set as the structure which can be attached or detached to the said adjustment part (Claim 9). According to this configuration, when the reducing substance reduces hydrogen ions and the volume of the reducing substance decreases, the reducing substance with the reduced volume is removed from the adjustment unit, and a new reducing substance is attached to the adjustment unit. Can do.

上記構成において、前記還元物質は、前記調節部により前記酸性水溶液に浸される範囲が調節可能にされている構成とすることができる（請求項１０）。この構成によれば、還元物質が酸性水溶液に浸される範囲を調節して、水素分子の生成量を自在に調節できる。   In the above-described configuration, the reducing substance may be configured such that a range in which the reducing substance is immersed in the acidic aqueous solution is adjustable. According to this configuration, the amount of hydrogen molecules generated can be freely adjusted by adjusting the range in which the reducing substance is immersed in the acidic aqueous solution.

上記構成において、前記還元水生成ユニットは、前記水取得部により取得された前記水を電気分解する陽極及び陰極を備えており、前記陰極において水素水を前記還元水として生成する構成とすることができる（請求項１１）。   The said structure WHEREIN: The said reduced water production | generation unit is equipped with the anode and cathode which electrolyze the said water acquired by the said water acquisition part, It is set as the structure which produces | generates hydrogen water as said reduced water in the said cathode. (Claim 11).

この構成によれば、陽極及び陰極に、酸性水溶液生成部、還元成分生成部、及び、還元水生成部の機能が集約されているので、還元水生成ユニットの構造が簡易となり、かつ、小型化を図ることができる。また、陽極及び陰極により水を電気分解することで、水素水が還元水として生成されるので、還元成分を生成するための還元物質が不要となるので、ユーザが還元物質を補充する必要がなくなる。   According to this configuration, since the functions of the acidic aqueous solution generation unit, the reduction component generation unit, and the reduced water generation unit are integrated in the anode and the cathode, the structure of the reduced water generation unit is simplified and downsized. Can be achieved. Moreover, since hydrogen water is produced as reduced water by electrolyzing water with the anode and the cathode, a reducing substance for producing a reducing component is not necessary, and the user does not need to replenish the reducing substance. .

上記構成において、前記還元水霧化部が、前記還元水に超音波を放射して霧化させる超音波放射素子を備える構成とすることができる（請求項１２）。この構成によれば、粒径がナノメートルサイズの液滴を散布することができる。   The said structure WHEREIN: The said reduced water atomization part can be set as the structure provided with the ultrasonic radiation element which radiates and atomizes an ultrasonic wave to the said reduced water (Claim 12). According to this configuration, droplets having a particle size of nanometer size can be dispersed.

上記構成において、前記還元水霧化部が、表面弾性波を発生して、前記表面弾性波により前記還元水を霧化させる表面弾性波発生部を備える構成とすることができる（請求項１３）。この構成によれば、表面弾性波が伝播する振動面を、還元水の水面と同じ高さに位置させることができるので、装置をコンパクトにすることができる。   The said structure WHEREIN: The said reduced water atomization part can be set as the structure provided with the surface acoustic wave generation part which generate | occur | produces a surface acoustic wave and atomizes the said reduced water with the said surface acoustic wave (Claim 13). . According to this configuration, since the vibration surface on which the surface acoustic wave propagates can be positioned at the same height as the water surface of the reducing water, the apparatus can be made compact.

上記構成において、前記還元水霧化部が、高電圧が印加されることで発生する高電界により前記還元水を霧化させる静電霧化部を備える構成とすることができる（請求項１４）。この構成によれば、粒径がナノメートルサイズの液滴を大量に散布することができる。   The said structure WHEREIN: The said reduced water atomization part can be set as the structure provided with the electrostatic atomization part which atomizes the said reduced water by the high electric field which generate | occur | produces when a high voltage is applied (Claim 14). . According to this configuration, a large amount of droplets having a nanometer size can be dispersed.

上記構成において、前記還元水霧化部が、前記還元水を加圧する加圧部と、前記加圧部により加圧された前記還元水を射出するための小孔と、を備える構成とすることができる（請求項１５）。この構成によれば、還元水を大量に霧化させることができる。   The said structure WHEREIN: The said reduced water atomization part shall be a structure provided with the pressurization part which pressurizes the said reduced water, and the small hole for inject | pouring the said reduced water pressurized by the said pressurization part. (Claim 15). According to this structure, a large amount of reduced water can be atomized.

上記構成において、外部の空気を吸入して加熱した後、加熱された前記空気を送風として導入するヘアドライヤとして構成されており、前記散布部は、前記還元水を前記送風と平行な方向へ散布する構成とすることができる（請求項１６）。この構成によれば、還元水が散布される方向が、送風と同じ方向とされるので、大量の還元水をピンポイントで髪に散布することができる。   In the above-described configuration, the apparatus is configured as a hair dryer that introduces heated air after being sucked and heated from outside, and the spraying unit sprays the reduced water in a direction parallel to the air blowing. It can be configured (claim 16). According to this configuration, the direction in which the reduced water is sprayed is the same direction as the air blowing, so that a large amount of the reduced water can be sprayed on the hair pinpoint.

本発明によれば、ヘアケア機器が、水から還元成分が溶解された還元水を生成し、生成した還元水を霧化し、霧化した還元水を散布する一連の処理を行える。   According to the present invention, the hair care device can perform a series of processes for generating reduced water in which a reducing component is dissolved from water, atomizing the generated reduced water, and spraying the atomized reduced water.

また、還元水を、人の髪や皮膚の隅々まで散布することができるので、髪に艶や潤いを与えること、髪の酸化を防止すること、育毛や発毛の促進を行うことが実現できる。また、パーマ液や毛染め液が塗布されて電子を奪われて酸化してダメージを負った髪が還元されるので、髪のダメージが回復する。   In addition, since it is possible to spray reduced water to every corner of human hair and skin, it is possible to give gloss and moisture to hair, prevent hair oxidation, and promote hair growth and hair growth. it can. In addition, the hair damage is recovered because the permanent hair or hair dyeing solution is applied and electrons are taken away and oxidized and damaged hair is reduced.

以下、本発明の一実施形態に係る還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器について説明する。図１は、本発明の一実施形態に係るヘアケア機器に内蔵される還元水ミスト散布装置の機能構成の一例を示すブロック図である。図１に示す還元水ミスト散布装置１は、ヘアケア機器Ｘに内蔵されており、還元水生成ユニットＵと、水取得部３と、還元水霧化部６と、散布部７と、を備える。   Hereinafter, a hair care device with a built-in reduced water mist spraying apparatus according to an embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a block diagram showing an example of a functional configuration of a reduced water mist spraying device built in a hair care device according to an embodiment of the present invention. The reduced water mist spraying device 1 shown in FIG. 1 is built in the hair care device X, and includes a reduced water generation unit U, a water acquisition unit 3, a reduced water atomization unit 6, and a spraying unit 7.

還元水ミスト散布装置１において、水取得部３は、後述する酸性成分が水中でイオン化して発生した陽イオンを還元して得られた還元成分が溶解された還元水を生成するための水を取得する。そのため、ユーザが還元水を生成するための水を補充する必要がなくなる。また、還元水霧化部６が、還元水生成ユニットＵにより生成された還元水を霧化させ、その後、散布部７が、還元水霧化部６により霧化された還元水を還元水ミストとして散布する。そのため、還元水を髪の奥深くまで散布することができる。   In the reduced water mist spraying apparatus 1, the water acquisition unit 3 uses water for generating reduced water in which reduced components obtained by reducing cations generated by ionizing acidic components (described later) in water are dissolved. get. This eliminates the need for the user to replenish water for generating reduced water. Moreover, the reduced water atomization part 6 atomizes the reduced water produced | generated by the reduced water production | generation unit U, and the spreading | spreading part 7 makes reduced water mist the reduced water atomized by the reduced water atomization part 6 after that. Scatter as. Therefore, it is possible to spray reduced water deep into the hair.

また、還元水ミスト散布装置１において、還元水生成ユニットＵは、水取得部３により取得された水から還元水を生成する。このような還元水生成ユニットＵは、酸性水溶液生成部２、還元成分生成部４、及び、還元水生成部５を備える。   In the reduced water mist spraying apparatus 1, the reduced water generation unit U generates reduced water from the water acquired by the water acquisition unit 3. Such a reduced water generating unit U includes an acidic aqueous solution generating unit 2, a reducing component generating unit 4, and a reduced water generating unit 5.

還元水生成ユニットＵにおいて、酸性水溶液生成部２は、水中で酸性成分を発生させ、水中で発生した酸性成分がイオン化して発生する陽イオン及び陰イオンを含む酸性水溶液を生成する。ここに、酸性成分は、過酸化水素や硝酸が挙げられ、これら過酸化水素や硝酸が水に溶解すれば、少なくとも、陽イオンとして水素イオンが発生する。   In the reduced water generating unit U, the acidic aqueous solution generating unit 2 generates an acidic component in water, and generates an acidic aqueous solution containing cations and anions generated by ionizing the acidic component generated in water. Examples of the acidic component include hydrogen peroxide and nitric acid. When these hydrogen peroxide and nitric acid are dissolved in water, at least hydrogen ions are generated as cations.

また、還元成分生成部４は、酸性水溶液に含まれる陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する。すなわち、酸性成分は酸性水溶液内においてはイオン化するため、酸性水溶液は少なくとも酸性成分から発生した陽イオンを含んでいる。ここに、酸性成分から発生した陽イオンは、酸性成分が過酸化水素や硝酸である際には水素イオンである。この場合、還元成分生成部４は、酸性水溶液に溶解されることによりイオン化した過酸化水素や硝酸から発生した水素イオンに電子を与えて還元し、還元成分として水素分子を生成する。   Moreover, the reducing component production | generation part 4 gives an electron to the cation contained in acidic aqueous solution, and reduce | generates, and produces | generates a reducing component. That is, since the acidic component is ionized in the acidic aqueous solution, the acidic aqueous solution contains at least a cation generated from the acidic component. Here, the cation generated from the acidic component is a hydrogen ion when the acidic component is hydrogen peroxide or nitric acid. In this case, the reducing component generator 4 gives electrons to hydrogen ions generated from hydrogen peroxide or nitric acid ionized by being dissolved in the acidic aqueous solution and reduces the hydrogen ions to generate hydrogen molecules as reducing components.

また、還元水生成部５は、還元成分生成部４により生成された還元成分を水に溶解させて、還元成分が溶解された還元水を生成する。ここに、還元水は、本実施形態では水素水である。   Moreover, the reduced water production | generation part 5 melt | dissolves the reduced component produced | generated by the reduced component production | generation part 4 in water, and produces | generates the reduced water by which the reduced component was melt | dissolved. Here, the reduced water is hydrogen water in the present embodiment.

図２は、還元水ミスト散布装置の具体的構成の一例を示す図である。以下、図２に示す還元水ミスト散布装置１は、本明細書において、「具体的構成例１」とされる。   FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a specific configuration of the reduced water mist spraying apparatus. Hereinafter, the reduced water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. 2 is referred to as “specific configuration example 1” in the present specification.

尚、以下に示す具体的構成例１〜３は、主として水取得部３の種々の構成例を示している。また、以下に示す具体的構成例４は、主として酸性水溶液生成部２の構成例を示している。また、以下に示す具体的構成例５〜８は、主として還元水霧化部の種々の構成例を示している。また、以下に示す具体的構成例９〜１１は、主として還元水ミスト散布装置１が内蔵されたヘアケア機器の種々の構成例を示している。   Specific configuration examples 1 to 3 shown below mainly show various configuration examples of the water acquisition unit 3. In addition, a specific configuration example 4 shown below mainly illustrates a configuration example of the acidic aqueous solution generation unit 2. Specific configuration examples 5 to 8 shown below mainly show various configuration examples of the reduced water atomization unit. Moreover, the specific structural examples 9-11 shown below have shown the various structural examples of the hair care apparatus in which the reducing water mist spraying apparatus 1 was mainly incorporated.

［具体的構成例１］
図２に示す還元水ミスト散布装置１において、水取得部３は、冷媒ガスを高温高圧に圧縮した後放熱させて冷媒液とする放熱部３４と、冷媒液を減圧した後気化させて冷媒ガスとする冷却部３７と、を備える。すなわち、水取得部３は、放熱部３４及び冷却部３７を有した熱交換器を備える。 [Specific Configuration Example 1]
In the reduced water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. 2, the water acquisition unit 3 includes a heat radiating unit 34 that compresses the refrigerant gas to a high temperature and a high pressure and then radiates the refrigerant gas to form a refrigerant liquid. And a cooling unit 37. That is, the water acquisition unit 3 includes a heat exchanger having a heat radiating unit 34 and a cooling unit 37.

このような水取得部３において、放熱部３４及び冷却部３７は、冷凍サイクル部Ｆに備えられている。そして、放熱部３４は、冷媒ガスを高温高圧に圧縮する圧縮器３５と、高温高圧とされた冷媒ガスを放熱することで冷却して冷媒液とする凝縮器３６とを備える。   In such a water acquisition unit 3, the heat radiating unit 34 and the cooling unit 37 are provided in the refrigeration cycle unit F. The heat radiating section 34 includes a compressor 35 that compresses the refrigerant gas to a high temperature and a high pressure, and a condenser 36 that cools the refrigerant gas to a refrigerant liquid by radiating the high temperature and pressure refrigerant.

また、冷却部３７は、乾燥器Ｄにより乾燥された冷媒液を減圧して気化しやすくする膨張弁３０と、減圧された冷媒液を気化させて冷媒ガスとする蒸発器３１と、蒸発器３１に当接して設けられた熱伝導部材３２と、熱伝導部材３２に当接して設けられた結露水発生部３３と、を備える。   The cooling unit 37 includes an expansion valve 30 that depressurizes and evaporates the refrigerant liquid dried by the dryer D, an evaporator 31 that evaporates the depressurized refrigerant liquid to generate refrigerant gas, and an evaporator 31. The heat conducting member 32 provided in contact with the heat conducting member 32 and the condensed water generating part 33 provided in contact with the heat conducting member 32 are provided.

このような冷却部３７において、結露水発生部３３、熱伝導部材３２、及び、蒸発器３１は、熱的に接続されており、蒸発器３１による冷却の効果が、熱伝導部材３２を通じて結露水発生部３３に及ぶ。その結果、結露水発生部３３が冷却され、結露水発生部３３の周囲の空気が冷却されて結露水発生部３３の表面に結露水（以下、単に「水」という）Ｗが付着する。尚、結露水発生部３３と熱伝導部材３２とは一体形成されていてよい。また、結露水発生部３３に熱伝導部材３２が固着されていてもよい。また、結露水発生部３３に熱伝導部材３２が接触していてもよい。いずれの場合も、結露水発生部３３と熱伝導部材３２とで熱を高効率でやり取りできる構成が好ましい。   In such a cooling unit 37, the dew condensation water generation unit 33, the heat conduction member 32, and the evaporator 31 are thermally connected, and the effect of cooling by the evaporator 31 is caused by the dew condensation water through the heat conduction member 32. The generation unit 33 is reached. As a result, the condensed water generating unit 33 is cooled, the air around the condensed water generating unit 33 is cooled, and condensed water (hereinafter simply referred to as “water”) W adheres to the surface of the condensed water generating unit 33. In addition, the dew condensation water generation part 33 and the heat conductive member 32 may be integrally formed. Further, the heat conduction member 32 may be fixed to the dew condensation water generation unit 33. Further, the heat conducting member 32 may be in contact with the dew condensation water generation unit 33. In any case, a configuration in which heat can be exchanged between the condensed water generation unit 33 and the heat conduction member 32 with high efficiency is preferable.

このような冷却部３７により結露水発生部３３に発生した水Ｗは、水タンクＴに流入し、酸性水溶液生成部２に吸い上げられる。酸性水溶液生成部２に吸い上げられた水Ｗは、還元水生成ユニットＵ、つまり、酸性水溶液生成部２、還元成分生成部４、及び、還元水生成部５により還元水Ｍ３とされる。そして、還元水Ｍ３は、還元水霧化部６により霧化され、散布部７として構成されている送風ファンによる送風により還元水ミストとして散布される。   The water W generated in the condensed water generation unit 33 by such a cooling unit 37 flows into the water tank T and is sucked up by the acidic aqueous solution generation unit 2. The water W sucked up by the acidic aqueous solution generation unit 2 is converted into reduced water M3 by the reduced water generation unit U, that is, the acidic aqueous solution generation unit 2, the reduced component generation unit 4, and the reduced water generation unit 5. The reduced water M3 is atomized by the reduced water atomization unit 6 and is sprayed as reduced water mist by blowing air from a blower fan configured as the spraying unit 7.

このような水取得手段３によれば、冷却部３７の冷却効果により空気中の水分を結露させて水を取得するため、ユーザが酸性水溶液を生成するための水を補充する必要がない。   According to such water acquisition means 3, since the water in the air is condensed by the cooling effect of the cooling unit 37 to acquire water, it is not necessary for the user to replenish water for generating the acidic aqueous solution.

図３は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例２を示す図である。尚、図２に示す還元水ミスト散布装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。   FIG. 3 is a diagram showing a specific configuration example 2 of the reduced water mist spraying apparatus. In addition, the same code | symbol as the code | symbol shown in FIG. 2 is attached | subjected to the element same as the reducing water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. Moreover, description is abbreviate | omitted.

［具体的構成例２］
図３に示す還元水ミスト散布装置１において、水取得部３は、冷却面４０による冷却により、空気中の水分を結露させて水を取得するペルチェ素子３８を備える。 [Specific Configuration Example 2]
In the reduced water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. 3, the water acquisition unit 3 includes a Peltier element 38 that acquires water by condensing moisture in the air by cooling with the cooling surface 40.

ペルチェ素子３８は、前記冷却面４０及び放熱面４２を備える。そして、冷却面４０には結露水発生部３３が取り付けられている。尚、冷却面４０と結露水発生部３３とは熱的に接続されていればよい。一方、放熱面４２には放熱フィン４３が取り付けられている。   The Peltier element 38 includes the cooling surface 40 and the heat radiating surface 42. A condensed water generator 33 is attached to the cooling surface 40. In addition, the cooling surface 40 and the dew condensation water generation part 33 should just be thermally connected. On the other hand, heat radiation fins 43 are attached to the heat radiation surface 42.

このような水取得部３において、ペルチェ素子用電源４１によりペルチェ素子３８が通電された際には、ペルチェ素子３８の冷却面４０が冷却され、その冷却効果が結露水発生部３３に及ぶ。そのため、結露水発生部３３も冷却されて、結露水発生部３３の周囲の空気が冷却されて結露水発生部３３の表面に水Ｗが付着する。一方、ペルチェ素子３８の放熱面４２からは熱が発生するが、その熱は放熱フィン４３により放熱される。   In such a water acquisition unit 3, when the Peltier device 38 is energized by the Peltier device power supply 41, the cooling surface 40 of the Peltier device 38 is cooled, and the cooling effect reaches the condensed water generation unit 33. Therefore, the dew condensation water generation unit 33 is also cooled, the air around the dew condensation water generation unit 33 is cooled, and the water W adheres to the surface of the dew condensation water generation unit 33. On the other hand, heat is generated from the heat radiation surface 42 of the Peltier element 38, but the heat is radiated by the heat radiation fins 43.

このようなペルチェ素子３８により結露水発生部３３に発生した水Ｗは、水タンクＴに流入し、酸性水溶液発生部２に吸い上げられる。酸性水溶液生成部２に吸い上げられた水Ｗは、還元水生成ユニットＵ、つまり、酸性水溶液生成部２、還元成分生成部４、及び、還元水生成部５、により還元水Ｍ３とされる。還元水Ｍ３は還元水霧化部６により霧化される。還元水霧化部６により霧化された還元水Ｍ３は、散布部７として構成されている送風ファンによる送風により還元水ミストとして散布される。   The water W generated in the dew condensation water generation unit 33 by such a Peltier element 38 flows into the water tank T and is sucked up by the acidic aqueous solution generation unit 2. The water W sucked up by the acidic aqueous solution generation unit 2 is converted into reduced water M3 by the reduced water generation unit U, that is, the acidic aqueous solution generation unit 2, the reduced component generation unit 4, and the reduced water generation unit 5. The reduced water M3 is atomized by the reduced water atomization unit 6. The reduced water M3 atomized by the reduced water atomization unit 6 is sprayed as reduced water mist by blowing by a blower fan configured as the spraying unit 7.

このような水取得部３によれば、装置の体積が小さく、騒音や振動が生じないペルチェ素子３８で水を取得できるので、水取得部３をコンパクトにすることができるとともに、水取得に騒音や振動が生じない。   According to such a water acquisition part 3, since the volume of the apparatus is small and water can be acquired by the Peltier element 38 which does not generate noise and vibration, the water acquisition part 3 can be made compact and noise can be acquired in water acquisition. And vibration does not occur.

図４は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例３を示す図である。尚、図２に示す還元水ミスト散布装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。   FIG. 4 is a diagram illustrating a specific configuration example 3 of the reduced water mist spraying apparatus. In addition, the same code | symbol as the code | symbol shown in FIG. 2 is attached | subjected to the element same as the reducing water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. Moreover, description is abbreviate | omitted.

［具体的構成例３］
図４に示す還元水ミスト散布装置１において、水取得部３は、空気中の水分を吸着する吸着剤４５と、吸着剤４５を加熱して吸着剤４５に吸着された水分を脱離させるヒーター４９と、を備える。ここに、吸着剤４５は、例えば、ゼオライトが好適である。 [Specific Configuration Example 3]
In the reduced water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. 4, the water acquisition unit 3 includes an adsorbent 45 that adsorbs moisture in the air, and a heater that heats the adsorbent 45 and desorbs moisture adsorbed on the adsorbent 45. 49. Here, the adsorbent 45 is preferably, for example, zeolite.

このような水取得部３において、ハウジング５１内の下部には、ポリプロピレン等の硬質素材からなる水タンクＴが設けられており、この水タンクＴの上開口Ｔａを吸着体４４で閉塞している。   In such a water acquisition unit 3, a water tank T made of a hard material such as polypropylene is provided in the lower part of the housing 51, and the upper opening Ta of the water tank T is closed by the adsorbent 44. .

吸着体４４は、主体となる吸着材４５と、吸着剤４５の裏面側に配設された網等の通水性がある硬質の裏板４６と、吸着剤４５の表面側に配設された透湿性且つ非透水性のフィルム４７とで構成されている。そして、裏板４６は、水タンクＴの上開口Ｔａに設けられた受け部４８に支持されており、裏板４６上に吸着材４５が充填され、上開口Ｔａの上端がフィルム４７でシールされている。また、吸着体４４内には、ヒーター４９が設けられている。   The adsorbent 44 includes a main adsorbent 45, a hard back plate 46 having water permeability such as a net disposed on the back side of the adsorbent 45, and a transparent disposed on the front side of the adsorbent 45. It is composed of a wet and water-impermeable film 47. The back plate 46 is supported by a receiving portion 48 provided in the upper opening Ta of the water tank T, the adsorbent 45 is filled on the back plate 46, and the upper end of the upper opening Ta is sealed with a film 47. ing. A heater 49 is provided in the adsorbent 44.

また、吸着体４４には水搬送部５０が嵌挿されており、水搬送部５０の下端部が、水タンクＴの下部に位置しており、水搬送部５０の上端部がハウジング５１の上部に位置している。   The adsorbent 44 is fitted with a water transport unit 50, the lower end of the water transport unit 50 is positioned below the water tank T, and the upper end of the water transport unit 50 is the upper part of the housing 51. Is located.

このような水搬送部５０は、棒状の形状とされており、水タンクＴに溜まった水を先端（上端）に毛細管現象で搬送するための細い孔を形成したもの又は多孔質の材料で形成されている。   Such a water conveyance part 50 is made into the shape of a rod, and is formed with a thin hole for conveying water accumulated in the water tank T to the tip (upper end) by capillary action or a porous material. Has been.

このような水取得部３において、空気中の水分が破線矢印で示すように、フィルム４７を介して吸着材４５に吸着される。このように空気中の水分が吸着した吸着剤４５から水分を脱離させるには、ヒーター４９に通電する。そして、ヒーター４９により熱せられた吸着剤４５からは、水分が脱離する。吸着材４５から脱離した水は裏板４６から水タンクＴ内に流れて溜まる。一方、吸着剤４５に水分を吸着させるには、ヒーター４９への通電を停止する。   In such a water acquisition part 3, the water | moisture content in air is adsorb | sucked by the adsorbent 45 through the film 47, as shown with the broken line arrow. In order to desorb moisture from the adsorbent 45 that has adsorbed moisture in the air in this way, the heater 49 is energized. Then, moisture is desorbed from the adsorbent 45 heated by the heater 49. The water desorbed from the adsorbent 45 flows into the water tank T from the back plate 46 and accumulates. On the other hand, to cause the adsorbent 45 to adsorb moisture, the energization to the heater 49 is stopped.

このようにして水タンクＴに溜まった水Ｗは、水搬送部５０における毛細管現象により、酸性水溶液生成部２へ送られる。酸性水溶液生成部２に送られた水Ｗは、還元水生成ユニットＵ、つまり、酸性水溶液生成部２、還元成分生成部４、及び、還元水生成部５により還元水Ｍ３とされる。還元水Ｍ３は還元水霧化部６により霧化される。還元水霧化部６により霧化された還元水Ｍ３は、散布部７として構成されている送風ファンによる送風により還元水ミストとして散布される。   The water W collected in the water tank T in this way is sent to the acidic aqueous solution generation unit 2 by capillary action in the water transport unit 50. The water W sent to the acidic aqueous solution generator 2 is converted into reduced water M3 by the reduced water generator unit U, that is, the acidic aqueous solution generator 2, the reduced component generator 4, and the reduced water generator 5. The reduced water M3 is atomized by the reduced water atomization unit 6. The reduced water M3 atomized by the reduced water atomization unit 6 is sprayed as reduced water mist by blowing by a blower fan configured as the spraying unit 7.

この構成によれば、吸着剤４５が空気中の水分を吸着し、吸着剤４５に吸着された水分が、還元水の生成のために使用されるので、還元水を生成するための水を、装置に通電しなくても空気中から取得できるので、消費電力の抑制を図ることができる。   According to this configuration, the adsorbent 45 adsorbs moisture in the air, and the moisture adsorbed on the adsorbent 45 is used to generate reduced water. Since it can be acquired from the air without energizing the device, it is possible to reduce power consumption.

図５は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例４を示す図である。尚、図２に示す還元水ミスト散布装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。   FIG. 5 is a diagram showing a specific configuration example 4 of the reduced water mist spraying apparatus. In addition, the same code | symbol as the code | symbol shown in FIG. 2 is attached | subjected to the element same as the reducing water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. Moreover, description is abbreviate | omitted.

［具体的構成例４］
以下、「上流」、「下流」との記載は、送風部２６から導入される送風に対する上流、下流をそれぞれ示すものとする。 [Specific Configuration Example 4]
Hereinafter, the descriptions of “upstream” and “downstream” indicate upstream and downstream with respect to the air blown from the blower unit 26, respectively.

図５に示す還元水ミスト散布装置１において、酸性水溶液生成部２は、貯留部２０、放電部２５、及び、送風部２６を備える。このような酸性水溶液生成部２において、貯留部２０は、図１に示す水取得部３としても設けられており、酸性水溶液Ｍ１の原料となる水、又は、酸性水溶液Ｍ１を貯留する。このような貯留部２０は、放電部２５の下流側に密着して配置されるタンクであり、その内部空間が、絶縁スペーサ２１の貫通孔２１ａと連通している。   In the reduced water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. 5, the acidic aqueous solution generation unit 2 includes a storage unit 20, a discharge unit 25, and a blower unit 26. In such an acidic aqueous solution generation unit 2, the storage unit 20 is also provided as the water acquisition unit 3 shown in FIG. 1, and stores water that is a raw material of the acidic aqueous solution M1 or the acidic aqueous solution M1. Such a reservoir 20 is a tank arranged in close contact with the downstream side of the discharge part 25, and its internal space communicates with the through hole 21 a of the insulating spacer 21.

また、酸性水溶液生成部２において、放電部２５は、貯留部２０と一体形成されており、微小な貫通孔２１ａを有する絶縁スペーサ２１と、絶縁スペーサ２１の上流側に配置された上流側電極（第２の電極）２２と、絶縁スペーサ２１の下流側に配置された下流側電極（第１の電極）２３と、上流側電極２２及び下流側電極２３へ高電圧を印加して、絶縁スペーサ２１の貫通孔２１ａで沿面放電を行って、貫通孔２１ａで酸性成分の原料を生成するための高電圧印加部２４と、を備える。尚、上流側電極２２及び下流側電極２３は、金属等の導体で構成されている。   Further, in the acidic aqueous solution generation unit 2, the discharge unit 25 is formed integrally with the storage unit 20, and an insulating spacer 21 having a minute through hole 21 a and an upstream electrode (on the upstream side of the insulating spacer 21 ( (Second electrode) 22, a downstream electrode (first electrode) 23 disposed on the downstream side of insulating spacer 21, upstream electrode 22, and downstream electrode 23, and a high voltage is applied to insulating spacer 21. A high voltage application unit 24 for generating creeping discharge in the through hole 21a and generating a raw material of an acidic component in the through hole 21a. The upstream electrode 22 and the downstream electrode 23 are made of a conductor such as metal.

また、放電部２５において、絶縁スペーサ２１が、貯留部２０内に貯留されている水又は酸性水溶液Ｍ１と接しており、貯留部２０と外部空間とを隔てる外壁とされている。そして、絶縁スペーサ２１の貫通孔２１ａが、外壁における貫通孔とされている。   Moreover, in the discharge part 25, the insulating spacer 21 is in contact with the water or acidic aqueous solution M1 stored in the storage part 20, and is an outer wall that separates the storage part 20 from the external space. The through hole 21a of the insulating spacer 21 is a through hole in the outer wall.

尚、放電部は、以下に示す構成であってもよい。つまり、下流側電極（第１の電極）２３が、貯留部２０内に貯留されている水又は酸性水溶液Ｍ１と接しており、貯留部２０と外部空間とを隔てる外壁とされている。そして、下流側電極２３には、外壁における自図示しない貫通孔が形成されている。このような貫通孔には、絶縁スペーサ２１の貫通孔２１ａが連通している。このような構成も、以下に示す効果を得ることができる。   In addition, the structure shown below may be sufficient as a discharge part. That is, the downstream electrode (first electrode) 23 is in contact with the water or acidic aqueous solution M1 stored in the storage unit 20, and is an outer wall that separates the storage unit 20 from the external space. The downstream electrode 23 is formed with a through hole (not shown) in the outer wall. The through hole 21a of the insulating spacer 21 communicates with such a through hole. Such a configuration can also provide the following effects.

このような放電部２５において、絶縁スペーサ２１はセラミックスボード等の不導体で構成されており、上流側電極２２及び下流側電極２３で挟持された構成とされている。尚、絶縁スペーサ２１が有する貫通孔２１ａの孔径は、数十μｍ〜数ｍｍ程度、好ましくは、数１００μｍである。尚、前記貫通孔２１ａは、数１００μｍ程度と非常に微小径に設けているため、空気の流通を確保しながらも、貯留部２０に貯留されている水が貫通孔２１ａに侵入することを、表面張力により防止できる。   In such a discharge part 25, the insulating spacer 21 is made of a nonconductor such as a ceramic board, and is sandwiched between the upstream electrode 22 and the downstream electrode 23. In addition, the hole diameter of the through-hole 21a which the insulating spacer 21 has is about several tens of micrometers-several mm, Preferably, it is several hundred micrometers. In addition, since the through hole 21a is provided with a very small diameter of about several hundreds μm, it is ensured that water stored in the storage unit 20 enters the through hole 21a while ensuring air circulation. Can be prevented by surface tension.

また、上流側電極２２及び下流側電極２３は、高電圧印加部２４に接続されている。上流側電極２２及び下流側電極２３は、高電圧印加部２４により、マイクロプラズマ放電用の高電圧が印加される。これにより、上流側電極２２及び下流側電極２３に挟持された絶縁スペーサ２１が有する貫通孔２１ａで沿面放電が生じる。   The upstream electrode 22 and the downstream electrode 23 are connected to the high voltage application unit 24. A high voltage for microplasma discharge is applied to the upstream electrode 22 and the downstream electrode 23 by the high voltage application unit 24. As a result, creeping discharge occurs in the through-hole 21 a of the insulating spacer 21 sandwiched between the upstream electrode 22 and the downstream electrode 23.

また、酸性水溶液生成部２において、送風部２６は、放電部２５の上流側に位置して設けられており、絶縁スペーサ２１の貫通孔２１ａへ送風を導入する。これにより、貯留部２０の外部から、貫通孔２１ａを通過して貯留部２０の内部に貯留されている水へ行き渡る泡Ｂを大量に発生させることができ、放電部２５の放電により沿面放電が生じている貫通孔２１ａにおいて酸性成分の原料が大量に生成される。   Further, in the acidic aqueous solution generation unit 2, the air blowing unit 26 is provided on the upstream side of the discharge unit 25, and introduces air into the through hole 21 a of the insulating spacer 21. Thereby, a large amount of bubbles B can be generated from the outside of the storage unit 20 through the through-holes 21 a to the water stored in the storage unit 20, and creeping discharge is generated by the discharge of the discharge unit 25. A large amount of the raw material of the acidic component is generated in the generated through-hole 21a.

そして、この貫通孔２１ａで大量に生成された酸性成分の原料が、送風部２６による送風により、貫通部２１ａと連通して配置された貯留部２０へ導入されて、貯留部２０に貯留された水へ溶解される。   And the raw material of the acidic component produced | generated in large quantities by this through-hole 21a was introduce | transduced into the storage part 20 arrange | positioned by communicating with the penetration part 21a by the ventilation by the ventilation part 26, and was stored by the storage part 20 Dissolved in water.

ここに、酸性成分の原料は、酸性成分が先述した過酸化水素や硝酸である場合には、スーパーオキサイドラジカル、ヒドロキシラジカル、窒素酸化物、硝酸イオンが挙げられる。このような酸性成分の原料が、貯留部２０に貯留されている水の中に溶け込んで過酸化水素や硝酸が発生する。   When the acidic component is hydrogen peroxide or nitric acid as described above, examples of the raw material for the acidic component include superoxide radicals, hydroxy radicals, nitrogen oxides, and nitrate ions. The raw material of such an acidic component dissolves in the water stored in the storage unit 20 to generate hydrogen peroxide and nitric acid.

つまり、スーパーオキサイドラジカル、ヒドロキシラジカルが水に溶け込んで過酸化水素が発生して、貯留部２０に貯留されている水が、過酸化水素が溶解された水に変質する。また、窒素酸化物、硝酸イオンが水に溶け込んで硝酸が発生して、貯留部２０に貯留されている水が、硝酸が溶解された水に変質する。そして、貯留部２０に貯留されている水は、過酸化水素や硝酸が溶解された水に変質した際には、過酸化水素や硝酸が、陽イオン及び陰イオンにイオン化することにより、少なくとも陽イオンとして水素イオンが含まれた水となる。   That is, superoxide radicals and hydroxy radicals are dissolved in water to generate hydrogen peroxide, and the water stored in the storage unit 20 is transformed into water in which hydrogen peroxide is dissolved. Further, nitrogen oxides and nitrate ions dissolve in water to generate nitric acid, and the water stored in the reservoir 20 is transformed into water in which nitric acid is dissolved. When the water stored in the reservoir 20 is transformed into water in which hydrogen peroxide and nitric acid are dissolved, the hydrogen peroxide and nitric acid are ionized into cations and anions, so that at least positive The water contains hydrogen ions as ions.

このような酸性水溶液生成部２によれば、放電部２５が、貯留部２０の上流側において、絶縁スペーサ２１が有する貫通孔２１ａが貯留部２０と連通した状態で配置されているので、放電部２５と貯留部２０とをコンパクトに一体形成できるので、装置全体をコンパクトにすることができる。   According to such an acidic aqueous solution generation unit 2, the discharge unit 25 is arranged on the upstream side of the storage unit 20 with the through hole 21 a included in the insulating spacer 21 communicating with the storage unit 20. 25 and the storage part 20 can be integrally formed in a compact manner, so that the entire apparatus can be made compact.

また、酸性成分の原料が、放電部２５及び送風部２６により貯留部２０内の水に高濃度で溶解されるため、陽イオンが高濃度に含まれた酸性水溶液Ｍ１を生成することができる。   Moreover, since the raw material of an acidic component is melt | dissolved in the water in the storage part 20 with high concentration by the discharge part 25 and the ventilation part 26, the acidic aqueous solution M1 in which the cation was contained in high concentration can be produced | generated.

尚、先述した酸性水溶液生成部２において、下流側電極２３が、貯留部２０と外部空間とを隔てる外壁とされている。また、絶縁スペーサ２１が、貯留部２０と外部空間とを隔てる外壁とされており、絶縁スペーサ２１の貫通孔２１ａが、前記外壁の貫通孔とされている。   In the acidic aqueous solution generator 2 described above, the downstream electrode 23 is an outer wall that separates the reservoir 20 from the external space. The insulating spacer 21 is an outer wall that separates the storage portion 20 from the external space, and the through hole 21a of the insulating spacer 21 is a through hole of the outer wall.

また、図５に示す還元水ミスト散布装置１において、還元成分生成部４は、水素よりもイオン化傾向が大きな元素で構成され、酸性水溶液Ｍ１に含まれる水素イオンを還元して、還元成分として水素分子を生成する還元物質４Ａと、水素分子の生成量を調節する調節部４Ｂと、を備える。   Moreover, in the reduced water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. 5, the reducing component production | generation part 4 is comprised with an element with a larger ionization tendency than hydrogen, reduces the hydrogen ion contained in acidic aqueous solution M1, and uses hydrogen as a reducing component. A reducing substance 4A that generates molecules and a controller 4B that adjusts the amount of hydrogen molecules generated are provided.

このような還元成分生成部４において、還元物質４Ａは、本実施形態では亜鉛である。尚、還元物質４Ａは亜鉛以外にも、水素よりもイオン化傾向が大きい元素で構成された物質が挙げられる。また、調節部４Ｂは、還元物質４Ａが着脱可能に取り付けられており、還元物質４Ａが酸性水溶液Ｍ１に浸される範囲を調節する機能を有する。尚、調節部４Ｂは、本実施形態では、貯留部２０の内部空間において上下に移動することが可能な調節棒である。しかしながら、調節部４Ｂは、貯留部２０の内部空間において上下に移動する構成には限られない。   In such a reducing component generation unit 4, the reducing substance 4A is zinc in the present embodiment. In addition, the reducing substance 4A includes a substance composed of an element having a higher ionization tendency than hydrogen other than zinc. The adjusting unit 4B is detachably attached to the reducing substance 4A, and has a function of adjusting a range in which the reducing substance 4A is immersed in the acidic aqueous solution M1. In addition, the adjustment part 4B is an adjustment bar which can move up and down in the internal space of the storage part 20 in this embodiment. However, the adjustment unit 4B is not limited to a configuration that moves up and down in the internal space of the storage unit 20.

つまり、調節部４Ｂは、還元物質４Ａが酸性水溶液Ｍ１に浸される範囲を調節できる機構が挙げられる。例えば、調節部４Ｂを回転させて還元物質４Ａの酸性水溶液Ｍ１の液面に対する角度を調節することにより、還元物質４Ａが酸性水溶液Ｍ１に浸される範囲が調節されてもよい。また、調節部４Ｂの回転が、手動ではなくモータの回転により行われてもよい。   That is, the adjustment unit 4B includes a mechanism that can adjust the range in which the reducing substance 4A is immersed in the acidic aqueous solution M1. For example, the range in which the reducing substance 4A is immersed in the acidic aqueous solution M1 may be adjusted by rotating the adjusting unit 4B to adjust the angle of the reducing substance 4A with respect to the liquid surface of the acidic aqueous solution M1. Further, the adjustment unit 4B may be rotated not by manual operation but by rotation of a motor.

このような還元成分生成部４において、還元物質（亜鉛）４Ａは、調節部（調節棒）４Ｂが貯留部２０の内部空間において上下に移動することに伴って、酸性水溶液Ｍ１に浸される範囲が大小する。   In such a reducing component generation unit 4, the reducing substance (zinc) 4 </ b> A is immersed in the acidic aqueous solution M <b> 1 as the adjusting unit (adjusting rod) 4 </ b> B moves up and down in the internal space of the storage unit 20. Is bigger or smaller.

還元物質（亜鉛）４Ａにおいて、酸性水溶液Ｍ１に浸された範囲が、酸性水溶液Ｍ１に含まれる水素イオンを還元する。すなわち、還元物質（亜鉛）４Ａにおいて、酸性水溶液Ｍ１に浸された範囲が、酸性成分が酸性水溶液Ｍ１においてイオン化して発生した水素イオンへ電子を与え、自らは亜鉛イオンとなる。その結果、水素イオンが電子を受け取って水素原子となり、水素原子が２つづつ結合して水素分子となる。   In the reducing substance (zinc) 4A, the range immersed in the acidic aqueous solution M1 reduces hydrogen ions contained in the acidic aqueous solution M1. That is, in the reducing substance (zinc) 4A, the range immersed in the acidic aqueous solution M1 gives electrons to the hydrogen ions generated by the acidic components ionized in the acidic aqueous solution M1, and becomes itself zinc ions. As a result, hydrogen ions receive electrons and become hydrogen atoms, and two hydrogen atoms are bonded together to form hydrogen molecules.

このような還元成分生成部４によれば、酸性水溶液Ｍ１に高濃度で含まれる水素イオンを容易に還元して、還元成分Ｍ２として水素分子を生成することができる。また、高濃度で含まれる水素イオンを基に生成される水素分子の生成量を任意かつ容易に調節することができるので、還元水Ｍ３として、幅広い水素濃度を有する水素水を容易に発生させることができる。   According to such a reducing component generation unit 4, hydrogen ions contained in the acidic aqueous solution M1 at a high concentration can be easily reduced to generate hydrogen molecules as the reducing component M2. In addition, since the amount of hydrogen molecules generated based on hydrogen ions contained at a high concentration can be arbitrarily and easily adjusted, hydrogen water having a wide range of hydrogen concentrations can be easily generated as the reduced water M3. Can do.

また、図５に示す還元水ミスト散布装置１において、貯留部２０において還元物質４Ａの略真上に相当する位置からは還元成分供給管Ｔが導出されており、この還元成分供給管Ｔを介して還元水生成部５が接続されている。ここに、還元成分Ｍ２である水素分子は空気よりも比重が非常に小さいので還元物質４Ａの略真上に上昇するから、還元成分供給管Ｔが、先述したように、還元物質４Ａの略真上から導出されている。   Further, in the reducing water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. 5, a reducing component supply pipe T is led out from a position corresponding to a position just above the reducing substance 4 </ b> A in the storage unit 20. And the reduced water production | generation part 5 is connected. Here, since the hydrogen molecule as the reducing component M2 has a specific gravity much smaller than that of air, the hydrogen molecule rises almost directly above the reducing material 4A. Therefore, as described above, the reducing component supply pipe T has a substantially true value of the reducing material 4A. Derived from above.

還元成分供給管Ｔにはポンプ８Ａが設けられており、このポンプ８Ａが還元成分Ｍ２を還元水生成部５へ送り出す。これにより、還元成分Ｍ２が還元水生成部５へ導入されて還元水Ｍ３が生成される。   The reducing component supply pipe T is provided with a pump 8A, and this pump 8A sends the reducing component M2 to the reduced water generator 5. Thereby, the reducing component M2 is introduce | transduced into the reducing water production | generation part 5, and the reducing water M3 is produced | generated.

また、図５に示す還元水ミスト散布装置１において、還元水生成部５からは還元水供給管９が導出されており、この還元水供給管９を介して還元水霧化部６が接続されている。還元水供給管９にはポンプ８Ｂが設けられており、このポンプ８Ｂが還元水Ｍ３を還元水霧化部６へ送り出す。還元水霧化部６は、ポンプ８Ｂにより還元水生成部５から送り出された還元水Ｍ３をミスト状に霧化する。還元水霧化部６により霧化された還元水Ｍ３は、散布部７により還元水ミストとして散布される。   Further, in the reduced water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. 5, a reduced water supply pipe 9 is led out from the reduced water generating section 5, and the reduced water atomizing section 6 is connected via the reduced water supply pipe 9. ing. The reduced water supply pipe 9 is provided with a pump 8B, and this pump 8B sends the reduced water M3 to the reduced water atomization section 6. The reduced water atomization unit 6 atomizes the reduced water M3 sent from the reduced water generation unit 5 by the pump 8B in a mist form. The reduced water M3 atomized by the reduced water atomization unit 6 is sprayed as reduced water mist by the spray unit 7.

このような還元水発生装置１によれば、酸性水溶液Ｍ１を生成する処理、前記処理により生成された酸性水溶液Ｍ１に含まれる陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する処理、前記処理により生成された還元成分を水に溶解させる処理を順次行えば、還元水Ｍ３が発生するので、還元水Ｍ３を簡便に発生させることができる。   According to such a reduced water generator 1, the process of generating the acidic aqueous solution M1, the process of generating a reducing component by giving electrons to the cations contained in the acidic aqueous solution M1 generated by the process and reducing the cation, If the process which dissolves the reducing component produced | generated by the process in water is performed sequentially, since the reduced water M3 will generate | occur | produce, the reduced water M3 can be generated easily.

図６は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例５を示す図である。尚、図２に示す還元水ミスト散布装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。   FIG. 6 is a diagram showing a specific configuration example 5 of the reduced water mist spraying apparatus. In addition, the same code | symbol as the code | symbol shown in FIG. 2 is attached | subjected to the element same as the reducing water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. Moreover, description is abbreviate | omitted.

［具体的構成例５］
図６に示す還元水ミスト散布装置１において、還元水霧化部６は、表面弾性波を発生して、表面弾性波により還元水Ｍ３を霧化させる表面弾性波発生部６４を備える。このような表面弾性波発生部６４は、基板６１の一表面の一端に設けられ、高周波電源が接続された振動子から構成されている。このような表面弾性波発生部６４では、振動子が振動した際には、その振動波が基板６１の前記一表面上を表面弾性波となって伝播する。 [Specific Configuration Example 5]
In the reduced water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. 6, the reduced water atomizing unit 6 includes a surface acoustic wave generating unit 64 that generates surface acoustic waves and atomizes the reduced water M3 by the surface elastic waves. Such a surface acoustic wave generation unit 64 is provided at one end of one surface of the substrate 61 and is constituted by a vibrator to which a high frequency power source is connected. In such a surface acoustic wave generator 64, when the vibrator vibrates, the vibration wave propagates as a surface acoustic wave on the one surface of the substrate 61.

一方、基板６１の前記一表面の他端には凹状の水溜め部２０が設けられており、水溜め部２０には、水溜め部２０に水Ｗが溜まった状態で水Ｗに浸される陽極５３及び陰極５４が設けられている。この陽極５３及び陰極５４は、水溜め部２０に溜まった水Ｗを電気分解して陰極５４側に還元水（ここでは水素水）Ｍ３を生成する機能を有している。つまり、陽極５３及び陰極５４は、先述した、還元水生成ユニットＵ、つまり、酸性水溶液生成部２、還元成分生成部４、及び、還元水生成部５の機能を１つに集約したものである。   On the other hand, a concave water reservoir 20 is provided at the other end of the one surface of the substrate 61, and the water reservoir 20 is immersed in the water W while the water W is accumulated in the water reservoir 20. An anode 53 and a cathode 54 are provided. The anode 53 and the cathode 54 have a function of electrolyzing the water W collected in the water reservoir 20 to generate reduced water (here, hydrogen water) M3 on the cathode 54 side. That is, the anode 53 and the cathode 54 are the functions of the reduced water generation unit U, that is, the acidic aqueous solution generation unit 2, the reduced component generation unit 4, and the reduced water generation unit 5, which are described above. .

また、このような還元水発生装置１において、水取得部３は、ペルチェ素子３８で構成されており、ペルチェ素子３８へ通電した際には、ペルチェ素子３８の冷却部４０による冷却効果により空気中の水分を結露させて水Ｗを取得する。そして、取得された液体Ｗは毛細管５２を毛細管現象により移動して、基板６１上の水溜め部２０へと送られる。   Further, in such a reduced water generator 1, the water acquisition unit 3 includes the Peltier element 38, and when the Peltier element 38 is energized, the water acquisition unit 3 is in the air due to the cooling effect of the cooling unit 40 of the Peltier element 38. Water W is obtained by condensing the water. The acquired liquid W moves through the capillary tube 52 by capillary action and is sent to the water reservoir 20 on the substrate 61.

このような還元水発生装置１によれば、ペルチェ素子３８への通電により取得された水Ｗは、陽極５３及び陰極５４により電気分解されて、陰極５４側で還元水Ｍ３（ここでは水素水）となる。そして、還元水Ｍ３は、表面弾性波発生部６４により発生され基板６１上に伝播される表面弾性波によって霧化され還元水ミストとなり、散布部７として構成されている送風ファンによって還元水ミストとして散布される。   According to such a reduced water generator 1, the water W acquired by energizing the Peltier element 38 is electrolyzed by the anode 53 and the cathode 54 and reduced water M3 (here, hydrogen water) on the cathode 54 side. It becomes. The reduced water M3 is atomized by the surface acoustic wave generated by the surface acoustic wave generating unit 64 and propagated on the substrate 61 to be reduced water mist. The reduced water M3 is reduced by the blower fan configured as the spraying unit 7 as reduced water mist. Be sprayed.

このような還元水ミスト散布装置１によれば、表面弾性波が伝播する振動面を、還元水Ｍ３の水面と同じ高さに位置させることができるので、装置１をコンパクトにすることができる。   According to such a reduced water mist spraying device 1, the vibration surface on which the surface acoustic wave propagates can be positioned at the same height as the water surface of the reduced water M3, so that the device 1 can be made compact.

尚、このような還元水ミスト散布装置１において、水取得部３は、ペルチェ素子３８への通電により水Ｗを取得する構成には限定されない。例えば、具体的構成例１に例示する熱交換器の冷却部を使用する構成、及び、具体的構成例２に例示する吸着剤４５による水分吸着効果を使用する構成が挙げられる。   In such a reduced water mist spraying apparatus 1, the water acquisition unit 3 is not limited to a configuration that acquires the water W by energizing the Peltier element 38. For example, the structure which uses the cooling part of the heat exchanger illustrated in the specific structural example 1 and the structure which uses the moisture adsorption effect by the adsorbent 45 illustrated in the specific structural example 2 can be given.

図７は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例６を示す図である。尚、図２に示す還元水ミスト散布装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。   FIG. 7 is a diagram illustrating a specific configuration example 6 of the reduced water mist spraying apparatus. In addition, the same code | symbol as the code | symbol shown in FIG. 2 is attached | subjected to the element same as the reducing water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. Moreover, description is abbreviate | omitted.

［具体的構成例６］
図７に示す還元水ミスト散布装置１において、還元水霧化部６は、還元水Ｍ３に超音波を放射して霧化させる超音波放射素子６０を備える。このような超音波放射素子６０は、基板６１、断熱層６２、及び、発熱体６３を備える。 [Specific Configuration Example 6]
In the reduced water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. 7, the reduced water atomization unit 6 includes an ultrasonic radiation element 60 that emits ultrasonic waves to the reduced water M3 to atomize the reduced water M3. Such an ultrasonic radiating element 60 includes a substrate 61, a heat insulating layer 62, and a heating element 63.

超音波放射素子６０において、基板６１は例えばシリコン基板からなる。また、断熱層６２は、基板６１の厚み方向の一表面側に形成されており、基板６１に比べて熱伝導率が十分に小さな多孔質シリコン層からなる。また、発熱層６３は、断熱層６２上に形成され、断熱層６２よりも熱伝導率及び導電率が大きな金属薄膜（例えば、金薄膜） からなる。   In the ultrasonic radiation element 60, the substrate 61 is made of, for example, a silicon substrate. The heat insulating layer 62 is formed on one surface side in the thickness direction of the substrate 61, and is made of a porous silicon layer having a sufficiently smaller thermal conductivity than the substrate 61. The heat generating layer 63 is formed on the heat insulating layer 62 and is made of a metal thin film (for example, a gold thin film) having a higher thermal conductivity and conductivity than the heat insulating layer 62.

このような超音波放射素子６０において、発熱体６３ への交流電流の通電に伴う発熱体６３と媒体（例えば、空気）との熱交換により、超音波が発生する。   In such an ultrasonic radiating element 60, ultrasonic waves are generated by heat exchange between the heating element 63 and a medium (for example, air) accompanying energization of an alternating current to the heating element 63.

このような超音波放射素子６０により、還元水生成部５により生成された還元水Ｍ３に対して、超音波が放射される。これにより、還元水Ｍ３の液面が順次霧化される。その結果、粒径がナノメートルサイズの液滴が大量に生じるので、このような大量の液滴を散布部７が還元水ミストとして散布することができる。   By such an ultrasonic radiation element 60, ultrasonic waves are radiated to the reduced water M3 generated by the reduced water generator 5. Thereby, the liquid level of the reducing water M3 is atomized sequentially. As a result, since a large number of droplets having a particle size of nanometer size are generated, the spraying unit 7 can spray such a large amount of droplets as reduced water mist.

図８は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例７を示す図である。尚、図２に示す還元水ミスト散布装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。   FIG. 8 is a diagram illustrating a specific configuration example 7 of the reduced water mist spraying apparatus. In addition, the same code | symbol as the code | symbol shown in FIG. 2 is attached | subjected to the element same as the reducing water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. Moreover, description is abbreviate | omitted.

［具体的構成例７］
図８に示す還元水ミスト散布装置１において、還元水霧化部６は、放電電極６５及び対向電極６６と、放電電極６５に還元水Ｍ３を供給する還元水供給管６７と、放電電極６５に高電圧を印加する高電圧印加部６８と、を備える。 [Specific Configuration Example 7]
In the reduced water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. 8, the reduced water atomization unit 6 includes a discharge electrode 65, a counter electrode 66, a reduced water supply pipe 67 that supplies reduced water M <b> 3 to the discharge electrode 65, and a discharge electrode 65. A high voltage applying unit 68 for applying a high voltage.

このような還元水霧化部６において、還元水送水管６７に流入した還元水Ｍ３は、還元水供給管６７を通り放電電極６５の先端部６５ａまで送られる。   In such a reduced water atomization unit 6, the reduced water M <b> 3 that has flowed into the reduced water supply pipe 67 passes through the reduced water supply pipe 67 and is sent to the tip 65 a of the discharge electrode 65.

このように放電電極６５に還元水Ｍ３が供給された状態で、高電圧印加部６８により放電電極６５と対向電極６６との間に高電圧が印加された際には、放電電極６５と対向電極６６との間に電界が発生するとともに、放電電極６５の先端部６５ａに供給された還元水Ｍ３に電荷が蓄えられる。   When a high voltage is applied between the discharge electrode 65 and the counter electrode 66 by the high voltage application unit 68 in a state where the reduced water M3 is supplied to the discharge electrode 65 in this way, the discharge electrode 65 and the counter electrode An electric field is generated between the first electrode 66 and the reduced water M3 supplied to the tip 65a of the discharge electrode 65.

その結果、放電電極６５の先端部６５ａに供給された還元水Ｍ３と対向電極６６との間にクーロン力が働き、還元水Ｍ３の液面が局所的に錐状に盛り上がる。このように還元水Ｍ３の液面が局所的に錐状に盛り上がった箇所がテーラーコーンＴである。   As a result, a Coulomb force acts between the reducing water M3 supplied to the tip 65a of the discharge electrode 65 and the counter electrode 66, and the liquid level of the reducing water M3 rises locally in a cone shape. The tail cone T is where the liquid surface of the reduced water M3 rises locally in a conical shape.

このようにテーラーコーンＴが形成されると、該テーラーコーンＴの先端に電荷が集中してテーラーコーンＴの先端における電界強度が大きくなり、テーラーコーンＴの先端に生じるクーロン力が大きくなる。すると、更にテーラーコーンＴが成長する。   When the tailor cone T is formed in this way, electric charges concentrate on the tip of the tailor cone T, the electric field strength at the tip of the tailor cone T increases, and the Coulomb force generated at the tip of the tailor cone T increases. Then, the tailor cone T grows further.

このようにテーラーコーンＴが成長し該テーラーコーンＴの先端に電荷が集中して電荷の密度が高密度となると、テーラーコーンＴの先端部分の還元水Ｍ３が大きなエネルギー（高密度となった電荷の反発力）を受け、表面張力を超えて***・飛散（レイリー***）を繰り返す。その結果、ナノメートルサイズの粒径を有する還元水Ｍ３が大量に発生する。   When the tailor cone T grows in this way and the charge concentrates on the tip of the tailor cone T and the density of the charge becomes high, the reduced water M3 at the tip of the tailor cone T has a large energy (charge with a high density). Repulsion force) and repeats splitting and scattering (Rayleigh splitting) exceeding the surface tension. As a result, a large amount of reduced water M3 having a nanometer size particle size is generated.

このような還元水ミスト散布装置１によれば、粒径がナノメートルサイズの液滴を、散布部７により、還元水ミストとして大量に散布することができる。尚、図８に示す還元水ミスト散布装置１において、放電電極６５及び対向電極６６で静電霧化部が構成されているが、対向電極６６が必ず設けられていなければならないことはなく、放電電極６５のみで静電霧化部が構成されていてもよい。この場合でも、放電電極６５において放電が生じて、静電霧化された還元水Ｍ３が、図示しない筐体方向などに向かって散布される。   According to such a reduced water mist spraying apparatus 1, droplets having a nanometer size can be sprayed in large quantities as reduced water mist by the spraying unit 7. In addition, in the reducing water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. 8, although the electrostatic atomization part is comprised by the discharge electrode 65 and the counter electrode 66, the counter electrode 66 does not necessarily need to be provided but discharge. The electrostatic atomization part may be comprised only by the electrode 65. FIG. Even in this case, a discharge is generated in the discharge electrode 65, and the electrostatically atomized reduced water M3 is sprayed toward the housing (not shown).

図９及び図１０は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例８を示す図である。尚、図２に示す還元水ミスト散布装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。   9 and 10 are diagrams showing a specific configuration example 8 of the reduced water mist spraying apparatus. In addition, the same code | symbol as the code | symbol shown in FIG. 2 is attached | subjected to the element same as the reducing water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. Moreover, description is abbreviate | omitted.

［具体的構成例８］
図９は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例８を示す図であり、図９（ａ）は還元水ミスト散布装置を上方視した場合を示す図、図９（ｂ）は還元水ミスト散布装置の側面図である。 [Specific Configuration Example 8]
FIG. 9 is a diagram showing a specific configuration example 8 of the reduced water mist spraying device, FIG. 9A is a diagram showing a case where the reduced water mist spraying device is viewed from above, and FIG. 9B is a reduced water mist. It is a side view of a spreading device.

図９に示す還元水ミスト散布装置１において、還元水霧化部６は、還元水Ｍ３を加圧する加圧部（ポンプ）１７と、ポンプ１７により加圧された還元水Ｍ３を射出するための小孔１８と、を備える。   In the reduced water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. 9, the reduced water atomizing unit 6 is for injecting the pressurized water (pump) 17 that pressurizes the reduced water M3 and the reduced water M3 pressurized by the pump 17. A small hole 18.

図９に示す還元水ミスト散布装置１において、ペルチェ素子３８に通電した際には、ペルチェ素子３８の冷却面４０による冷却効果により、冷却面４０の周囲の空気中の水分が結露されて結露水（水Ｗ）とされる。このような水Ｗは、毛細管現象により、毛細管９２を通じて基板６１上の水溜め部２０へと送られる。水溜め部２０へ送られた水Ｗは、陽極５３及び陰極５４からなる電気分解手段９０により電気分解されて、水素水が還元水Ｍ３として生成される。生成された還元水Ｍ３は、毛細管現象により、毛細管９２を通じてポンプ１７へと送られる。   In the reduced water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. 9, when the Peltier element 38 is energized, moisture in the air around the cooling surface 40 is condensed due to the cooling effect of the cooling surface 40 of the Peltier element 38, and condensed water (Water W). Such water W is sent to the water reservoir 20 on the substrate 61 through the capillary 92 by a capillary phenomenon. The water W sent to the water reservoir 20 is electrolyzed by the electrolyzing means 90 including the anode 53 and the cathode 54, and hydrogen water is generated as reduced water M3. The generated reduced water M3 is sent to the pump 17 through the capillary 92 by capillary action.

ポンプ１７へ送られた還元水Ｍ３は加圧され、加圧水管９３を通じて小孔１８へ達し、小孔１８から還元水ミストとして散布される。つまり、図９に示す還元水ミスト散布装置１において、ポンプ１７及び小孔１８が、還元水霧化部６及び散布部７とされている。   The reduced water M3 sent to the pump 17 is pressurized, reaches the small hole 18 through the pressurized water pipe 93, and is sprayed from the small hole 18 as reduced water mist. That is, in the reduced water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. 9, the pump 17 and the small hole 18 are the reduced water atomization unit 6 and the spray unit 7.

このような還元水ミスト散布装置１によれば、還元水Ｍ３を大量に霧化させることができる。   According to such a reduced water mist spraying apparatus 1, the reduced water M3 can be atomized in large quantities.

図１０は、ポンプ（加圧部）１７の動作を説明するための図であり、図１０（ａ）は還元水Ｍ３の吸入時の動作を説明するための図、図１０（ｂ）は還元水Ｍ３の排出時の動作を説明するための図、をそれぞれ示す。   FIG. 10 is a diagram for explaining the operation of the pump (pressurizing unit) 17, FIG. 10 (a) is a diagram for explaining the operation at the time of inhaling the reduced water M 3, and FIG. 10 (b) is the reduction. The figure for demonstrating the operation | movement at the time of discharge | emission of water M3 is each shown.

図１０に示すポンプ１７において、圧電素子７０の上下面に、電極７６及び７７が取り付けられており、電極７６及び７７には交流電源が接続されている。このような電極７６及び７７へ電圧が印加された際には、圧電素子７０の厚み方向に電界が発生する。   In the pump 17 shown in FIG. 10, electrodes 76 and 77 are attached to the upper and lower surfaces of the piezoelectric element 70, and an AC power source is connected to the electrodes 76 and 77. When a voltage is applied to such electrodes 76 and 77, an electric field is generated in the thickness direction of the piezoelectric element 70.

このような電界の方向が、図１０（ｂ）に示すように、圧電素子７０の分極の方向と同じ方向である場合には、圧電素子７０がその厚み方向へ伸び、径方向へ縮む。その結果、駆動ダイヤフラム７２のたわみが減少する。一方、電界の方向が、図１０（ａ）に示すように、圧電素子７０の分極の方向と逆の方向である場合には、圧電素子がその径方向へ伸び、厚み方向へ縮む。その結果、駆動ダイヤフラム７２のたわみが増加する。   When the direction of the electric field is the same as the direction of polarization of the piezoelectric element 70 as shown in FIG. 10B, the piezoelectric element 70 extends in the thickness direction and contracts in the radial direction. As a result, the deflection of the drive diaphragm 72 is reduced. On the other hand, as shown in FIG. 10A, when the direction of the electric field is opposite to the direction of polarization of the piezoelectric element 70, the piezoelectric element extends in the radial direction and contracts in the thickness direction. As a result, the deflection of the drive diaphragm 72 increases.

ここに、電界の方向を、圧電素子７０の分極の方向と同じ方向、又は、逆の方向とするには、電極７６及び７７のプラス又はマイナスの極性を交互に入れ替える。尚、電極７６及び７７には交流電源が接続されているので、極性が自動的に入れ替わる。   Here, in order to change the direction of the electric field to the same direction as the polarization direction of the piezoelectric element 70 or the opposite direction, the positive and negative polarities of the electrodes 76 and 77 are alternately switched. Since the electrodes 76 and 77 are connected to an AC power source, the polarity is automatically switched.

このように、電界の方向を、圧電素子７０の分極の方向と同じ方向、又は、逆の方向へ交互に入れ替えることで、駆動ダイヤフラム７２が、その厚み方向へ振動する。この駆動ダイヤフラム７２の振動が、図示しない被駆動ダイヤフラムに伝達される。その結果、空間７３の体積が変動する。   In this way, the drive diaphragm 72 vibrates in the thickness direction by alternately switching the direction of the electric field to the same direction as the polarization direction of the piezoelectric element 70 or the opposite direction. The vibration of the driving diaphragm 72 is transmitted to a driven diaphragm (not shown). As a result, the volume of the space 73 varies.

空間７３の体積が、図１０（ａ）に示すように増加した際には、空間７３の内部の圧力が低下するので、吸入管７５内部の弁が開き、還元水Ｍ３を吸入する。一方、空間７３の体積が、図１０（ｂ）に示すように減少した際には、空間７３の内部の圧力が増加するので、排出管７４内部の弁が開き、還元水Ｍ３を排出する。   When the volume of the space 73 increases as shown in FIG. 10A, the pressure inside the space 73 decreases, so the valve inside the suction pipe 75 opens and sucks the reduced water M3. On the other hand, when the volume of the space 73 decreases as shown in FIG. 10B, the pressure inside the space 73 increases, so the valve inside the discharge pipe 74 is opened and the reduced water M3 is discharged.

このように、圧電素子７０において生じる電界の方向を入れ替えることにより、吸入管７５を通じて還元水Ｍ３を吸入すること、及び、排出管７４を通じて還元水Ｍ３を排出すること、が繰り返されるので、図９に示す還元水ミスト散布装置１において、水溜め部２０に溜まった水を電気分解することより生じた還元水Ｍを加圧して、加圧水管９３へ排出することができる。   In this way, by switching the direction of the electric field generated in the piezoelectric element 70, the intake of the reduced water M3 through the suction pipe 75 and the discharge of the reduced water M3 through the discharge pipe 74 are repeated, so that FIG. In the reduced water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. 1, the reduced water M generated by electrolyzing the water accumulated in the water reservoir 20 can be pressurized and discharged to the pressurized water pipe 93.

図１１は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例９を示す図である。尚、図２に示す還元水ミスト散布装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。   FIG. 11 is a diagram illustrating a specific configuration example 9 of the reduced water mist spraying apparatus. In addition, the same code | symbol as the code | symbol shown in FIG. 2 is attached | subjected to the element same as the reducing water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. Moreover, description is abbreviate | omitted.

［具体的構成例９］
図１１に示す還元水ミスト散布装置１は、ヘアケア機器の１つであるヘアドライヤＸ１に内蔵された構成とされている。ヘアドライヤＸ１は、外部の空気を吸入する吸入口８２及び加熱された空気を吐出する吐出口８３を備え、外部の空気を吸入して加熱した後、加熱された空気を、図中矢印に示す送風として導入する。また、還元水ミスト散布装置１において、散布部７は、還元水Ｍ３を送風と平行な方向へ散布するよう構成されている。 [Specific Configuration Example 9]
The reduced water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. 11 is configured to be incorporated in a hair dryer X1 that is one of hair care devices. The hair dryer X1 includes a suction port 82 that sucks in external air and a discharge port 83 that discharges heated air. After sucking and heating the external air, the heated air is blown as indicated by an arrow in the figure. Introduce as. Moreover, in the reducing water mist spraying apparatus 1, the spraying unit 7 is configured to spray the reducing water M3 in a direction parallel to the blowing.

このような還元水ミスト散布装置１によれば、ヘアドライヤＸ１による送風と平行して、還元水Ｍ３が還元水ミストとして散布されるので、高濃度かつ大量の還元水が、人の髪に散布されるという効果が奏される。   According to such a reduced water mist spraying device 1, since the reduced water M3 is sprayed as the reduced water mist in parallel with the air blow by the hair dryer X1, a high concentration and a large amount of reduced water is sprayed on the human hair. The effect is to be played.

図１２は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例１０を示す図である。尚、図２に示す還元水ミスト散布装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。   FIG. 12 is a diagram illustrating a specific configuration example 10 of the reduced water mist spraying apparatus. In addition, the same code | symbol as the code | symbol shown in FIG. 2 is attached | subjected to the element same as the reducing water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. Moreover, description is abbreviate | omitted.

［具体的構成例１０］
図１２に示す還元水ミスト散布装置１は、ヘアケア機器の１つであるヘアアイロンＸ２に内蔵された構成とされている。ヘアアイロンＸ２は、人の髪と接触し、接触した髪を加熱する一対のアイロン板８４Ａ，８４Ｂを備える。このようなヘアアイロンＸ２は、一対のアイロン板８４Ａ，８４Ｂによって髪を加熱させながら、還元水Ｍ３を還元水ミストとして髪に散布することができる。 [Specific Configuration Example 10]
The reduced water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. 12 is configured to be incorporated in a hair iron X2 that is one of hair care devices. The hair iron X2 includes a pair of iron plates 84A and 84B that come into contact with human hair and heat the contacted hair. Such a hair iron X2 can spray reduced water M3 as reduced water mist on the hair while heating the hair with a pair of iron plates 84A and 84B.

図１３は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例１１を示す図である。尚、図２に示す還元水ミスト散布装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。   FIG. 13 is a diagram illustrating a specific configuration example 11 of the reduced water mist spraying apparatus. In addition, the same code | symbol as the code | symbol shown in FIG. 2 is attached | subjected to the element same as the reducing water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. Moreover, description is abbreviate | omitted.

［具体的構成例１１］
図１３に示す還元水ミスト散布装置１は、ヘアケア機器の１つであるヘアブラシＸ３に内蔵された構成とされている。ヘアブラシＸ３は、人の髪を梳かすブラシ８５を備える。このようなヘアブラシＸ６は、ブラシ８５により人の髪を梳かしながら、還元水Ｍ３を還元水ミストとして髪に散布することができる。 [Specific Configuration Example 11]
The reduced water mist spraying apparatus 1 shown in FIG. 13 is configured to be incorporated in a hair brush X3 that is one of hair care devices. The hair brush X3 includes a brush 85 that combs human hair. Such a hairbrush X6 can spray reduced water M3 on the hair as reduced water mist while combing human hair with the brush 85.

尚、ヘアドライヤＸ１、ヘアアイロンＸ２、及び、ヘアブラシＸ３は、先述した具体的構成例５に示す還元水ミスト散布装置１（図６参照）、又は、先述した具体的構成例８に示す還元水ミスト散布装置１（図９参照）を内蔵することが好適である。このようなコンパクトな還元水ミスト散布装置１を内蔵することで、ヘアケア機器の小型化及び軽量化が図られるからである。   The hair dryer X1, the hair iron X2, and the hair brush X3 are the reduced water mist spraying device 1 (see FIG. 6) shown in the specific configuration example 5 described above or the reduced water mist shown in the specific configuration example 8 described above. It is preferable to incorporate the spraying device 1 (see FIG. 9). This is because by incorporating such a compact reduced water mist spraying device 1, the hair care device can be reduced in size and weight.

還元水ミスト散布装置の機能構成の一例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows an example of a function structure of a reducing water mist spraying apparatus. 還元水ミスト散布装置の具体的構成例１を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example 1 of a reducing water mist spraying apparatus. 還元水ミスト散布装置の具体的構成例２を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example 2 of a reducing water mist spraying apparatus. 還元水ミスト散布装置の具体的構成例３を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example 3 of a reducing water mist spraying apparatus. 還元水ミスト散布装置の具体的構成例４を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example 4 of a reducing water mist spraying apparatus. 還元水ミスト散布装置の具体的構成例５を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example 5 of a reducing water mist spraying apparatus. 還元水ミスト散布装置の具体的構成例６を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example 6 of a reducing water mist spraying apparatus. 還元水ミスト散布装置の具体的構成例７を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example 7 of a reducing water mist spraying apparatus. 還元水ミスト散布装置の具体的構成例８を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example 8 of a reducing water mist spraying apparatus. ポンプ（加圧部）の動作を説明するための図である。It is a figure for demonstrating operation | movement of a pump (pressurization part). 還元水ミスト散布装置の具体的構成例９を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example 9 of a reducing water mist spraying apparatus. 還元水ミスト散布装置の具体的構成例１０を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example 10 of a reducing water mist spraying apparatus. 還元水ミスト散布装置の具体的構成例１１を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example 11 of a reducing water mist spraying apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

Ｘ，Ｘ１〜Ｘ３ ヘアケア機器
Ｕ 還元水生成ユニット
１ 還元水ミスト散布装置
２ 酸性水溶液生成部
３ 水取得部
４ 還元成分生成部
４Ａ 還元物質
４Ｂ 調節部
５ 還元水生成部
６ 還元水霧化部
７ 散布部
１７ ポンプ
１８ 小孔
２０ 貯留部
２５ 放電部
２１ 絶縁スペーサ
２１ａ 貫通孔
２２ 上流側電極
２３ 下流側電極
２４ 高電圧印加部
２６ 送風部
３４ 放熱部
３７ 冷却部
３８ ペルチェ素子
４０ 冷却面
４５ 吸着剤
４９ ヒーター
５３ 陽極
５４ 陰極
６０ 超音波放射素子
６４ 表面弾性波発生部
６５ 放電電極
６６ 対向電極
Ｍ１ 酸性水溶液
Ｍ２ 還元成分
Ｍ３ 還元水 X, X1 to X3 Hair care device U Reduced water generating unit 1 Reduced water mist spraying device 2 Acidic aqueous solution generating unit 3 Water acquisition unit 4 Reducing component generating unit 4A Reducing substance 4B Control unit 5 Reduced water generating unit 6 Reduced water atomizing unit 7 Spreading part 17 Pump 18 Small hole 20 Storage part 25 Discharge part 21 Insulating spacer 21a Through hole 22 Upstream electrode 23 Downstream electrode 24 High voltage application part 26 Blower part 34 Heat radiation part 37 Cooling part 38 Peltier element 40 Cooling surface 45 Adsorbent 49 Heater 53 Anode 54 Cathode 60 Ultrasonic Radiation Element 64 Surface Acoustic Wave Generator 65 Discharge Electrode 66 Counter Electrode M1 Acidic Solution M2 Reducing Component M3 Reduced Water

Claims (16)

酸性成分が水中でイオン化して発生した陽イオンを還元して得られた還元成分が溶解された還元水を生成するための水を取得する水取得部と、
前記水取得部により取得された前記水から前記還元水を生成する還元水生成ユニットと、
前記還元水生成ユニットにより生成された前記還元水を霧化させる還元水霧化部と、
前記還元水霧化部により霧化された前記還元水を還元水ミストとして髪へ散布する散布部と、
からなる還元水ミスト散布装置を内蔵することを特徴とする還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。 A water acquisition unit for acquiring water for generating reduced water in which a reduced component obtained by reducing a cation generated by ionizing an acidic component in water is dissolved;
A reduced water generation unit that generates the reduced water from the water acquired by the water acquisition unit;
A reduced water atomization unit for atomizing the reduced water generated by the reduced water generation unit;
A spraying unit for spraying the reduced water atomized by the reduced water atomization unit to the hair as reduced water mist;
A hair care device with a built-in reducing water mist spraying device, characterized in that it contains a reducing water mist spraying device comprising: 前記水取得部が、冷媒ガスを高温高圧に圧縮した後放熱させて冷媒液とする放熱部と、前記冷媒液を減圧した後気化させて前記冷媒ガスとする冷却部と、を備えており、
前記冷却部による冷却により空気中の水分を結露させて前記水を取得することを特徴とする請求項１に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。 The water acquisition unit includes a heat dissipating unit that radiates heat after compressing the refrigerant gas to a high temperature and high pressure, and a cooling unit that vaporizes the refrigerant liquid after depressurizing the refrigerant liquid, and
The hair care device with a built-in reduced water mist spraying device according to claim 1, wherein the water is obtained by condensation of moisture in the air by cooling by the cooling unit. 前記水取得部が、冷却面による冷却により、空気中の水分を結露させて前記水を取得するペルチェ素子を備えることを特徴とする請求項１に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。   The said water acquisition part is provided with the Peltier device which condenses the water | moisture content in air and acquires the said water by cooling by a cooling surface, The reduced water mist spraying apparatus built-in type hair care apparatus of Claim 1 characterized by the above-mentioned. 前記水取得部が、空気中の水分を吸着する吸着剤と、前記吸着剤を加熱して前記吸着剤に吸着された前記水分を脱離させるヒーターと、を備えることを特徴とする請求項１に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。   The said water acquisition part is provided with the adsorption agent which adsorb | sucks the water | moisture content in air, and the heater which heats the said adsorption agent and desorb | sucks the said water | moisture content adsorbed by the said adsorption agent. Hair care device with built-in reduced water mist spraying device as described in 1. 前記還元水生成ユニットは、
水中で酸性成分を発生させ、前記水中で発生した前記酸性成分がイオン化して発生する陽イオン及び陰イオンを含む酸性水溶液を生成する酸性水溶液生成部と、
前記酸性水溶液に含まれる前記陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する還元成分生成部と、
前記還元成分生成部により生成された前記還元成分を水中で溶解させて、前記還元成分が溶解された還元水を生成する還元水生成部と、
を備えており、
前記酸性水溶液生成部は、
前記酸性水溶液を生成するための水又は前記酸性水溶液を貯留するとともに、外壁に貫通孔が形成された貯留部と、
前記貯留部内に貯留された前記水又は前記酸性水溶液と接する第１の電極と、前記外壁の前記貫通孔と連通する貫通孔を有する絶縁スペーサと、前記第１の電極との間に前記絶縁スペーサを挟持する第２の電極と、前記第１の電極及び前記第２の電極へ高電圧を印加して、前記絶縁スペーサの前記貫通孔で沿面放電を行って、前記酸性成分の原料を生成するための高電圧印加部と、からなる放電部と、
前記絶縁スペーサの前記貫通孔へ送風を導入して、前記沿面放電が行われている前記貫通孔で前記酸性成分の原料を生成させ、前記貫通孔で生成された前記酸性成分の原料を前記貯留部に貯留された前記水へ溶解させて前記酸性成分を発生させる送風部と、
を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。 The reduced water generating unit is
An acidic aqueous solution generating unit that generates an acidic component in water, and generates an acidic aqueous solution containing a cation and an anion generated by ionizing the acidic component generated in the water;
A reducing component generation unit that generates electrons by reducing electrons by giving electrons to the cations contained in the acidic aqueous solution;
A reduced water generator that dissolves the reduced component generated by the reduced component generator in water to generate reduced water in which the reduced component is dissolved; and
With
The acidic aqueous solution generator is
While storing the water for generating the acidic aqueous solution or the acidic aqueous solution, a storage portion having a through-hole formed in the outer wall;
The insulating spacer between the first electrode in contact with the water or the acidic aqueous solution stored in the reservoir, the insulating spacer having a through hole communicating with the through hole of the outer wall, and the first electrode A high voltage is applied to the second electrode sandwiching the first electrode, the first electrode, and the second electrode, and creeping discharge is performed in the through hole of the insulating spacer to generate the raw material of the acidic component A high voltage application unit, and a discharge unit comprising:
Air is introduced into the through hole of the insulating spacer to generate the raw material of the acidic component in the through hole where the creeping discharge is performed, and the raw material of the acidic component generated in the through hole is stored. A blower unit that dissolves in the water stored in the unit to generate the acidic component;
5. A hair care device with a built-in reduced water mist spraying device according to claim 1, comprising: 前記外壁が前記絶縁スペーサとして用いられており、前記外壁の貫通孔が前記絶縁スペーサの貫通孔として用いられていることを特徴とする請求項５に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。   The said outer wall is used as said insulating spacer, The through-hole of the said outer wall is used as a through-hole of the said insulating spacer, The reduced water mist spraying apparatus built-in type hair care apparatus of Claim 5 characterized by the above-mentioned. 前記外壁が前記第１の電極として用いられていることを特徴とする請求項５に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。   The said outer wall is used as said 1st electrode, The reduced water mist spreading | diffusion apparatus built-in type hair care apparatus of Claim 5 characterized by the above-mentioned. 前記陽イオンは水素イオンであり、
前記還元成分生成部は、
水素よりもイオン化傾向が大きな元素で構成され、前記酸性水溶液に含まれる前記水素イオンを還元して、前記還元成分として水素分子を生成する還元物質と、
前記水素分子の生成量を調節する調節部と、
を備えることを特徴とする請求項５乃至請求項７のいずれか一項に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。 The cation is a hydrogen ion;
The reducing component generator is
A reducing substance that is composed of an element having a greater ionization tendency than hydrogen, reduces the hydrogen ions contained in the acidic aqueous solution, and generates hydrogen molecules as the reducing component;
A regulator that regulates the amount of hydrogen molecules produced;
A hair care device with a built-in reduced water mist spraying device according to any one of claims 5 to 7. 前記還元物質は、前記調節部へ着脱可能にされていることを特徴とする請求項８に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。   9. The hair care device with a built-in reducing water mist spraying device according to claim 8, wherein the reducing substance is detachably attached to the adjusting unit. 前記還元物質は、前記調節部により前記酸性水溶液に浸される範囲が調節可能にされていることを特徴とする請求項８に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。   9. The hair care device with a built-in reducing water mist spraying apparatus according to claim 8, wherein the reducing substance is adjustable in a range in which the reducing unit is immersed in the acidic aqueous solution. 前記還元水生成ユニットは、前記水取得部により取得された前記水を電気分解する陽極及び陰極を備えており、前記陰極において水素水を前記還元水として生成することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。   The reduced water generation unit includes an anode and a cathode for electrolyzing the water acquired by the water acquisition unit, and generates hydrogen water as the reduced water at the cathode. The hair care device with a built-in reduced water mist spraying device according to claim 4. 前記還元水霧化部が、前記還元水に超音波を放射して霧化させる超音波放射素子を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項１１のいずれか一項に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。   The reduced water mist according to any one of claims 1 to 11, wherein the reduced water atomization unit includes an ultrasonic radiation element that irradiates the reduced water with ultrasonic waves to atomize the reduced water. Hair care equipment with a built-in spraying device. 前記還元水霧化部が、表面弾性波を発生して、前記表面弾性波により前記還元水を霧化させる表面弾性波発生部を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項１１のいずれか一項に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。   The said reduced water atomization part is provided with the surface acoustic wave generation part which generate | occur | produces a surface acoustic wave and atomizes the said reduced water with the said surface acoustic wave. The hair care device with a built-in reduced water mist spraying device according to one item. 前記還元水霧化部が、高電圧が印加されることで発生する高電界により前記還元水を霧化させる静電霧化部を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項１１のいずれか一項に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。   The said reduced water atomization part is equipped with the electrostatic atomization part which atomizes the said reduced water with the high electric field which generate | occur | produces when a high voltage is applied, The Claim 1 thru | or 11 characterized by the above-mentioned. The hair care device with a built-in reduced water mist spraying device according to one item. 前記還元水霧化部が、前記還元水を加圧する加圧部と、前記加圧部により加圧された前記還元水を射出するための小孔と、を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項１１のいずれか一項に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。   The reduced water atomizing section includes a pressurizing section that pressurizes the reduced water and a small hole for injecting the reduced water pressurized by the pressurizing section. The hair care device with a built-in reduced water mist spraying device according to any one of claims 11 to 11. 外部の空気を吸入して加熱した後、加熱された前記空気を送風として導入するヘアドライヤとして構成されており、
前記散布部は、前記還元水を前記送風と平行な方向へ散布することを特徴とする請求項１乃至請求項１５のいずれか一項に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。 After being heated by inhaling external air, it is configured as a hair dryer that introduces the heated air as blast,
The said spraying part sprays the said reduced water in the direction parallel to the said ventilation, The reduced water mist spraying apparatus built-in type hair care apparatus as described in any one of Claim 1 thru | or 15 characterized by the above-mentioned.
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