JP5378659B2 - 貴金属担持方法 - Google Patents

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本発明は、触媒の製造において基材へ貴金属を担持する貴金属担持方法に関する。
排ガス浄化用触媒として、少なくとも一方の端部に開口を有する孔を複数備え、前記孔は他方の端部と連通する基材と、その基材に形成された孔の表面を被覆する無機酸化物等からなるコート層と、コート層に担持される貴金属等の触媒成分と、から構成されるものがある。
従来、上述した排ガス浄化用触媒を製造する際には、貴金属溶液の槽中に、コート層を有する基材(担体)を浸漬することによって、コート層に貴金属を担持させていた(特許文献1参照)。
特開平9−141092号公報
しかしながら、上述した基材を浸漬する方法によると、担持される貴金属の量は、貴金属溶液の濃度,浸漬時間などにより定まるが、孔の表面のコート層に対する吸着速度の基材ごとの違いから、コート層に担持される貴金属の量が変化するため、目的とする量の貴金属を担持することが難しく、基材ごとの貴金属担持量のばらつきが大きくなるという問題があった。
本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、基材への貴金属担持量のばらつきを低減する貴金属担持方法を提案する。
上述した問題点を解決するためになされた請求項1記載の貴金属担持方法は、少なくとも一方の端部Aに開口を有する孔を複数備え、前記孔は他方の端部Bと連通する基材へ貴金属を担持させる貴金属担持方法であって、前記貴金属および増粘剤を含み、せん断速度4sec -1 における粘度が1000〜7000mPa・sである貴金属溶液を前記端部Aに所定量供給し、前記端部Aに供給された前記貴金属溶液を前記端部Bから吸引することで、前記孔の表面に前記貴金属溶液を伸展させる第1伸展工程を有することを特徴とする貴金属担持方法である。
このような貴金属担持方法によると、基材の端部Aに供給された貴金属を含む貴金属溶液が端部Bへ吸引されることで、孔の表面に貴金属溶液が伸展される。貴金属溶液が余った場合には、端部Bから排出される。よって、上述した第1伸展工程後に基材に担持される貴金属量は、端部Aに供給された貴金属量から、端部Bにて排出された貴金属量を差し引いた量(排出されない場合は、端部Aに供給された量)となる。
そのため、このような貴金属担持方法では、孔の表面のコート層における吸着速度の影響などを受け難く、基材に担持される貴金属量を容易に調整することができるため、ロット間での貴金属担持量のばらつきを低減することができる。
また、吸着速度の影響を受け難いため、同一の基材における複数の孔間での貴金属担持量のばらつきも低減することができる。よって、供給した貴金属は各孔にほぼ均等に行き渡ることになるため、すべての孔に所定量以上の貴金属を担持させたいときでも、過剰に貴金属溶液を端部Aへ供給する必要がないので、端部Bからの排出量は多くならない。
また、このような貴金属担持方法によると、端部Aおよび端部Bにおいて供給された貴金属溶液を吸引した後に、粘度が低すぎるために基材の孔の表面に伸展した貴金属溶液が流れて垂れ落ちることや、流れた貴金属溶液が孔の表面に溜まって孔を閉塞することなどを抑制できる。さらに、貴金属溶液の粘度が高いことで、貴金属溶液に含まれる貴金属の分散がよくなること,および,基材に伸展した後における貴金属の孔内での移動が抑制されることから、貴金属担持量の基材の内部におけるばらつきも低減できる。
上記第1伸展工程において、端部Aに供給された貴金属溶液を端部Bに吸引するタイミングは特に限定されない。例えば、端部Aに貴金属溶液が供給されている際に、同時に吸引を行ってもよいし、端部Aに貴金属溶液が所定量供給された後に、吸引を行ってもよい。
なお、ここでいう基材とは、触媒の基材として用いることができるものであればよい。例えば、セラミックス等の耐熱性材料からなり、軸方向に貫通孔が形成された複数のセルからなるハニカム形状のモノリス基材や、基材の軸方向の両端部において、各端部から他方の端部に向けて延びる孔が複数形成されており、各孔の側壁に形成される細孔を通して各孔が連通するフィルター基材、または、耐熱合金を用いた厚さ数十μmの平板および波板を、交互に積層して巻き回して形成されるメタル基材、などが考えられる。
また、ここでいう貴金属溶液とは、貴金属が錯体を形成するなどして溶媒に溶解してなるものや、貴金属または貴金属化合物の微粒子が溶媒に混合してなるものなどが該当する。
ところで、請求項1に記載の貴金属担持方法を、請求項2に記載のような方法としてもよい。それは、請求項1の方法の後に、貴金属および増粘剤を含む貴金属溶液を前記端部Bに所定量供給し、前記端部Bに供給された前記貴金属溶液を前記端部Aから吸引することで、前記孔の表面に前記貴金属溶液を伸展させる第2伸展工程を有する貴金属担持方法である。
このような貴金属担持方法によると、所定量の貴金属溶液を、第1伸展工程にて端部Aから基材の孔の表面に伸展させた後、第2伸展工程にて端部Bからもその孔の表面に伸展させることができる。また、第1伸展工程にて貴金属溶液を伸展させたその部分の上に、第2伸展工程にて貴金属溶液を重ねて伸展することもできる。
また、この請求項2に記載の貴金属担持方法において、端部Aおよび端部Bに供給される貴金属溶液は、それぞれ同じ貴金属を含む貴金属溶液であってもよいが、請求項3のように、前記第1伸展工程において前記孔の表面に伸展される前記貴金属溶液と、前記第2伸展工程において前記孔の表面に伸展される前記貴金属溶液とが、それぞれ異なる貴金属を含んでいるものであってもよい。
このような貴金属担持方法によると、それぞれの端部から基材の孔の表面に対して異なる貴金属溶液を伸展することができるため、端部A側と端部B側で異なる貴金属を担持させることができる。さらに、それぞれの端部に供給される貴金属溶液における貴金属および増粘剤の濃度および量を調整して、基材の孔におけるそれぞれの端部から貴金属溶液が伸展する長さを調整することができるため、それぞれの端部から貴金属が担持される長さを調整することができる。また、第1伸展工程にて貴金属溶液を伸展させたその部分の上に、第2伸展工程にて異なる貴金属溶液を重ねて伸展することもできる。
ところで、上述した請求項1から請求項3に記載の貴金属担持方法において、貴金属溶液として、請求項4に記載のように、せん断速度380sec-1における粘度が100〜300mPa・sであるものを用いてもよい。
このような貴金属担持方法によると、端部Aおよび端部Bにおいて供給された貴金属溶液を吸引する際に、粘度が低すぎるために吸引により多くの貴金属溶液が排出されてしまうことや、粘度が高すぎるために基材の孔の表面に充分に貴金属溶液が伸展しないことなどの問題を発生させずに適切な吸引を行うことができる。
また、上述した請求項1から請求項4に記載の貴金属担持方法において、請求項5に記載のように、前記貴金属溶液のpHを2〜10としてもよい。
このような貴金属担持方法によると、貴金属溶液の粘度を調整した後に長時間放置しても粘度の変化が小さいので、貴金属溶液を調製した直後でなくとも適切な貴金属の担持作業を行うことができる。
ところで、上述した請求項1から請求項5に記載の貴金属担持方法において、貴金属溶液に含まれる貴金属は、請求項6に記載のように、白金,パラジウム,ロジウムのいずれか1種または2種以上であるようにしてもよい。
このような貴金属担持方法によると、基材に対して白金,パラジウム,ロジウムのいずれか1種または2種以上を担持させることができる
本発明の実施の形態を、実施例を用いて説明する。
[実施例1]
(貴金属担持装置)
本実施例1における貴金属担持装置1を、図1に基づいて説明する。
貴金属担持装置1は、貴金属錯体溶液10を、ハニカム形状のモノリス基材20における一方の端部24に所定量保持する保持部材30と、その貴金属錯体溶液10を、モノリス基材20の他方の端部26から吸引する吸引部材40と、端部24に貴金属錯体溶液10を所定量供給する供給部材50と、からなる。
上記モノリス基材20は、端部24から端部26に向けて貫通孔22が形成された複数のセルにより構成されている。本実施例1における貫通孔22の長さ(端部24から端部26までの長さ)は155mmである。
また、保持部材30は、モノリス基材20の端部24に被さって、供給部材50より供給された貴金属錯体溶液10を端部24上に保持する。
また、吸引部材40は、内部空間42を有する基材受け部44と、内部空間42と配管46を介して繋がる図示しない減圧装置と、配管46の開閉を行うバルブ48と、から構成される。基材受け部44は、モノリス基材20を挿入可能な開口が形成されている。この開口にモノリス基材20を挿入すると、基材受け部44とモノリス基材20の側面との間に隙間がなくなるように密着し、端部26が内部空間42に到達する。
この状態でバルブ48を開放すると、内部空間42が減圧されることで、端部24上に保持された貴金属錯体溶液10が、貫通孔22から端部26方向に吸引される。本実施例では、貫通孔22内を線速度10〜50m/sで吸引する。なお、この貴金属担持装置1においては、各端部24,26を入れ替えても同様に操作できる。
(貴金属錯体溶液の調製)
上述した貴金属錯体溶液10は、次に示す白金錯体の水溶液に、増粘剤を添加してなるものである。
白金(Pt)錯体の水溶液:Pt1g相当
増粘剤:HEC(ヒドロキシルエチルセルロース)1wt%
上記組成の貴金属錯体溶液10の粘度は、せん断速度380sec-1(以降「高せん断速度」はこの値を指すこととする)において100mPa・s、せん断速度4sec-1(以降「低せん断速度」はこの値を指すこととする)において1000mPa・sであった。これらの粘度は、粘度計TVE−30H(東機産業株式会社製)を用いて測定した。
なお、増粘剤は、HECに替えて、カルボキシメチルセルロース,メチルセルロース,ポリビニルアルコール等の水溶性高分子を用いてもよい。
(貴金属担持方法)
本実施例1においては、まず、モノリス基材20の一方の端部24に保持部材30が被さり、他方の端部26が基材受け部44に挿入されるようにセットした。
次に、供給部材50より貴金属錯体溶液10を所定量(Pt1g相当)供給し、保持部材30により、モノリス基材20の一方の端部24に保持した。
次に、バルブ48を開放して内部空間42を減圧し、端部24上に保持された貴金属錯体溶液10を貫通孔22に吸引した。貴金属錯体溶液10は、吸引により貫通孔22において端部24から端部26まで拡がり、その一部が端部26から排出された。
(結果)
セルの貫通孔22全域(155mm)に亘ってPtを担持させることができた。また、吸引により担持されずに排出されたPtは、供給量の0.5%未満(Pt0.005g未満)であった。
[実施例2]
(貴金属担持装置)
本実施例2においては、実施例1と同様の貴金属担持装置1を用いた。
(貴金属錯体溶液の調製)
本実施例2における貴金属錯体溶液10は、基本的には実施例1と同様であるが、HECの添加量を1.5wt%とした。貴金属錯体溶液10の粘度は、高せん断速度において200mPa・s、低せん断速度において3000mPa・sであった。
(貴金属担持方法)
本実施例2においては、実施例1と同様の貴金属担持方法を用いて20個のモノリス基材20にそれぞれPtを担持させ、モノリス基材20間の担持量のばらつきを調べた。
すべてのモノリス基材20において、貴金属錯体溶液10は、吸引により貫通孔22において端部24から端部26まで拡がり、その一部が端部26から排出された。
(結果)
全てのモノリス基材20において、セルの貫通孔22全域(155mm)に亘ってPtを担持させることができた。また、吸引により担持されずに排出されたPtは、供給量の0.5%未満(Pt0.005g未満)であった。
また、20個のモノリス基材20におけるPt担持量のばらつきの度合を示す値4σは2%であった。ここで、σは標準偏差である。
[実施例3]
(貴金属担持装置)
本実施例3においては、実施例1と同様の貴金属担持装置1を用いた。
(貴金属錯体溶液の調製)
本実施例3における貴金属錯体溶液10は、基本的には実施例1と同様であるが、HECの添加量を2wt%とした。貴金属錯体溶液10の粘度は、高せん断速度において300mPa・s、低せん断速度において7000mPa・sであった。
(貴金属担持方法)
本実施例3においては、実施例1と同様の貴金属担持方法を用いてモノリス基材20に対する貴金属の担持操作を行った。貴金属錯体溶液10は、吸引により貫通孔22において端部24から端部26まで拡がり、その一部が端部26から排出された。
(結果)
セルの貫通孔22全域(155mm)に亘ってPtを担持させることができた。また、吸引により担持されずに排出されたPtは、供給量の0.5%未満(Pt0.005g未満)であった。
[実施例4]
(貴金属担持装置)
本実施例4においては、実施例1と同様の貴金属担持装置1を用いた。
(貴金属錯体溶液の調製)
本実施例4においては、実施例1と同様の貴金属錯体溶液10を用いた。
(貴金属担持方法)
本実施例4においては、まず、モノリス基材20の一方の端部24に保持部材30が被さり、他方の端部26が基材受け部44に挿入されるようにセットした。
次に、供給部材50より貴金属錯体溶液10を所定量(Pt0.5g相当)供給し、保持部材30により、モノリス基材20の一方の端部24に保持した。
次に、バルブ48を開放して内部空間42を減圧し、貴金属錯体溶液10を貫通孔22に吸引した。貴金属錯体溶液10は、吸引により貫通孔22における端部24から78±12mmの位置まで拡がった。端部26から排出された貴金属錯体溶液10はなかった。
次に、モノリス基材20を取り外し、上述したものとは反対に、一方の端部24が基材受け部44に挿入され、他方の端部26に保持部材30が被さるようにセットし直した。
次に、供給部材50より貴金属錯体溶液10を所定量(Pt0.5g相当)供給し、保持部材30により、モノリス基材20の他方の端部26に保持した。
次に、バルブ48を開放して内部空間42を減圧し、貴金属錯体溶液10を貫通孔22に吸引した。貴金属錯体溶液10は、吸引により貫通孔22における端部26から78±12mmの位置まで拡がった。端部24から排出された貴金属錯体溶液10はなかった。
(結果)
セルの貫通孔22における端部24から78±12mmの位置までPtを担持させることができ、端部26から78±12mmの位置までPtを担持させることができた。つまり、セルの貫通孔22全域(155mm)に亘ってPtを担持させることができた。また、吸引によりモノリス基材20に担持されずに排出されたPtはなかった。
[実施例5]
(貴金属担持装置)
本実施例5においては、実施例1と同様の貴金属担持装置1を用いた。
(貴金属錯体溶液の調製)
本実施例5においては、実施例2と同様の貴金属錯体溶液10を用いた。
(貴金属担持方法)
本実施例5においては、実施例4と同様の貴金属担持方法を用いてモノリス基材20に対する貴金属の担持操作を行った。その際、端部24に保持された貴金属錯体溶液10は、吸引により貫通孔22における端部24から78±12mmの位置まで拡がった。また、端部26に保持された貴金属錯体溶液10は、吸引により端部26から78±12mmの位置まで拡がった。端部24または端部26から排出された貴金属錯体溶液10はなかった。
(結果)
セルの貫通孔22における端部24から78±12mmの位置までPtを担持させることができ、端部26から78±12mmの位置までPtを担持させることができた。つまり、セルの貫通孔22全域(155mm)に亘ってPtを担持させることができた。また、吸引によりモノリス基材20に担持されずに排出されたPtはなかった。
[実施例6]
(貴金属担持装置)
本実施例6においては、実施例1と同様の貴金属担持装置1を用いた。
(貴金属錯体溶液の調製)
本実施例6における貴金属錯体溶液10は、基本的には実施例2と同様であるが、貴金属錯体溶液10中のPt濃度を20%増加させることで、貴金属錯体溶液10の粘度を、高せん断速度において300mPa・s、低せん断速度において7000mPa・sに調整した。
(貴金属担持方法)
本実施例6においては、実施例1と同様の貴金属担持方法を用いてモノリス基材20に対する貴金属の担持操作を行った。なお、貴金属錯体溶液10中のPt濃度が高い分、供給する貴金属錯体溶液10の量を少なくして、供給される総Pt量を実施例1と同様に1gとした。貴金属錯体溶液10は、吸引により貫通孔22における端部24から20±3mmの位置まで拡がった。端部26から排出された貴金属錯体溶液10はなかった。
(結果)
セルの貫通孔22における端部24から20±3mmの位置までPtを担持させることができた。また、吸引によりモノリス基材20に担持されずに排出されたPtはなかった。
[実施例7]
(貴金属担持装置)
本実施例7においては、実施例1と同様の貴金属担持装置1を用いた。
(貴金属錯体溶液の調製)
本実施例7における貴金属錯体溶液10は、基本的には実施例2と同様であるが、貴金属錯体溶液10中のPt濃度を20%減少させることで、貴金属錯体溶液10の粘度を、高せん断速度において100mPa・s、低せん断速度において1000mPa・sに調整した。
(貴金属担持方法)
本実施例7においては、実施例1と同様の貴金属担持方法を用いてモノリス基材20に対する貴金属の担持操作を行った。なお、貴金属錯体溶液10中のPt濃度が低い分、供給する貴金属錯体溶液10の量を多くして、供給される総Pt量を実施例1と同様に1gとした。貴金属錯体溶液10は、吸引により貫通孔22における端部24から100±15mmの位置まで拡がった。端部26から排出された貴金属錯体溶液10はなかった。
(結果)
セルの貫通孔22における端部24から100±15mmの位置までPtを担持させることができた。また、吸引によりモノリス基材20に担持されずに排出されたPtはなかった。
[実施例8]
(貴金属担持装置)
本実施例8においては、実施例1と同様の貴金属担持装置1を用いた。
(貴金属錯体溶液の調製)
本実施例8においては、次に示す組成の貴金属錯体溶液10Aおよび10Bを調製した。
(貴金属錯体溶液10A)
パラジウム(Pd)錯体の水溶液:Pd0.5g相当
増粘剤:HEC1wt%
上記組成の貴金属錯体溶液10Aの粘度は、高せん断速度において100mPa・s、低せん断速度において1000mPa・sであった。
(貴金属錯体溶液10B)
Ptおよびロジウム(Rh)錯体の水溶液:Pt・Rh合計0.5g相当
増粘剤:HEC1wt%
上記組成の貴金属錯体溶液10Aの粘度は、高せん断速度において100mPa・s、低せん断速度において1000mPa・sであった。
(貴金属担持方法)
本実施例8においては、まず、モノリス基材20の一方の端部24に保持部材30が被さり、他方の端部26が基材受け部44に挿入されるようにセットした。
次に、供給部材50より貴金属錯体溶液10Aを所定量(Pd0.5g相当)供給し、保持部材30により、モノリス基材20の一方の端部24に保持した。
次に、バルブ48を開放して内部空間42を減圧し、貴金属錯体溶液10Aを貫通孔22に吸引した。貴金属錯体溶液10Aは、吸引により貫通孔22における端部24から78±12mmの位置まで拡がった。端部26から排出された貴金属錯体溶液10Aはなかった。
次に、モノリス基材20を取り外し、上述したものとは反対に、一方の端部24が基材受け部44に挿入され、他方の端部26に保持部材30が被さるようにセットし直した。
次に、供給部材50より貴金属錯体溶液10Bを所定量(Pt・Rh合計0.5g相当)供給し、保持部材30により、モノリス基材20の他方の端部26に保持した。
次に、バルブ48を開放して内部空間42を減圧し、貴金属錯体溶液10Bを貫通孔22に吸引した。貴金属錯体溶液10Bは、吸引により貫通孔22における端部26から78±12mmの位置まで拡がった。端部24から排出された貴金属錯体溶液10Bはなかった。
(結果)
セルの貫通孔22における端部24から78±12mmの位置までPdを担持させることができ、端部26から78±12mmの位置までPtおよびRhを担持させることができた。また、吸引によりモノリス基材20に担持されずに排出された貴金属はなかった。
[実施例9]
(貴金属担持装置)
本実施例9においては、実施例1と同様の貴金属担持装置1を用いた。
(貴金属錯体溶液の調製)
本実施例9においては、基本的に実施例8と同様の貴金属錯体溶液10Aおよび10Bを用いたが、HECの添加量を2wt%とした。貴金属錯体溶液10Aおよび10Bの粘度は、いずれも高せん断速度において300mPa・s、低せん断速度において7000mPa・sであった。
(貴金属担持方法)
本実施例9においては、実施例8と同様の貴金属担持方法を用いてモノリス基材20に対する貴金属の担持操作を行った。その際、端部24に保持された貴金属錯体溶液10Aは、吸引により貫通孔22における端部24から78±12mmの位置まで拡がった。また、端部26に保持された貴金属錯体溶液10Bは、吸引により貫通孔22における端部26から78±12mmの位置まで拡がった。貴金属錯体溶液10Aおよび10Bのいずれも、端部24または端部26から排出されなかった。
(結果)
セルの貫通孔22における端部24から78±12mmの位置までPdを担持させることができ、端部26から78±12mmの位置までPtおよびRhを担持させることができた。また、吸引によりモノリス基材20に担持されずに排出された貴金属はなかった。
[実施例10]
本実施例10においては、まず、実施例2と同様の貴金属錯体溶液10を7個準備した。そして、その貴金属錯体溶液10のpHを1,2,4,6,8,10,11に調整して24時間放置し、それぞれの粘度の変化を調べると共に、実施例1と同様の貴金属担持装置1および貴金属担持方法を用いて貴金属の担持操作を行った。
(結果)
各pHの貴金属錯体溶液10を24時間放置した後の粘度を図2に示す。図2(a)は高せん断速度における粘度を示し、図2(b)は低せん断速度における粘度を示す。
pH1の貴金属錯体溶液10では、高せん断速度における粘度が60mPa・sとなり、低せん断速度における粘度が800mPa・sとなった。そして、モノリス基材20にPtを担持させる操作を行ったところ、50%のPt(Pt0.5g相当)が担持されずに排出された。
また、pH11の貴金属錯体溶液10では、高せん断速度における粘度が70mPa・sとなり、低せん断速度における粘度が850mPa・sとなった。そして、モノリス基材20にPtを担持させる操作を行ったところ、40%のPt(Pt0.4g相当)が担持されずに排出された。
また、その他のpH値に調製された貴金属錯体溶液10においては、実施例1と同様の結果となった。
[参考例1]
(貴金属担持装置)
本参考例1においては、実施例1と同様の貴金属担持装置1を用いた。
(貴金属錯体溶液の調製)
本参考例1における貴金属錯体溶液10は、基本的には実施例1と同様であるが、HECの添加量を0.5wt%とした。貴金属錯体溶液10の粘度は、高せん断速度において50mPa・s、低せん断速度において600mPa・sであった。
(貴金属担持方法)
本参考例1においては、実施例1と同様の貴金属担持方法を用いてモノリス基材20に対する貴金属の担持操作を行った。貴金属錯体溶液10は、吸引により貫通孔22において端部24から端部26まで拡がり、その一部が端部26から排出された。
(結果)
セルの貫通孔22全域(155mm)に亘ってPtを担持させることができた。しかし、吸引により約70%のPt(Pt0.7g相当)が担持されずに排出された。
[参考例2]
(貴金属担持装置)
本参考例2においては、実施例1と同様の貴金属担持装置1を用いた。
(貴金属錯体溶液の調製)
本参考例2における貴金属錯体溶液10は、基本的には実施例1と同様であるが、HECの添加量を2.5wt%とした。貴金属錯体溶液10の粘度は、高せん断速度において450mPa・s、低せん断速度において10000mPa・sであった。
(貴金属担持方法)
本参考例2においては、実施例1と同様の貴金属担持方法を用いてモノリス基材20に対する貴金属の担持操作を行った。貴金属錯体溶液10は、吸引により貫通孔22における端部24から130±20mmの位置まで拡がった。排出された貴金属錯体溶液10はなかった。
(結果)
セルの貫通孔22における端部24から130±20mmの位置までPtを担持させることができたが、貫通孔22全域にはPtを担持できなかった。また、吸引によりモノリス基材20に担持されずに排出されたPtはなかった。
[比較例]
本比較例においては、Ptを含む貴金属錯体溶液の槽に20個のモノリス基材20を浸漬させて、Ptを担持させ、モノリス基材20間の担持量のばらつきを調べた。
(結果)
20個のモノリス基材20におけるPt担持量のばらつきの度合を示す値4σは8%であった。
[効果]
実施例1〜9,参考例1,2および比較例の結果一覧を表1に示す。
Figure 0005378659
表1から分かるように、上述した実施例1〜9の貴金属担持方法では、貫通孔22表面のコート層における吸着速度の影響を受けず、モノリス基材20に担持される貴金属量を容易に調整することができる。すなわち、上記各実施例においては、排出される貴金属量が非常に少なく、端部24および端部26に保持した貴金属はほぼ全量担持されているため、端部24および端部26に保持する量を調整することで貴金属の担持量を調整できる。
また、実施例2の貴金属担持方法では、端部24,26に保持した量の貴金属がほぼ全量担持されることから、モノリス基材20への貴金属担持量のばらつきを低減することができる。実施例2において、ばらつきの度合を示す値4σは2%であった。それに対し、比較例では、4σは8%とばらつきが大きくなった。
また、実施例4,5の貴金属担持方法によると、所定量の貴金属錯体溶液10を、端部24から貫通孔22表面に伸展させた後、端部26からも貫通孔22表面に伸展させることができる。よって、目的とする量の貴金属を担持させるために必要な貴金属錯体溶液10を、端部24および端部26の2箇所に2度に分けて保持することができるため、それぞれの端部に保持される貴金属錯体溶液10の量は、一度の吸引工程のみで吸引する場合に比べて少なくすることができる。
そのため、2度の吸引工程にて排出される貴金属錯体溶液10の量を少なくでき、排出される貴金属量も少なくできることで、2度の保持工程にて保持された貴金属錯体溶液10に含まれる貴金属の排出ロスを小さくすることができるので、貴金属の担持量をより目的の値に近づけることができ、モノリス基材20ごとのばらつきをさらに少なくできる。さらに、実施例8,9の貴金属担持方法では、端部24および端部26それぞれから貫通孔22表面に対して異なる貴金属を担持させることができる。
また、実施例1〜9の貴金属担持方法のように、高せん断速度における貴金属錯体溶液10の粘度を100〜300mPa・sとすることで、端部24および端部26において保持された貴金属錯体溶液10を吸引する際に、粘度が低すぎるために吸引により多くの貴金属錯体溶液10が排出されてしまうことや、粘度が高すぎるために貫通孔22表面に充分に貴金属錯体溶液10が伸展しないことなどの問題を発生させずに適切な吸引を行うことができる。
また、低せん断速度における貴金属錯体溶液10の粘度を1000〜7000mPa・sとすることで、端部24および端部26において保持された貴金属錯体溶液10を吸引した後に、粘度が低すぎることにより貫通孔22表面に伸展した貴金属錯体溶液10が流れて垂れ落ちることや、流れた貴金属錯体溶液10が貫通孔22表面に溜まって貫通孔22を閉塞することを抑制できる。さらに、貴金属錯体溶液10の粘度が高いことで、貴金属錯体溶液10に含まれる貴金属の分散がよくなり、また、モノリス基材20に伸展した後における貴金属の貫通孔22内での移動が抑制されるので、貴金属担持量のモノリス基材20内部におけるばらつきも低減できる。
また、実施例10の貴金属担持方法のように、貴金属錯体溶液10のpHを2〜10とすることで、粘度を調整した後に長時間放置しても粘度の変化が小さくなり、貴金属錯体溶液10を調製した直後でなくとも適切な貴金属の担持作業を行うことができる。
また、上述した貴金属担持方法によると、モノリス基材20に対して白金,パラジウム,ロジウムのいずれか1種または2種以上を担持させることができる。
[変形例]
以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明は、上記実施形態に何ら限定されることはなく、本発明の技術的範囲に属する限り種々の形態をとり得ることは言うまでもない。
例えば、上記実施例8,9においては、貴金属錯体溶液10A,10Bとして、それぞれが同量の貴金属(いずれも0.5g)を含み、それぞれが同じ粘度であるものを用いる方法を例示した。しかし、これらの貴金属錯体溶液10A,10Bに含まれる貴金属の量は同量でなくともよく、また、それぞれの粘度が異なっていてもよい。そのようにすることで、貴金属錯体溶液10A,10Bの貴金属の濃度,粘度,端部24および端部26に保持する溶液の量に応じて、貫通孔22におけるそれぞれの端部から貴金属錯体溶液10A,10Bが伸展する長さを調整することができる。
また、貫通孔22表面において貴金属錯体溶液10Aが既に伸展している部分の上に、貴金属錯体溶液10Bを重ねるように伸展させてもよい。
また、上記各実施例においては、貴金属錯体溶液10を、モノリス基材20の端部(端部24または端部26)に供給して保持した後、吸引を行う方法を例示した。しかし、端部に供給された貴金属錯体溶液10を吸引するタイミングは特に限定されない。例えば、端部に貴金属錯体溶液10が供給されている際に、同時に吸引を行うこととしてもよい。
また、上記各実施例においては、貴金属を担持させる基材として、ハニカム状のモノリス基材20を用いるものを例示した。しかし、貴金属を担持させて触媒の基材として用いることができる基材であれば、上記の基材に限定されない。例えば、基材の軸方向の両端部において、各端部から他方の端部に向けて延びる孔が複数形成されており、各孔の側壁に形成される細孔を通して各孔が連通するフィルター基材や、耐熱合金を用いた厚さ数十μmの平板および波板を、交互に積層して巻き回して形成されるメタル基材などを用いてもよい。
また、上記各実施例においては、モノリス基材20に貴金属を担持させるための貴金属溶液として、白金,パラジウム,ロジウムの錯体が溶解した貴金属錯体溶液10を用いる方法を例示した。しかし、基材に貴金属を担持させることができれば、貴金属溶液は、貴金属が溶媒に溶解しているものには限定されない。例えば、貴金属または貴金属化合物の微粒子が溶媒に混合してなるものなどを用いて、貴金属を担持させてもよい。
本発明の貴金属担持装置を示す側面図 pHと粘度の関係を示す図
符号の説明
1…貴金属担持装置、10,10A,10B…貴金属錯体溶液、20…モノリス基材、22…貫通孔、24,26…端部、30…保持部材、40…吸引部材、42…内部空間、44…基材受け部、46…配管、48…バルブ、50…供給部材。

Claims (6)

  1. 少なくとも一方の端部Aに開口を有する孔を複数備え、前記孔は他方の端部Bと連通する基材へ貴金属を担持させる貴金属担持方法であって、
    前記貴金属および増粘剤を含み、せん断速度4sec−1における粘度が1000〜7000mPa・sである貴金属溶液を前記端部Aに所定量供給し、前記端部Aに供給された前記貴金属溶液を前記端部Bから吸引することで、前記孔の表面に前記貴金属溶液を伸展させる第1伸展工程を有する
    ことを特徴とする貴金属担持方法。
  2. 貴金属および増粘剤を含む貴金属溶液を前記端部Bに所定量供給し、前記端部Bに供給された前記貴金属溶液を前記端部Aから吸引することで、前記孔の表面に前記貴金属溶液を伸展させる第2伸展工程を有する
    ことを特徴とする請求項1に記載の貴金属担持方法。
  3. 前記第1伸展工程において前記孔の表面に伸展される前記貴金属溶液と、前記第2伸展工程において前記孔の表面に伸展される前記貴金属溶液とが、それぞれ異なる貴金属を含んでいる
    ことを特徴とする請求項2に記載の貴金属担持方法。
  4. 前記貴金属溶液として、せん断速度380sec−1における粘度が100〜300mPa・sであるものを用いる
    ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の貴金属担持方法。
  5. 前記貴金属溶液のpHを2〜10とする
    ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の貴金属担持方法。
  6. 前記貴金属は、白金,パラジウム,ロジウムのいずれか1種または2種以上である
    ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の貴金属担持方法。
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