JP5378326B2 - 不揮発性半導体記憶装置とその制御方法 - Google Patents

不揮発性半導体記憶装置とその制御方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5378326B2
JP5378326B2 JP2010182485A JP2010182485A JP5378326B2 JP 5378326 B2 JP5378326 B2 JP 5378326B2 JP 2010182485 A JP2010182485 A JP 2010182485A JP 2010182485 A JP2010182485 A JP 2010182485A JP 5378326 B2 JP5378326 B2 JP 5378326B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
erase
command
erase operation
control unit
voltage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2010182485A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2012043496A (ja
Inventor
潤 中井
昇 柴田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2010182485A priority Critical patent/JP5378326B2/ja
Priority to US13/052,158 priority patent/US8559236B2/en
Publication of JP2012043496A publication Critical patent/JP2012043496A/ja
Priority to US14/022,944 priority patent/US9025390B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5378326B2 publication Critical patent/JP5378326B2/ja
Priority to US14/677,484 priority patent/US9437308B2/en
Priority to US15/245,892 priority patent/US9754672B2/en
Priority to US15/666,114 priority patent/US10157675B2/en
Priority to US16/180,541 priority patent/US10685715B2/en
Priority to US16/871,578 priority patent/US11062777B2/en
Priority to US17/344,146 priority patent/US11664077B2/en
Priority to US18/301,800 priority patent/US20230260577A1/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/10Programming or data input circuits
    • G11C16/14Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits
    • G11C16/16Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits for erasing blocks, e.g. arrays, words, groups
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/10Programming or data input circuits
    • G11C16/14Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/26Sensing or reading circuits; Data output circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/34Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
    • G11C16/3436Arrangements for verifying correct programming or erasure
    • G11C16/344Arrangements for verifying correct erasure or for detecting overerased cells
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/34Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
    • G11C16/3436Arrangements for verifying correct programming or erasure
    • G11C16/344Arrangements for verifying correct erasure or for detecting overerased cells
    • G11C16/3445Circuits or methods to verify correct erasure of nonvolatile memory cells

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)

Description

本発明の実施形態は、例えば電気的に書き換え可能な不揮発性半導体記憶装置に係わり、特にその消去動作の制御方法に関する。
電気的に書き換え可能な不揮発性半導体記憶装置の1つにNAND型フラッシュメモリがある。このNAND型フラッシュメモリは、ブロック単位で消去動作が行われる。この消去動作中にホストから読み出し又は書き込み動作の要求があった場合、システムによっては、NAND型フラッシュメモリのコントローラは、消去動作が終了するまで待ってから読み出し又は書き込みのための動作コマンドを発行する。消去動作は、通常、読み出しや書き込み動作と比較して長時間を要するため、読み出しや書き込み動作の要求が発生してから、これらの動作が実行されるまでに時間がかかっている。
消去動作は、先ず、最も低い初期電圧を用いて、ブロック内のメモリセルのデータが消去される。この後、メモリセルの閾値電圧が所定の閾値電圧まで消去されたかどうかを確認するため、消去ベリファイ動作が行われる。この結果、消去不十分(ベリファイがフェイル)である場合、初期電圧にステップアップ電圧が加算され、消去電圧が少し高めに設定されて再度消去動作が行われる。この一連の動作が繰り返し実行され、消去ベリファイがパスするか所定のループ回数に達した場合、消去動作シーケンスが終了される。
現在、消去動作時にメモリセルが劣化する懸念があるため、比較的低い初期消去電圧、及び低いステップアップ電圧を用いて消去動作が実行されている。このため、ループ回数が増加し、消去動作に要する時間が増大する傾向にある。
特開2007−226957号公報
上記消去動作中に読み出し又は書き込み動作の要求があった場合、消去動作を中断し、読み出し又は書き込み動作を割り込ませる方法がシステムによっては実施されている。この場合、消去動作中にリセットコマンドを入力し、消去動作を強制終了させた後、要求のあった読み出し又は書き込み動作が実行される。その後、消去動作が最初からやり直されるため、最も低い初期電圧を用いて消去動作が再開されることになる。このため、中断前までに実行していた消去動作が無駄になっていた。さらに、中断前の閾値電圧を考慮せずに消去動作を再開した場合、メモリセルが過消去状態となる可能性を有していた。
本実施形態は、消去動作中に読み出し又は書き込み動作要求が発生した場合、要求発生から短時間で読み出し又は書き込み動作を実行することが可能であり、しかも、消去動作再開後、過消去状態の発生を防止可能な不揮発性半導体記憶装置とその制御方法を提供しようとするものである。
実施形態の不揮発性半導体記憶装置によれば、メモリセルアレイは、複数のメモリセルがマトリックス状に配置されている。制御部は、メモリセルのデータを消去する。制御部は、メモリセルMCの消去動作中に、第1のコマンドに応じて消去動作を中断させ、前記中断前の消去条件を保持し、第2のコマンドに応じて保持された消去条件に基づき消去動作を再開させる。
実施形態に係る不揮発性半導体記憶装置を示す構成図。 第1の実施形態の動作を示すタイミングチャート。 第1の実施形態の動作を示すフローチャート。 第1の実施形態の消去電圧を生成用パラメータの生成回路の一例を示す構成図。 第1の実施形態のループ回数の計数回路の一例を示す構成図。 第1の実施形態の第1の変形例を示すタイミングチャート。 第1の実施形態の第2の変形例を示すフローチャート。 第2の実施形態の動作を示すタイミングチャート。 第2の実施形態の動作を示すフローチャート。 第2の実施形態の変形例(第3の変形例)を示す構成図。
以下、実施の形態について、図面を参照して説明する。
(第1の実施形態)
図1は、NAND型フラッシュメモリの概略構成を示している。
メモリセルアレイ1は、複数のビット線BLと複数のワード線WLと共通ソース線SLを含み、例えばEEPROMセルからなる電気的にデータを書き換え可能なメモリセルMCがマトリクス状に配置されている。このメモリセルアレイ1には、ビット線を制御するためのビット制御回路2とワード線制御回路6が接続されている。
ビット線制御回路2は、ビット線を介してメモリセルアレイ1中のメモリセルのデータを読み出したり、ビット線を介してメモリセルアレイ1中のメモリセルの状態を検出したり、ビット線を介してメモリセルアレイ1中のメモリセルに書き込み制御電圧を印加してメモリセルに書き込みを行なう。ビット線制御回路2には、カラムデコーダ3、データ入出力バッファ4が接続されている。
データ入出力端子5は、例えばコントローラ10に接続される。コントローラ10は、NAND型フラッシュメモリの動作を制御する各種コマンドCMD、アドレスADD、及びデータDTを出力する。データ入出力端子5はコントローラ10から出力されたコマンドCMD、アドレスADD、及びデータDTを受ける。データ入出力端子5に入力された書き込みデータは、データ入出力バッファ4を介して、カラムデコーダ3によって選択されたデータ記憶回路に供給され、コマンド及びアドレスは制御部7に供給される。
制御部7は、制御信号入力端子8に接続されている。制御信号入力端子8は、コントローラ10から出力される制御信号、例えば/CE(チップイネーブル)ALE(アドレス・ラッチ・イネーブル)、CLE(コマンド・ラッチ・イネーブル)、/WE(ライト・イネーブル)、/RE(リード・イネーブル)を受ける。
制御部7は、制御信号入力端子8から供給される各種制御信号、データ入出力バッファ4から供給されるコマンドやアドレスに応じてNAND型フラッシュメモリの動作を制御する。
電圧発生回路9は、制御部7に接続されている。電圧発生回路9は、例えば図示せぬポンプ回路を有し、書き込み時の高電圧としてのプログラム電圧VPGMや、書き込み時に非選択のワード線に供給される中間電圧や、プログラム電圧VPGMを僅かに上昇させるステップアップ電圧、ベリファイ電圧、読み出し電圧、消去電圧、消去電圧を僅かに上昇させるステップアップ電圧などを生成する。電圧発生回路9により生成された電圧は、メモリセルアレイ1、ワード線制御回路6、ビット線制御回路2、カラムデコーダ3などに供給される。
ワード線制御回路6は、メモリセルアレイ1に接続されている。このワード線制御回路6は、メモリセルアレイ1中のワード線を選択し、選択されたワード線に読み出し、書き込みあるいは消去に必要な電圧を印加する。
さらに、制御部7は、複数のレジスタ7a、7b、7cを有している。レジスタ7a、7bは、後述するように、消去動作の中断時に、中断前の消去電圧や消去動作のループ回数を保持する。レジスタ7cは、例えば消去動作中断時のステータスを保持する。
図2、図3は、上記構成の不揮発性半導体記憶装置の消去動作を示している。図2(a)(b)は、連続した動作を示している。図2、図3を参照して第1の実施形態の消去動作について説明する。
図2(a)に示すように、消去動作は、コントローラ10から消去アドレス入力コマンド、消去ブロックを選択するアドレス、及び消去コマンドが順次供給されることにより、開始される。すなわち、制御部7は、消去コマンドに応じてレディ/ビジー信号をビジー状態として、消去動作を開始する。
消去動作では、図3に示すように、先ず、セットアップ動作により、例えば初期の消去電圧Vera1が生成されるとともに、ループ回数がクリアされる(S11)。この後、消去中断後かどうかが判別される(S12)。この判別は、後述するプリコマンドの有無に基づき実行される。この場合、消去中断後ではないため、初期の消去電圧Vera1が所定時間、消去ブロックに印加され、消去動作が実行される(S13)。
この後、消去ベリファイ(Evfy)が行われる(S14)。次いで、消去ベリファイの結果に基づき、所定の消去レベルまで十分に消去されているかどうか、又はループ回数が規定値に達しているかどうかが判別される(S15)。この結果、消去ベリファイがフェイル(消去不十分)である場合、及びループ回数が規定値に達していない場合、消去電圧(消去パルス)がセットアップされる(S16)。すなわち、図2(a)に示すように、消去電圧Vera1にステップアップ電圧ΔVeraが加算された消去電圧Vera2が生成される。さらに、ループ回数が更新され(S17)、消去電圧Vera2が所定時間、選択されたブロックに印加されて再度消去動作が実行される(S13)。尚、消去動作中にループ回数を更新してもよい。この後、消去ベリファイが行われる(S14)。このような動作が、消去ベリファイがパス(消去十分)するか、又はループ回数が規定値に達するまで繰り返される。
図2(a)に示すように、上記消去動作中に読み出し動作を割り込ませる場合、リセットコマンドがコントローラ10から供給される。制御部7は、このリセットコマンドに応じて消去動作を強制的に中断させる。具体的には、消去電圧が選択ブロックに印加されている間に中断させる場合、直ちに消去電圧が放電され、消去シーケンスが終了される。消去シーケンスが終了されると、レディ/ビジー信号が、レディ状態に設定される。コントローラ10はレディ/ビジー信号が、レディ状態であることを確認後、読み出しアドレス入力コマンド、アドレス、読み出しコマンドを順次発行する。制御部7は、読み出しコマンドに応じてレディ/ビジー信号をビジー状態に設定し、通常の読み出し動作を実行する。
また、リセットコマンドを受けると、制御部7は、消去シーケンスを直ちに終了させるが、リセット前の消去条件は、レジスタ7a、7bに保存される。この消去条件については後述する。
一方、読み出し動作が終了し、図2(b)に示すように、データを外部にシリアルに出力した後、中断していた消去動作が再開可能となる。しかし、通常の消去動作コマンドを発行すると、前述したように、初期の消去電圧Vera1により消去動作が開始され、消去終了までに無駄な時間がかかる。このため、リセットコマンドを入力した時点での消去電圧から再開させるようにする。しかし、中断前と同じ消去電圧で消去動作を開始した場合、リセットコマンド入力のタイミングによっては、消去動作の第1ループにおける所定時間以上、消去電圧を印加することになる。このため、既に選択ブロックのメモリセルが所定の閾値電圧まで消去されている場合、過消去となりメモリセルを劣化させてしまう。
そこで、第1の実施形態では、通常の消去動作と中断後の消去動作とを区別するため、図2(b)に示すように、通常の消去動作コマンド前にプリコマンドが入力される。このプリコマンド後の消去コマンドシーケンスに対応して、例えば中断時点より、1ループ前の消去電圧から再開させるか、消去動作の開始前に消去ベリファイを実行することにより、既に選択ブロックの消去がパスしているかどうかを確認する。
第1の実施形態の場合、図2(b)に示すように、例えば消去電圧Vera3を印加する前に消去ベリファイを実行する。消去ベリファイの結果、ベリファイがパスしている場合、消去動作を終了させる。また、消去がパスしていない場合、レジスタ7a、7bに保持された中断時の消去条件に基づき、消去電圧、又はループ回数がセットアップされ、これらを用いて消去動作が実行される。
具体的には、制御部7は、プリコマンド後に消去アドレス入力コマンド、アドレス、消去コマンドが入力された場合、中断後の消去動作であると判断する(図3、S12−S14)。この場合、消去動作の前に消去ベリファイが実行される(S14)。消去ベリファイの結果、ベリファイがフェイルである場合、上記レジスタ7a、7bに保持された消去条件に基づき、消去電圧がセットアップされる(S16)。
上記レジスタ7aに保持される消去条件は、例えば消去電圧を決定するためのパラメータであり、レジスタ7bに保持される消去条件は、例えばループ回数である。消去電圧は、制御部7から出力されるパラメータによって決定される。このため、リセットコマンドが入力された際、消去電圧を決定するパラメータ値をレジスタ7aに保持しておくことにより、消去動作の再開時に、レジスタ7aに保持されているパラメータ値に基づき、リセットコマンドの入力時と同じ消去電圧を生成でき、消去動作を開始することができる。
また、レジスタ7bに保持されたループ回数と、消去のステップアップ電圧とにより、再開時の初期消去電圧を決定することも可能である。尚、消去電圧のパラメータを生成し、保持する回路、及びループ回数を生成し、保持する回路については、後述する。
このようにして、セットアップされた消去電圧を用いて消去動作が再開される。
なお、リセットコマンドは、通常使用されているリセットコマンドでもよいし、リセット動作にリセット入力時の状態を保持しておく機能を加えた新たなリセットコマンドを用いてもよい。
図4は、消去電圧を生成するためのパラメータを生成し、保持する回路を示している。この回路は、例えば選択回路21、22、加算器23、レジスタ7aにより構成されている。選択回路21の一方の入力端には、消去電圧を生成するためのパラメータの初期値F_VERAが供給され、他方の入力端には、レジスタ7aの出力信号BINVERAが供給されている。選択回路21は、信号loadvera、又はプリコマンドにより入力端の一方が選択される。
また、選択回路22の一方の入力端には、ステップアップ電圧を生成するためのパラメータ値F_ΔVERAが供給され、他方の入力端には、接地電圧のパラメータ値VSSが供給されている。選択回路22は、信号stepupにより入力端の一方が選択される。
選択回路21,22の出力信号は加算器23に供給され、加算器23の出力信号は、レジスタ7aに供給される。
上記構成において、通常の消去動作の場合、例えば信号loadveraに応じて、消去電圧の初期値F_VERAが選択される。また、選択回路22は、信号stepupがディスエブールとされ、例えばVSSが選択される。選択回路21、22の出力信号は加算器23に供給され、加算される。加算器23の出力信号F_VERA+VSSは、実質的に初期値F_VERAであり、この信号はレジスタ7aに供給される。このレジスタ7aに保持された初期値F_VERAが消去電圧を生成するためのパラメータBINVERAとして電圧発生回路9に供給される。
1回目の消去電圧が選択されたブロックに供給された後、消去ベリファイがファイルである場合、選択回路21は、信号loadveraがディスエブールとされ、レジスタ7aの出力信号が選択される。また、選択回路22は信号stepupがイネーブルとされ、ステップアップ電圧F_ΔVERAが選択される。このため、加算器23からF_VERA+F_ΔVERAが出力され、この信号がレジスタ7aに保持される。2回目の消去電圧Vera2は、このパラメータに基づき生成される。このような動作が、ベリファイがパスするまで繰り返される。
一方、消去動作が中断された後、消去動作が再開される場合、選択回路21は、プリコマンドに応じた信号precomにより、レジスタ7aの出力信号BINVERAが選択され、選択回路22は、信号stepupがディスエブールとされ、例えばVSSが選択される。このため、加算器23より実質的に初期値BINVERAが出力される。
すなわち、例えば図2(a)に示すように、消去電圧Vera3を印加している状態で、中断した場合、図2(b)に示すように、再開時に消去電圧Vera3を発生することができる。
図5は、ループ回数をカウントし、保持する回路を示している。この回路は、カウンタ31、リセット回路32、レジスタ7bにより構成されている。カウンタ31は、インクリメント・イネーブル信号に基づき、ループ回数を更新する。リセット回路32は、リセット信号に基づきカウンタ31のカウント値をリセットしてレジスタ7bに供給し、プリコマンドが入力された場合、カウンタ31のカウント値をリセットせずに、レジスタ7bに供給する。
このため、消去動作において、カウンタ31は、ベリファイがフェイルである場合、インクリメント・イネーブル信号に基づき、ループ回数を“+1”し、このカウント値がリセット回路32を介してレジスタ7bに保持される。このような動作が、ベリファイがパスするか、ループ回数が規定値に達するまで繰り返される。
一方、消去動作が再開される場合、プリコマンドに基づき、リセット回路32によるカウント値のリセットが禁止される。このため、中断前にレジスタ7bに保持されたカウント値が初期値として、ループ回数が更新される。
上記第1の実施形態によれば、消去動作の途中においてリセットコマンドが発行された場合、消去動作が中断されるとともに、中断時における消去電圧のパラメータ値、消去動作のループ回数がレジスタ7a、7bに保存される。このため、消去動作の再開時にレジスタ7aに保存された消去電圧のパラメータ値、又は消去動作のループ回数に基づき消去電圧を生成することができるため、消去動作に要する時間を短縮することが可能である。
しかも、消去動作の再開時、消去動作コマンドに先立ってプリコマンドが発行され、このコマンドより、中断後の消去動作であることを判別でき、中断後の消去動作である場合、消去動作に先立って消去ベリファイを行い、消去がパスしているかどうかを判別している。このため、メモリセルが過消去状態となることを防止することが可能である。
(第1の変形例)
図6は、第1の実施形態の第1の変形例を示している。
上記第1の実施形態は、消去動作を中断して読み出されたデータのシリアル出力後、プリコマンド及び通常の消去動作コマンドを用いて消去動作を再開した。これに対して、図6に示す第1の変形例は、図6(b)に示すように、消去コマンドに代えて、キャッシュ消去コマンドを用いることにより、消去動作を中断して読み出されたデータのシリアル出力の前に消去動作を再開している。キャッシュ消去コマンドは、消去動作中に次の書き込みのデータをキャッシュにロードすることが可能とされている。このため、消去動作とデータロードをオーバーラップさせることができる。
第1の変形例は、このキャッシュ消去コマンドを用いて、消去動作を中断して読み出されたデータのシリアル出力を消去動作にオーバーラップさせている。つまり、図6(b)に示すように、データのシリアル出力を再開された消去動作と同時に実行可能としている。
但し、通常のキャッシュ消去コマンドは、これが発行されると、図6(b)に示すダミービジー中に、キャッシュ、すなわちページバッファがリセットされて次の書き込みのデータロードが実行される。このため、キャッシュ消去シーケンス中に、読み出しデータを保持しているページバッファがリセットされ、読み出しデータが失われることとなる。したがって、第1の変形例では、ページバッファのリセット動作を実行しないように変更する必要がある。すなわち、キャッシュ消去シーケンスにおいて、ページバッファをリセットするかしないかの制御は、プリコマンドの有無により判別される。つまり、プリコマンドが検出された場合、キャッシュ消去シーケンスにおいて、ページバッファのリセット動作が回避される。
上記第1の変形例によれば、消去動作を中断して読み出されたデータのシリアル出力と消去動作をオーバーラップさせることができる。このため、消去動作及びデータ出力動作を含むトータルの動作時間を短縮できる。
(第2の変形例)
図7は、第1の実施形態の第2の変形例を示している。
消去動作において、消去電圧を印加する前に選択ブロックの全てのセルに書き込み動作を行うプリプログラムや、消去終了後(消去ベリファイがパスの後)に、閾値電圧を僅かに上昇させるソフト・プログラムを実行する場合がある。これらプリプログラムやソフト・プログラム中に、前述したリセットコマンドが入力される可能性がある。第2の変形例は、この場合に対応して、例えば次のように制御する。尚、ソフト・プログラムは、ダミーワード線に接続されているメモリセルのみに書き込みを行い、その他のメモリセルの書き込みを行わない場合がある。
図7に示すステップS21〜S29は、プリプログラムを含む消去シーケンスを示している。この消去シーケンスは、プリプログラムのステップS22、S23を除き、図3に示す消去シーケンスとほぼ同様である。
先ず、セットアップ(S21)の後、前回どのステータスにおいてリセットされたかが判別される(S22)。すなわち、前回のステータスが、プリプログラム、消去、消去ベリファイ、及びソフト・プログラムのうちのいずれであるかが判別される。この判別は、例えば制御部7に設けられたステータスレジスタ7cに保持されているステータスデータに基づいて行われる。初期状態において、ステータスレジスタ7cに保持されたステータスデータは、上記のいずれでもない。このため、プリプログラムが実行される(S23)。この後、消去動作(S24)、消去ベリファイ動作(S25)が実行され、ベリファイ結果が判別される(S26)。ベリファイの結果がフェイルである場合、及びループ回数が規定値に達していない場合、消去電圧がセットアップされ(S27)、ループ回数が更新されて(S28)、再度消去動作が実行される。
また、ステップS31〜S38は、消去ベリファイがパスした後のソフト・プログラム・シーケンスを示している。ソフト・プログラム・シーケンスは、消去状態の閾値電圧分布を狭くするため、僅かな書き込みが実行される。すなわち、ソフト・プログラムS31において、プログラム電圧が設定されて僅かな書き込み動作が実行される。この後、所定のベリファイ電圧に従ってベリファイされる。ソフト・プログラム・シーケンスは、2つのベリファイを含んでいる。第1のベリファイは、インテリジェント・ソフト・プログラム・ベリファイ(S32、S33)であり、第2のベリファイは、ソフト・プログラム・ベリファイ(S37、S38)である。インテリジェント・ソフト・プログラム・ベリファイと、ソフト・プログラム・ベリファイは、ベリファイ電圧が異なっている。具体的には、インテリジェント・ソフト・プログラム・ベリファイの方が、ソフト・プログラム・ベリファイより、ベリファイ電圧が低く設定されている。このため、先ず、インテリジェント・ソフト・プログラム・ベリファイにより、メモリセルの閾値電圧がある程度の分布に書き戻されているかどうかが検証され、この後、ソフト・プログラム・ベリファイにより、書き戻し過ぎていないかが検証される。
つまり、ソフト・プログラム(S31)の後、インテリジェント・ソフト・プログラム・ベリファイが行われ(S32、S33)、この結果、書き戻しが十分ではない場合、ソフト・プログラム電圧がステップアップされ(S34)、ループ回数が更新されて(S35)、再度ソフト・プログラムが実行される(S31)。このような動作が、ベリファイがパスするか、ループ回数が規定値に達するまで繰り返される。
この後、インテリジェント・ソフト・プログラム・ベリファイがフェイルかどうか判別される(S36)。すなわち、ベリファイがパスせず、ループ回数が規定値に達したかどうかが判別される。この結果、インテリジェント・ソフト・プログラム・ベリファイがパスしている場合、ソフト・プログラム・ベリファイが実行され、書き戻し過ぎていないかが判別される(S37、S38)。この結果、書き戻し過ぎている場合、制御がステップS21に移行され、再度、消去動作から実行される。
また、消去ベリファイ、又はインテリジェント・ソフト・プログラム・ベリファイがフェイルである場合、消去処理が終了され、例えばエラー処理が実行される。
一方、消去中断後、消去再開時動作において、セットアップ(S21)の後、ステータスレジスタ7cに保持されたステータスデータに基づき、どの状態において、消去が中断されたかが判別される(S22)。この判別の結果、プリプログラム(S23)の途中でリセットコマンドが入力され、リセットされた場合、例えば制御が前回のステータスの判別ステップS22から消去ステップS24に移行され、消去シーケンスの最初から、すなわち、1回目の消去電圧の印加から再開される。或いは、プリプログラムが最初から実行されたり、中断したタイミングからプリプログラムが再開される。
また、1回目の消去電圧の印加中にリセットコマンドが入力された場合、再度1回目の消去電圧の印加から実行するか、再開時は、消去ベリファイから実行してもよい。あるいは、ソフト・プログラム中にリセットコマンドが入力された場合、1回目のソフト・プログラムから実行される。
上記第2の変形例によれば、プリプログラムや、ソフト・プログラムを含む消去シーケンスの途中において、リセットコマンドが発行され、消去シーケンスが中断した場合においても、再開後、短時間に消去動作を行うことができるとともに、過消去を防止することができる。
しかも、上記第1、第2の変形例によれば、既存の回路を大きく変更することなく、比較的簡単な構成により、消去動作中に読み出し/書き込み動作を割り込ませることが可能である。
(第2の実施形態)
図8、図9は、第2の実施形態を示している。図9において、図7と同一部分には同一符号を付している。
上記第1の実施形態は、消去動作中にリセットコマンドを入力して消去動作を中断させ、且つ中断前と同じ消去電圧により、消去動作を再開させるために、プリコマンド、及び通常の消去コマンドを入力する必要がある。
これに対して、第2の実施形態は、消去動作の再開時にコマンド入力を必要とせず、1つの消去シーケンスの中に読み出し/書き込み動作を割り込ませることを可能とする。
すなわち、図8(a)に示すように、消去動作において、先ず、コントローラ10から消去アドレス入力コマンド、アドレス、及び例えばサスペンドイレースコマンドと称するコマンドが入力されると、レディ/ビジー信号がダミービジー状態とされる。また、内部レディ/ビジー信号がビジー状態とされ、消去動作が開始される。消去動作は、第1の実施形態と同様である。内部レディ/ビジー信号は、制御部7内の応答信号である。
また、ダミービジー状態がレディ状態に戻った場合、読み出し動作又は書き込み動作を割り込ませるためのコマンドが発行可能となる。この状態において、コントローラ10から、例えば読み出しアドレス入力コマンド、アドレス、読み出しコマンドが順次供給されるとレディ/ビジー信号がビジー状態とされる。
制御部7は、読み出しコマンドに基づき、内部クロック信号と同期して後述するタイミングにおいて、割り込み要求を発生する。すると、消去動作が中断され、直ちに読み出し動作が開始される。
割り込み要求を発生して消去動作が中断されるタイミングは、プリプログラム後(S23)、又は消去電圧印加後(S24)、又は消去ベリファイ終了後(S25)、或いはソフト・プログラム後(S31)とされる。尚、割り込み要求から読み出し動作開始までの時間を極力短縮するため、プリプログラム中、消去電圧の印加中、及びソフト・プログラム中に強制的に終了させてもよい。また、これら割り込み要求が発生された時点のステータスは、例えばレジスタ7cに保持される。
一方、読み出し動作が終了し、割り込み動作が終了すると、図8(b)に示すように、レディ/ビジー信号がレディ状態に戻り、読み出し動作により読み出されたデータの出力が可能となる。このとき、制御部7により、中断時の動作が再開される。制御部7は、レジスタ7cに保持されたステータスデータに基づき、中断時の動作を再開する。
すなわち、再開時の動作は、図9に示すように、中断時のタイミングが、消去パルス印加後である場合、消去ベリファイから実行され、消去ベリファイ後である場合、消去電圧をセットアップされるとともに、ループ回数が更新され、消去電圧の印加が開始される。
さらに、プリプログラムの途中で中断された場合、次の動作のいずれかが実行される。(1)プリプログラムの最初から再開される。(2)1回目の消去電圧印加から再開される(3)中断したタイミングからプリプログラムが再開される。(4)プリプログラムの終了を待ってから割り込み動作を開始する。
また、1回目の消去電圧印加中であった場合は、再度1回目の消去電圧の印加から再開するか、消去ベリファイから再開してもよい。また、ソフト・プログラムの途中で中断された場合、1回目のソフト・プログラムから再開される。この再開された動作は、ページバッファに保持された読み出しデータを外部へ出力する動作と同時に行うことが可能である。
また、消去電圧印加中に強制終了された場合、第1の実施形態と同様に、メモリセルの過消去を避けるため、消去ベリファイから開始される。
上記動作は、消去動作中に読み出し動作を割り込ませる場合について説明したが、これに限定されるものではなく、消去動作中に書き込み動作を割り込ませる場合も、上記と同様の動作により実行することが可能である。
上記第2の実施形態によれば、消去コマンドが入力された場合、レディ/ビジー信号をダミービジー状態とし、内部レディ/ビジー信号をビジー状態として消去動作を開始した後、レディ/ビジー信号をダミービジー状態からレディ状態に戻して、読み出し又は書き込みコマンドの入力を可能とし、読み出し又は書き込みコマンドが入力された場合、割り込みにより、消去動作を中断させ、割り込み動作が終了した場合、消去動作を再開させている。このため、消去動作を再開させるためのコマンドを入力する必要がなく、且つ割り込みが読み出し動作である場合、データを外部で出力させる動作と、消去動作をオーバーラップさせることができる。また、割り込みが書き込み動作である場合、ページバッファへのデータの入力と、消去動作をオーバーラップさせることができる。したがって、消去動作とデータの読み出し、データの入力動作を同時に行うことにより、動作時間を短縮するこが可能である。
図10は、第2の実施形態の変形例(第3の変形例と称す)を示している。例えば消去動作中に書き込み動作(プログラム)を割り込ませた場合において、プログラムベリファイがパスしたか、フェイルであるかを知りたい場合がある。プログラムベリファイの結果は、コントローラ10からステータスコマンドを発行することによりパスしたか、フェイルであるかを知ることができる。
しかし、第2の実施形態の場合、消去動作とプログラム動作を同時に実行することが可能とされているため、単にステータスコマンドを発行した場合、消去動作とプログラム動作のどちらのステータスが出力されるか区別することが困難となる。
そこで、図10に示すように、制御部7に通常用のステータスレジスタ41と、サスペンドイレースコマンドを使用した場合のステータスを保持するサスペンドイレース用ステータスレジスタ42を接続している。ステータスレジスタ41には、プログラムベリファイ時のステータスが保持される。また、サスペンドイレース用ステータスレジスタ42には、サスペンドイレースコマンドを使用して消去が実行された場合において、消去がパスしたか、フェイルか、つまり、消去ベリファイ、インテリジェント・ソフトプログラム・ベリファイ、及びソフト・プログラム・ベリファイの全てがパスしたか、フェイルかのステータスが保持される。
ステータスレジスタ41、及びサスペンドイレース用ステータスレジスタ42の出力端は選択回路43に接続され、この選択回路43は、通常用のステータスコマンドと消去中断用のステータスコマンドによりステータスレジスタ41とサスペンドイレース用ステータスレジスタ42の一方を選択可能としている。このため、コントローラ10より通常用のステータスコマンドが発行された場合、ステータスレジスタ41に保持されているプログラムベリファイのステータスが選択され、これがステータスデータとしてデータ入出力バッファ4を介してコントローラ10に送られ、コントローラ10より消去中断用のステータスコマンドが発行された場合、サスペンドイレース用ステータスレジスタ42に保持されている消去実行時のステータスが選択され、これがステータスデータとしてデータ入出力バッファ4を介してコントローラ10に送られる。
上記第3の変形例によれば、消去実行時のステータスとプログラムベリファイのステータスを確実に取り出すことができる。したがって、不揮発性半導体記憶装置の動作状態を正確に認識することが可能である。
尚、図7、図9において、消去シーケンスは、消去動作以外にプリプログラムやソフト・プログラムなどの異なる動作を含んでいるが、これらプリプログラムやソフト・プログラムを消去シーケンスから独立させ、コマンドを使用してこれらの動作を単独で動作ささせることも可能である。
また、消去中断シーケンスは、第1の実施形態、及び第2の実施形態のどちらも適用可能である。
その他、本発明は上記各実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記各実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
1…メモリセルアレイ、7…制御部、7a、7b、7c…レジスタ、9…電圧発生回路。

Claims (12)

  1. 複数のメモリセルを含むメモリセルアレイと、
    前記メモリセルのデータを消去する制御部と、
    を具備し、
    前記制御部は、前記メモリセルの消去動作中に、第1のコマンドに応じて消去動作を中断させ、前記中断前の消去条件を保持し、
    前記制御部は、第2のコマンドに応じて前記消去動作を再開させ、
    前記制御部は、前記消去動作を中断させたのちかつ消去動作の再開前に第3のコマンドを受けると、前記第3のコマンドに応じてステータスを外部に出力し、
    前記ステータスは、中断時点で消去がパスしたか、前記中断時点で消去がフェイルしたかに関するステータスを含むことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
  2. 前記制御部は、前記中断前の消去条件を保持手段に保持し、前記第2のコマンドに応じて前記保持された消去条件に基づき前記消去動作を再開させ、前記第3のコマンドと異なる第4のコマンドを受けると、プログラムベリファイのステータスを外部に出力することを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。
  3. 前記消去条件は、前記中断前の消去電圧を決定するパラメータ、又は前記消去動作のループ回数であることを特徴とする請求項2記載の不揮発性半導体記憶装置。
  4. 前記制御部は、前記第2のコマンドを受けると、最初に消去ベリファイを行い、ベリファイ結果がパスである場合、前記メモリセルに消去電圧を印加せずに消去動作を終了させ、前記ベリファイ結果がフェイルである場合、前記消去条件に基づき消去動作を開始することを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の不揮発性半導体装置。
  5. 前記制御部は、前記第2のコマンドを受けると、前記消去動作を再開させて、前記中断時点の消去電圧以上の電圧を印加することを特徴とする請求項2乃至請求項4いずれか1項に記載の不揮発性半導体記憶装置。
  6. 前記制御部は、前記第2のコマンドを受けると、前記中断時点の消去電圧より一つ前のループの消去電圧で消去動作を再開させることを特徴とする請求項2乃至請求項4いずれか1項に記載の不揮発性半導体装置。
  7. 前記制御部は、消去動作中のどのタイミングでリセットされたかを記憶しておき、そのステータスによって消去シーケンス再開時の開始ポイントを変更することを特徴とする請求項2記載の不揮発性半導体装置。
  8. 前記メモリセルに対するデータの書き込み、及び読み出しを行う書き込み/読み出し回路と、
    前記書き込み/読み出し回路に設けられたキャッシュメモリをさらに具備し、
    前記制御部は、前記消去動作の再開後、前記キャッシュメモリをリセットせず、キャッシュメモリがレディ状態になることで前段での読み出し動作により読み出されたデータを外部端子にシリアル出力しながら、内部では消去動作を実行することを特徴とする請求項7記載の不揮発性半導体装置。
  9. 複数のメモリセルを含むメモリセルアレイと、
    前記メモリセルアレイに書き込むデータ又は読み出したデータを保持する書き込み/読み出し回路と、
    前記メモリセルに対するデータの読み出し、書き込み、及び消去を行う制御部と、
    を具備し、
    前記制御部は、消去動作中に読み出し又は書き込み動作を指示するコマンドが入力された場合、前記消去動作を中断させ、読み出し又は書き込み動作の割り込みが実行され、 前記制御部は、前記消去動作を中断させたのちかつ消去動作の再開前に第1のコマンドを受けると、前記第1のコマンドに応じてステータスを外部に出力し、
    前記制御部は、第2のコマンドに応じて前記消去動作を再開させ、
    前記ステータスは、中断時点で消去がパスしたか、前記中断時点で消去がフェイルしたかに関するステータスを含むことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
  10. 前記制御部は、再開後最初に消去ベリファイを実行し、ベリファイ結果がパスである場合、メモリセルに消去電圧を印加せずに消去動作を終了させ、ベリファイ結果がフェイルである場合、割り込み前と同じ電圧で消去を開始させ、前記第1のコマンド及び前記第2のコマンドと異なる第3のコマンドを受けると、プログラムベリファイのステータスを外部に出力することを特徴とする請求項9記載の不揮発性半導体装置。
  11. 複数のメモリセルを含むメモリセルアレイを含む不揮発性半導体記憶装置の制御方法であって、
    前記メモリセルの消去動作中に、第1のコマンドに応じて消去動作を中断し、
    前記中断前の消去条件を保持し、
    第2のコマンドに応じて前記保持された消去条件に基づき前記消去動作を再開し、
    前記消去動作を中断させたのちかつ消去動作の再開前に第3のコマンドを受けると、前記第3のコマンドに応じてステータスを外部に出力する不揮発性半導体記憶装置の制御方法であって、
    前記ステータスは、中断時点で消去がパスしたか、前記中断時点で消去がフェイルしたかに関するステータスを含むことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置の制御方法。
  12. 前記第2のコマンドを受けると、前記消去動作を再開させて、前記中断時点の消去電圧以上の電圧を印加し、
    前記第3のコマンドと異なる第4のコマンドを受けると、プログラムベリファイのステータスを外部に出力することを特徴とする請求項11記載の不揮発性半導体記憶装置の制御方法。
JP2010182485A 2010-08-17 2010-08-17 不揮発性半導体記憶装置とその制御方法 Active JP5378326B2 (ja)

Priority Applications (10)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010182485A JP5378326B2 (ja) 2010-08-17 2010-08-17 不揮発性半導体記憶装置とその制御方法
US13/052,158 US8559236B2 (en) 2010-08-17 2011-03-21 Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation
US14/022,944 US9025390B2 (en) 2010-08-17 2013-09-10 Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation
US14/677,484 US9437308B2 (en) 2010-08-17 2015-04-02 Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation
US15/245,892 US9754672B2 (en) 2010-08-17 2016-08-24 Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation
US15/666,114 US10157675B2 (en) 2010-08-17 2017-08-01 Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation
US16/180,541 US10685715B2 (en) 2010-08-17 2018-11-05 Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation
US16/871,578 US11062777B2 (en) 2010-08-17 2020-05-11 Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation
US17/344,146 US11664077B2 (en) 2010-08-17 2021-06-10 Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation
US18/301,800 US20230260577A1 (en) 2010-08-17 2023-04-17 Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010182485A JP5378326B2 (ja) 2010-08-17 2010-08-17 不揮発性半導体記憶装置とその制御方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012043496A JP2012043496A (ja) 2012-03-01
JP5378326B2 true JP5378326B2 (ja) 2013-12-25

Family

ID=45593995

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010182485A Active JP5378326B2 (ja) 2010-08-17 2010-08-17 不揮発性半導体記憶装置とその制御方法

Country Status (2)

Country Link
US (9) US8559236B2 (ja)
JP (1) JP5378326B2 (ja)

Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100784862B1 (ko) * 2006-01-09 2007-12-14 삼성전자주식회사 더미 셀을 포함하는 플래시 메모리 장치
JP5378326B2 (ja) * 2010-08-17 2013-12-25 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置とその制御方法
JP4902002B1 (ja) 2011-04-20 2012-03-21 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
JP2013020682A (ja) * 2011-07-14 2013-01-31 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置
US8797802B2 (en) * 2012-03-15 2014-08-05 Macronix International Co., Ltd. Method and apparatus for shortened erase operation
KR102083490B1 (ko) * 2012-08-08 2020-03-03 삼성전자 주식회사 비휘발성 메모리 장치, 이를 포함하는 메모리 시스템 및 비휘발성 메모리 장치의 커맨드 실행 제어 방법
JP2014186787A (ja) 2013-03-25 2014-10-02 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置、メモリコントローラ、及びメモリシステム
US9183940B2 (en) 2013-05-21 2015-11-10 Aplus Flash Technology, Inc. Low disturbance, power-consumption, and latency in NAND read and program-verify operations
US9263137B2 (en) 2013-06-27 2016-02-16 Aplus Flash Technology, Inc. NAND array architecture for multiple simutaneous program and read
WO2015013689A2 (en) 2013-07-25 2015-01-29 Aplus Flash Technology, Inc. Nand array hiarchical bl structures for multiple-wl and all -bl simultaneous erase, erase-verify, program, program-verify, and read operations
US9293205B2 (en) 2013-09-14 2016-03-22 Aplus Flash Technology, Inc Multi-task concurrent/pipeline NAND operations on all planes
US9613704B2 (en) 2013-12-25 2017-04-04 Aplus Flash Technology, Inc 2D/3D NAND memory array with bit-line hierarchical structure for multi-page concurrent SLC/MLC program and program-verify
KR102226367B1 (ko) 2014-01-02 2021-03-12 삼성전자주식회사 불휘발성 메모리 장치 및 그것을 포함하는 불휘발성 메모리 시스템
KR102187637B1 (ko) * 2014-02-03 2020-12-07 삼성전자주식회사 불휘발성 메모리 장치를 포함하는 메모리 시스템 및 그것의 소거 방법
CN103854700B (zh) * 2014-02-28 2018-05-01 北京兆易创新科技股份有限公司 一种非易失性存储器的擦除方法和装置
US9659636B2 (en) 2014-07-22 2017-05-23 Peter Wung Lee NAND memory array with BL-hierarchical structure for concurrent all-BL, all-threshold-state program, and alternative-WL program, odd/even read and verify operations
KR102203298B1 (ko) 2014-08-01 2021-01-15 삼성전자주식회사 비휘발성 메모리 장치 및 비휘발성 메모리 장치의 구동 방법
JP5804584B1 (ja) * 2014-10-30 2015-11-04 ウィンボンド エレクトロニクス コーポレーション Nand型フラッシュメモリのプログラム方法
JP6453718B2 (ja) * 2015-06-12 2019-01-16 東芝メモリ株式会社 半導体記憶装置及びメモリシステム
US9679658B2 (en) 2015-06-26 2017-06-13 Intel Corporation Method and apparatus for reducing read latency for a block erasable non-volatile memory
JP6493062B2 (ja) 2015-07-24 2019-04-03 ソニー株式会社 メモリコントローラ、メモリシステムおよび情報処理システム
KR102377469B1 (ko) * 2015-11-02 2022-03-23 삼성전자주식회사 불휘발성 메모리 장치, 불휘발성 메모리 장치를 포함하는 스토리지 장치 및 불휘발성 메모리 장치의 동작 방법
JP6538597B2 (ja) 2016-03-14 2019-07-03 東芝メモリ株式会社 記憶装置
KR102452994B1 (ko) * 2016-09-06 2022-10-12 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 메모리 장치 및 그 동작 방법
JP6783682B2 (ja) * 2017-02-27 2020-11-11 キオクシア株式会社 半導体記憶装置及びメモリシステム
CN109087676B (zh) * 2017-06-14 2020-10-20 北京兆易创新科技股份有限公司 一种非易失性存储器的编程方法及装置
KR102631353B1 (ko) * 2017-08-17 2024-01-31 삼성전자주식회사 비휘발성 메모리 장치 및 이의 동작 방법
JP2019057342A (ja) 2017-09-20 2019-04-11 東芝メモリ株式会社 半導体記憶装置
JP6444475B1 (ja) 2017-11-28 2018-12-26 ウィンボンド エレクトロニクス コーポレーション 半導体記憶装置
KR102369391B1 (ko) * 2017-12-27 2022-03-02 삼성전자주식회사 비휘발성 메모리 장치의 데이터 소거 방법 및 이를 수행하는 비휘발성 메모리 장치
KR102573308B1 (ko) * 2018-06-18 2023-08-31 삼성전자 주식회사 소거 제어 회로를 포함하는 비휘발성 메모리 장치
KR102569820B1 (ko) * 2018-10-25 2023-08-24 에스케이하이닉스 주식회사 메모리 컨트롤러 및 그 동작 방법
WO2020095361A1 (ja) 2018-11-06 2020-05-14 キオクシア株式会社 半導体記憶装置
KR20200139042A (ko) * 2019-06-03 2020-12-11 에스케이하이닉스 주식회사 메모리 장치 및 그것의 동작 방법
KR20210057355A (ko) * 2019-11-12 2021-05-21 에스케이하이닉스 주식회사 메모리 장치, 메모리 컨트롤러, 메모리 시스템 및 그 동작 방법
KR20220021770A (ko) * 2020-08-14 2022-02-22 에스케이하이닉스 주식회사 메모리 장치 및 그 동작 방법
CN112270945B (zh) * 2020-10-22 2021-10-08 芯天下技术股份有限公司 记录是否有擦除时掉电的方法、装置、存储介质和终端
CN115668379A (zh) * 2021-01-08 2023-01-31 长江存储科技有限责任公司 用于nand存储操作的架构和方法
CN113409859A (zh) * 2021-05-21 2021-09-17 芯天下技术股份有限公司 防止因过擦除造成读错误的方法、装置、存储介质和终端
JP7181984B1 (ja) * 2021-12-09 2022-12-01 ウィンボンド エレクトロニクス コーポレーション 半導体装置および消去方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5355464A (en) * 1991-02-11 1994-10-11 Intel Corporation Circuitry and method for suspending the automated erasure of a non-volatile semiconductor memory
DE69629315T2 (de) * 1996-05-22 2004-04-22 Macronix International Co. Ltd., Hsinchu Flashspeicheranordnung mit löschungsunterbrechungslogik unter verwendung von mehreren prüfpunkten
KR100257868B1 (ko) * 1997-12-29 2000-06-01 윤종용 노어형 플래시 메모리 장치의 소거 방법
JP4439530B2 (ja) 1999-05-10 2010-03-24 株式会社東芝 半導体装置
JP2003036681A (ja) * 2001-07-23 2003-02-07 Hitachi Ltd 不揮発性記憶装置
JP4004811B2 (ja) 2002-02-06 2007-11-07 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
JP2004227635A (ja) * 2003-01-21 2004-08-12 Renesas Technology Corp 不揮発性半導体メモリおよび不揮発性半導体メモリを内蔵したマイクロコンピュータ
JP2004348808A (ja) * 2003-05-20 2004-12-09 Sharp Corp 半導体記憶装置、携帯電子機器、イレース動作を制御する方法及びプログラム動作を制御する方法
US6930925B2 (en) * 2003-10-14 2005-08-16 Atmel Corporation Suspend-resume programming method for flash memory
US7151694B2 (en) * 2004-06-14 2006-12-19 Macronix International Co., Ltd. Integrated circuit memory with fast page mode verify
JP5367210B2 (ja) * 2006-01-20 2013-12-11 株式会社東芝 半導体記憶装置
US7562180B2 (en) * 2006-03-28 2009-07-14 Nokia Corporation Method and device for reduced read latency of non-volatile memory
JP4986213B2 (ja) * 2006-07-31 2012-07-25 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路及び記憶装置
JP2008135100A (ja) * 2006-11-28 2008-06-12 Toshiba Corp 半導体記憶装置及びそのデータ消去方法
US8850103B2 (en) * 2009-08-28 2014-09-30 Microsoft Corporation Interruptible NAND flash memory
JP5378326B2 (ja) * 2010-08-17 2013-12-25 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置とその制御方法

Also Published As

Publication number Publication date
US11062777B2 (en) 2021-07-13
US20160365153A1 (en) 2016-12-15
US9754672B2 (en) 2017-09-05
US20200273524A1 (en) 2020-08-27
US10157675B2 (en) 2018-12-18
US11664077B2 (en) 2023-05-30
US20150213899A1 (en) 2015-07-30
JP2012043496A (ja) 2012-03-01
US20210304821A1 (en) 2021-09-30
US9437308B2 (en) 2016-09-06
US20120044764A1 (en) 2012-02-23
US20230260577A1 (en) 2023-08-17
US20170330629A1 (en) 2017-11-16
US20190074064A1 (en) 2019-03-07
US10685715B2 (en) 2020-06-16
US9025390B2 (en) 2015-05-05
US20140010015A1 (en) 2014-01-09
US8559236B2 (en) 2013-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5378326B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置とその制御方法
US7586785B2 (en) Non-volatile semiconductor memory device
KR101146059B1 (ko) 비휘발성 메모리 시스템 및 비휘발성 메모리 시스템을 위한데이터 판독/기입 방법
US7164610B2 (en) Microcomputer having a flush memory that can be temporarily interrupted during an erase process
KR101285576B1 (ko) 비휘발성 메모리를 프로그래밍/소거하기 위한 방법 및 장치
TWI550619B (zh) 記憶體電路及其操作方法
JP2010009141A (ja) データ転送方法
JP2001250388A (ja) 消去動作情報を記憶する不揮発性メモリ
JP2021044033A (ja) 半導体記憶装置
KR100621637B1 (ko) 프로그램 시간을 단축시킬 수 있는 플래시 메모리 장치 및그것의 프로그램 방법
KR100898653B1 (ko) 플래시 메모리 소자 및 프로그램 방법
CN101154457A (zh) 闪存器件及其中闪存单元块的擦除方法
JP2004071092A (ja) 消去動作時間を短縮したフラッシュメモリ
JP5390006B2 (ja) 不揮発性記憶装置
JP5270598B2 (ja) 不揮発性記憶装置
JP2006065973A (ja) 不揮発性半導体記憶装置
CN117789798B (zh) 一种Flash状态转换时间可调的方法
US11868654B2 (en) Semiconductor device
KR20110001581A (ko) 불휘발성 메모리 장치의 카피백 동작 방법
CN117577153A (zh) 存储器及擦除方法
JP2010044570A (ja) ストレージシステム及び記憶装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120809

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121227

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130122

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130325

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130416

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130716

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20130723

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130830

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130925

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5378326

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350