JP5352536B2 - 薄膜蒸着装置 - Google Patents
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Description
本発明は、薄膜蒸着装置に係り、さらに詳細には、大型基板の量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置に関する。
ディスプレイ装置のうち、有機発光ディスプレイ装置は、視野角が広く、コントラストに優れているだけでなく、応答速度が速いという長所を有しており、次世代ディスプレイ装置として注目されている。
一般的に、有機発光ディスプレイ装置は、アノードとカソードとから注入される正孔と電子とが発光層で再結合して発光する原理で色相を具現できるように、アノードとカソードとの間に発光層を挿入した積層型構造である。しかし、このような構造では、高効率発光を得難いため、それぞれの電極と発光層との間に電子注入層、電子輸送層、正孔輸送層及び正孔注入層などの中間層を選択的に追加挿入して使用している。
しかし、発光層及び中間層のような有機薄膜の微細パターンを形成することが実質的に非常に難しく、前記層によって、赤色、緑色及び青色の発光効率が変わるため、従来の薄膜蒸着装置では、大面積(５Ｇ以上のマザーガラス)に対するパターニングが不能であるので、満足すべきレベルの駆動電圧、電流密度、輝度、色純度、発光効率及び寿命を有する大型有機発光ディスプレイ装置を製造できないところ、その改善が至急に求められている。
一方、有機発光ディスプレイ装置は、相互対向した第１電極と第２電極との間に、発光層及びそれを含む中間層を備える。この時、前記電極及び中間層は、多様な方法で形成できるが、そのうち一つの方法が蒸着である。蒸着方法を利用して、有機発光ディスプレイ装置を製作するためには、薄膜が形成される基板面に、形成される薄膜のパターンと同じパターンを有するファインメタルマスク(Ｆｉｎｅ Ｍｅｔａｌ Ｍａｓｋ：ＦＭＭ)を密着させ、かつ薄膜の材料を蒸着して、所定パターンの薄膜を形成する。
本発明が解決しようとする課題は、製造が容易であり、大型基板の量産工程に容易に適用でき、製造収率及び蒸着効率が向上し、蒸着物質のリサイクルが容易な薄膜蒸着装置を提供することである。
前記課題を達成するために、本発明は、基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を備え、前記パターニングスリットは、それぞれ複数のサブスリットを備えることを特徴とする薄膜蒸着装置を提供する。
本発明において、相互隣接した前記パターニングスリット間の間隔は、同じパターニングスリットに属する相互隣接した前記サブスリット間の間隔よりさらに大きく形成されうる。
本発明において、同じパターニングスリットに属するいずれか一つのサブスリットを通過して前記基板上に蒸着された前記蒸着物質が形成するパターンの少なくとも一部と、前記いずれか一つのサブスリットと隣接したサブスリットを通過して前記基板上に蒸着された前記蒸着物質が形成するパターンの少なくとも一部とが相互重畳されるように、前記サブスリットが配されうる。
本発明において、前記複数のサブスリットは、それぞれ相互平行に形成された直方形でありうる。
本発明において、同じパターニングスリットに属するいずれか一つのサブスリットを通過して前記基板上に蒸着された前記蒸着物質が形成するパターンの少なくとも一部と、前記いずれか一つのサブスリットと隣接したサブスリットを通過して前記基板上に蒸着された前記蒸着物質が形成するパターンの少なくとも一部とが相互重畳されるように、前記サブスリットが配されうる。
本発明において、前記複数のサブスリットは、それぞれ相互平行に形成された直方形でありうる。
本発明において、前記複数のサブスリットは、それぞれ相互平行に形成された複数列のホール形状でありうる。
本発明において、前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定距離離隔されて形成され、前記基板は、前記薄膜蒸着装置に対して相対的に移動自在に形成されうる。
ここで、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して相対的に移動しつつ、前記基板上に前記各薄膜蒸着装置の各蒸着物質が連続して蒸着されうる。
本発明において、前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定距離離隔されて形成され、前記基板は、前記薄膜蒸着装置に対して相対的に移動自在に形成されうる。
ここで、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して相対的に移動しつつ、前記基板上に前記各薄膜蒸着装置の各蒸着物質が連続して蒸着されうる。
ここで、前記薄膜蒸着装置と前記基板とは、前記基板で前記蒸着物質が蒸着される面と平行した面に沿って、いずれか一側が他側に対して相対的に移動できる。
本発明において、前記薄膜蒸着装置の前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されうる。
本発明において、前記蒸着源ノズルの総数より前記パターニングスリットの総数がさらに多く形成されうる。
本発明において、前記薄膜蒸着装置の前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されうる。
本発明において、前記蒸着源ノズルの総数より前記パターニングスリットの総数がさらに多く形成されうる。
他の側面による本発明は、基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って、複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を備え、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しながら蒸着が行われ、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは、一体に形成され、前記パターニングスリットは、それぞれ複数のサブスリットを備えることを特徴とする薄膜蒸着装置を提供する。
本発明において、相互隣接した前記パターニングスリット間の間隔は、同じパターニングスリットに属する相互隣接した前記サブスリット間の間隔よりさらに大きく形成されうる。
本発明において、同じパターニングスリットに属するいずれか一つのサブスリットを通過して前記基板上に蒸着された前記蒸着物質が形成するパターンの少なくとも一部と、前記いずれか一つのサブスリットと隣接したサブスリットを通過して前記基板上に蒸着された前記蒸着物質が形成するパターンの少なくとも一部とが相互重畳されるように、前記サブスリットが配されうる。
本発明において、前記複数のサブスリットは、それぞれ相互平行に形成された直方形でありうる。
本発明において、前記複数のサブスリットは、それぞれ相互平行に形成された直方形でありうる。
本発明において、前記複数のサブスリットは、それぞれ相互平行に形成された複数列のホール形状でありうる。
本発明において、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは、連結部材によって結合されて一体に形成されうる。
ここで、前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドできる。
ここで、前記連結部材は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシート間の空間を外部から密閉するように形成されうる。
本発明において、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは、連結部材によって結合されて一体に形成されうる。
ここで、前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドできる。
ここで、前記連結部材は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシート間の空間を外部から密閉するように形成されうる。
本発明において、前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定距離離隔されて形成されうる。
本発明において、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続して蒸着されうる。
本発明において、前記薄膜蒸着装置の前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されうる。
本発明において、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続して蒸着されうる。
本発明において、前記薄膜蒸着装置の前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されうる。
本発明において、前記複数の蒸着源ノズルは、所定角度チルトされて形成されうる。
ここで、前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを備え、前記２列の蒸着源ノズルは、相互対向してチルトされうる。
ここで、前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを備え、前記２列の蒸着源ノズルは、相互対向してチルトされうる。
ここで、前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを備え、前記２列の蒸着源ノズルのうち、第１側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第２側端部に対向して配され、前記２列の蒸着源ノズルのうち、第２側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第１側端部に対向して配されうる。
本発明の薄膜蒸着装置によれば、製造が容易であり、大型基板の量産工程に容易に適用でき、製造収率及び蒸着効率が向上し、蒸着物質のリサイクルが容易になりうる。
以下、添付した図面を参照して、本発明による望ましい実施例を詳細に説明すれば、次の通りである。
図１は、本発明の第１実施例による薄膜蒸着装置を概略的に示した斜視図であり、図２は、図１の薄膜蒸着装置の概略的な側面図であり、図３は、図１の薄膜蒸着装置の概略的な平面図である。
図１、図２及び図３を参照すれば、本発明の第１実施例による薄膜蒸着装置１００は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１５０を備える。
ここで、図１、図２及び図３には、説明の便宜上、チャンバを図示していないが、図１ないし図３のすべての構成は、適切な真空度が維持されるチャンバ内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。
図１、図２及び図３を参照すれば、本発明の第１実施例による薄膜蒸着装置１００は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１５０を備える。
ここで、図１、図２及び図３には、説明の便宜上、チャンバを図示していないが、図１ないし図３のすべての構成は、適切な真空度が維持されるチャンバ内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。
詳細には、蒸着源１１０から放出された蒸着物質１１５を、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１５０を通過して基板４００に所望のパターンに蒸着させるためには、基本的にチャンバ(図示せず)の内部は、ＦＭＭ蒸着方法と同じ高真空状態を維持せねばならない。また、パターニングスリットシート１５０の温度が蒸着源１１０の温度より十分に低くなければならない(約１００°Ｃ以下)。それは、パターニングスリットシート１５０の温度が十分に低くなければ、温度によるパターニングスリットシート１５０の熱膨張問題を最小化できないためである。
このようなチャンバ(図示せず)内には、被蒸着体である基板４００が配される。前記基板４００は、平板表示装置用基板となりうるが、多数の平板表示装置を形成できるマザーガラスのような大面積基板が適用されうる。
ここで、本発明の一実施例では、基板４００が薄膜蒸着装置１００に対して相対的に移動しつつ蒸着が進行されることを特徴とする。
ここで、本発明の一実施例では、基板４００が薄膜蒸着装置１００に対して相対的に移動しつつ蒸着が進行されることを特徴とする。
詳細には、既存のＦＭＭ蒸着方法では、ＦＭＭのサイズが基板のサイズと同じく形成されねばならない。したがって、基板サイズが増大するほど、ＦＭＭも大型化されねばならず、したがって、ＦＭＭの製作が容易でなく、ＦＭＭを引っ張って精密なパターンにアラインすることも容易でないという問題点が存在した。
このような問題点を解決するために、本発明の第１実施例による薄膜蒸着装置１００は、薄膜蒸着装置１００と基板４００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着されることを特徴とする。言い換えれば、薄膜蒸着装置１００と対向して配された基板４００がＹ軸方向に沿って移動しつつ連続して蒸着される。すなわち、基板４００が図１の矢印Ａ方向に移動しつつスキャニング方式で蒸着されることである。ここで、図面には、基板４００がチャンバ(図示せず)内でＹ軸方向に移動しつつ蒸着されると示されているが、本発明の思想は、これに制限されず、基板４００は、固定されており、薄膜蒸着装置１００自体がＹ軸方向に移動しつつ蒸着されることも可能である。
したがって、本発明の薄膜蒸着装置１００では、従来のＦＭＭに比べて、はるかに小さくパターニングスリットシート１５０を作りうる。すなわち、本発明の薄膜蒸着装置１００の場合、基板４００がＹ軸方向に沿って移動しつつ連続して、すなわち、スキャニング方式で蒸着するため、パターニングスリットシート１５０のＸ軸方向及びＹ軸方向の長さは、基板４００の長さよりはるかに短く形成されうる。このように、従来のＦＭＭに比べてはるかに小さくパターニングスリットシート１５０を作りうるため、本発明のパターニングスリットシート１５０は、その製造が容易である。すなわち、パターニングスリットシート１５０のエッチング作業や、それ以後の精密引張及び溶接作業、移動及び洗浄作業などのすべての工程で、小さなサイズのパターニングスリットシート１５０がＦＭＭ蒸着方法に比べて、有利である。また、これは、ディスプレイ装置が大型化されるほどさらに有利になる。
このように、薄膜蒸着装置１００と基板４００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着されるためには、薄膜蒸着装置１００と基板４００とが一定程度離隔されることが望ましい。これについては、後述する。
一方、チャンバ内で前記基板４００と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０が配される。前記蒸着源１１０内に収納されている蒸着物質１１５が気化されるにつれて、基板４００に蒸着がなされる。
詳細には、蒸着源１１０は、その内部に蒸着物質１１５が充填される坩堝１１１と、坩堝１１１を加熱させて坩堝１１１の内部に充填された蒸着物質１１５を坩堝１１１の一側、詳細には、蒸着源ノズル部１２０側に蒸発させるためのヒータ１１２と、を備える。
詳細には、蒸着源１１０は、その内部に蒸着物質１１５が充填される坩堝１１１と、坩堝１１１を加熱させて坩堝１１１の内部に充填された蒸着物質１１５を坩堝１１１の一側、詳細には、蒸着源ノズル部１２０側に蒸発させるためのヒータ１１２と、を備える。
蒸着源１１０の一側、詳細には、蒸着源１１０で基板４００に向かう側には、蒸着源ノズル部１２０が配される。そして、蒸着源ノズル部１２０には、Ｘ軸方向に沿って複数の蒸着源ノズル１２１が形成される。ここで、前記複数の蒸着源ノズル１２１は、等間隔に形成されうる。蒸着源１１０内で気化した蒸着物質１１５は、このような蒸着源ノズル部１２０を通過して、被蒸着体である基板４００側に向かう。
一方、蒸着源１１０と基板４００との間には、パターニングスリットシート１５０及びフレーム１５５がさらに備えられる。フレーム１５５は、大概窓枠のような形態に形成され、その内側にパターニングスリットシート１５０が結合される。そして、パターニングスリットシート１５０には、Ｘ軸方向に沿って複数のパターニングスリット１５１が形成される。蒸着源１１０内で気化した蒸着物質１１５は、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１５０を通過して、被蒸着体である基板４００側に向かう。この時、前記パターニングスリットシート１５０は、従来のファインメタルマスク(ＦＭＭ)、特に、ストライプタイプのマスクの製造方法と同じ方法であるエッチングを通じて製作されうる。この時、蒸着源ノズル１２１の総数よりパターニングスリット１５１の総数がさらに多く形成されうる。
ここで、本発明の第１実施例による薄膜蒸着装置１００は、複数のサブスリット１５１ａ,１５１ｂで一つのパターニングスリット１５１を構成することを特徴とする。このように、複数のサブスリット１５１ａ,１５１ｂで一つのパターニングスリット１５１を構成し、前記複数のサブスリット１５１ａ,１５１ｂを通じて形成されたパターンが相互重畳されるように、サブスリット１５１ａ,１５１ｂを配することによって、所望のパターン形状を形成することが可能になる。これについては、後述する。
一方、前述した蒸着源１１０(及び、これと結合された蒸着源ノズル部１２０)とパターニングスリットシート１５０とは、相互一定程度離隔されて形成され、蒸着源１１０(及びこれと結合された蒸着源ノズル部１２０)とパターニングスリットシート１５０とは、連結部材１３５によって相互連結されうる。
一方、前述した蒸着源１１０(及び、これと結合された蒸着源ノズル部１２０)とパターニングスリットシート１５０とは、相互一定程度離隔されて形成され、蒸着源１１０(及びこれと結合された蒸着源ノズル部１２０)とパターニングスリットシート１５０とは、連結部材１３５によって相互連結されうる。
前述したように、本発明の第１実施例による薄膜蒸着装置１００は、基板４００に対して相対的に移動しつつ蒸着を行い、このように、薄膜蒸着装置１００が基板４００に対して相対的に移動するために、パターニングスリットシート１５０は、基板４００から一定程度離隔されて形成される。そして、パターニングスリットシート１５０と基板４００とを離隔させる場合、陰影が発生してパターンの形状が所望の形態に形成されないという問題が発生する。このような問題点を解決するために、本発明の一実施例による薄膜蒸着装置１００は、複数のサブスリット１５１ａ,１５１ｂで一つのパターニングスリット１５１を構成し、前記複数のサブスリット１５１ａ,１５１ｂを通じて形成されたパターンの重畳を利用して、所望のパターン形状を形成することを特徴とする。
詳細には、従来のＦＭＭ蒸着方法では、基板に陰影が生じないようにするために、基板にマスクを密着させて蒸着工程を進行した。しかし、このように、基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触による不良問題が発生するという問題点が存在した。また、マスクを基板に対して移動させられないため、マスクが基板と同じサイズに形成されねばならない。したがって、ディスプレイ装置が大型化されるにつれて、マスクのサイズも大きくならねばならないが、このような大型マスクを形成することが容易でないという問題点が存在した。
このような問題点を解決するために、本発明の第１実施例による薄膜蒸着装置１００では、パターニングスリットシート１５０を被蒸着体である基板４００と所定間隔離隔させる。これは、複数のサブスリット１５１ａ,１５１ｂで一つのパターニングスリット１５１を構成し、前記複数のサブスリット１５１ａ,１５１ｂを通じて形成されたパターンの重畳を利用して所望のパターン形状を形成することによって実現可能になる。
このような本発明によってマスクを基板より小さく形成した後、マスクを基板に対して移動させつつ蒸着できることで、マスク製作が容易になる効果が得られる。また、基板とマスクとの接触による不良を防止する効果が得られる。また、工程で基板とマスクとを密着させる時間が不要になるため、製造速度が向上するという効果が得られる。
以下では、従来のＦＭＭ方式でのパターンの形状と、基板とパターニングスリットシートとを離隔させ、単一スリットでパターニングスリットを構成する場合と、基板とパターニングスリットシートとを離隔させ、複数のサブスリットでパターニングスリットを構成する場合のパターンの形状と、を詳細に比較する。
以下では、従来のＦＭＭ方式でのパターンの形状と、基板とパターニングスリットシートとを離隔させ、単一スリットでパターニングスリットを構成する場合と、基板とパターニングスリットシートとを離隔させ、複数のサブスリットでパターニングスリットを構成する場合のパターンの形状と、を詳細に比較する。
図４Ａに示したように、従来のＦＭＭ方式では、マスク１５０'と基板４００とが密着結合された。したがって、基板４００に陰影が発生せず、所望の形状のパターンＰＳ１が形成された。しかし、このような従来のＦＭＭ方式の場合、基板とマスクとの接触による不良問題が発生するという問題点が存在した。また、マスクを基板に対して移動させられないため、マスクが基板と同じサイズに形成されねばならないという問題点が存在した。
一方、図４Ｂに示したように、パターニングスリットが単一スリットで構成された場合、マスク１５０''を基板４００より小さく形成した後、マスク１５０''を基板４００に対して移動させつつ蒸着できることで、マスク製作が容易になり、基板とマスクとの接触による不良が防止された。しかし、この場合、マスク１５０''と基板４００とが一定程度離隔されるため、必然的に陰影が発生し、したがって、パターンＰＳ２が所望の形状に形成されないという問題点が存在する。
このような問題点を解決するために、本発明の一実施例による薄膜蒸着装置１００は、複数のサブスリット１５１ａ,１５１ｂで一つのパターニングスリット１５１を構成し、前記複数のサブスリット１５１ａ,１５１ｂを通じて形成されたパターンの重畳を利用して、所望のパターン形状を形成することを特徴とする。
すなわち、図５Ａに示したように、一つのパターニングスリット１５１は、二つのサブスリット１５１ａ,１５１ｂで構成される。言い換えれば、相互隣接したパターニングスリット１５１間の間隔は、一つのパターニングスリット１５１に属する相互隣接したサブスリット１５１ａ,１５１ｂ間の間隔よりさらに広く構成される。
すなわち、図５Ａに示したように、一つのパターニングスリット１５１は、二つのサブスリット１５１ａ,１５１ｂで構成される。言い換えれば、相互隣接したパターニングスリット１５１間の間隔は、一つのパターニングスリット１５１に属する相互隣接したサブスリット１５１ａ,１５１ｂ間の間隔よりさらに広く構成される。
このようなパターニングスリットシート１５０によって形成されたパターンの形状が、図５Ｂに示されている。すなわち、第１サブスリット１５１ａを通過して基板４００上に蒸着された蒸着物質が形成するパターンと、第２サブスリット１５１ｂを通過して基板４００上に蒸着された蒸着物質が形成するパターンとは、少なくとも一部が相互重畳されて形成される。このように重畳されたパターンは、蒸発粒子の広がり現象によって上端部が平坦になりつつ、結果的に、所定形状の単一パターンＰＳ３を形成し、これは、従来のＦＭＭ方式によって形成されたパターンＰＳ１の形状とほぼ類似した形態を有する。
図５Ｃは、複数のパターンを重畳させて新たなパターンを形成する場合の具体的な実験結果を示すグラフである。図５Ｃに示したように、相互隣接したサブスリットを通じて形成された二つのパターンＢ,Ｃが合成されて新たな形態のパターンＤが形成されうる。
一方、図５Ａ及び図５Ｂには、一つのパターニングスリット１５１が二つのサブスリット１５１ａ,１５１ｂで形成されていると示されているが、本発明の思想は、これに制限されず、パターニングスリットは、二つ以上の複数のサブスリットで構成され、サブスリットの数、サブスリット間の間隔及び各パターニングスリット間の間隔は、所望のパターン形状によって自由に選択可能である。
例えば、図６Ａに示したように、一つのパターニングスリット１５１が五つのサブスリット１５１ａ,１５１ｂ,１５１ｃ,１５１ｄ,１５１ｅで形成されることもある。すなわち、各サブスリットを通過して基板４００上に蒸着された蒸着物質が形成するパターンは、それと隣接したサブスリットを通過して基板４００上に蒸着された蒸着物質が形成するパターンと少なくとも一部が相互重畳されて形成される。このように重畳されたパターンは、蒸発粒子の広がり現象によって上端部が平坦になりつつ、結果的に、所定形状の単一パターンＰＳ４を形成し、これは、従来のＦＭＭ方式によって形成されたパターンＰＳ１の形状とほぼ類似した形態を有する。
または、図７Ａ及び図７Ｂに示されているように、パターニングスリットが多重のホール形状のサブスリットを含んで備えられることによって、四角形または所望の形状のパターンを形成することもある。
このような本発明によって、基板とマスクとが相互一定程度離隔されても、所望の形態のパターン形状を具現できることによって、マスク製作が容易になり、基板とマスクとの接触による不良が防止され、製造速度が向上する効果が得られる。
図８は、本発明の蒸着装置を利用して製造されたアクティブマトリックス型有機発光ディスプレイ装置の断面を示した図面である。
このような本発明によって、基板とマスクとが相互一定程度離隔されても、所望の形態のパターン形状を具現できることによって、マスク製作が容易になり、基板とマスクとの接触による不良が防止され、製造速度が向上する効果が得られる。
図８は、本発明の蒸着装置を利用して製造されたアクティブマトリックス型有機発光ディスプレイ装置の断面を示した図面である。
図８に示したように、ガラス材またはプラスチック材の基板５０上にバッファ層５１が形成されており、この上に薄膜トランジスタ(ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ)と、有機電界発光素子(ＯＬＥＤ：Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ)が形成される。
基板５０のバッファ層５１上に所定パターンの活性層５２が備えられる。活性層５２の上部には、ゲート絶縁膜５３が備えられ、ゲート絶縁膜５３の上部の所定領域には、ゲート電極５４が形成される。ゲート電極５４は、薄膜トランジスタのオン/オフ信号を印加するゲートライン(図示せず)と連結されている。ゲート電極５４の上部には、層間絶縁膜５５が形成され、コンタクトホールを通じてソース/ドレイン電極５６,５７がそれぞれ活性層５２のソース/ドレイン領域５２ｂ,５２ｃに接して形成される。ソース/ドレイン電極５６,５７の上部には、ＳｉＯ２、ＳｉＮＸで形成されたパッシベーション膜５８が形成され、パッシベーション膜５８の上部には、アクリル、ポリイミド、ＢＣＢ(ＢｅｎｚｏＣｙｃｌｏＢｕｔｅｎｅ)などの有機物質で平坦化膜５９が形成されている。平坦化膜５９の上部にＯＬＥＤのアノード電極となる画素電極６１が形成され、これを覆うように、有機物で画素定義膜６０が形成される。画素定義膜６０に所定の開口を形成した後、画素定義膜６０の上部及び開口が形成されて外部に露出された画素電極６１の上部に有機膜６２を形成する。有機膜６２は、発光層を備える。本発明は、必ずしもこのような構造に限定されるものではなく、多様な有機発光ディスプレイ装置の構造がそのまま適用されうる。
ＯＬＥＤは、電流の流れによって赤、緑、青色の光を発光して所定の画像情報を表示するものであって、薄膜トランジスタのドレイン電極５６に連結されて、これからプラス(＋)電源を供給される画素電極６１と、全体画素を覆うように備えられて、マイナス（−）電源を供給する対向電極６３と、これらの画素電極６１と対向電極６３との間に配されて発光する有機膜６２と、で構成される。
画素電極６１と対向電極６３とは、有機膜６２によって互いに絶縁されており、有機膜６２に相異なる極性の電圧を加えて有機膜６２から発光させる。
有機膜６２は、低分子または高分子有機膜が使われうるが、低分子有機膜を使用する場合、ホール注入層(ＨＩＬ：Ｈｏｌｅ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ)、ホール輸送層(ＨＴＬ：Ｈｏｌｅ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ)、発光層(ＥＭＬ：Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｌａｙｅｒ)、電子輸送層(ＥＴＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ)、電子注入層(ＥＩＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ)が単一あるいは複合の構造で積層されて形成され、使用可能な有機材料も銅フタロシアニン(ＣｕＰｃ)、Ｎ,Ｎ−ジ(ナフタレン−１−イル)−Ｎ,Ｎ'−ジフェニル−ベンジジン(ＮＰＢ)、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム(Ａｌｑ３)をはじめとして多様に適用可能である。これらの低分子有機膜は、真空蒸着の方法で形成される。
有機膜６２は、低分子または高分子有機膜が使われうるが、低分子有機膜を使用する場合、ホール注入層(ＨＩＬ：Ｈｏｌｅ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ)、ホール輸送層(ＨＴＬ：Ｈｏｌｅ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ)、発光層(ＥＭＬ：Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｌａｙｅｒ)、電子輸送層(ＥＴＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ)、電子注入層(ＥＩＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ)が単一あるいは複合の構造で積層されて形成され、使用可能な有機材料も銅フタロシアニン(ＣｕＰｃ)、Ｎ,Ｎ−ジ(ナフタレン−１−イル)−Ｎ,Ｎ'−ジフェニル−ベンジジン(ＮＰＢ)、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム(Ａｌｑ３)をはじめとして多様に適用可能である。これらの低分子有機膜は、真空蒸着の方法で形成される。
高分子有機膜の場合には、大概ＨＴＬ及びＥＭＬで備えられた構造を有し、この時、ＨＴＬとしてＰＥＤＯＴ（Ｐｏｌｙ(３,４−Ｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ)）を使用し、発光層としてＰＰＶ(Ｐｏｌｙ−Ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ Ｖｉｎｙｌｅｎｅ)系及びポリフルオレン系などの高分子有機物質を使用し、これをスクリーン印刷やインクジェット印刷方法で形成できる。
このような有機膜は、必ずしもこれに限定されず、多様な実施例が適用されうる。
画素電極６１は、アノード電極の機能を行い、対向電極６３は、カソード電極の機能を行うが、もちろん、これらの画素電極６１と対向電極６３との極性は、逆になっても構わない。
画素電極６１は、透明電極または反射型電極で備えられうるが、透明電極として使われる時には、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３で備えられ、反射型電極として使われる時には、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、及びこれらの化合物で反射膜を形成した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３を形成できる。
画素電極６１は、アノード電極の機能を行い、対向電極６３は、カソード電極の機能を行うが、もちろん、これらの画素電極６１と対向電極６３との極性は、逆になっても構わない。
画素電極６１は、透明電極または反射型電極で備えられうるが、透明電極として使われる時には、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３で備えられ、反射型電極として使われる時には、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、及びこれらの化合物で反射膜を形成した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３を形成できる。
一方、対向電極６３も透明電極または反射型電極で備えられうるが、透明電極として使われる時には、対向電極６３がカソード電極として使われるので、仕事関数の小さい金属、すなわち、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、及びこれらの化合物を有機膜６２の方向に蒸着した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３などの透明電極形成用物質で補助電極層やバス電極ラインを形成できる。そして、反射型電極として使われる時には、前記のＬｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、及びこれらの化合物を前面蒸着して形成する。
このような有機発光ディスプレイ装置において、発光層を備える有機膜６２は、前述した薄膜蒸着装置１００(図１を参照)によって形成されうる。本発明は、これ以外にも、有機ＴＦＴの有機膜または無期膜の蒸着にも使用でき、その他、多様な素材の成膜工程に適用可能である。
図９は、本発明の第２実施例による薄膜蒸着装置を概略的に示した斜視図であり、図１０は、図９の薄膜蒸着装置の概略的な側面図であり、図１１は、図９の薄膜蒸着装置の概略的な平面図である。
図９、図１０及び図１１を参照すれば、本発明の第２実施例に関する薄膜蒸着装置９００は、蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０を備える。
図９、図１０及び図１１を参照すれば、本発明の第２実施例に関する薄膜蒸着装置９００は、蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０を備える。
ここで、図９、図１０及び図１１には、説明の便宜上、チャンバを示していないが、図９ないし図１１のすべての構成は、適切な真空度が維持されるチャンバ内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。
詳細には、蒸着源９１０から放出された蒸着物質９１５を蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０を通過して基板４００に所望のパターンに蒸着させるためには、基本的に、チャンバ(図示せず)の内部は、ＦＭＭ蒸着方法と同じ高真空状態を維持せねばならない。また、パターニングスリットシート９５０の温度が蒸着源９１０の温度より十分に低くなければ(約１００°Ｃ以下)ならない。それは、パターニングスリットシート９５０の温度が十分に低くなければ、温度によるパターニングスリットシート９５０の熱膨張問題を最小化できないためである。
このようなチャンバ(図示せず)内には、被蒸着体である基板４００が配される。前記基板４００は、平板表示装置用基板となりうるが、多数の平板表示装置を形成できるマザーガラスのような大面積基板が適用されうる。
ここで、本発明の一実施例では、基板４００が薄膜蒸着装置９００に対して相対的に移動しつつ蒸着が進行されることを一特徴とする。
詳細には、既存のＦＭＭ蒸着方法では、ＦＭＭサイズが基板サイズと同じく形成されなければならない。したがって、基板サイズが増大するほど、ＦＭＭも大型化されなければならず、これにより、ＦＭＭの製作が容易でなく、ＦＭＭを引張して精密なパターンにアラインすることも容易でないという問題点が存在した。
ここで、本発明の一実施例では、基板４００が薄膜蒸着装置９００に対して相対的に移動しつつ蒸着が進行されることを一特徴とする。
詳細には、既存のＦＭＭ蒸着方法では、ＦＭＭサイズが基板サイズと同じく形成されなければならない。したがって、基板サイズが増大するほど、ＦＭＭも大型化されなければならず、これにより、ＦＭＭの製作が容易でなく、ＦＭＭを引張して精密なパターンにアラインすることも容易でないという問題点が存在した。
このような問題点を解決するために、本発明の一実施例に関する薄膜蒸着装置９００は、薄膜蒸着装置９００と基板４００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着されることを一特徴とする。言い換えれば、薄膜蒸着装置９００と対向して配された基板４００がＹ軸方向に沿って移動しつつ連続して蒸着する。すなわち、基板４００が図９の矢印Ａ方向に移動しつつスキャニング方式で蒸着される。ここで、図面には、基板４００がチャンバ(図示せず)内でＹ軸方向に移動しつつ蒸着されると示されているが、本発明の思想は、これに制限されず、基板４００は、固定されており、薄膜蒸着装置９００自体がＹ軸方向に移動しつつ蒸着することも可能である。
したがって、本発明の薄膜蒸着装置９００では、従来のＦＭＭに比べて、はるかに小さくパターニングスリットシート９５０を作りうる。すなわち、本発明の薄膜蒸着装置９００の場合、基板４００がＹ軸方向に沿って移動しつつ連続して、すなわち、スキャニング方式で蒸着するため、パターニングスリットシート９５０のＸ軸方向及びＹ軸方向の長さは、基板４００の長さよりはるかに短く形成されうる。このように、従来のＦＭＭに比べて、はるかに小さくパターニングスリットシート９５０を作りうるため、本発明のパターニングスリットシート９５０は、その製造が容易である。すなわち、パターニングスリットシート９５０のエッチング作業や、その以後の精密引張及び溶接作業、移動及び洗浄作業などのすべての工程で、小さなサイズのパターニングスリットシート９５０がＦＭＭ蒸着方法に比べて有利である。また、これは、ディスプレイ装置が大型化されるほどさらに有利になる。
このように、薄膜蒸着装置９００と基板４００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着されるためには、薄膜蒸着装置９００と基板４００とが一定程度離隔されることが望ましい。これについては、後で詳細に記述する。
一方、チャンバ内で前記基板４００と対向する側には、蒸着物質９１５が収納及び加熱される蒸着源９１０が配される。前記蒸着源９１０内に収納されている蒸着物質９１５の気化によって、基板４００に蒸着される。
詳細には、蒸着源９１０は、その内部に蒸着物質９１５が充填される坩堝９１１と、坩堝９１１を加熱させて坩堝９１１の内部に充填された蒸着物質９１５を坩堝９１１の一側、詳細には、蒸着源ノズル部９２０側に蒸発させるためのヒータ９１２と、を備える。
詳細には、蒸着源９１０は、その内部に蒸着物質９１５が充填される坩堝９１１と、坩堝９１１を加熱させて坩堝９１１の内部に充填された蒸着物質９１５を坩堝９１１の一側、詳細には、蒸着源ノズル部９２０側に蒸発させるためのヒータ９１２と、を備える。
蒸着源９１０の一側、詳細には、蒸着源９１０から基板４００に向かう側には、蒸着源ノズル部９２０が配される。そして、蒸着源ノズル部９２０には、Ｙ軸方向、すなわち、基板４００のスキャン方向に沿って複数の蒸着源ノズル９２１が形成される。ここで、前記複数の蒸着源ノズル９２１は、等間隔で形成されうる。蒸着源９１０内で気化した蒸着物質９１５は、このような蒸着源ノズル部９２０を通過して被蒸着体である基板４００方向に向かう。このように、蒸着源ノズル部９２０上にＹ軸方向、すなわち、基板４００のスキャン方向に沿って複数の蒸着源ノズル９２１が形成される場合、パターニングスリットシート９５０のそれぞれのパターニングスリット９５１を通過する蒸着物質によって形成されるパターンのサイズは、一つの蒸着源ノズル９２１のサイズにのみ影響を受けるので(すなわち、Ｘ軸方向には、蒸着源ノズル９２１が一つだけ存在するので)、陰影が発生しなくなる。また、複数の蒸着源ノズル９２１がスキャン方向に存在するので、個別蒸着源ノズル間フラックス(ｆｌｕｘ)差が発生しても、その差が相殺されて蒸着均一度が一定に維持される効果が得られる。
一方、蒸着源９１０と基板４００との間には、パターニングスリットシート９５０及びフレーム９５５がさらに備えられる。フレーム９５５は、大体窓枠組のような形態で形成され、その内側にパターニングスリットシート９５０が結合される。そして、パターニングスリットシート９５０には、Ｘ軸方向に沿って複数のパターニングスリット９５１が形成される。蒸着源９１０内で気化した蒸着物質９１５は、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０を通過して、被蒸着体である基板４００方向に向かう。この時、前記パターニングスリットシート９５０は、従来のＦＭＭ、特に、ストライプタイプのマスクの製造方法と同じ方法のエッチングを通じて製作されうる。この時、蒸着源ノズル９２１の総数よりパターニングスリット９５１の総数がさらに多く形成されうる。
一方、前述した蒸着源９１０、これと結合された蒸着源ノズル部９２０、及びパターニングスリットシート９５０は、互いに一定程度離隔されて形成され、蒸着源９１０、これと結合された蒸着源ノズル部９２０、及びパターニングスリットシート９５０は、連結部材９３５によって相互連結されうる。すなわち、蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０が連結部材９３５によって連結されて相互一体に形成されうる。ここで、連結部材９３５は、蒸着源ノズル９２１を通じて排出される蒸着物質が分散されないように、蒸着物質の移動経路をガイドできる。図面には、連結部材９３５が蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０の左右方向に形成されて蒸着物質のＸ軸方向のみをガイドすると示されているが、これは、図示の便宜のためのものであり、本発明の思想は、これに制限されず、連結部材９３５がボックス状の密閉型に形成されて、蒸着物質のＸ軸方向及びＹ軸方向の移動を同時にガイドすることもある。
前述したように、本発明の一実施例に関する薄膜蒸着装置９００は、基板４００に対して相対的に移動しつつ蒸着し、このように、薄膜蒸着装置９００が基板４００に対して相対的に移動するために、パターニングスリットシート９５０は、基板４００から一定程度離隔されて形成される。
詳細には、従来のＦＭＭ蒸着方法では、基板に陰影を発生させないために、基板にマスクを密着させて蒸着工程を進行した。しかし、このように、基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触による不良問題が発生するという問題点が存在した。また、マスクを基板に対して移動させられないため、マスクが基板と同じサイズに形成されねばならない。したがって、ディスプレイ装置の大型化によって、マスクのサイズも大きくならねばならないが、このような大型マスクを形成することが容易でないという問題点が存在した。
このような問題点を解決するために、本発明の一実施例に関する薄膜蒸着装置９００では、パターニングスリットシート９５０を被蒸着体である基板４００と所定間隔離隔して配させる。
このような本発明によって、マスクを基板より小さく形成した後、マスクを基板に対して移動させつつ蒸着することによって、マスク製作が容易になる効果が得られる。また、基板とマスクとの接触による不良を防止する効果が得られる。また、工程で基板とマスクとを密着させる時間が不要になるため、製造速度が向上する効果が得られる。
このような本発明によって、マスクを基板より小さく形成した後、マスクを基板に対して移動させつつ蒸着することによって、マスク製作が容易になる効果が得られる。また、基板とマスクとの接触による不良を防止する効果が得られる。また、工程で基板とマスクとを密着させる時間が不要になるため、製造速度が向上する効果が得られる。
ここで、本発明の第２実施例による薄膜蒸着装置９００は、複数のサブスリット９５１ａ,９５１ｂで一つのパターニングスリット９５１を構成することを一特徴とする。このように、複数のサブスリット９５１ａ,９５１ｂで一つのパターニングスリット９５１を構成し、前記複数のサブスリット９５１ａ,９５１ｂを通じて形成されたパターンが相互重畳されるようにサブスリット９５１ａ,９５１ｂを配することによって、所望のパターン形状を形成することが可能になる。これについては、第１実施例で詳細に説明したので、本実施例では、その詳細な説明は省略する。
図１２は、本発明の第３実施例による薄膜蒸着装置を示す図面である。図面を参照すれば、本発明の第３実施例による薄膜蒸着装置は、蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０を備える。ここで、蒸着源９１０は、その内部に蒸着物質９１５が充填される坩堝９１１と、坩堝９１１を加熱させて坩堝９１１の内部に充填された蒸着物質９１５を蒸着源ノズル部９２０側に蒸発させるためのヒータ９１２と、を備える。一方、蒸着源９１０の一側には、蒸着源ノズル部９２０が配され、蒸着源ノズル部９２０には、Ｙ軸方向に沿って複数の蒸着源ノズル９２１が形成される。一方、蒸着源９１０と基板４００との間には、パターニングスリットシート９５０及びフレーム９５５がさらに備えられ、パターニングスリットシート９５０には、Ｘ軸方向に沿って複数のパターニングスリット９５１が形成される。そして、蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０、及びパターニングスリットシート９５０は、連結部材９３５によって結合される。
本実施例では、蒸着源ノズル部９２０に形成された複数の蒸着源ノズル９２１が所定角度チルトされて配されるという点で、前述した第２実施例と区別される。詳細には、蒸着源ノズル９２１は、二列の蒸着源ノズル９２１ａ,９２１ｂで形成され、前記二列の蒸着源ノズル９２１ａ,９２１ｂは、交互して配される。この時、蒸着源ノズル９２１ａ,９２１ｂは、ＸＺ平面上で所定角度に傾斜するようにチルトされて形成されうる。
本実施例では、蒸着源ノズル部９２０に形成された複数の蒸着源ノズル９２１が所定角度チルトされて配されるという点で、前述した第２実施例と区別される。詳細には、蒸着源ノズル９２１は、二列の蒸着源ノズル９２１ａ,９２１ｂで形成され、前記二列の蒸着源ノズル９２１ａ,９２１ｂは、交互して配される。この時、蒸着源ノズル９２１ａ,９２１ｂは、ＸＺ平面上で所定角度に傾斜するようにチルトされて形成されうる。
すなわち、本実施例では、蒸着源ノズル９２１ａ,９２１ｂを所定角度チルトして配させる。ここで、第１列の蒸着源ノズル９２１ａは、第２列の蒸着源ノズル９２１ｂに対向してチルトされ、第２列の蒸着源ノズル９２１ｂは、第１列の蒸着源ノズル９２１ａに対向してチルトされうる。言い換えれば、左側列に配された蒸着源ノズル９２１ａは、パターニングスリットシート９５０の右側端部に対向して配され、右側列に配された蒸着源ノズル９２１ｂは、パターニングスリットシート９５０の左側端部に対向して配されうる。
図１３は、本発明による薄膜蒸着装置で蒸着源ノズルをチルトさせなかった時、基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す図面であり、図１４は、本発明による薄膜蒸着装置で蒸着源ノズルをチルトさせた時、基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す図面である。図１３と図１４とを比較すれば、蒸着源ノズルをチルトさせた時、基板の両端部に成膜される蒸着膜の厚さが相対的に増加して、蒸着膜の均一度が上昇することが分かる。
このような構成によって、基板の中央及び終端部における成膜の厚さ差が減少して全体的な蒸着物質の厚さが均一になるように蒸着量を制御でき、さらには、材料利用効率が上昇する効果が得られる。
ここで、本発明の第３実施例による薄膜蒸着装置９００は、基板４００と共に移動し、基板４００の非成膜領域４０１,４０２を分類して配される遮断部材９６１,９６２をさらに備え、基板４００の非成膜領域４０１,４０２に有機物が蒸着される現象を防止することを一特徴とする。これについては、第１実施例で詳細に説明したので、本実施例では、その詳細な説明は省略する。
ここで、本発明の第３実施例による薄膜蒸着装置９００は、基板４００と共に移動し、基板４００の非成膜領域４０１,４０２を分類して配される遮断部材９６１,９６２をさらに備え、基板４００の非成膜領域４０１,４０２に有機物が蒸着される現象を防止することを一特徴とする。これについては、第１実施例で詳細に説明したので、本実施例では、その詳細な説明は省略する。
本発明は、図面に示された実施例を参照して説明されたが、これは、例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施例が可能であるということが分かるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決定されなければならない。
本発明は、薄膜蒸着装置関連の技術分野に好適に利用可能である。
１００ 薄膜蒸着装置
１１０ 蒸着源
１２０ 蒸着源ノズル部
１５０ パターニングスリットシート
１５１ パターニングスリット
１５５ フレーム
１１０ 蒸着源
１２０ 蒸着源ノズル部
１５０ パターニングスリットシート
１５１ パターニングスリット
１５５ フレーム
Claims (19)
- 基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を備え、
前記パターニングスリットは、それぞれ複数のサブスリットを備え、
相互隣接した前記パターニングスリット間の間隔は、一つの前記パターニングスリットに属する相互隣接したサブスリット間の間隔よりさらに広く形成され、
同じ前記パターニングスリットに属するいずれか一つの前記サブスリットを通過して前記基板上に蒸着された前記蒸着物質が形成するパターンの少なくとも一部と、前記いずれか一つのサブスリットと隣接したサブスリットを通過して前記基板上に蒸着された前記蒸着物質が形成するパターンの少なくとも一部とが相互重畳されるように、前記サブスリットが配されることを特徴とする薄膜蒸着装置。 - 前記複数のサブスリットは、それぞれ相互平行に形成された長方形であることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記複数のサブスリットは、それぞれ相互平行に形成された複数列のホール形状であることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定距離離隔されて形成され、
前記基板は、前記薄膜蒸着装置に対して相対的に移動自在に形成されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。 - 前記薄膜蒸着装置と前記基板とは、前記基板で前記蒸着物質が蒸着される面と平行した面に沿っていずれか一側が他側に対して相対的に移動することを特徴とする請求項３に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記薄膜蒸着装置の前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記蒸着源ノズルの総数より前記パターニングスリットの総数がさらに多いことを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
- 基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を備え、
前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは、一体に形成され、
前記パターニングスリットは、それぞれ複数のサブスリットを備え、
相互隣接した前記パターニングスリット間の間隔は、一つの前記パターニングスリットに属する相互隣接したサブスリット間の間隔よりさらに広く形成され、
同じ前記パターニングスリットに属するいずれか一つの前記サブスリットを通過して前記基板上に蒸着された前記蒸着物質が形成するパターンの少なくとも一部と、前記いずれか一つのサブスリットと隣接したサブスリットを通過して前記基板上に蒸着された前記蒸着物質が形成するパターンの少なくとも一部とが相互重畳されるように、前記サブスリットが配されることを特徴とする薄膜蒸着装置。 - 前記複数のサブスリットは、それぞれ相互平行に形成された長方形であることを特徴とする請求項８に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記複数のサブスリットは、それぞれ相互平行に形成された複数列のホール形状であることを特徴とする請求項８に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部、及び前記パターニングスリットシートは、連結部材によって結合されて一体に形成されることを特徴とする請求項８に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドすることを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記連結部材は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部、及び前記パターニングスリットシート間の空間を外部から密閉するように形成されることを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定距離離隔されて形成されることを特徴とする請求項８に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記基板は、前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続して蒸着されることを特徴とする請求項８に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記薄膜蒸着装置の前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されることを特徴とする請求項８に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記複数の蒸着源ノズルは、所定角度傾斜するように形成されることを特徴とする請求項８に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された二列の蒸着源ノズルを備え、前記二列の蒸着源ノズルは、相互対向して互いに対向する蒸発源ノズルの方向に所定角度傾斜していることを特徴とする請求項１７に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された二列の蒸着源ノズルを備え、
前記二列の蒸着源ノズルのうち、第１側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第２側端部に対向して配され、
前記二列の蒸着源ノズルのうち、第２側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第１側端部に対向して配されることを特徴とする請求項１７に記載の薄膜蒸着装置。
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