JP5337010B2 - 半導体集積回路 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title abstract description 31
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 claims 6
- 230000037361 pathway Effects 0.000 abstract 1
- 101000663003 Homo sapiens Non-receptor tyrosine-protein kinase TNK1 Proteins 0.000 description 34
- 102100037669 Non-receptor tyrosine-protein kinase TNK1 Human genes 0.000 description 34
- 102100036409 Activated CDC42 kinase 1 Human genes 0.000 description 33
- 101000928956 Homo sapiens Activated CDC42 kinase 1 Proteins 0.000 description 33
- 101100046502 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) TNA1 gene Proteins 0.000 description 31
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 27
- 101000801701 Homo sapiens Tropomyosin alpha-1 chain Proteins 0.000 description 25
- 102100033632 Tropomyosin alpha-1 chain Human genes 0.000 description 25
- 101100046504 Symbiobacterium thermophilum (strain T / IAM 14863) tnaA2 gene Proteins 0.000 description 21
- 101000851892 Homo sapiens Tropomyosin beta chain Proteins 0.000 description 17
- 102100036471 Tropomyosin beta chain Human genes 0.000 description 17
- 102100037495 Thiamin pyrophosphokinase 1 Human genes 0.000 description 14
- 101710203399 Thiamin pyrophosphokinase 1 Proteins 0.000 description 14
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 13
- 102100020746 Dolichol-phosphate mannosyltransferase subunit 1 Human genes 0.000 description 11
- 101000932202 Homo sapiens Dolichol-phosphate mannosyltransferase subunit 1 Proteins 0.000 description 11
- 101150038925 TPK2 gene Proteins 0.000 description 11
- 101100260895 Mus musculus Tnnc2 gene Proteins 0.000 description 10
- 101150093825 TPK3 gene Proteins 0.000 description 10
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 3
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/08—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
- H01L27/085—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
- H01L27/088—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
- H01L27/092—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate complementary MIS field-effect transistors
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03F—AMPLIFIERS
- H03F3/00—Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
- H03F3/30—Single-ended push-pull [SEPP] amplifiers; Phase-splitters therefor
- H03F3/3001—Single-ended push-pull [SEPP] amplifiers; Phase-splitters therefor with field-effect transistors
- H03F3/3022—CMOS common source output SEPP amplifiers
- H03F3/3028—CMOS common source output SEPP amplifiers with symmetrical driving of the end stage
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03F—AMPLIFIERS
- H03F3/00—Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
- H03F3/45—Differential amplifiers
- H03F3/45071—Differential amplifiers with semiconductor devices only
- H03F3/45076—Differential amplifiers with semiconductor devices only characterised by the way of implementation of the active amplifying circuit in the differential amplifier
- H03F3/45179—Differential amplifiers with semiconductor devices only characterised by the way of implementation of the active amplifying circuit in the differential amplifier using MOSFET transistors as the active amplifying circuit
- H03F3/45183—Long tailed pairs
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03F—AMPLIFIERS
- H03F2200/00—Indexing scheme relating to amplifiers
- H03F2200/411—Indexing scheme relating to amplifiers the output amplifying stage of an amplifier comprising two power stages
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03F—AMPLIFIERS
- H03F2203/00—Indexing scheme relating to amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements covered by H03F3/00
- H03F2203/45—Indexing scheme relating to differential amplifiers
- H03F2203/45511—Indexing scheme relating to differential amplifiers the feedback circuit [FBC] comprising one or more transistor stages, e.g. cascaded stages of the dif amp, and being coupled between the loading circuit [LC] and the input circuit [IC]
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Description
図1は、本発明の半導体集積回路上に設けられる外部入力信号受信回路(Input Receiver)の第1の実施形態に係る構成を示す回路図である。図1の外部入力信号受信回路は、カレントミラー型差動増幅器1-1 と、カレントミラー型差動増幅器1-1 の出力信号を波形整形する次段のインバータ1-2 とから構成されている。
図1の外部入力信号受信回路では、キックトランジスタであるNMOSトランジスタTNK1のゲート端子をカレントミラー型差動増幅器1-1 の信号出力ノードに接続し、NMOSトランジスタTNK1のゲートを出力信号OUTnによって駆動している。カレントミラー型差動増幅器1-1 の信号出力ノードにはインバータ1-2 が接続されており、インバータ1-2 を構成するPMOS及びNMOSトランジスタTP11,TN11として素子サイズが大きなものが使用される。従って、カレントミラー型差動増幅器1-1 の信号出力ノードには大きな負荷容量が存在している。このため、カレントミラー型差動増幅器1-1 の信号出力ノード(出力信号OUTn)の電位を上昇させる際に、大きな負荷容量の影響により信号出力ノードの電位上昇が抑制され、NMOSトランジスタTNK1を速くオンさせられなくなる場合がある。本実施形態はこの点を改善したものである。
一般に、MOSトランジスタの駆動力はトランジスタ幅(チャネル幅W)に比例するので、(1)式を満足するためには、PMOSトランジスタTPM1,TPM2A ,TPM2B のトランジスタ幅WPM1,WPM2A ,WPM2B には以下の関係が必要になる。
また、本実施形態の外部入力信号受信回路は、差動対を構成する一方のNMOSトランジスタTNA2を2個のNMOSトランジスタTNA2A ,TNA2B に分割したものであり、カレントミラー回路の特性上、NMOSトランジスタTNA1,TNA2A ,TNA2B の駆動力DNA1 ,DNA2A,DNA2Bには以下の関係が必要になる。
先と同様に、MOSトランジスタの駆動力はトランジスタ幅(チャネル幅W)に比例するので、(3)式を満足するためには、NMOSトランジスタTNA1,TNA2A ,TNA2B のトランジスタ幅WNA1,WNA2A ,WNA2B には以下の関係が必要になる。
図4は、図3に示す外部入力信号受信回路の要部の電位変化を示す波形図であり、外部入力信号IN、カレントミラー型差動増幅器2-1 の出力信号OUTn、インバータ2-2 の出力信号OUTpと共にノードGP、COM 、FBの電位及び固定電位VREFを併せて示している。外部入力信号INは一般的には外部I/O 電圧の間をフルスウィングせず、図4は内部電源電圧VDD が外部I/O 電圧よりも大きい場合の例を示している。
DPM2B /DPM1=DNA2B /DNA1 … … (6)
具体的には、例えば、PMOSトランジスタTPM1の駆動力を1としたときにPMOSトランジスタTPM2A の駆動力を0.6とすると、NMOSトランジスタTNA1の駆動力を1としたときにNMOSトランジスタTNA2A の駆動力を0.6に設定し、かつPMOSトランジスタTPM1の駆動力を1としたときにPMOSトランジスタTPM2B の駆動力を0.4とすると、NMOSトランジスタTNA1の駆動力を1としたときにNMOSトランジスタTNA2B の駆動力を0.4に設定すればよい。
第1の実施形態の外部入力信号受信回路では、キックトランジスタであるNMOSトランジスタTNK2のソース端子をノードCOM に接続する場合を説明した。この場合、NMOSトランジスタTNK1,TNK2を直列に介してノードGP、COM 間に流れる電流の値は、定電流源回路であるNMOSトランジスタTNCSのゲート端子に入力されるバイアス電圧IREFによって決定される。しかし、場合によっては、NMOSトランジスタTNK1,TNK2に流れる電流の値をNMOSトランジスタTNCSとは独立して制御する必要がある。
図6は、本発明の半導体集積回路上に設けられる外部入力信号受信回路の第4の実施形態に係る構成を示す回路図である。本実施形態の外部入力信号受信回路は、カレントミラー型差動増幅器4-1 と、カレントミラー型差動増幅器4-1 の出力信号を波形整形する次段のインバータ4-2 とから構成されている。
図7は、本発明の半導体集積回路上に設けられる外部入力信号受信回路の第5の実施形態に係る構成を示す回路図である。本実施形態の外部入力信号受信回路は、カレントミラー型差動増幅器5-1 と、カレントミラー型差動増幅器5-1 の出力信号を波形整形する次段のインバータ5-2 とから構成されている。
図8は、本発明の半導体集積回路上に設けられる外部入力信号受信回路の第6の実施形態に係る構成を示す回路図である。本実施形態の外部入力信号受信回路は、カレントミラー型差動増幅器6-1 と、カレントミラー型差動増幅器6-1 の出力信号を波形整形する次段のインバータ6-2 とから構成されている。
一般に、MOSトランジスタの駆動力はトランジスタ幅(チャネル幅W)に比例するので、(7)式を満足するためには、PMOSトランジスタTPM1,TPM2A ,TPM2B ,TPM2C のトランジスタ幅WPM1,WPM2A ,WPM2B ,WPM2C には以下の関係が必要になる。
また、本実施形態の外部入力信号受信回路は、差動対を構成する一方のNMOSトランジスタTNA2を3個のNMOSトランジスタTNA2A ,TNA2B ,TNA2C に分割したものであり、カレントミラー回路の特性上、NMOSトランジスタTNA1,TNA2A ,TNA2B ,TNA2C の駆動力DNA1 ,DNA2A,DNA2B,DNA2C には以下の関係が必要になる。
先と同様に、MOSトランジスタの駆動力はトランジスタ幅(チャネル幅W)に比例するので、(9)式を満足するためには、NMOSトランジスタTNA1,TNA2A ,TNA2B ,TNA2C のトランジスタ幅WNA1,WNA2A ,WNA2B ,WNA2C には以下の関係が必要になる。
また、PMOSトランジスタTPM1に対するPMOSトランジスタTPM2A の駆動力の比とNMOSトランジスタTNA1に対するNMOSトランジスタTNA2A の駆動力の比を等しくし、PMOSトランジスタTPM1に対するPMOSトランジスタTPM2B の駆動力の比とNMOSトランジスタTNA1に対するNMOSトランジスタTNA2B の駆動力の比を等しくし、かつPMOSトランジスタTPM1に対するPMOSトランジスタTPM2C の駆動力の比とNMOSトランジスタTNA1に対するNMOSトランジスタTNA2C の駆動力の比を等しくすると、カレントミラー回路の動作点のずれがなくなるため、ヒステリシスを持たない綺麗な回路特性が得られて好ましい。すなわち、PMOSトランジスタTPM1,TPM2A ,TPM2B ,TPM2C の駆動力DPM1,DPM2A ,DPM2B ,DPM2C 及びNMOSトランジスタTNA1,TNA2A ,TNA2B ,TNA2C の駆動力DNA1,DNA2A ,DNA2B ,DNA2C には以下の関係が必要になる。
DPM2B /DPM1=DNA2B /DNA1 … … (12)
DPM2C /DPM1=DNA2C /DNA1 … … (13)
図9は、本実施形態の外部入力信号受信回路の要部の電位変化を示す波形図であり、外部入力信号IN、カレントミラー型差動増幅器6-1 の出力信号OUTn、インバータ6-2 の出力信号OUTpと共にノードGP、COM の電位、PMOSトランジスタTPM2B ,TPM2C のドレイン端子のノードであるノードFBN ,FBP の電位及び固定電位VREFを併せて示している。外部入力信号INは一般的には外部I/O 電圧の間をフルスウィングせず、図9は内部電源電圧VDD が外部I/O 電圧よりも大きい場合の例を示している。
Claims (5)
- ソース端子が第1の電源ノードに接続され、ゲート端子及びドレイン端子が第1のノードに接続された第1チャネルの第1のトランジスタと、
ソース端子が前記第1の電源ノードに接続され、ドレイン端子が信号出力ノードに接続され、ゲート端子が前記第1のノードに接続され、前記第1のトランジスタと共にカレントミラー回路を構成する第1チャネルの第2のトランジスタと、
ドレイン端子が前記第1のトランジスタのドレイン端子に接続され、ゲート端子に第1の外部信号が入力される第2チャネルの第3のトランジスタと、
ドレイン端子が前記信号出力端子に接続され、ソース端子が前記第3のトランジスタのソース端子に接続され、ゲート端子に第2の外部信号が入力され、前記第3のトランジスタと共に差動対を構成する第2チャネルの第4のトランジスタと、
一端が前記第3及び第4のトランジスタのソース端子に接続され、他端が第2の電源ノードに接続された第1の定電流源回路と、
ソース端子とドレイン端子の間の電流通路が前記第1のノードと前記第1の定電流源回路の一端との間に挿入され、ゲート端子が前記信号出力ノードに接続された第2チャネルの第5のトランジスタと、
ソース端子とドレイン端子の間の電流通路が前記第5のトランジスタのソース端子とドレイン端子の間の電流通路に対して直列に挿入され、前記信号出力ノードに得られる信号とは逆の論理の信号であって前記信号出力ノードに得られる信号よりも遅延した信号がゲート端子に入力される第2チャネルの第6のトランジスタ
とを具備することを特徴とする半導体集積回路。 - ソース端子が第1の電源ノードに接続され、ゲート端子及びドレイン端子が第1のノードに接続された第1チャネルの第1のトランジスタと、
ソース端子が前記第1の電源ノードに接続され、ドレイン端子が信号出力ノードに接続され、ゲート端子が前記第1のノードに接続され、前記第1のトランジスタと共にカレントミラー回路を構成する第1チャネルの第2のトランジスタと、
ドレイン端子が前記第1のトランジスタのドレイン端子に接続され、ゲート端子に第1の外部信号が入力される第2チャネルの第3のトランジスタと、
ドレイン端子が前記信号出力ノードに接続され、ソース端子が前記第3のトランジスタのソース端子に接続され、ゲート端子に第2の外部信号が入力され、前記第3のトランジスタと共に差動対を構成する第2チャネルの第4のトランジスタと、
一端が前記第3及び第4のトランジスタのソース端子に接続され、他端が第2の電源ノードに接続された定電流源回路と、
ソース端子が前記第1の電源ノードに接続され、ゲート端子が前記第1のノードに接続された第1チャネルの第5のトランジスタと、
ドレイン端子が前記第5のトランジスタのドレイン端子に接続され、ソース端子が前記定電流源回路の一端に接続され、ゲート端子に前記第2の外部信号が入力される第2チャネルの第6のトランジスタと、
ソース端子とドレイン端子の間の電流通路が前記第1のノードと前記定電流源回路の一端との間に挿入され、ゲート端子が前記第5及び第6のトランジスタのドレイン端子に接続された第2チャネルの第7のトランジスタと、
ソース端子とドレイン端子の間の電流通路が前記第7のトランジスタのソース端子とドレイン端子の間の電流通路に対して直列に挿入され、前記信号出力ノードに得られる信号とは逆の論理の信号であって前記信号出力ノードに得られる信号よりも遅延した信号がゲート端子に入力される第2チャネルの第8のトランジスタ
とを具備することを特徴とする半導体集積回路。 - ソース端子が第1の電源ノードに接続され、ゲート端子及びドレイン端子が第1のノードに接続された第1チャネルの第1のトランジスタと、
ソース端子が前記第1の電源ノードに接続され、ドレイン端子が信号出力ノードに接続され、ゲート端子が前記第1のノードに接続され、前記第1のトランジスタと共にカレントミラー回路を構成する第1チャネルの第2のトランジスタと、
ドレイン端子が前記第1のトランジスタのドレイン端子に接続され、ゲート端子に第1の外部信号が入力される第2チャネルの第3のトランジスタと、
ドレイン端子が前記信号出力ノードに接続され、ソース端子が前記第3のトランジスタのソース端子に接続され、ゲート端子に第2の外部信号が入力され、前記第3のトランジスタと共に差動対を構成する第2チャネルの第4のトランジスタと、
一端が前記第3及び第4のトランジスタのソース端子に接続され、他端が第2の電源ノードに接続された第1の定電流源回路と、
ソース端子とドレイン端子の間の電流通路が前記第1のノードと前記第2の電源ノードとの間に挿入され、ゲート端子が前記信号出力ノードに接続された第2チャネルの第5のトランジスタと、
ソース端子とドレイン端子の間の電流通路が前記第5のトランジスタのソース端子とドレイン端子の間の電流通路に対して直列に挿入され、前記信号出力ノードに得られる信号とは逆の論理の信号であって前記信号出力ノードに得られる信号よりも遅延した信号がゲート端子に入力される第2チャネルの第6のトランジスタ
とを具備することを特徴とする半導体集積回路。 - ソース端子が第1の電源ノードに接続され、ゲート端子及びドレイン端子が第1のノードに接続された第1チャネルの第1のトランジスタと、
ソース端子が前記第1の電源ノードに接続され、ドレイン端子が信号出力ノードに接続され、ゲート端子が前記第1のノードに接続され、前記第1のトランジスタと共にカレントミラー回路を構成する第1チャネルの第2のトランジスタと、
ドレイン端子が前記第1のトランジスタのドレイン端子に接続され、ゲート端子に第1の外部信号が入力される第2チャネルの第3のトランジスタと、
ドレイン端子が前記信号出力ノードに接続され、ソース端子が前記第3のトランジスタのソース端子に接続され、ゲート端子に第2の外部信号が入力され、前記第3のトランジスタと共に差動対を構成する第2チャネルの第4のトランジスタと、
一端が前記第3及び第4のトランジスタのソース端子に接続され、他端が第2の電源ノードに接続された定電流源回路と、
ソース端子が前記第1の電源ノードに接続され、ゲート端子が前記第1のノードに接続された第1チャネルの第5のトランジスタと、
ドレイン端子が前記第5のトランジスタのドレイン端子に接続され、ソース端子が前記定電流源回路の一端に接続され、ゲート端子に前記第2の外部信号が入力される第2チャネルの第6のトランジスタと、
ソース端子とドレイン端子の間の電流通路が前記第1のノードと前記第2の電源ノードとの間に挿入され、ゲート端子が前記第5及び第6のトランジスタのドレイン端子に接続された第2チャネルの第7のトランジスタと、
ソース端子とドレイン端子の間の電流通路が前記第7のトランジスタのソース端子とドレイン端子の間の電流通路に対して直列に挿入され、前記信号出力ノードに得られる信号とは逆の論理の信号であって前記信号出力ノードに得られる信号よりも遅延した信号がゲート端子に入力される第2チャネルの第8のトランジスタ
とを具備することを特徴とする半導体集積回路。 - ソース端子が第1の電源ノードに接続され、ゲート端子及びドレイン端子が第1のノードに接続された第1チャネルの第1のトランジスタと、
ソース端子が前記第1の電源ノードに接続され、ドレイン端子が信号出力ノードに接続され、ゲート端子が前記第1のノードに接続され、前記第1のトランジスタと共にカレントミラー回路を構成する第1チャネルの第2のトランジスタと、
ドレイン端子が前記第1のトランジスタのドレイン端子に接続され、ゲート端子に第1の外部信号が入力される第2チャネルの第3のトランジスタと、
ドレイン端子が前記信号出力ノードに接続され、ソース端子が前記第3のトランジスタのソース端子に接続され、ゲート端子に第2の外部信号が入力され、前記第3のトランジスタと共に差動対を構成する第2チャネルの第4のトランジスタと、
一端が前記第3及び第4のトランジスタのソース端子に接続され、他端が第2の電源ノードに接続された定電流源回路と、
ソース端子が前記第1の電源ノードに接続され、ゲート端子が前記第1のノードに接続された第1チャネルの第5のトランジスタと、
ドレイン端子が前記第5のトランジスタのドレイン端子に接続され、ソース端子が前記定電流源回路の一端に接続され、ゲート端子に前記第2の外部信号が入力される第2チャネルの第6のトランジスタと、
ソース端子が前記第1の電源ノードに接続され、ゲート端子が前記第1のノードに接続された第1チャネルの第7のトランジスタと、
ドレイン端子が前記第7のトランジスタのドレイン端子に接続され、ソース端子が前記定電流源回路の一端に接続され、ゲート端子に前記第2の外部信号が入力される第2チャネルの第8のトランジスタと、
ソース端子とドレイン端子の間の電流通路が前記第1のノードと前記定電流源回路の一端との間に挿入され、ゲート端子が前記第5及び第6のトランジスタのドレイン端子に接続された第2チャネルの第9のトランジスタと、
ソース端子とドレイン端子の間の電流通路が前記第9のトランジスタのソース端子とドレイン端子の間の電流通路に対して直列に挿入され、前記信号出力ノードに得られる信号とは逆の論理の信号であって前記信号出力ノードに得られる信号よりも遅延した信号がゲート端子に入力される第2チャネルの第10のトランジスタと、
ソース端子とドレイン端子の間の電流通路が前記第1のノードと前記第1の電源ノードとの間に挿入され、ゲート端子が前記第7及び第8のトランジスタのドレイン端子に接続された第1チャネルの第11のトランジスタと、
ソース端子とドレイン端子の間の電流通路が前記第11のトランジスタのソース端子とドレイン端子の間の電流通路に対して直列に挿入され、前記信号出力ノードに得られる信号とは逆の論理の信号であって前記信号出力ノードに得られる信号よりも遅延した信号がゲート端子に入力される第1チャネルの第12のトランジスタと
を具備することを特徴とする半導体集積回路。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009272773A JP5337010B2 (ja) | 2009-11-30 | 2009-11-30 | 半導体集積回路 |
US12/884,623 US8258817B2 (en) | 2009-11-30 | 2010-09-17 | Semiconductor integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009272773A JP5337010B2 (ja) | 2009-11-30 | 2009-11-30 | 半導体集積回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011119798A JP2011119798A (ja) | 2011-06-16 |
JP5337010B2 true JP5337010B2 (ja) | 2013-11-06 |
Family
ID=44068413
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009272773A Expired - Fee Related JP5337010B2 (ja) | 2009-11-30 | 2009-11-30 | 半導体集積回路 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8258817B2 (ja) |
JP (1) | JP5337010B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5377421B2 (ja) * | 2010-06-14 | 2013-12-25 | 株式会社東芝 | 半導体集積回路 |
KR101984901B1 (ko) * | 2012-05-17 | 2019-05-31 | 삼성전자 주식회사 | 자기 메모리 셀을 갖는 반도체 메모리 장치 및 이를 포함하는 메모리 시스템 |
US9384810B2 (en) | 2012-08-10 | 2016-07-05 | Qulacomm Incorporated | Monolithic multi-channel adaptable STT-MRAM |
US9952616B2 (en) * | 2015-02-10 | 2018-04-24 | Rohm Co., Ltd. | Differential circuit including a current mirror |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0537261A (ja) * | 1991-08-01 | 1993-02-12 | Seiko Epson Corp | 差動増幅器 |
JPH09172334A (ja) * | 1995-12-20 | 1997-06-30 | Seiko Epson Corp | センスアンプ |
JP2001185964A (ja) * | 1999-12-22 | 2001-07-06 | Hitachi Ltd | カレントミラー回路および演算増幅器 |
JP4328596B2 (ja) | 2003-10-27 | 2009-09-09 | 日本電気株式会社 | 差動増幅器 |
JP2007213637A (ja) * | 2006-02-07 | 2007-08-23 | Elpida Memory Inc | 内部電源生成回路及びこれらを備えた半導体装置 |
JP2008301083A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Mitsubishi Electric Corp | 差動信号生成回路 |
-
2009
- 2009-11-30 JP JP2009272773A patent/JP5337010B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-09-17 US US12/884,623 patent/US8258817B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110128073A1 (en) | 2011-06-02 |
US8258817B2 (en) | 2012-09-04 |
JP2011119798A (ja) | 2011-06-16 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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