JP5336565B2 - 熱分解レーザ作用により連続するフラックス中でナノメートルサイズ又はサブミクロンサイズの粉体を製造するシステム及び方法 - Google Patents
熱分解レーザ作用により連続するフラックス中でナノメートルサイズ又はサブミクロンサイズの粉体を製造するシステム及び方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5336565B2 JP5336565B2 JP2011198494A JP2011198494A JP5336565B2 JP 5336565 B2 JP5336565 B2 JP 5336565B2 JP 2011198494 A JP2011198494 A JP 2011198494A JP 2011198494 A JP2011198494 A JP 2011198494A JP 5336565 B2 JP5336565 B2 JP 5336565B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- interaction zone
- axis
- laser
- flux
- reagent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims description 48
- 230000004907 flux Effects 0.000 title claims description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 22
- 230000009471 action Effects 0.000 title claims description 7
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 33
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims description 32
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 15
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 238000001725 laser pyrolysis Methods 0.000 claims description 7
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000001802 infusion Methods 0.000 claims description 3
- 239000007943 implant Substances 0.000 claims 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 6
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004146 energy storage Methods 0.000 description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 230000035784 germination Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000002114 nanocomposite Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J12/00—Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor
- B01J12/02—Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor for obtaining at least one reaction product which, at normal temperature, is in the solid state
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J12/00—Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor
- B01J12/005—Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor carried out at high temperatures, e.g. by pyrolysis
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
- B01J19/121—Coherent waves, e.g. laser beams
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
- Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
Description
廃液処理のための触媒の分野では、金属によって(触媒作用のために)ドープされたナノメートルサイズの酸化粉体は、この粉体の表面上に活性相が良好に分散しているという条件で、触媒作用が更に増大した堆積物を生成する。
フラットスクリーン装置の分野では、ナノメートルサイズの粉体の使用により、調節可能な波長を有する発光性の強い堆積物が製造される(PドープされたZnO又はZnS、Si)。
このように、様々な分野において、ナノメートルサイズ(5〜100ナノメートル)又はサブミクロンサイズ(100〜500ナノメートル)の粉体を使用することにより、特性が著しく改善する。
有利には、複数の注入装置からなる組の各注入装置に関して、各相互作用ゾーンに達する前の光線の出力密度は同じである。
有利には、後続の相互作用ゾーンでエネルギー流を集中させることによって、複数の注入装置からなる組のうち1つの注入装置のレベルに位置する相互作用ゾーン内で、前記光線の出力密度の吸収による損失が補償される。
本発明の方法では、レーザ光線の軸に沿って注入装置の位置を変化させること又はレーザが出射される際の出力を変化させることにより、粉体の所望の性質に応じて入射出力密度を変化させる。
レーザ光線を細長い形状、例えば長方形に形成することは、サイズ、組成及び構造の調節が可能な粉体の時間当たりの製造速度にとって極めて有利である。よって、幅もしくは高さを独立して変更可能な長方形又は楕円形の断面に亘って光線のエネルギーを分散させることができる。
有利には、レーザ光線のエネルギーは、連続する複数の相互作用ゾーン15、15’において完全に吸収される。このとき、パラメータの出力密度は、任意のゾーンN−1での吸収による損失を、後続のゾーンNでエネルギーフラックスを集中させることによって補償することにより、全ての相互作用ゾーンで等しく保たれる。相互作用ゾーン15、15’が製造する粉体は次第に少なくなるが、ナノメートルサイズの粉体を製造するためのエネルギー流の殆どは光線が経路を進むにつれて吸収される。よって、最大のエネルギー収率が得られる。
− 試薬の注入断面を側方に拡大することによって、時間当たりの製造速度が増大する。
− レーザ光線を細長く、例えば長方形に形成することによって、広範囲の出力密度に亘って時間当たりの製造速度が著しく上昇する。
− 注入装置の試薬の放出断面を、より広い範囲の出力密度に亘って一定に維持することができる。
本発明のシステムの3つの実施形態について以下に説明する。
図2の平面図に示すように、この第1の実施例では、本発明のシステムは、10.6μmで発光し、17mmの断面を有する5kWのCO2レーザ18、ペリスコープ19、平坦ミラー20、球面状レンズ21、22及び27、球面状ミラー23及び24、並びに2つのカレイドスコープ25及び26を備えている。レーザ光線の2つの経路30及び31に対応する2つの実施形態が可能である。第1の経路30は、幅50mm、高さ10mmの光線断面を形成する。この光線は、まず平坦ミラー20によって反射され、球面状レンズ22、カレイドスコープ26及び球面状レンズ27を通過する。第2の経路31は、幅50mm、高さ300μmの光線断面に相当する。この光線は、まず前のモードとは位置が異なる平坦ミラー20によって反射され、その後、球面状レンズ21、カレイドスコープ25を通過し、追加された球面状ミラー23及び24によって反射され、球面状レンズ27を通過する。
反応装置33内では、注入装置によって放出された試薬(合成ゾーン)のフラックスとの相互作用ゾーン32内で、幅50mm、高さ10mm又は300μmの長方形に亘って出力が分散される。従って、これによりナノメートルサイズの粉体を大量に製造し、時間当たりの製造速度に影響を与えることなく入射出力密度を30倍超に変化させることができる。
第1の実施形態では、この装置は、試薬のフラックスとの相互作用ゾーン内で750W/cm2超を保証する。レーザ光線の軸に対して垂直な軸に沿った細長い(例えば幅4cm、深さ2mm)注入装置によって、ナノメートルサイズのSiC粉体の時間当たり1キログラムを超える製造が保証される。
第2の実施形態では、時間当たりの製造速度を変えず、試薬の速度を変化させずに、第1の実施形態よりも結晶化の度合いが大きいSiC粉体(結晶の数及びサイズに関して)が形成される。
図3に示すように、本発明のシステムは、レーザ40、ペリスコープ41、平坦ミラー42、アフォーカル系43、及び円筒形レンズ46を備えている。アフォーカル系43は、試薬のフラックスとの相互作用ゾーン内で、所望の幅に光線のサイズを拡大するのを助ける。アフォーカル系43は、2つの収束型円筒形レンズ44及び45から構成することができ、その倍率は、これらのレンズの焦点距離の比によって与えられる。
光学軸を中心としてレンズ46を90°回転させることにより、垂直方向に極めて細長いパッチを得ることができ、これにより火炎中での試薬の滞留時間が増大する。
この実施例は、上記の実施例を、図4に示すマルチゾーンシステム50及び51に応用した場合に相当する。複数の試薬注入装置は、合成のために最大出力を消費する。この場合、吸収による損失は光線を集中させることによって補償され、この場合に問題なのは、単純に、1つの注入装置から別の注入装置へと試薬ビームが入射する際の出力密度が等しくなるように注入装置を配置することである。前述の実施例では、光線は、レンズ46から放出されると収束する。第1の注入装置を焦点の前に配置することにより、他の注入装置を順次配置することができる。よって、注入装置の相対的な位置を画定するパラメータは出力密度である。これは、光線断面の表面上での入射出力の比である。このパラメータに対する好ましい値は、形成される粉体の性質及び好ましい特性によって決まるが、全ての相互作用ゾーンの入口で同じでなくてはならない。実際、各ゾーンで、エネルギーは吸収によって失われるが、軸に沿って光線を集中させることにより損失が補償され、後続のゾーンで好ましい出力が回復する。
Claims (4)
- レーザ熱分解の作用により、連続するフラックスの中でナノメートルサイズ又はサブミクロンサイズの粉体を製造するシステムであって、
前記システムは、
− 第一の軸に沿ってレーザ光線を発するレーザと、
− 前記レーザ光線を焦点に集光させるレンズと、
− 第一の相互作用ゾーンにおいて、前記第一の軸に垂直な第二の軸に沿って第1の試薬のフラックスを放出するように構成された、前記レーザ及び前記レンズから下流の第一の注入装置と、
− 第二の相互作用ゾーンにおいて、前記第二の軸に沿って第二の試薬のフラックスを放出するように構成された、前記第一の注入装置の下流に置かれた第二の注入装置と、
前記レーザ光線のエネルギーを、第一の軸に沿ってその幅もしくは高さが独立して変更可能な細長い断面の光線に分散させる光学手段と、を備え、
前記細長い断面の光線は、粉体を製造するため、前記第一の相互作用ゾーンにおいて前記第一の試薬のフラックスと相互に作用し、前記第二の相互作用ゾーンにおいて前記第二の試薬のフラックスと相互に作用し、
各相互作用ゾーンに達する前の光線の出力密度が、複数の注入装置の組のうちの各注入装置のレベルで同じであり、
前記第1の軸に沿った前記光線の集中が、前記第一の相互作用ゾーン内の吸収からの損失を補償し、かつ前記第二の相互作用ゾーンで前記第一の相互作用ゾーンに達する前の前記出力密度を回復するように、前記第一の注入装置及び前記第二の注入装置は前記レンズと前記焦点の間に配置される、システム。 - 細長い断面が長方形である、請求項1に記載のシステム。
- レーザ熱分解の作用により、連続するフラックス中でナノメートルサイズ又はサブミクロンサイズの粉体を製造する方法であって、
前記方法は、
― 第一の軸に沿ってレーザ光線を発するようにレーザを構成することと、
― 前記レーザから前記レーザ光線を発し、前記第一の軸に沿って前記レーザ光線を分散させることと、
− レンズにより焦点にレーザ光線を集光させることと、
― 前記レーザ及び前記レンズから下流で、前記第一の軸に垂直な第二の軸に沿って、第一の注入装置から第1の試薬のフラックスを放出することと、
−前記第一の注入装置の下流で、前記第二の軸に沿って、第二の注入装置から第二の試薬のフラックスを放出することと、を含み、
前記レーザ光線は、相互作用ゾーンにおいて前記レーザ光線のエネルギーが吸収されるように、前記相互作用ゾーンのそれぞれのレベルでその幅もしくは高さが独立して変更可能な細長い断面に分散され、
各相互作用ゾーンに達する前の光線の出力密度が、複数の注入装置の組のうちの各注入装置のレベルで同じであり、
前記第1の軸に沿った前記光線の集中が、前記第一の相互作用ゾーン内の吸収からの損失を補償し、かつ前記第二の相互作用ゾーンで前記第一の相互作用ゾーンに達する前の前記出力密度を回復するように、前記第一の注入装置及び前記第二の注入装置は前記レンズと前記焦点の間に配置される、方法。 - 細長い断面が長方形である、請求項3に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR0452578 | 2004-11-09 | ||
FR0452578A FR2877591B1 (fr) | 2004-11-09 | 2004-11-09 | Systeme et procede de production de poudres nanometriques ou sub-micrometriques en flux continu sous l'action d'une pyrolyse laser |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007540689A Division JP2008518783A (ja) | 2004-11-09 | 2005-11-07 | 熱分解レーザ作用により連続するフラックス中でナノメートルサイズ又はサブミクロンサイズの粉体を製造するシステム及び方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012040555A JP2012040555A (ja) | 2012-03-01 |
JP5336565B2 true JP5336565B2 (ja) | 2013-11-06 |
Family
ID=34951604
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007540689A Withdrawn JP2008518783A (ja) | 2004-11-09 | 2005-11-07 | 熱分解レーザ作用により連続するフラックス中でナノメートルサイズ又はサブミクロンサイズの粉体を製造するシステム及び方法 |
JP2011198494A Active JP5336565B2 (ja) | 2004-11-09 | 2011-09-12 | 熱分解レーザ作用により連続するフラックス中でナノメートルサイズ又はサブミクロンサイズの粉体を製造するシステム及び方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007540689A Withdrawn JP2008518783A (ja) | 2004-11-09 | 2005-11-07 | 熱分解レーザ作用により連続するフラックス中でナノメートルサイズ又はサブミクロンサイズの粉体を製造するシステム及び方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8822878B2 (ja) |
EP (1) | EP1809413B1 (ja) |
JP (2) | JP2008518783A (ja) |
CN (1) | CN101056698B (ja) |
ES (1) | ES2673503T3 (ja) |
FR (1) | FR2877591B1 (ja) |
HU (1) | HUE037855T2 (ja) |
PL (1) | PL1809413T3 (ja) |
WO (1) | WO2006051233A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2894493B1 (fr) * | 2005-12-08 | 2008-01-18 | Commissariat Energie Atomique | Systeme et procede de production de poudres nanometriques ou sub-micrometriques en flux continu sous l'action d'une pyrolyse laser |
EP1867386A1 (en) * | 2006-06-02 | 2007-12-19 | Thomas Wendling | Method for the production of nanoparticles |
FR2916193B1 (fr) | 2007-05-18 | 2009-08-07 | Commissariat Energie Atomique | Synthese par pyrolyse laser de nanocristaux de silicium. |
FR2933972B1 (fr) * | 2008-07-18 | 2011-06-10 | Commissariat Energie Atomique | Procede de preparation d'une piece en carbure de silicium ne necessitant pas l'usage d'ajouts de frittage |
US8679300B2 (en) * | 2009-02-04 | 2014-03-25 | Jefferson Science Associates, Llc | Integrated rig for the production of boron nitride nanotubes via the pressurized vapor-condenser method |
FR2993262B1 (fr) | 2012-07-12 | 2017-08-25 | Nanomakers | Procede de fabrication par pyrolyse laser de particules submicroniques multicouches |
FR2998485B1 (fr) | 2012-11-26 | 2015-01-02 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif pour la synthese de nanoparticules de type cœur-coquille par pyrolyse laser et procede associe. |
FR3013991B1 (fr) | 2013-11-29 | 2019-04-26 | Nanomakers | Particules submicroniques comprenant de l'aluminium |
FR3116214B1 (fr) | 2020-11-18 | 2023-04-28 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif de synthèse colinéaire de nanoparticules par pyrolyse laser, système et procédé associés |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4558017A (en) * | 1984-05-14 | 1985-12-10 | Allied Corporation | Light induced production of ultrafine powders comprising metal silicide powder and silicon |
JPS6167836U (ja) * | 1984-10-08 | 1986-05-09 | ||
JPS6171239U (ja) * | 1984-10-15 | 1986-05-15 | ||
US4895628A (en) * | 1985-02-12 | 1990-01-23 | The Dow Chemical Company | Process for the preparation of submicron-sized boron carbide powders |
US4788222A (en) * | 1985-05-20 | 1988-11-29 | Exxon Research And Engineering Company | Method for the production of hydrocarbons using iron-carbon-based catalysts |
US4689129A (en) * | 1985-07-16 | 1987-08-25 | The Dow Chemical Company | Process for the preparation of submicron-sized titanium diboride |
DE3623409A1 (de) * | 1986-07-11 | 1988-01-21 | Bias Forschung & Entwicklung | Verfahren zur ueberwachung des bearbeitungsprozesses mit einer hochleistungsenergiequelle, insbesondere einem laser, und bearbeitungsoptik zur durchfuehrung desselben |
JPH074523B2 (ja) * | 1986-09-25 | 1995-01-25 | キヤノン株式会社 | 反応装置 |
JPS63136734U (ja) * | 1987-03-02 | 1988-09-08 | ||
JPS63224732A (ja) * | 1987-03-13 | 1988-09-19 | Nkk Corp | 超微粒子の製造方法 |
JPH02131135A (ja) * | 1988-11-09 | 1990-05-18 | Victor Co Of Japan Ltd | レーザーcvd装置 |
JPH02258027A (ja) * | 1989-03-30 | 1990-10-18 | Nippon Steel Corp | レーザ光による同位体分離用反応器 |
JPH02258694A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-19 | Kokusai Chiyoudendou Sangyo Gijutsu Kenkyu Center | 酸化物超電導体の製造方法 |
US5424244A (en) * | 1992-03-26 | 1995-06-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Process for laser processing and apparatus for use in the same |
CN1021889C (zh) * | 1992-04-20 | 1993-08-25 | 北京化工学院 | 制链球状金属粉体的***相法及其设备 |
US5514350A (en) * | 1994-04-22 | 1996-05-07 | Rutgers, The State University Of New Jersey | Apparatus for making nanostructured ceramic powders and whiskers |
US5958348A (en) * | 1997-02-28 | 1999-09-28 | Nanogram Corporation | Efficient production of particles by chemical reaction |
US6290735B1 (en) * | 1997-10-31 | 2001-09-18 | Nanogram Corporation | Abrasive particles for surface polishing |
JP3542519B2 (ja) * | 1999-05-28 | 2004-07-14 | ヤーマン株式会社 | レーザ光照射プローブ |
US6254928B1 (en) * | 1999-09-02 | 2001-07-03 | Micron Technology, Inc. | Laser pyrolysis particle forming method and particle forming method |
US6974367B1 (en) * | 1999-09-02 | 2005-12-13 | Micron Technology, Inc. | Chemical mechanical polishing process |
US6229111B1 (en) * | 1999-10-13 | 2001-05-08 | The University Of Tennessee Research Corporation | Method for laser/plasma surface alloying |
JP3413484B2 (ja) * | 1999-11-26 | 2003-06-03 | 住友重機械工業株式会社 | レーザアニーリング装置 |
DE10163313B4 (de) * | 2001-12-21 | 2005-10-27 | Medizinisches Laserzentrum Lübeck GmbH | Verfahren und Vorrichtung zur Beeinflussung einer Reaktion von in einem Medium angeordneten Reaktionspartnern |
EP1807342A4 (en) * | 2004-10-13 | 2013-09-04 | Intematix Corp | PRODUCTION OF COMBINATION LIBRARIES BASED ON NANOPOUDRE |
JP2009519125A (ja) * | 2005-12-13 | 2009-05-14 | コミッサリア タ レネルジー アトミーク | ナノメータ規模及びサブマイクロメータ規模の微粒子の浮遊体を生成するためのデバイス及び方法 |
-
2004
- 2004-11-09 FR FR0452578A patent/FR2877591B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-11-07 EP EP05819327.7A patent/EP1809413B1/fr active Active
- 2005-11-07 US US11/666,846 patent/US8822878B2/en active Active
- 2005-11-07 CN CN2005800382880A patent/CN101056698B/zh active Active
- 2005-11-07 WO PCT/FR2005/050929 patent/WO2006051233A1/fr active Application Filing
- 2005-11-07 HU HUE05819327A patent/HUE037855T2/hu unknown
- 2005-11-07 JP JP2007540689A patent/JP2008518783A/ja not_active Withdrawn
- 2005-11-07 PL PL05819327T patent/PL1809413T3/pl unknown
- 2005-11-07 ES ES05819327.7T patent/ES2673503T3/es active Active
-
2011
- 2011-09-12 JP JP2011198494A patent/JP5336565B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008518783A (ja) | 2008-06-05 |
WO2006051233A1 (fr) | 2006-05-18 |
HUE037855T2 (hu) | 2018-09-28 |
ES2673503T3 (es) | 2018-06-22 |
CN101056698A (zh) | 2007-10-17 |
FR2877591A1 (fr) | 2006-05-12 |
JP2012040555A (ja) | 2012-03-01 |
US8822878B2 (en) | 2014-09-02 |
CN101056698B (zh) | 2010-12-01 |
EP1809413B1 (fr) | 2018-03-28 |
FR2877591B1 (fr) | 2007-06-08 |
EP1809413A1 (fr) | 2007-07-25 |
US20070295702A1 (en) | 2007-12-27 |
ES2673503T8 (es) | 2018-07-10 |
PL1809413T3 (pl) | 2018-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5336565B2 (ja) | 熱分解レーザ作用により連続するフラックス中でナノメートルサイズ又はサブミクロンサイズの粉体を製造するシステム及び方法 | |
US8337673B2 (en) | Synthesis of silicon nanocrystals by laser pyrolysis | |
Yu et al. | Amorphous silica nanowires: Intensive blue light emitters | |
JP5650525B2 (ja) | 窒化ホウ素ナノチューブの製造方法 | |
JP5038327B2 (ja) | レーザ熱分解の作用によるナノ又はサブミクロン粉体の連続流生成システム及び方法 | |
CN101209832B (zh) | 碳纳米管阵列的制备方法 | |
US11293100B2 (en) | Device for synthesising core-shell nanoparticles by laser pyrolysis and associated method | |
Curcio et al. | Synthesis of silicon carbide powders by a CW CO2 laser | |
Chhikara et al. | On the synthesis of Zn/ZnO core–shell solid microspheres on quartz substrate by thermal evaporation technique | |
KR101348728B1 (ko) | 나노와이어 내부에 귀금속을 불연속적으로 포함하는 산화갈륨 나노와이어의 제조방법 및 이에 의해 제조되는 산화갈륨 나노와이어 | |
Yang et al. | Enhanced photoluminescence from embedded PbSe colloidal quantum dots in silicon-based random photonic crystal microcavities | |
Gondal et al. | A rapid and cost-effective laser based synthesis of high purity cadmium selenide quantum dots | |
Reau et al. | Large scale production of nanoparticles by laser pyrolysis | |
JP2004301821A (ja) | X線及び高エネルギー粒子発生装置とその発生方法 | |
Flemban | Synthesis of ZnO nanoparticles using varying pulsed laser ablation energies in liquid | |
Athira Jayaprakash et al. | A review on the materials and applications of nanophotonics | |
US20040132289A1 (en) | Transparent ceramics and method for producing the same | |
Siegel et al. | Dispersions and coatings | |
Bi et al. | Synthesis of nanoscale optical materials using nanoparticle manufacturing (NPM) technology | |
Kask et al. | Formation of nanostructures upon laser ablation of a binary Six (SiO2) 1-x mixture | |
Zhu et al. | Sonochemistry for the preparation of nanosized metal chalcogenide | |
Drmosh | Synthesis and Characterization of Nano-Structure Metal Oxides and Peroxides Prepared by Laser Ablation in Liquids | |
JPH0621023B2 (ja) | 炭化ケイ素の微粒子製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120829 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120904 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20121126 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20121129 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130304 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130326 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130621 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130716 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130801 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5336565 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |