JP5327934B2 - インプラント用材料及びその製造方法 - Google Patents
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Description
−物理的特性の検討−
まず、基材の表面に種々の炭素質薄膜を形成し、その組成とヤング率等の物理的特性との関係を検討した。
次に、基材の表面に形成した炭素質薄膜の骨適合性について評価を行った。骨適合性の検討においては、チタン板の表面に炭素質薄膜を形成した試料を用いた。評価に用いた炭素質膜の[SiC]/[C]の値は、0.013であった。
Claims (4)
- 基材と、
前記基材の表面に形成され、シリコンを含む炭素質薄膜とを備え、
前記炭素質薄膜は、炭素同士が結合したC−C成分及び炭素とシリコンとが結合したSiC成分を含み、
前記SiC成分の比率は、0.06以上、0.5以下であり、
前記炭素質薄膜に含まれるSiO2成分のシリコンと炭素との和に対する比率は、0.05以下であることを特徴とするインプラント用材料。 - 前記基材は、金属であることを特徴とする請求項1に記載のインプラント用材料。
- 前記基材は、人工歯根、義歯又は歯冠修復物であることを特徴とする請求項1又は2に記載のインプラント用材料。
- インプラント用の基材を準備する工程(a)と、
前記基材を載置したチャンバ内の水分を除去する工程(b)と、
前記工程(a)よりも後に、前記チャンバ内に炭素源及びシリコン源となる原料ガスを導入することにより、炭素同士が結合したC−C成分及び炭素とシリコンとが結合したSiC成分を含む炭素質薄膜を基材の表面にイオン化蒸着する工程(c)とを備え、
前記工程(b)は前記チャンバ内を加熱する工程であり、
前記SiC成分の比率は、0.06以上、0.5以下とし、
前記炭素質薄膜に含まれるSiO2成分のシリコンと炭素との和に対する比率は、0.05以下とすることを特徴とするインプラント用材料の製造方法。
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