JP5314429B2 - 合成不透明石英ガラス及びその製造方法 - Google Patents
合成不透明石英ガラス及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5314429B2 JP5314429B2 JP2008548289A JP2008548289A JP5314429B2 JP 5314429 B2 JP5314429 B2 JP 5314429B2 JP 2008548289 A JP2008548289 A JP 2008548289A JP 2008548289 A JP2008548289 A JP 2008548289A JP 5314429 B2 JP5314429 B2 JP 5314429B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- quartz glass
- opaque quartz
- synthetic
- cells
- synthetic opaque
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 70
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 21
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 6
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 6
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 5
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
- C03B19/1453—Thermal after-treatment of the shaped article, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
- C03B19/066—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction for the production of quartz or fused silica articles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B20/00—Processes specially adapted for the production of quartz or fused silica articles, not otherwise provided for
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C11/00—Multi-cellular glass ; Porous or hollow glass or glass particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/07—Impurity concentration specified
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
- C03B2201/23—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with hydroxyl groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/80—Glass compositions containing bubbles or microbubbles, e.g. opaque quartz glass
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
- Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
- Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/249921—Web or sheet containing structurally defined element or component
- Y10T428/249953—Composite having voids in a component [e.g., porous, cellular, etc.]
- Y10T428/249967—Inorganic matrix in void-containing component
- Y10T428/249969—Of silicon-containing material [e.g., glass, etc.]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Description
しかしながら、特許文献1記載の不透明石英ガラスの製法は、原料準備に多大な手間を要し、一方製法においては、最大サイズが限定され、さらに加熱時に表面からの汚染が大きく、例えば高純度が必要とされる半導体製造工程用石英治具用途には問題があった。また、多様な形状の石英製品に加工する際には、火炎加工が必須になるが、窒素が添加されていることにより、部分発泡して割れ易くなるなど、製品加工にも問題が発生した。
また、前記気泡層の厚さが1μm以上100μm以下であり、前記非気泡層の厚さが1μm以上200μm以下であることが好ましい。
本発明の合成不透明石英ガラスは、均一な微細気泡をガラス体全体に有し、遮光性に優れるとともに、純度的に、合成石英ガラスとして、極めて高純度に保たれ、火炎加工性にも優れているので、様々な工業分野に適用可能であり、特に、半導体製造分野においては、好適な部材として、使用することができる。
石英ガラス多孔質体を、0.15MPa以上1000MPa以下の圧力下、1200℃以上2000℃以下の温度にて、加熱焼成することにより、合成不透明石英ガラス体が得られる。なお、本発明において、厚さ1mmにおける波長200〜5000nmの光の透過率が5%未満である石英ガラスを不透明石英ガラスと称する。
加熱処理時間は、圧力及び温度条件等に応じて適宜選択すればよいが、具体的には、前記温度と圧力範囲内で30分から10時間保持することが好ましく、1時間から4時間保持することがより好ましい。
具体的には、本発明方法により、密度が1.0g/cm3以上2.20g/cm3以下、好ましくは2.1g/cm3を超え2.20g/cm3以下、空隙率が1〜50%、好ましくは2〜10%、含まれる独立気泡の平均径が1μm以上50μm以下、好ましくは1μm以上30μm以下、より好ましくは1μm以上10μm未満、独立気泡数が1×106〜1×109個/cm3、好ましくは1×107〜1×109個/cm3、より好ましくは6×107個/cm3を超えて1×109個/cm3以下、である合成不透明石英ガラスが得られる。
前記気泡層の厚さが1〜100μmであることが好ましく、1〜50μmであることがより好ましい。また、前記非気泡層の厚さが1〜200μmであることが好ましく、1〜100μmであることがより好ましい。
四塩化珪素を加水分解して形成した石英ガラス微粒子を回転している基体上に堆積させて作製した多孔質合成石英ガラス体(長さ2000mm、直径400mm)を、加熱炉中にセットして真空排気し、その後、窒素ガスを充填して0.6MPaまで加圧し、加熱を開始して、2時間で1500℃にまで昇温し、2時間保持した後、自然冷却し、室温になった後、圧力を大気圧に下げて、取り出した。石英ガラス多孔質体は、緻密化し全体が白色化した。
得られた白色不透明石英ガラスの写真を図1に示した。図1に示した如く、得られた不透明石英ガラスは、厚さ10μmの気泡層と厚さ50μmの非気泡層が交互に積層されていた。
得られた白色不透明石英ガラス中に含まれる独立気泡の直径及び含有量を測定した結果、独立気泡の直径は1〜40μmの範囲、平均径は9μm、独立気泡数は9×107個/cm3、気泡率が6.0%であった。また、気泡層の独立気泡数は1×108個/cm3、非気泡層の独立気泡数は1×102個/cm3であった。
緻密化のための加熱処理時の圧力が、0.15MPaであること以外は、実施例1と同様に行い、同様な結果を得た。
緻密化のための加熱処理時の圧力が、800MPaであること以外は、実施例1と同様に行い、同様な結果を得た。
緻密化のための加熱処理時の雰囲気がArであること以外は、実施例1と同様に行い、同様な結果を得た。
緻密化のための加熱処理時の温度が1600℃であること以外は、実施例1と同様に行い、同様な結果を得た。
緻密化のための加熱処理時の条件を1200℃で4時間保持に変更した以外は、実施例1と同様に行い、同様な結果を得た。
緻密化のための加熱処理時の条件を1900℃で1時間保持に変更した以外は、実施例1と同様に行い、同様な結果を得た。
四塩化珪素を加水分解して形成した石英ガラス微粒子を回転している基体上に堆積させて作製した多孔質合成石英ガラス体(長さ2000mm、直径400mm)を、加熱炉にセットして真空排気し、その後、窒素ガスを充填して0.01MPaまで加圧し、加熱を開始して、2時間で1500℃にまで昇温し、2時間保持した後、自然冷却し、室温になった後、取り出した。石英ガラス多孔質体は、緻密化したが、全体が透明化した。
Li、Na、K、Mg、Ti、Fe、Cu、Ni、Cr、Alの各金属不純物の含有量は、各々0.005ppm以下であった。また、ガラス体中には、OH基は200ppmであった。
平均粒子径が10μmの非晶質シリカ粉末に窒化ケイ素粉末をシリカ粉末100重量部に対して窒化ケイ素粉末0.01重量部を混合分散させた出発原料を用い、内型の直径500mm、高さ300mmの鋳込み型内に充填し、加熱炉内にセットして、無酸素雰囲気で1800℃の温度にて、常圧で30分間加熱し、ガラス化及び発泡による気泡生成を行い、不透明石英ガラスを得た。
得られた白色不透明石英ガラスは、鋳込み型からの金属不純物の拡散のため、Li、Na、K、Mg、Ti、Fe、Cu、Ni、Cr及びAlの各金属不純物の含有量が、各々0.1〜0.3ppmの範囲で確認された。窒素含有量は300ppmであった。
Claims (4)
- 珪素化合物を酸水素火炎で加水分解して生成した石英ガラス微粒子を堆積させて作製された石英ガラス多孔質体を、0.15MPa以上1000MPa以下の圧力下、1200℃以上2000℃以下の温度にて、加熱焼成する工程を含み、前記加熱焼成中の雰囲気が不活性ガスであり、かつ独立気泡を2×10 6 〜5×10 9 個/cm 3 含有する気泡層と独立気泡の含有量が0〜1×10 3 個/cm 3 である非気泡層とが交互に積層されるようにしたことを特徴とする合成不透明石英ガラスの製造方法。
- 請求項1記載の製造方法により製造されかつ独立気泡を2×10 6 〜5×10 9 個/cm 3 含有する気泡層と独立気泡の含有量が0〜1×10 3 個/cm 3 である非気泡層とが交互に積層されてなる合成不透明石英ガラスであって、該合成不透明石英ガラスの密度が1.0〜2.2g/cm3、空隙率が1〜50%、含まれる独立気泡の平均径が1〜50μm、独立気泡数が1×106〜1×109個/cm3、であり、Li、Na、K、Mg、Ti、Fe、Cu、Ni、Cr及びAlの各金属不純物の含有量が、各々0.05ppm以下であることを特徴とする合成不透明石英ガラス。
- 窒素の含有量が50ppm以下であることを特徴とする請求項2記載の合成不透明石英ガラス。
- 前記気泡層の厚さが1μm以上100μm以下であり、前記非気泡層の厚さが1μm以上200μm以下であることを特徴とする請求項2又は3記載の合成不透明石英ガラス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008548289A JP5314429B2 (ja) | 2006-12-05 | 2007-12-04 | 合成不透明石英ガラス及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006328058 | 2006-12-05 | ||
JP2006328058 | 2006-12-05 | ||
JP2008548289A JP5314429B2 (ja) | 2006-12-05 | 2007-12-04 | 合成不透明石英ガラス及びその製造方法 |
PCT/JP2007/073387 WO2008069194A1 (ja) | 2006-12-05 | 2007-12-04 | 合成不透明石英ガラス及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2008069194A1 JPWO2008069194A1 (ja) | 2010-03-18 |
JP5314429B2 true JP5314429B2 (ja) | 2013-10-16 |
Family
ID=39492081
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008548289A Active JP5314429B2 (ja) | 2006-12-05 | 2007-12-04 | 合成不透明石英ガラス及びその製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10843954B2 (ja) |
JP (1) | JP5314429B2 (ja) |
KR (1) | KR101403349B1 (ja) |
TW (1) | TWI430967B (ja) |
WO (1) | WO2008069194A1 (ja) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG10201709699RA (en) * | 2013-05-23 | 2017-12-28 | Applied Materials Inc | A coated liner assembly for a semiconductor processing chamber |
CN105473518B (zh) * | 2013-08-15 | 2019-11-05 | Agc株式会社 | 低散射石英玻璃和石英玻璃的热处理方法 |
US9385004B2 (en) | 2013-08-15 | 2016-07-05 | Applied Materials, Inc. | Support cylinder for thermal processing chamber |
US9725351B2 (en) | 2013-12-23 | 2017-08-08 | Heraeus Quartz America Llc | Method for forming opaque quartz glass components |
JP6379508B2 (ja) * | 2014-02-17 | 2018-08-29 | 東ソー株式会社 | 不透明石英ガラスおよびその製造方法 |
TWI652240B (zh) | 2014-02-17 | 2019-03-01 | 日商東曹股份有限公司 | 不透明石英玻璃及其製造方法 |
TWI812586B (zh) | 2015-12-18 | 2023-08-21 | 德商何瑞斯廓格拉斯公司 | 石英玻璃體、其製備方法與應用、及用於控制烘箱出口處之露點 |
JP6981710B2 (ja) | 2015-12-18 | 2021-12-17 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 二酸化ケイ素造粒体からの石英ガラス体の調製 |
CN109153593A (zh) * | 2015-12-18 | 2019-01-04 | 贺利氏石英玻璃有限两合公司 | 合成石英玻璃粉粒的制备 |
JP6984897B2 (ja) | 2015-12-18 | 2021-12-22 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 石英ガラス調製時のケイ素含有量の増大 |
WO2017103166A2 (de) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Herstellung eines quarzglaskörpers in einem mehrkammerofen |
JP7044454B2 (ja) | 2015-12-18 | 2022-03-30 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 石英ガラス調製時の中間体としての炭素ドープ二酸化ケイ素造粒体の調製 |
US10676388B2 (en) | 2015-12-18 | 2020-06-09 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Glass fibers and pre-forms made of homogeneous quartz glass |
TWI813534B (zh) | 2015-12-18 | 2023-09-01 | 德商何瑞斯廓格拉斯公司 | 利用露點監測在熔融烘箱中製備石英玻璃體 |
KR20180095624A (ko) | 2015-12-18 | 2018-08-27 | 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 | 불투명 실리카 유리 제품의 제조 |
US11053152B2 (en) | 2015-12-18 | 2021-07-06 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Spray granulation of silicon dioxide in the preparation of quartz glass |
EP3205630B1 (de) * | 2016-02-12 | 2020-01-01 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Diffusormaterial aus synthetisch erzeugtem quarzglas sowie verfahren zur herstellung eines vollständig oder teilweise daraus bestehenden formkörpers |
JP2018101581A (ja) * | 2016-12-21 | 2018-06-28 | クアーズテック株式会社 | ヒータ |
DE112019007431T5 (de) * | 2019-06-03 | 2022-02-17 | Tosoh Quartz Corporation | Opakes Quarzglas und Verfahren zum Herstellen von diesem |
WO2021172232A1 (ja) | 2020-02-28 | 2021-09-02 | Agc株式会社 | シリカガラス、シリカガラスを用いた高周波デバイス、およびシリカガラスの製造方法 |
WO2022162923A1 (ja) * | 2021-01-30 | 2022-08-04 | 東ソー・クォーツ株式会社 | 不透明石英ガラス及びその製造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6140827A (ja) * | 1984-08-02 | 1986-02-27 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 多孔質ガラス板の製造方法 |
JPH08143329A (ja) * | 1993-10-08 | 1996-06-04 | Tosoh Corp | 高純度不透明石英ガラス及びその製造方法並びにその 用途 |
JPH0912325A (ja) * | 1995-06-29 | 1997-01-14 | Nitto Chem Ind Co Ltd | 高純度不透明石英ガラス及びその製造方法並びにその用途 |
JPH0920531A (ja) * | 1995-06-30 | 1997-01-21 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 高強度石英ガラス発泡体 |
JPH10203839A (ja) * | 1997-01-21 | 1998-08-04 | Tosoh Corp | 微細気泡含有不透明石英ガラス及びその製造方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2962790A (en) * | 1955-09-23 | 1960-12-06 | Bendix Corp | Method of centrifugally slip-casting ceramic materials |
US3619440A (en) * | 1969-12-18 | 1971-11-09 | Texas Instruments Inc | Prevention of crawling of metal oxide hollow articles along the support mandrel during sintering |
US3806570A (en) * | 1972-03-30 | 1974-04-23 | Corning Glass Works | Method for producing high quality fused silica |
JPS51102014A (en) * | 1974-11-01 | 1976-09-09 | Komatsu Denshi Kinzoku Kk | Kojundotomeigarasutaino seizohoho |
US4222760A (en) * | 1979-08-02 | 1980-09-16 | Corning Glass Works | Preparation of oxynitride glass-ceramics |
JPH029727A (ja) * | 1988-06-28 | 1990-01-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ用母材の製造方法 |
US6012304A (en) * | 1991-09-30 | 2000-01-11 | Loxley; Ted A. | Sintered quartz glass products and methods for making same |
GB9210327D0 (en) * | 1992-05-14 | 1992-07-01 | Tsl Group Plc | Heat treatment facility for synthetic vitreous silica bodies |
US5356449A (en) * | 1993-05-24 | 1994-10-18 | At&T Bell Laboratories | Vad process improvements |
US5585173A (en) * | 1993-10-08 | 1996-12-17 | Tosoh Corporation | High-purity, opaque quartz glass, method for producing same and use thereof |
US6355587B1 (en) * | 1994-06-30 | 2002-03-12 | Ted A. Loxley | Quartz glass products and methods for making same |
DE69716822T2 (de) * | 1996-07-04 | 2003-09-11 | Tosoh Corp., Shinnanyo | Opakes Quarzglas und Verfahren zu dessen Herstellung |
US5945802A (en) * | 1996-09-27 | 1999-08-31 | General Electric Company | Ground fault detection and protection method for a variable speed ac electric motor |
KR100566051B1 (ko) * | 1998-07-31 | 2006-03-29 | 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤 | 실리콘 단결정 인상용 석영 유리 도가니 및 그 제조방법 |
DE19962451C1 (de) * | 1999-12-22 | 2001-08-30 | Heraeus Quarzglas | Verfahren für die Herstellung von opakem Quarzglas und für die Durchführung des Verfahrens geeignetes Si0¶2¶-Granulat |
EP1328482A1 (en) | 2000-09-28 | 2003-07-23 | Corning Incorporated | Optical glass silica soot particles and method of making same |
US6447601B1 (en) * | 2001-03-19 | 2002-09-10 | Memc Electronic Materials, Inc. | Crystal puller and method for growing monocrystalline silicon ingots |
KR100913116B1 (ko) * | 2002-04-04 | 2009-08-19 | 토소가부시키가이샤 | 석영유리 용사부품 및 그 제조방법 |
-
2007
- 2007-12-04 JP JP2008548289A patent/JP5314429B2/ja active Active
- 2007-12-04 KR KR1020097010257A patent/KR101403349B1/ko active IP Right Grant
- 2007-12-04 US US12/515,727 patent/US10843954B2/en active Active
- 2007-12-04 WO PCT/JP2007/073387 patent/WO2008069194A1/ja active Application Filing
- 2007-12-05 TW TW96146289A patent/TWI430967B/zh active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6140827A (ja) * | 1984-08-02 | 1986-02-27 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 多孔質ガラス板の製造方法 |
JPH08143329A (ja) * | 1993-10-08 | 1996-06-04 | Tosoh Corp | 高純度不透明石英ガラス及びその製造方法並びにその 用途 |
JPH0912325A (ja) * | 1995-06-29 | 1997-01-14 | Nitto Chem Ind Co Ltd | 高純度不透明石英ガラス及びその製造方法並びにその用途 |
JPH0920531A (ja) * | 1995-06-30 | 1997-01-21 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 高強度石英ガラス発泡体 |
JPH10203839A (ja) * | 1997-01-21 | 1998-08-04 | Tosoh Corp | 微細気泡含有不透明石英ガラス及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20100316858A1 (en) | 2010-12-16 |
TW200846296A (en) | 2008-12-01 |
JPWO2008069194A1 (ja) | 2010-03-18 |
KR101403349B1 (ko) | 2014-06-05 |
KR20090089329A (ko) | 2009-08-21 |
WO2008069194A1 (ja) | 2008-06-12 |
TWI430967B (zh) | 2014-03-21 |
US10843954B2 (en) | 2020-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5314429B2 (ja) | 合成不透明石英ガラス及びその製造方法 | |
JP4907735B2 (ja) | シリカ容器及びその製造方法 | |
JP4903288B2 (ja) | シリカ容器及びその製造方法 | |
TWI652240B (zh) | 不透明石英玻璃及其製造方法 | |
KR101313647B1 (ko) | 실리카 용기 및 그 제조방법 | |
Mouzon et al. | Fabrication of transparent yttria by HIP and the glass-encapsulation method | |
JP3578357B2 (ja) | 耐熱性合成石英ガラスの製造方法 | |
JP2015151320A (ja) | 不透明石英ガラスおよびその製造方法 | |
JPH11310423A (ja) | 合成石英ガラスおよびその製造方法 | |
JP5583082B2 (ja) | 透明層付き黒色合成石英ガラスの製造方法 | |
JP3793553B2 (ja) | 黒色SiO2質耐食性部材及びその製造方法 | |
JP5143367B2 (ja) | 不透明焼結体 | |
JP2003292337A (ja) | プラズマ耐食性石英ガラス、その製造方法及びこれを用いた装置 | |
JP4473653B2 (ja) | 高純度石英ガラスの製造方法 | |
JP6273997B2 (ja) | 不透明石英ガラスおよびその製造方法 | |
JP3187510B2 (ja) | 半導体ウエハ熱処理用部材の製造方法 | |
JP6252257B2 (ja) | 不透明石英ガラスおよびその製造方法 | |
KR20240104056A (ko) | TiO2-SiO2 유리체의 제조방법 및 그 제조방법으로 제조된 유리체 | |
JP2002356340A (ja) | プラズマ耐食性石英ガラス、その製造方法、これを用いた部材及び装置 | |
JPH08104540A (ja) | 不透明石英ガラスの製造方法 | |
JP3092626B2 (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
TW202239736A (zh) | 氧化矽玻璃多孔質體及其製造方法 | |
KR20190020238A (ko) | 상부 가열식 석영유리 진공 용융 장치 및 방법 | |
JPH0558676A (ja) | SiO▲2▼−SiC−Si複合材料の製造方法 | |
JPH0729790B2 (ja) | 無水合成石英ガラスの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100930 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130326 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130514 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130702 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130705 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5314429 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |