JP5308692B2 - インドアニリン色素の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、インドアニリン色素を製造する方法に関する。本発明で製造されるインドアニリン色素は、特に感熱転写記録用色素として重要である。
現在、テレビ、ビデオ、スチルビデオカメラなどの一過性の画像からハ−ドコピ−を得る方法の一つに昇華型感熱転写記録方式がある。昇華型感熱転写記録方式は昇華性色素をベースフィルム上に塗布した転写シートを加熱して、該転写シート中の色素を記録紙に転写する熱転写プリント方式の一つである。この方法は加熱エネルギ−を変化させることにより色素の昇華転写量を制御することができ、階調性の良い画像が得られるので、この方式は特にピクトリアルカラ−記録には有利な方法と考えられる。
上記の昇華型感熱転写記録方式に用いられるシアン色素としては、従来よりインドアニリン系色素が優れた性能を有し広く用いられている（特許文献１〜４参照）。
これらインドアニリン色素の一般的な製造方法としては、酸無水物又は酸ハロゲン化物存在下フェノール又はナフトール類とｐ−ニトロソアニリン誘導体とので縮合反応が知られている。しかし、この方法は皮膚感作性の強いｐ−ニトロソアニリン誘導体を直接取り扱うため、人体への影響が大きく、工業的な製造方法に用いることは好ましくない。他の方法として、酸化剤存在下でのフェノール又はナフトール類とｐ−フェニレンジアミン誘導体との酸化カップリング法が知られている。この方法はｐ−ニトロソアニリン誘導体を取り扱わないので先の問題は回避できるが、高純度のインドアニリン色素を得るために精製を行う必要があり、コスト的な面から工業的な製造法として相応しくない。
特開昭６１−２６８４９３号公報
特開昭６１−３１２９２号公報
特開昭６１−３５９９４号公報
特開平２−９８４９２号公報
これらインドアニリン色素の一般的な製造方法としては、酸無水物又は酸ハロゲン化物存在下フェノール又はナフトール類とｐ−ニトロソアニリン誘導体とので縮合反応が知られている。しかし、この方法は皮膚感作性の強いｐ−ニトロソアニリン誘導体を直接取り扱うため、人体への影響が大きく、工業的な製造方法に用いることは好ましくない。他の方法として、酸化剤存在下でのフェノール又はナフトール類とｐ−フェニレンジアミン誘導体との酸化カップリング法が知られている。この方法はｐ−ニトロソアニリン誘導体を取り扱わないので先の問題は回避できるが、高純度のインドアニリン色素を得るために精製を行う必要があり、コスト的な面から工業的な製造法として相応しくない。
本発明の目的は、皮膚感作性が強いニトロソ化合物を直接取り扱うことなく、インドアニリン色素を高純度、低コストで工業的規模での生産可能な製造方法を提供することにある。
本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、中間体であるニトロソ化合物を単離することなく一貫法で合成する方法、更にはニトロソ化工程、アミド化工程および色素化工程を一貫法で行うインドアニリン色素の合成法を見出した。
また、ニトロソ化合物を合成し、次いで取り出さずにそのままオルトアミノフェノール化合物と反応するインドアニリン色素の合成法を見出した。
更にはニトロソ化反応を特定の酸素濃度条件下で行うことにより、顕著な反応率の向上および不安定なニトロソ化合物の劣化抑制効果を初めて見出し、ニトロソ化合物を取り出さない工業生産可能な合成法を完成させた。すなわち、本発明は以下の方法によって達成される。
また、ニトロソ化合物を合成し、次いで取り出さずにそのままオルトアミノフェノール化合物と反応するインドアニリン色素の合成法を見出した。
更にはニトロソ化反応を特定の酸素濃度条件下で行うことにより、顕著な反応率の向上および不安定なニトロソ化合物の劣化抑制効果を初めて見出し、ニトロソ化合物を取り出さない工業生産可能な合成法を完成させた。すなわち、本発明は以下の方法によって達成される。
（１）
（ａ）下記一般式（Ｉ）で表されるオルトアミノフェノール化合物をアミド化合物（ＩＩ）に誘導する工程、
（ｂ）下記一般式（ＩＩＩ）で表されるアニリン化合物をニトロソ化合物（ＩＶ）に誘導する工程、および
（ｃ）工程（ａ）で得られたアミド化合物と工程（ｂ）で得られたニトロソ化合物とを酸無水物または酸ハロゲン化物存在下で縮合する工程、
を含み、且つ少なくとも工程（ｂ）で得られたニトロソ化合物を単離することなく工程（ｃ）を行うことを特徴とする下記一般式（Ｖ）で表されるインドアニリン色素の製造方法。
（ａ）下記一般式（Ｉ）で表されるオルトアミノフェノール化合物をアミド化合物（ＩＩ）に誘導する工程、
（ｂ）下記一般式（ＩＩＩ）で表されるアニリン化合物をニトロソ化合物（ＩＶ）に誘導する工程、および
（ｃ）工程（ａ）で得られたアミド化合物と工程（ｂ）で得られたニトロソ化合物とを酸無水物または酸ハロゲン化物存在下で縮合する工程、
を含み、且つ少なくとも工程（ｂ）で得られたニトロソ化合物を単離することなく工程（ｃ）を行うことを特徴とする下記一般式（Ｖ）で表されるインドアニリン色素の製造方法。
式中、Ｒ１〜Ｒ６、およびｎは前記と同じ意味を有する。
（２）
前記工程（ａ）で得られるアミド化合物（ＩＩ）の単離精製を行なわず反応液の状態で工程（ｃ）を行うことを特徴とする（１）のインドアニリン色素の製造方法。
前記工程（ａ）で得られるアミド化合物（ＩＩ）の単離精製を行なわず反応液の状態で工程（ｃ）を行うことを特徴とする（１）のインドアニリン色素の製造方法。
（３）
前記工程（ｂ）で得られたニトロソ化合物の反応溶液に、上記一般式（Ｉ）で表されるオルトアミノフェノール化合物を添加することで、前記工程（ａ）と前記工程（ｃ）とを同一系内で行うことを特徴とする上記（１）のインドアニリン色素の製造方法。
前記工程（ｂ）で得られたニトロソ化合物の反応溶液に、上記一般式（Ｉ）で表されるオルトアミノフェノール化合物を添加することで、前記工程（ａ）と前記工程（ｃ）とを同一系内で行うことを特徴とする上記（１）のインドアニリン色素の製造方法。
（４）
系内の酸素濃度が１２体積％以下の条件で前記工程（ｂ）を行うことを特徴とする（１）〜（３）記載のインドアニリン色素の製造方法。
系内の酸素濃度が１２体積％以下の条件で前記工程（ｂ）を行うことを特徴とする（１）〜（３）記載のインドアニリン色素の製造方法。
本発明により、皮膚感作性が強いニトロソ化合物中間体を直接取り扱うことなく、インドアニリン色素を高純度、低コストで工業的規模で製造することが可能となった。
以下に本発明について更に詳しく説明する。
本発明の方法をより詳しく説明するために、本発明の方法の一態様を一例として下記に示すが、本発明の内容がこれに限定されるものではない。
本発明の方法をより詳しく説明するために、本発明の方法の一態様を一例として下記に示すが、本発明の内容がこれに限定されるものではない。
式中、
Ｒ１およびＲ２は各々独立して水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。Ｒ１とＲ２が連結して環を形成してもよい。
Ｒ３およびＲ４は各々独立してアルキル基またはアリール基を表す。
Ｒ５は水素原子、アルキル基、アリール基、水酸基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。
Ｒ６はアルキル基、アリール基またはヘテロ環残基を表す。
ｎは１〜２の整数を表す。ｎが２の場合、複数のＲ５は同じでも異なってもよい。
Ｒ１およびＲ２は各々独立して水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。Ｒ１とＲ２が連結して環を形成してもよい。
Ｒ３およびＲ４は各々独立してアルキル基またはアリール基を表す。
Ｒ５は水素原子、アルキル基、アリール基、水酸基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。
Ｒ６はアルキル基、アリール基またはヘテロ環残基を表す。
ｎは１〜２の整数を表す。ｎが２の場合、複数のＲ５は同じでも異なってもよい。
更に本発明では、ニトロソ化合物（ＩＶ）を取り出さずにそのままもう一方の出発物質であるオルトアミノフェノール化合物（Ｉ）と反応することにより、目的物を更に低コストで製造することが可能となる。
式中、Ｒ１〜Ｒ６およびｎは前記と同じ意味を有する。
本発明の一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）で表される化合物において、Ｒ１〜Ｒ６が表すアルキル基とは、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、イコシル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル等、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状アルキル基を表す。
Ｒ１〜Ｒ６が表すアリール基とは、例えばフェニル、ナフチル等の５〜１０員の単環式またはニ環式炭素アリール基を表す。
Ｒ１〜Ｒ２およびＲ５が表すアルコキシ基とは、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ、トリデシルオキシ、テトラデシルオキシ、ペンタデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、ヘプタデシルオキシ、オクタデシルオキシ、ノナデシルオキシ、イコシルオキシ等の炭素数１〜２０のアルコキシ基を表す。
Ｒ１〜Ｒ６が表すアリール基とは、例えばフェニル、ナフチル等の５〜１０員の単環式またはニ環式炭素アリール基を表す。
Ｒ１〜Ｒ２およびＲ５が表すアルコキシ基とは、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ、トリデシルオキシ、テトラデシルオキシ、ペンタデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、ヘプタデシルオキシ、オクタデシルオキシ、ノナデシルオキシ、イコシルオキシ等の炭素数１〜２０のアルコキシ基を表す。
Ｒ１、Ｒ２およびＲ５が表すアルキルカルボニル基とは、例えばアセチル、プロパノイル、ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル等の炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状アルキル基が置換したカルボニル基を表す。
Ｒ１、Ｒ２およびＲ５が表すアリールカルボニル基とは、ベンゾイル、ナフトイル等の５〜１０員の単環式またはニ環式炭素アリール基が置換したカルボニル基を表す。
Ｒ１、Ｒ２およびＲ５が表すアルキルカルボニルアミノ基とは、例えばアセチルアミノ、プロパノイルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルアミノ、ｎ−ヘキシルカルボニルアミノ等の炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状アルキル基が置換したカルボニルアミノ基を表す。
Ｒ１、Ｒ２およびＲ５が表すアリールカルボニルアミノ基とは、例えばベンゾイルアミノ、ナフトイルアミノ等の５〜１０員の単環式またはニ環式炭素アリール基が置換したカルボニルアミノ基を表す。
Ｒ１、Ｒ２およびＲ５が表すアルキルスルホニルアミノ基とは、例えばメチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、イソプロピルスルホニルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニルアミノ、ｎ−オクチルスルホニルアミノ等の炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状アルキル基が置換したスルホニルアミノ基を表す。
Ｒ１、Ｒ２およびＲ５が表すアリールスルホニルアミノ基とは、例えばフェニルスルホニルアミノ、ナフチルスルホニルアミノ等の５〜１０員の単環式またはニ環式炭素アリール基が置換したスルホニルアミノ基を表す。
Ｒ１、Ｒ２およびＲ５が表すハロゲン原子とは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等を表す。
Ｒ１、Ｒ２およびＲ５が表すアリールカルボニル基とは、ベンゾイル、ナフトイル等の５〜１０員の単環式またはニ環式炭素アリール基が置換したカルボニル基を表す。
Ｒ１、Ｒ２およびＲ５が表すアルキルカルボニルアミノ基とは、例えばアセチルアミノ、プロパノイルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルアミノ、ｎ−ヘキシルカルボニルアミノ等の炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状アルキル基が置換したカルボニルアミノ基を表す。
Ｒ１、Ｒ２およびＲ５が表すアリールカルボニルアミノ基とは、例えばベンゾイルアミノ、ナフトイルアミノ等の５〜１０員の単環式またはニ環式炭素アリール基が置換したカルボニルアミノ基を表す。
Ｒ１、Ｒ２およびＲ５が表すアルキルスルホニルアミノ基とは、例えばメチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、イソプロピルスルホニルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニルアミノ、ｎ−オクチルスルホニルアミノ等の炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状アルキル基が置換したスルホニルアミノ基を表す。
Ｒ１、Ｒ２およびＲ５が表すアリールスルホニルアミノ基とは、例えばフェニルスルホニルアミノ、ナフチルスルホニルアミノ等の５〜１０員の単環式またはニ環式炭素アリール基が置換したスルホニルアミノ基を表す。
Ｒ１、Ｒ２およびＲ５が表すハロゲン原子とは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等を表す。
Ｒ６が表すヘテロ環残基とは、イミダゾリル、オキサゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、ピリジル、ピリミジル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサゾリル等の窒素原子、酸素原子または硫黄原子を少なくとも１個以上含む４〜８員のヘテロ環残基を表す。
Ｒ１とＲ２が連結して環を形成してもよい。かかる環としてはシクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン等の４〜７員の部分飽和環；ベンゼン等の芳香環が挙げられる。
Ｒ１とＲ２が連結して環を形成してもよい。かかる環としてはシクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン等の４〜７員の部分飽和環；ベンゼン等の芳香環が挙げられる。
これらＲ１〜Ｒ６における各置換基は更に置換基を有してもよく、反応に関与しないものであれば特に制限されない。更なる置換基としては、具体的にはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル等のアルキル基；ビニル、アリル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル、ヘキサデセニル、ヘプタデセニル、オクタデセニル、ノナデセニル、イコセニル、ヘキサジエニル、ドデカトリエニル等のアルケニル基；エチニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチニル、ノニニル、シクロオクチニル、シクロノニニル、シクロデシニル等のアルキニル基；水酸基；フェニル、ナフチル、フェナントリル、アントリル等の単環式またはニ〜四環式アリール基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ等のアルコキシ基；フェノキシ、ナフチルオキシ等のアリールオキシ基；ジメチルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、Ｎ−フェニル−Ｎ−ナフチルアミノ等のアルキル基および／またはアリール基でジ置換されたアミノ基；ニトロ基；フリル、チエニル、ピリジル等のヘテロ環残基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。好ましくはアルキル基、アリール基、ハロゲン原子であり、より好ましくはアルキル基、アリール基である。
Ｒ１は好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、炭素数１〜４の低級アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、塩素原子である。
Ｒ２は好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、炭素数１〜４の低級アルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基である。
Ｒ３およびＲ４は、各々好ましくはアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜４の低級アルキル基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基である。
Ｒ５は好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、より好ましくは水素原子、炭素数１〜４の低級アルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。
Ｒ６は好ましくは炭素数１〜８のアルキル基、フェニル基、ナフチル基、５〜６員の含窒素ヘテロ環残基であり、より好ましくは炭素数１〜４の低級アルキル基、フェニル基、ピリジル基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基、フェニル基である。
Ｒ２は好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、炭素数１〜４の低級アルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基である。
Ｒ３およびＲ４は、各々好ましくはアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜４の低級アルキル基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基である。
Ｒ５は好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、より好ましくは水素原子、炭素数１〜４の低級アルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。
Ｒ６は好ましくは炭素数１〜８のアルキル基、フェニル基、ナフチル基、５〜６員の含窒素ヘテロ環残基であり、より好ましくは炭素数１〜４の低級アルキル基、フェニル基、ピリジル基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基、フェニル基である。
次に本発明の製造方法について述べる。
＜工程（ａ）＞
まず、一般式（Ｉ）で表されるオルトアミノフェノール化合物をアミド化する工程（ａ）について説明する。
本発明で用いる原料のオルトアミノフェノール化合物（Ｉ）は多種市販されており、容易に入手可能である。また、同様に入手容易なオルトニトロフェノール類から、公知の還元反応により容易に合成することもできる。
本工程では、従来から知られているアミド化反応を用いることができる。本工程のアミド化剤は通常酸無水物または酸ハロゲン化物を用いるが、Ｒ６の構造によって選択する酸無水物または酸ハロゲン化物が決定する。例えば、Ｒ６がメチル基の場合は無水酢酸や塩化アセチルを、Ｒ６がフェニル基の場合は無水安息香酸やベンゾイルクロリドを、各々目的物に応じたアミド化剤を選択する必要がある。これらの酸無水物または酸ハロゲン化物は多種市販されており入手容易であるし、また、種々のカルボン酸化合物から公知の脱水反応またはクロル化反応により調製することも可能である。
これらアミド化剤の使用量は、オルトアミノフェノール化合物１モルに対し通常０．１〜５．０モルであり、好ましくは０．５〜３．０モル、より好ましくは０．８〜２．０モルである。
アミド化剤はそのまま反応系に加えても良いし、アミド化剤を反応溶媒等に溶解しその溶液を滴下して添加してもよい。アミド化剤を添加する際の温度は通常内温−２０〜５０℃の範囲であり、好ましくは−１０〜４０℃、より好ましくは１０〜３０℃の範囲である。添加／滴下時間は系内の温度を範囲内に保って行うことで特に制限されない。
＜工程（ａ）＞
まず、一般式（Ｉ）で表されるオルトアミノフェノール化合物をアミド化する工程（ａ）について説明する。
本発明で用いる原料のオルトアミノフェノール化合物（Ｉ）は多種市販されており、容易に入手可能である。また、同様に入手容易なオルトニトロフェノール類から、公知の還元反応により容易に合成することもできる。
本工程では、従来から知られているアミド化反応を用いることができる。本工程のアミド化剤は通常酸無水物または酸ハロゲン化物を用いるが、Ｒ６の構造によって選択する酸無水物または酸ハロゲン化物が決定する。例えば、Ｒ６がメチル基の場合は無水酢酸や塩化アセチルを、Ｒ６がフェニル基の場合は無水安息香酸やベンゾイルクロリドを、各々目的物に応じたアミド化剤を選択する必要がある。これらの酸無水物または酸ハロゲン化物は多種市販されており入手容易であるし、また、種々のカルボン酸化合物から公知の脱水反応またはクロル化反応により調製することも可能である。
これらアミド化剤の使用量は、オルトアミノフェノール化合物１モルに対し通常０．１〜５．０モルであり、好ましくは０．５〜３．０モル、より好ましくは０．８〜２．０モルである。
アミド化剤はそのまま反応系に加えても良いし、アミド化剤を反応溶媒等に溶解しその溶液を滴下して添加してもよい。アミド化剤を添加する際の温度は通常内温−２０〜５０℃の範囲であり、好ましくは−１０〜４０℃、より好ましくは１０〜３０℃の範囲である。添加／滴下時間は系内の温度を範囲内に保って行うことで特に制限されない。
本工程では反応溶媒は使用しなくても、必要に応じて使用してもよい。用いる溶媒は反応に関与しないものであれば制限はない。例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒；トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、メシチレン等の芳香族系溶媒；アセトン、ブタノン等のケトン系溶媒；テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒が挙げられる。これらの中でも好ましくは、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトニトリル、トルエンであり、より好ましくは酢酸エチルである。また、２種以上の溶媒を混合して用いることができ、混合比は任意に定めることができる。溶媒の使用量は、アミノ化合物に対し０．１〜１００倍重量の範囲であるが、好ましくは０．５〜５０倍重量、より好ましくは１〜１０倍重量である。
アミド化反応における反応温度は−２０〜１００℃の範囲であり、好ましくは−１０〜５０℃、より好ましくは１０〜３０℃である。反応時間は通常２４時間以内で終了し、多くの場合、１〜４時間で終了する。
アミド化反応終了後、通常の有機化合物の単離・精製方法を用いてアミド化合物を単離してもよいが、一貫法で次工程の縮合反応に使用すると低コストに製造できるので好ましい。
なお、本発明における一貫法とは、反応後に反応器から反応液を取り出さずそのまま次工程を行うか、或いは合成した化合物の単離精製を行わず反応液の状態で次工程を行うことをいう。
アミド化反応における反応温度は−２０〜１００℃の範囲であり、好ましくは−１０〜５０℃、より好ましくは１０〜３０℃である。反応時間は通常２４時間以内で終了し、多くの場合、１〜４時間で終了する。
アミド化反応終了後、通常の有機化合物の単離・精製方法を用いてアミド化合物を単離してもよいが、一貫法で次工程の縮合反応に使用すると低コストに製造できるので好ましい。
なお、本発明における一貫法とは、反応後に反応器から反応液を取り出さずそのまま次工程を行うか、或いは合成した化合物の単離精製を行わず反応液の状態で次工程を行うことをいう。
＜工程（ｂ）＞
次に、一般式（ＩＩＩ）で表されるアニリン化合物をニトロソ化する工程（ｂ）について説明する。本工程で用いるアニリン化合物（ＩＩＩ）も多種市販されており、容易に入手可能である。
本工程では通常のニトロソ化剤を用いることができるが、安価で入手し易く取り扱いが容易な亜硝酸ナトリウムを用いることが好ましい。亜硝酸ナトリウムの使用量は、アニリン化合物１モルに対し通常０．１〜５．０モル、好ましくは０．５〜３．０モル、より好ましくは０．８〜２．０モルである。
ニトロソ化剤はそのまま反応系に加えても良いし、水溶液として滴下してもよい。ニトロソ化剤を添加／滴下する際の温度は通常内温−２０〜５０℃の範囲であり、好ましくは−１０〜３０℃、より好ましくは０〜１０℃の範囲である。添加／滴下時間は特に制限されないが、ニトロソ化剤の添加／滴下時間が長いと副生成物を与えやすいので、系内の温度を範囲内に保って短時間に行うことが好ましい。
次に、一般式（ＩＩＩ）で表されるアニリン化合物をニトロソ化する工程（ｂ）について説明する。本工程で用いるアニリン化合物（ＩＩＩ）も多種市販されており、容易に入手可能である。
本工程では通常のニトロソ化剤を用いることができるが、安価で入手し易く取り扱いが容易な亜硝酸ナトリウムを用いることが好ましい。亜硝酸ナトリウムの使用量は、アニリン化合物１モルに対し通常０．１〜５．０モル、好ましくは０．５〜３．０モル、より好ましくは０．８〜２．０モルである。
ニトロソ化剤はそのまま反応系に加えても良いし、水溶液として滴下してもよい。ニトロソ化剤を添加／滴下する際の温度は通常内温−２０〜５０℃の範囲であり、好ましくは−１０〜３０℃、より好ましくは０〜１０℃の範囲である。添加／滴下時間は特に制限されないが、ニトロソ化剤の添加／滴下時間が長いと副生成物を与えやすいので、系内の温度を範囲内に保って短時間に行うことが好ましい。
本工程では反応溶媒は使用しなくても、必要に応じて使用してもよい。用いる溶媒は反応に関与しないものであれば制限はない。また、２種以上の溶媒を混合して用いることができ、混合使用の際の混合比は任意に定めることができる。用いる溶媒は、例えば水；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒；トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、メシチレン等の芳香族系溶媒；アセトン、ブタノン等のケトン系溶媒；テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒が挙げられる。好ましくは、水、ジメチルアセトアミド、酢酸エチル、アセトニトリル、トルエン、水とジメチルアセトアミドの混合溶媒であり、より好ましくは水とジメチルアセトアミドの混合溶媒である。溶媒の使用量は、アニリン化合物に対し０．１〜１００倍重量の範囲であるが、好ましくは０．５〜５０倍重量、より好ましくは１〜１０倍重量である。
ニトロソ化反応の際、反応温度が高いと不純物が多量に生成するため、反応温度は通常−２０〜５０℃の範囲であり、好ましくは−１０〜４０℃、より好ましくは０〜２０℃である。反応時間は通常２４時間以内で終了し、多くの場合、３０分〜２時間で終了する。
ニトロソ化反応の際、反応温度が高いと不純物が多量に生成するため、反応温度は通常−２０〜５０℃の範囲であり、好ましくは−１０〜４０℃、より好ましくは０〜２０℃である。反応時間は通常２４時間以内で終了し、多くの場合、３０分〜２時間で終了する。
また、本工程ではニトロソ化合物を単離せずに次工程に使用するため、反応生成率の安定化および反応における不純物の抑制が重要である。アニリン化合物のニトロソ化反応では通常、ニトロ化合物やその二量化化合物などの酸化不純物が副生する傾向にある。本発明においては反応率の向上および酸化不純物を高度に抑制するために、ニトロソ化剤の添加時と続くニトロソ化反応時は酸素濃度が１２体積％以下の条件で行われることが好ましい。より好ましくは酸素濃度が１０体積％以下であり、更に好ましくは８体積％以下である。
具体的には、原料投入した後、ニトロソ化剤を加える前に反応器内を減圧して酸素を除去し、次いで窒素等の不活性ガスを導入し反応器内を常圧に戻す。不活性ガスの導入は反応器の上部からでも良いし、反応器下部より導入しバブリングさせてもよい。このとき投入した原料中の酸素を効率良く除去するために、攪拌下で酸素を除去するのが好ましい。この操作を１回又は数回繰り返した後、不活性ガスを反応器内に流通させながら、大気中の酸素濃度を２０．９体積％に補正した酸素濃度計を用いて反応系内の酸素濃度が１２体積％以下であることを確認する。その酸素濃度雰囲気下、密閉系でニトロソ化剤を添加／滴定し、その後所定温度でニトロソ化反応を行う。用いる不活性ガスは化学的に不活性なものであれば特に制限されないが、安価な窒素がより好ましく用いられる。
なお、上述の低酸素濃度の状態はニトロソ化反応終了後、少なくとも酢酸エチルやトルエン等の有機溶媒を反応液に添加し抽出するまで継続することが好ましい。得られた反応溶液は水で洗浄した後、単離せずに反応溶液のまま縮合反応に使用する。
具体的には、原料投入した後、ニトロソ化剤を加える前に反応器内を減圧して酸素を除去し、次いで窒素等の不活性ガスを導入し反応器内を常圧に戻す。不活性ガスの導入は反応器の上部からでも良いし、反応器下部より導入しバブリングさせてもよい。このとき投入した原料中の酸素を効率良く除去するために、攪拌下で酸素を除去するのが好ましい。この操作を１回又は数回繰り返した後、不活性ガスを反応器内に流通させながら、大気中の酸素濃度を２０．９体積％に補正した酸素濃度計を用いて反応系内の酸素濃度が１２体積％以下であることを確認する。その酸素濃度雰囲気下、密閉系でニトロソ化剤を添加／滴定し、その後所定温度でニトロソ化反応を行う。用いる不活性ガスは化学的に不活性なものであれば特に制限されないが、安価な窒素がより好ましく用いられる。
なお、上述の低酸素濃度の状態はニトロソ化反応終了後、少なくとも酢酸エチルやトルエン等の有機溶媒を反応液に添加し抽出するまで継続することが好ましい。得られた反応溶液は水で洗浄した後、単離せずに反応溶液のまま縮合反応に使用する。
＜工程（ｃ）＞
次に、前記で得られた一般式（ＩＩ）で表されるアミド化合物と一般式（ＩＶ）で表されるニトロソ化合物とを縮合反応させて一般式（ＶＩ）で表されるインドアニリン色素を得る工程（ｃ）について説明する。なお、本工程では、ニトロソ化合物の反応溶液とアミド化反応後に単離したアミド化合物またはアミド化反応後の反応溶液とを混合しそのまま縮合反応を行う。
次に、前記で得られた一般式（ＩＩ）で表されるアミド化合物と一般式（ＩＶ）で表されるニトロソ化合物とを縮合反応させて一般式（ＶＩ）で表されるインドアニリン色素を得る工程（ｃ）について説明する。なお、本工程では、ニトロソ化合物の反応溶液とアミド化反応後に単離したアミド化合物またはアミド化反応後の反応溶液とを混合しそのまま縮合反応を行う。
本工程で用いる縮合剤は、酸無水物または酸ハロゲン化物である。
用いる酸無水物としては、具体的には無水酢酸、無水プロピオン酸、無水ｎ−酪酸、無水イソ酪酸、無水ｎ−吉草酸、無水イソ吉草酸、無水ｎ−カプロン酸、無水マレイン酸、無水コハク酸等のアルキルカルボン酸無水物；無水安息香酸、無水フタル酸等のアリールカルボン酸無水物；ベンゼンスルホン酸無水物、無水トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸無水物が挙げられる。
用いる酸ハロゲン化物としては、具体的には塩化アセチル、トリクロロアセチルクロリド、塩化プロピオニル、ベンゾイルクロリド、クロロギ酸エチル、クロロギ酸フェニル等のハロゲン化アシル；メタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド等のハロゲン化スルホニルが挙げられる。
これらの中で好ましくは、塩化アセチル、ベンゾイルクロリド、メタンスルホニルクロリド、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸、ベンゼンスルホン酸無水物であり、より好ましくは塩化アセチル、ベンゾイルクロリド、無水酢酸、無水プロピオン酸である。
酸無水物または酸ハロゲン化物の使用量は、アミド化合物（ＩＩ）に対して０．１〜１０モルであり、好ましくは０．５〜５モル、より好ましくは１〜３モルである。
用いる酸無水物としては、具体的には無水酢酸、無水プロピオン酸、無水ｎ−酪酸、無水イソ酪酸、無水ｎ−吉草酸、無水イソ吉草酸、無水ｎ−カプロン酸、無水マレイン酸、無水コハク酸等のアルキルカルボン酸無水物；無水安息香酸、無水フタル酸等のアリールカルボン酸無水物；ベンゼンスルホン酸無水物、無水トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸無水物が挙げられる。
用いる酸ハロゲン化物としては、具体的には塩化アセチル、トリクロロアセチルクロリド、塩化プロピオニル、ベンゾイルクロリド、クロロギ酸エチル、クロロギ酸フェニル等のハロゲン化アシル；メタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド等のハロゲン化スルホニルが挙げられる。
これらの中で好ましくは、塩化アセチル、ベンゾイルクロリド、メタンスルホニルクロリド、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸、ベンゼンスルホン酸無水物であり、より好ましくは塩化アセチル、ベンゾイルクロリド、無水酢酸、無水プロピオン酸である。
酸無水物または酸ハロゲン化物の使用量は、アミド化合物（ＩＩ）に対して０．１〜１０モルであり、好ましくは０．５〜５モル、より好ましくは１〜３モルである。
縮合剤はそのまま反応系に加えても良いし、縮合剤を反応溶媒等に溶解しその溶液を滴下して添加してもよい。また、縮合剤は単離したアミド化合物若しくはアミド化合物の反応溶液と、ニトロソ化合物の反応溶液とを混合しその後で系内に加えるか、またはアミド化合物若しくはアミド化合物の反応溶液に縮合剤を加え、その後にニトロソ化合物の反応溶液と混合するか、いづれかの方法で添加する。縮合剤の添加／滴下時間は特に制限されないが、縮合剤を加える時間が長いと副生成物を与えやすいので、系内の温度を範囲内に保って短時間に行うことが好ましい。
本工程の反応温度は、−２０〜８０℃の範囲であり、好ましくは−１０〜４０℃、より好ましくは０〜２０℃である。反応時間は通常２４時間以内で終了し、多くの場合、３０分〜２時間で終了する。
本工程の反応温度は、−２０〜８０℃の範囲であり、好ましくは−１０〜４０℃、より好ましくは０〜２０℃である。反応時間は通常２４時間以内で終了し、多くの場合、３０分〜２時間で終了する。
得られたインドアニリン色素は、通常の有機化合物の単離・精製方法を用いることが出来る。好ましくは、反応液に水や有機溶剤を添加し析出した結晶を取り出す方法である。更に、目的物は必要に応じて、酢酸エチル、トルエン、アルコール、ヘキサン等を用いた洗浄や再結晶、シリカゲルを用いたカラム精製、または減圧蒸留等により精製する。これらの精製方法を単独又は２つ以上組み合わせて行うことにより、目的物を高純度で得ることが可能である。特に、粗結晶単離後にメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の有機溶剤で繰り返し洗浄して精製を行った場合は、高純度且つ低コストで製造できるのでより好ましい。精製の際の溶媒量は、インドアニリン色素粗結晶に対して通常１〜１０重量部、好ましくは３〜８重量部、より好ましくは４〜６重量部である。
この縮合反応工程（ｃ）は、前記したアミド化反応工程（ａ）と同一系内で同時に行ってもよい。即ち、前記工程（ｂ）を一貫法で行い、次いで上記一般式（Ｉ）で表されるオルトアミノフェノール化合物を添加することで、前記工程（ａ）と前記工程（ｃ）とを同一系内で同時に反応させることもできる。以下、この連続した工程について説明する。
本工程は、オルトアミノフェノール化合物（Ｉ）と工程（ｂ）で得られたニトロソ化合物の反応溶液とを混合し、アミド化反応と縮合反応とを同一系内にて行う工程である。
本工程のオルトアミノフェノール化合物（Ｉ）の使用量は、アニリン化合物（ＩＩＩ）１モルに対して０．０５〜３．０モルであり、好ましくは０．１〜２．０モル、より好ましくは０．５〜１．０モルである。
本工程は、オルトアミノフェノール化合物（Ｉ）と工程（ｂ）で得られたニトロソ化合物の反応溶液とを混合し、アミド化反応と縮合反応とを同一系内にて行う工程である。
本工程のオルトアミノフェノール化合物（Ｉ）の使用量は、アニリン化合物（ＩＩＩ）１モルに対して０．０５〜３．０モルであり、好ましくは０．１〜２．０モル、より好ましくは０．５〜１．０モルである。
本工程では、前述した工程（ａ）で用いるアミド化剤をアミド化および縮合反応の試薬として用いる。本工程では前述したアミド化剤のいずれも用いることができるが、酸無水物を用いることが好ましい。その中でも無水酢酸、無水プロピオン酸、無水ｎ−酪酸、無水ｎ−吉草酸が好ましく、更に無水酢酸、無水プロピオン酸、無水ｎ−酪酸がより好ましい。酸無水物の使用量は、アニリン化合物（ＩＩＩ）１モルに対して０．１〜１０モルであり、好ましくは０．５〜５モル、より好ましくは１〜３モルである。
本工程の反応温度は、−２０〜８０℃の範囲であり、好ましくは−１０〜４０℃、より好ましくは０〜２０℃である。反応時間は通常２４時間以内で終了し、多くの場合３０分〜２時間で終了する。
反応終了後の後処理は、通常行われている如何なる方法でも可能であるが、好ましくは反応液に水や有機溶剤を添加して析出した結晶を取り出す方法である。
更に、目的物は必要に応じて酢酸エチル、トルエン、アルコール、ヘキサン等を用いた洗浄や、再結晶、シリカゲルを用いたカラム精製、または減圧蒸留等により精製する。これらの精製方法を単独又は２つ以上組み合わせて行うことにより、目的物を高純度で得ることが可能である。特に粗結晶単離後にメタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどの有機溶剤で繰り返し洗浄し精製を行った場合は、高純度且つ低コストで目的物を製造できるのでより好ましい。精製の際の溶媒量は、インドアニリン色素粗結晶に対して通常１〜１０重量部、好ましくは３〜８重量部、より好ましくは４〜６重量部である。
本工程の反応温度は、−２０〜８０℃の範囲であり、好ましくは−１０〜４０℃、より好ましくは０〜２０℃である。反応時間は通常２４時間以内で終了し、多くの場合３０分〜２時間で終了する。
反応終了後の後処理は、通常行われている如何なる方法でも可能であるが、好ましくは反応液に水や有機溶剤を添加して析出した結晶を取り出す方法である。
更に、目的物は必要に応じて酢酸エチル、トルエン、アルコール、ヘキサン等を用いた洗浄や、再結晶、シリカゲルを用いたカラム精製、または減圧蒸留等により精製する。これらの精製方法を単独又は２つ以上組み合わせて行うことにより、目的物を高純度で得ることが可能である。特に粗結晶単離後にメタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどの有機溶剤で繰り返し洗浄し精製を行った場合は、高純度且つ低コストで目的物を製造できるのでより好ましい。精製の際の溶媒量は、インドアニリン色素粗結晶に対して通常１〜１０重量部、好ましくは３〜８重量部、より好ましくは４〜６重量部である。
以下に一般式（Ｖ）で表される各化合物の具体例を示すが、本発明はこれらの化合物に限定されない。
本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例中、％は別に規定が無い限り質量％を表す。
なお、純度の評価は高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣと略記する）により行った。
ＨＰＬＣ条件は以下の通りである。
カラム：ＹＭＣ−ＰＡＣＫ Ａ−３１２、
検出ＵＶ ２５４ｎｍ、
流量１．０ｍｌ／ｍｉｎ、
溶離液：メタノール／水＝９０／１０ バッファー トリエチルアミン０．２％および酢酸０．２％
実施例中、％は別に規定が無い限り質量％を表す。
なお、純度の評価は高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣと略記する）により行った。
ＨＰＬＣ条件は以下の通りである。
カラム：ＹＭＣ−ＰＡＣＫ Ａ−３１２、
検出ＵＶ ２５４ｎｍ、
流量１．０ｍｌ／ｍｉｎ、
溶離液：メタノール／水＝９０／１０ バッファー トリエチルアミン０．２％および酢酸０．２％
実施例１ Ｎ−［３−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニルイミノ）−４−メチル−６−オキソ−１，４−シクロヘキサジエン−１−イル］アセトアミドの合成１：工程（ｂ）と（ｃ）とを各々一貫法とした方法
６−アミノメタクレゾール１５ｇ（０．１２３ｍｏｌ）を酢酸エチル５０ｍｌに溶解し、無水酢酸１２．５ｇ（０．１２３ｍｏｌ）を滴下後、２５℃で３時間反応した。その後、濾別し水で洗浄後、結晶を取り出し乾燥して、アミド体の結晶１６．７gを得た（収率８２．３％）。ＨＰＬＣ測定の結果、純度は９８．８％であった。
ジエチルトルイルアミン３０．１ｇ（０．１８４ｍｏｌ）を水２００ｍｌおよびジエチルアセトアミド５０ｍｌに溶解した。塩酸４８ｇ（０．４６０ｍｏｌ）を添加した後、酸素濃度計（横河電気社製ＰＯＣＫＥＴ ＯＸＹＧＥＮ ＡＬＡＲＭ ＯＸ５１）で測定しながら系内に窒素を導入し、系内の酸素濃度を５％にした。酸素濃度５％の雰囲気下、内温を５℃に冷却しながら亜硝酸ソーダ１４ｇ（０．２０２ｍｏｌ）を水３２ｍｌに溶解した水溶液を滴下し、その後５℃で２時間反応した。反応終了後、酢酸エチル１５０ｍｌを添加し分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、先に単離したアミド体２０．３ｇを添加し、無水酢酸１８．８ｇ（０．１８４ｍｏｌ）を滴下後、１０℃で２時間反応した。反応終了後、メタノール１９９ｍｌと水１３２ｍｌを添加し、１０℃で１時間晶析した。結晶を濾過し、目的物の粗結晶３６．６ｇを得た。更に、この粗結晶をメタノール１８５ｍｌで洗浄して精製し乾燥して、目的物の結晶３３．４ｇを得た（収率７３．０％）。ＨＰＬＣによる測定の結果、純度は９９．２％であった。
６−アミノメタクレゾール１５ｇ（０．１２３ｍｏｌ）を酢酸エチル５０ｍｌに溶解し、無水酢酸１２．５ｇ（０．１２３ｍｏｌ）を滴下後、２５℃で３時間反応した。その後、濾別し水で洗浄後、結晶を取り出し乾燥して、アミド体の結晶１６．７gを得た（収率８２．３％）。ＨＰＬＣ測定の結果、純度は９８．８％であった。
ジエチルトルイルアミン３０．１ｇ（０．１８４ｍｏｌ）を水２００ｍｌおよびジエチルアセトアミド５０ｍｌに溶解した。塩酸４８ｇ（０．４６０ｍｏｌ）を添加した後、酸素濃度計（横河電気社製ＰＯＣＫＥＴ ＯＸＹＧＥＮ ＡＬＡＲＭ ＯＸ５１）で測定しながら系内に窒素を導入し、系内の酸素濃度を５％にした。酸素濃度５％の雰囲気下、内温を５℃に冷却しながら亜硝酸ソーダ１４ｇ（０．２０２ｍｏｌ）を水３２ｍｌに溶解した水溶液を滴下し、その後５℃で２時間反応した。反応終了後、酢酸エチル１５０ｍｌを添加し分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、先に単離したアミド体２０．３ｇを添加し、無水酢酸１８．８ｇ（０．１８４ｍｏｌ）を滴下後、１０℃で２時間反応した。反応終了後、メタノール１９９ｍｌと水１３２ｍｌを添加し、１０℃で１時間晶析した。結晶を濾過し、目的物の粗結晶３６．６ｇを得た。更に、この粗結晶をメタノール１８５ｍｌで洗浄して精製し乾燥して、目的物の結晶３３．４ｇを得た（収率７３．０％）。ＨＰＬＣによる測定の結果、純度は９９．２％であった。
実施例２ Ｎ−［３−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニルイミノ）−４−メチル−６−オキソ−１，４−シクロヘキサジエン−１−イル］アセトアミドの合成２：工程（ａ）〜（ｃ）のすべてを各々一貫法とした方法
６−アミノメタクレゾール１５ｇ（０．１２３ｍｏｌ）を酢酸エチル５０ｍｌに溶解し、無水酢酸１２．５ｇ（０．１２３ｍｏｌ）を滴下した後、２５℃で３時間反応してアセトアミド体の反応溶液を調製した。
次に、別の容器でジエチルトルイルアミン３０．１ｇ（０．１８４ｍｏｌ）を水２００ｍｌおよびジエチルアセトアミド５０ｍｌに溶解した。塩酸４８ｇ（０．４６０ｍｏｌ）を添加した後、酸素濃度計（横河電気社製ＰＯＣＫＥＴ ＯＸＹＧＥＮ ＡＬＡＲＭ ＯＸ５１）で測定しながら系内に窒素を導入し、系内の酸素濃度を５体積％にした。次いで酸素濃度５体積％の雰囲気下、内温を５℃に冷却しながら亜硝酸ソーダ１４ｇ（０．２０２ｍｏｌ）を水３２ｍｌに溶解した水溶液を滴下し、次いで５℃で２時間反応した。反応終了後、酢酸エチル１５０ｍｌを添加して分液し、有機層を取り出してニトロソ体反応溶液を得た。ここに、先に調製したアセトアミド体反応溶液を添加した。この混合液に無水酢酸１８．８ｇ（０．１８４ｍｏｌ）を滴下し、その後１０℃で２時間反応した。反応終了後、メタノール１９９ｍｌと水１３２ｍｌを添加し、１０℃で１時間晶析した。析出した結晶を濾過し、目的物の粗結晶３６．６ｇを得た。更に粗結晶をメタノール１８５ｍｌで洗浄して精製し、乾燥して目的物の結晶３２ｇを得た（収率７０％）。ＨＰＬＣによる測定の結果、純度は９９．３％であった。
６−アミノメタクレゾール１５ｇ（０．１２３ｍｏｌ）を酢酸エチル５０ｍｌに溶解し、無水酢酸１２．５ｇ（０．１２３ｍｏｌ）を滴下した後、２５℃で３時間反応してアセトアミド体の反応溶液を調製した。
次に、別の容器でジエチルトルイルアミン３０．１ｇ（０．１８４ｍｏｌ）を水２００ｍｌおよびジエチルアセトアミド５０ｍｌに溶解した。塩酸４８ｇ（０．４６０ｍｏｌ）を添加した後、酸素濃度計（横河電気社製ＰＯＣＫＥＴ ＯＸＹＧＥＮ ＡＬＡＲＭ ＯＸ５１）で測定しながら系内に窒素を導入し、系内の酸素濃度を５体積％にした。次いで酸素濃度５体積％の雰囲気下、内温を５℃に冷却しながら亜硝酸ソーダ１４ｇ（０．２０２ｍｏｌ）を水３２ｍｌに溶解した水溶液を滴下し、次いで５℃で２時間反応した。反応終了後、酢酸エチル１５０ｍｌを添加して分液し、有機層を取り出してニトロソ体反応溶液を得た。ここに、先に調製したアセトアミド体反応溶液を添加した。この混合液に無水酢酸１８．８ｇ（０．１８４ｍｏｌ）を滴下し、その後１０℃で２時間反応した。反応終了後、メタノール１９９ｍｌと水１３２ｍｌを添加し、１０℃で１時間晶析した。析出した結晶を濾過し、目的物の粗結晶３６．６ｇを得た。更に粗結晶をメタノール１８５ｍｌで洗浄して精製し、乾燥して目的物の結晶３２ｇを得た（収率７０％）。ＨＰＬＣによる測定の結果、純度は９９．３％であった。
実施例３〜１０
アニリン化合物のニトロソ化反応において反応系内の酸素濃度を表１に示す値に変更した以外は実施例２と同様に操作した。
実施例２〜１０の結果を表１、図１〜２に示す。
アニリン化合物のニトロソ化反応において反応系内の酸素濃度を表１に示す値に変更した以外は実施例２と同様に操作した。
実施例２〜１０の結果を表１、図１〜２に示す。
表１および図１〜２の結果から、酸素濃度１２体積％以下の特定の雰囲気下でニトロソ反応を行うことにより、顕著な反応率向上および高度に酸化不純物の生成が抑制でき、本発明は工業的な製造方法として極めて有用であることがわかる。
実施例１１〜１７
アミド化剤および縮合剤を変更した以外は実施例２と同様の方法で表１に示す化合物を合成した。表２にその結果を示す。
アミド化剤および縮合剤を変更した以外は実施例２と同様の方法で表１に示す化合物を合成した。表２にその結果を示す。
実施例１８ Ｎ−［３−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニルイミノ）−４−メチル−６−オキソ−１，４−シクロヘキサジエン−１−イル］アセトアミドの合成３：工程（ａ）と工程（ｃ）とを同一系内で同時に行う方法
ジエチルトルイルアミン３０．１ｇ（０．１８４ｍｏｌ）を水２００ｍｌおよびジメチルアセトアミド５０ｍｌに溶解した。この溶液に塩酸４８ｇ（０．４６０ｍｏｌ）を添加した後、系内に窒素を導入し酸素濃度を５体積％にした。次いで酸素濃度を５％の雰囲気下、内温を５℃に冷却しながら亜硝酸ソーダ１４ｇ（０．２０２ｍｏｌ）を水３２ｍｌに溶解した水溶液を滴下し、続いて５℃で２時間反応した。反応終了後分液を行い、得られた有機層に６−アミノメタクレゾール１５ｇ（０．１２３ｍｏｌ）を添加した。次いで無水酢酸３１ｇ（０．３０７ｍｏｌ）を滴下し、２０℃で２時間反応した。反応終了後、メタノール１９９ｍｌおよび水１３２ｍｌを添加し、１０℃で１時間晶析した。結晶を濾過し、目的物の粗結晶２９．２ｇを得た。更にメタノール２２１ｍｌで洗浄して精製後、乾燥して目的物の結晶２５ｇを得た（収率６０％）。ＨＰＬＣによる測定の結果、純度は９９．２％であった。
ジエチルトルイルアミン３０．１ｇ（０．１８４ｍｏｌ）を水２００ｍｌおよびジメチルアセトアミド５０ｍｌに溶解した。この溶液に塩酸４８ｇ（０．４６０ｍｏｌ）を添加した後、系内に窒素を導入し酸素濃度を５体積％にした。次いで酸素濃度を５％の雰囲気下、内温を５℃に冷却しながら亜硝酸ソーダ１４ｇ（０．２０２ｍｏｌ）を水３２ｍｌに溶解した水溶液を滴下し、続いて５℃で２時間反応した。反応終了後分液を行い、得られた有機層に６−アミノメタクレゾール１５ｇ（０．１２３ｍｏｌ）を添加した。次いで無水酢酸３１ｇ（０．３０７ｍｏｌ）を滴下し、２０℃で２時間反応した。反応終了後、メタノール１９９ｍｌおよび水１３２ｍｌを添加し、１０℃で１時間晶析した。結晶を濾過し、目的物の粗結晶２９．２ｇを得た。更にメタノール２２１ｍｌで洗浄して精製後、乾燥して目的物の結晶２５ｇを得た（収率６０％）。ＨＰＬＣによる測定の結果、純度は９９．２％であった。
実施例１９〜２２
出発物質および酸無水物を変更した以外は実施例１８と同様の方法で表３に示す化合物を合成した。実施例１８〜２２の結果を表３に示す。
出発物質および酸無水物を変更した以外は実施例１８と同様の方法で表３に示す化合物を合成した。実施例１８〜２２の結果を表３に示す。
表２，３の結果より、本発明の方法は一般的に皮膚感作性の強いニトロソ化合物を直接扱うことなく、インドアニリン色素を高収率、高純度で合成することができる。
また表３より、本発明のアミド化反応と縮合反応を同一工程で実施する方法は、例えば実施例１８と個別に行う実施例２とを比較しても、収率、純度共にほぼ同等である。このことから、本発明の方法によりインドアニリン色素を更に低コストで製造することが可能である。
また表３より、本発明のアミド化反応と縮合反応を同一工程で実施する方法は、例えば実施例１８と個別に行う実施例２とを比較しても、収率、純度共にほぼ同等である。このことから、本発明の方法によりインドアニリン色素を更に低コストで製造することが可能である。
Claims (4)
- （ａ）下記一般式（Ｉ）で表されるオルトアミノフェノール化合物をアミド化合物（ＩＩ）に誘導する工程、
（ｂ）下記一般式（ＩＩＩ）で表されるアニリン化合物をニトロソ化合物（ＩＶ）に誘導する工程、および
（ｃ）工程（ａ）で得られたアミド化合物と工程（ｂ）で得られたニトロソ化合物とを酸無水物または酸ハロゲン化物存在下で縮合する工程、
を含み、且つ少なくとも工程（ｂ）で得られたニトロソ化合物を単離することなく工程（ｃ）を行うことを特徴とする下記一般式（Ｖ）で表されるインドアニリン色素の製造方法。
式中、
Ｒ１およびＲ２は各々独立して水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。Ｒ１とＲ２が連結して環を形成してもよい。
Ｒ６はアルキル基、アリール基またはヘテロ環残基を表す。
式中、
Ｒ３およびＲ４は各々独立してアルキル基またはアリール基を表す。
Ｒ５は水素原子、アルキル基、アリール基、水酸基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。
ｎは１〜２の整数を表す。ｎが２の場合、複数のＲ５は同じでも異なってもよい。
式中、Ｒ１〜Ｒ６、およびｎは前記と同じ意味を有する。 - 前記工程（ａ）で得られるアミド化合物（ＩＩ）の単離精製を行なわず反応液の状態で工程（ｃ）を行うことを特徴とする請求項１に記載のインドアニリン色素の製造方法。
- 前記工程（ｂ）で得られたニトロソ化合物の反応溶液に、上記一般式（Ｉ）で表されるオルトアミノフェノール化合物を添加することで、前記工程（ａ）と前記工程（ｃ）とを同一系内で行うことを特徴とする、請求項１に記載のインドアニリン色素の製造方法。
- 系内の酸素濃度が１２体積％以下の条件で前記工程（ｂ）を行うことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のインドアニリン色素の製造方法。
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