JP5287080B2 - Hard coat film for plasma display panel and plasma display panel - Google Patents

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰともいう）の表示画面上に設けられるものであり、近赤外線吸収特性に優れると共に、白ボケが少ないＰＤＰ用ハードコートフィルム及びそれを備えたＰＤＰに関するものである。   The present invention relates to a PDP hard coat film which is provided on a display screen of a plasma display panel (hereinafter also referred to as PDP) and has excellent near-infrared absorption characteristics and little white blur, and a PDP having the same. It is.

近年、電子画像表示装置（電子ディスプレイ）は、テレビジョン用やモニター用として広く普及している。中でもプラズマディスプレイは大画面フラットパネルディスプレイに最適であるとして多くの注目を浴びており、その表面には視認性向上、近赤外線遮蔽又は色調補正の目的のため反射防止フィルム、近赤外線吸収フィルム又は色調補正フィルムが設けられる。反射防止フィルムは外光の反射を低減させ、視認性を向上させるためのものである。近赤外線吸収フィルムは、大画面フラットパネルプラズマディスプレイから放出される近赤外線を吸収することによって、リモコン機器の誤作動を防止するためのものである。色調補正フィルムは大画面フラットパネルプラズマディスプレイから放出される特定波長の光などを吸収し、発色性を向上させるためのものである。   In recent years, electronic image display devices (electronic displays) are widely used for televisions and monitors. Among them, plasma displays are attracting a lot of attention as being optimal for large-screen flat panel displays, and their surfaces have anti-reflection films, near-infrared absorbing films or color tones for purposes of improving visibility, shielding near infrared rays, or correcting color tone. A correction film is provided. The antireflection film is for reducing reflection of external light and improving visibility. The near-infrared absorbing film is for preventing malfunction of the remote control device by absorbing near-infrared light emitted from a large screen flat panel plasma display. The color tone correction film absorbs light having a specific wavelength emitted from a large-screen flat panel plasma display and improves color developability.

それらのなかで、近赤外線吸収フィルムに使用される近赤外線吸収剤としては、一般的に大きく分けてジイモニウム塩に代表される有機系近赤外線吸収剤と、タングステン酸化物や、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）等の無機系近赤外線吸収剤が用いられている。有機系近赤外線吸収剤と無機系近赤外線吸収剤とを比較した場合、有機系近赤外線吸収剤については、光や熱に対して経時劣化が起こり、特に光に対しては安定性が低いため、紫外線照射による硬化塗膜中に含ませることは難しい。一方、無機系近赤外線吸収剤については、光や熱に対して経時劣化が小さく、特に光に対しては格段に安定であるため、紫外線照射による硬化塗膜として、ハードコート層や粘着層に内在させることが可能となる。   Among these, the near infrared absorbers used for the near infrared absorbing film are generally classified into organic near infrared absorbers represented by diimonium salts, tungsten oxide, and antimony-doped tin oxide ( Inorganic near-infrared absorbers such as ATO) and tin-doped indium oxide (ITO) are used. When comparing organic near-infrared absorbers and inorganic near-infrared absorbers, organic near-infrared absorbers deteriorate with time with respect to light and heat, especially because they are less stable against light. It is difficult to include in a cured coating film by ultraviolet irradiation. On the other hand, inorganic near-infrared absorbers have little deterioration over time with light and heat, and are particularly stable with respect to light. It is possible to make it inherent.

そこで、基材フィルムと、その上に無機系色素を含むエネルギー硬化型樹脂組成物からなる硬化物層とを有する赤外線吸収フィルムが知られている（例えば、特許文献１を参照）。無機系色素としては、例えばセシウム含有酸化タングステンが用いられる。さらに、基材と、その表面に設けられる樹脂の被膜とを有し、基材内又は被膜内に近赤外線吸収剤が分散されたプラズマディスプレイパネル用の近赤外線吸収材フィルターが知られている（例えば、特許文献２を参照）。近赤外線吸収剤としては、タングステン酸化物微粒子又は複合タングステン酸化物微粒子が含まれている。
特開２００７−２１９９８号公報（第２頁、第１５頁及び第１６頁） 特開２００６−１５４５１６号公報（第２頁、第１３頁及び第１４頁） Then, the infrared rays absorption film which has a base material film and the hardened | cured material layer which consists of an energy curable resin composition containing an inorganic pigment on it is known (for example, refer patent document 1). As the inorganic pigment, for example, cesium-containing tungsten oxide is used. Furthermore, a near-infrared absorbing material filter for a plasma display panel having a base material and a resin coating provided on the surface thereof and having a near-infrared absorbing agent dispersed in the base material or in the coating is known ( For example, see Patent Document 2). As the near-infrared absorber, tungsten oxide fine particles or composite tungsten oxide fine particles are included.
JP 2007-21998 (page 2, page 15 and page 16) JP 2006-154516 A (page 2, page 13 and page 14)

ところで、プラズマディスプレイパネルの用途においては、色再現性、特に黒色の色再現性に優れたフィルムが求められている。しかしながら、特許文献１及び２に記載されている無機系近赤外線吸収剤を使用した場合、有機系近赤外線吸収剤とは異なり、無機微粒子に光が当たって、光の散乱が起こるために、フィルムが白くぼけて見えてしまう（白ボケ）という問題があった。光の散乱は、具体的には粒子の大きさにより、その粒子径が光の波長より小さいときにはレイリー散乱、光の波長と同程度の大きさではミー散乱、光の波長より大きいときには回折散乱に分けられる。プラズマディスプレイパネルに用いられる近赤外線吸収剤の場合、レイリー散乱に起因する光の散乱（白ボケ）が問題となり、そのようなレイリー散乱に基づく光の散乱を抑えることが求められている。   By the way, in the use of a plasma display panel, a film excellent in color reproducibility, particularly black color reproducibility is required. However, when the inorganic near-infrared absorber described in Patent Documents 1 and 2 is used, unlike the organic near-infrared absorber, light is applied to the inorganic fine particles, and light scattering occurs. There was a problem that white was blurred (white blur). Specifically, depending on the size of the particle, the light scattering is Rayleigh scattering when the particle diameter is smaller than the wavelength of the light, Mie scattering when the particle size is approximately the same as the wavelength of the light, and diffraction scattering when larger than the wavelength of the light. Divided. In the case of a near-infrared absorber used for a plasma display panel, light scattering (white blur) caused by Rayleigh scattering becomes a problem, and it is required to suppress light scattering based on such Rayleigh scattering.

そこで、本発明の目的とするところは、優れた近赤外線吸収特性を発揮することができると共に、レイリー散乱に起因する白ボケを抑制することができるプラズマディスプレイパネル用ハードコートフィルム及びプラズマディスプレイパネルを提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to provide a plasma display panel hard coat film and a plasma display panel that can exhibit excellent near-infrared absorption characteristics and can suppress white blurring caused by Rayleigh scattering. It is to provide.

本発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、近赤外線吸収剤としてのセシウム含有酸化タングステンの微粒子に起因する白ボケを抑えるため、レイリー散乱波長領域に吸収を持つ化合物を同時に含有させることにより、その目的を達成し得ることを見出し、この知見に基づいて本発明を達成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found a compound having absorption in the Rayleigh scattering wavelength region in order to suppress white blur caused by fine particles of cesium-containing tungsten oxide as a near infrared absorber. The inventors have found that the purpose can be achieved by containing them simultaneously, and the present invention has been achieved based on this finding.

すなわち、本発明における第１の発明のプラズマディスプレイパネル用ハードコートフィルムは、活性エネルギー線硬化型樹脂、光重合開始剤、近赤外線吸収剤としてのセシウム含有酸化タングステン微粒子及びレイリー散乱波長領域に吸収を持つ化合物として酸化鉄を含有する硬化性組成物が透明基材フィルム上に塗布され、硬化されてハードコート層が形成されて構成されると共に、光の波長３５０〜５５０ｎｍの領域における積分反射率が３．０％以下であることを特徴とする。 That is, the hard coat film for the plasma display panel of the first invention in the present invention absorbs the active energy ray-curable resin, the photopolymerization initiator, the cesium-containing tungsten oxide fine particles as the near infrared absorber, and the Rayleigh scattering wavelength region. A curable composition containing iron oxide as a compound is applied on a transparent substrate film and cured to form a hard coat layer, and has an integrated reflectance in a light wavelength region of 350 to 550 nm. It is characterized by being 3.0% or less.

第２の発明のプラズマディスプレイパネル用ハードコートフィルムは、第１の発明において、光の波長８００〜１０００ｎｍの領域における近赤外線透過率が３０％以下であることを特徴とする。   The hard coat film for a plasma display panel according to the second invention is characterized in that, in the first invention, the near-infrared transmittance in the light wavelength region of 800 to 1000 nm is 30% or less.

第３の発明のプラズマディスプレイパネル用ハードコートフィルムは、第１又は第２の発明において、前記ハードコート層上にさらに減反射層を有することを特徴とする。 A hard coat film for a plasma display panel according to a third aspect of the present invention is characterized in that, in the first or second aspect of the invention, a further antireflection layer is further provided on the hard coat layer.

第４の発明のプラズマディスプレイパネルは、第１から第３のいずれか１項に記載のプラズマディスプレイパネル用ハードコートフィルムを表示画面上に直接又は表示画面の前面に配置される透明プレート上に貼り合わせて構成されることを特徴とする。 A plasma display panel according to a fourth aspect of the present invention is the plasma display panel hard coat film according to any one of the first to third aspects, which is applied directly on the display screen or on a transparent plate disposed in front of the display screen. It is characterized by being configured together.

本発明によれば、次のような効果を発揮することができる。
第１の発明のＰＤＰ用ハードコートフィルムは、活性エネルギー線硬化型樹脂、光重合開始剤、近赤外線吸収剤としてのセシウム含有酸化タングステン微粒子及びレイリー散乱波長領域に吸収を持つ化合物を含有する硬化性組成物が透明基材フィルム上に塗布され、硬化されてハードコート層が形成されて構成されている。このため、セシウム含有酸化タングステン微粒子により、近赤外線吸収性を発現することができる。さらに、レイリー散乱の量を表す散乱係数は、光の波長の４乗に反比例するため、レイリー散乱波長領域に吸収を持つ化合物により短波長側の光を吸収して波長の値を大きくすることにより、レイリー散乱量を抑えることができ、レイリー散乱に起因する白ボケを抑えることができる。また、レイリー散乱波長領域に吸収を持つ化合物は金属酸化物である。従って、レイリー散乱量を有効に減少させることができ、レイリー散乱に起因する白ボケを効果的に抑制することができる。また、前記金属酸化物は酸化鉄である。このように構成した場合、レイリー散乱量を極力減少させ、レイリー散乱に起因する白ボケを最も効果的に抑制することができる。 According to the present invention, the following effects can be exhibited.
The hard coat film for PDP according to the first aspect of the present invention is a curability containing an active energy ray-curable resin, a photopolymerization initiator, cesium-containing tungsten oxide fine particles as a near infrared absorber, and a compound having absorption in the Rayleigh scattering wavelength region. The composition is applied on a transparent substrate film and cured to form a hard coat layer. For this reason, near-infrared absorptivity can be expressed by the cesium-containing tungsten oxide fine particles. Furthermore, since the scattering coefficient representing the amount of Rayleigh scattering is inversely proportional to the fourth power of the wavelength of light, by absorbing light on the short wavelength side with a compound having absorption in the Rayleigh scattering wavelength region, the wavelength value is increased. In addition, the amount of Rayleigh scattering can be suppressed, and white blur caused by Rayleigh scattering can be suppressed. A compound having absorption in the Rayleigh scattering wavelength region is a metal oxide. Therefore, the amount of Rayleigh scattering can be effectively reduced, and white blur caused by Rayleigh scattering can be effectively suppressed. The metal oxide is iron oxide. When configured in this manner, the amount of Rayleigh scattering can be reduced as much as possible, and white blur caused by Rayleigh scattering can be most effectively suppressed.

加えて、光の波長３５０〜５５０ｎｍの領域における積分反射率が３．０％以下であることから、白ボケが有効に抑えられ、黒のしまりが良好となって色再現性の優れたＰＤＰ用ハードコートフィルムを得ることができる。従って、ＰＤＰ用ハードコートフィルムは、優れた近赤外線吸収特性を発揮することができると共に、レイリー散乱に起因する白ボケを抑制することができる。   In addition, since the integrated reflectance in the light wavelength region of 350 to 550 nm is 3.0% or less, white blurring is effectively suppressed, black color is excellent, and color reproducibility is excellent. A hard coat film can be obtained. Therefore, the hard coat film for PDP can exhibit excellent near-infrared absorption characteristics and can suppress white blur caused by Rayleigh scattering.

第２の発明では、光の波長８００〜１０００ｎｍの領域における近赤外線透過率が３０％以下である。このため、第１の発明の効果に加えて、特に近赤外線吸収特性を十分に発揮することができ、大画面のＰＤＰから放出される近赤外線を吸収することによって、リモコン機器の誤作動を防止することができる。   In the second invention, the near-infrared transmittance in the light wavelength region of 800 to 1000 nm is 30% or less. For this reason, in addition to the effect of the first invention, the near infrared ray absorbing characteristic can be sufficiently exhibited, and the malfunction of the remote control device is prevented by absorbing the near infrared ray emitted from the large-screen PDP. can do.

第３の発明では、ハードコート層上にさらに減反射層を有することから、第１又は第２の発明の効果に加えて、外光の反射を低減させ、視認性を向上させることができる。 In 3rd invention, since it has a reflection reducing layer further on a hard-coat layer, in addition to the effect of 1st or 2nd invention, reflection of external light can be reduced and visibility can be improved.

第４の発明のプラズマディスプレイパネルでは、前記ＰＤＰ用ハードコートフィルムを表示画面上に直接又は表示画面の前面に配置される透明プレート上に貼り合わせて構成されている。このため、ＰＤＰについて第１から第３のいずれかの発明の効果を発揮することができ、近赤外線吸収特性に優れると共に、白ボケの発生を抑制することができる。 In the plasma display panel according to the fourth aspect of the invention, the PDP hard coat film is laminated directly on the display screen or on a transparent plate disposed on the front surface of the display screen. For this reason, the effects of any one of the first to third aspects of the PDP can be exhibited, and the near-infrared absorption characteristics are excellent, and the occurrence of white blur can be suppressed.

以下、本発明の最良の形態と思われる実施形態について詳細に説明する。
図１に示すように、本実施形態のプラズマディスプレイパネル用ハードコートフィルム（以下、単にハードコートフィルムともいう）１０は、透明基材フィルム１１上に接着層１２を介してハードコート層１３が積層されて構成されている。ハードコート層１３は、活性エネルギー線硬化型樹脂、光重合開始剤、近赤外線吸収剤としてのセシウム含有酸化タングステン微粒子及びレイリー散乱波長領域に吸収を持つ化合物を含有する硬化性組成物が透明基材フィルム１１上に塗布され、紫外線照射により硬化されて形成されている。また、図２に示すように、近赤外線吸収特性に加えて減反射性を有するハードコートフィルム１０は、透明基材フィルム１１上に接着層１２を介して形成されたハードコート層１３上に減反射層１４が設けられて構成されている。 Hereinafter, embodiments that are considered to be the best modes of the present invention will be described in detail.
As shown in FIG. 1, a hard coat film for plasma display panel (hereinafter also simply referred to as a hard coat film) 10 of this embodiment has a hard coat layer 13 laminated on a transparent substrate film 11 with an adhesive layer 12 interposed therebetween. Has been configured. The hard coat layer 13 is made of a curable composition containing an active energy ray-curable resin, a photopolymerization initiator, cesium-containing tungsten oxide fine particles as a near infrared absorber, and a compound having absorption in the Rayleigh scattering wavelength region. It is formed on the film 11 by being cured by ultraviolet irradiation. Further, as shown in FIG. 2, the hard coat film 10 having a low reflection property in addition to the near-infrared absorption property is reduced on the hard coat layer 13 formed on the transparent base film 11 via the adhesive layer 12. A reflection layer 14 is provided.

まず、透明基材フィルム１１について説明すると、該透明基材フィルム１１は透明性を有している限り特に制限されないが、反射を抑えるため、屈折率（ｎ）が１．５５〜１．７０の範囲内のものが好ましい。係る透明基材フィルム１１を形成する透明樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、ｎ＝１．６５）等のポリエステル、ポリカーボネート（ＰＣ、ｎ＝１．５９）、ポリアリレート（ＰＡＲ、ｎ＝１．６０）及びポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ、ｎ＝１．６５）等が好ましい。これらのうち、ポリエステル特にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が成形の容易性、入手の容易性及びコストの点で好ましい。   First, the transparent substrate film 11 will be described. The transparent substrate film 11 is not particularly limited as long as it has transparency. However, in order to suppress reflection, the refractive index (n) is 1.55 to 1.70. Those within the range are preferred. Examples of the transparent resin forming the transparent base film 11 include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET, n = 1.65), polycarbonate (PC, n = 1.59), polyarylate (PAR, n = 1. 60) and polyethersulfone (PES, n = 1.65) are preferred. Of these, polyester, particularly polyethylene terephthalate (PET), is preferable from the viewpoint of ease of molding, availability, and cost.

また、透明基材フィルム１１の厚さは、好ましくは２５〜４００μｍ、さらに好ましくは５０〜２００μｍである。この厚さが２５μｍより薄い場合には、ハードコートフィルム１０の強度が保持できなくなるおそれがある。その一方、４００μｍより厚い場合には、透明基材フィルム１１の透明性が低下したり、屈曲性が低下したりして好ましくない。加えて、透明基材フィルム１１には、各種の添加剤が含有されていても良い。そのような添加剤として例えば、安定剤、可塑剤、滑剤、難燃剤等が挙げられる。   Moreover, the thickness of the transparent base film 11 is preferably 25 to 400 μm, and more preferably 50 to 200 μm. If the thickness is less than 25 μm, the strength of the hard coat film 10 may not be maintained. On the other hand, when it is thicker than 400 μm, the transparency of the transparent base film 11 is lowered or the flexibility is not preferred. In addition, the transparent substrate film 11 may contain various additives. Examples of such additives include stabilizers, plasticizers, lubricants, flame retardants, and the like.

続いて、接着層１２はハードコート層１３を透明基材フィルム１１に密着させるためのもので、常法に従って形成される。接着層１２を形成する接着剤としては、透明基材フィルム１１やハードコート層１３の材質に応じて適宜選択されるが、透明基材フィルム１１にポリエステルフィルムを使用した場合、接着層１２を形成する接着剤としてポリエステル樹脂、特に共重合ポリエステル樹脂を用いることが好ましい。接着層１２の厚さは好ましくは５〜２００ｎｍ、さらに好ましくは１０〜１００ｎｍである。この厚さが５ｎｍより薄い場合には、透明基材フィルム１１とハードコート層１３との密着性が保てず、その一方接着層１２の膜厚が２００ｎｍを超える場合、透明性が低下するなどして好ましくない。   Subsequently, the adhesive layer 12 is for bringing the hard coat layer 13 into close contact with the transparent base film 11 and is formed according to a conventional method. The adhesive for forming the adhesive layer 12 is appropriately selected according to the material of the transparent base film 11 and the hard coat layer 13, but when the polyester film is used for the transparent base film 11, the adhesive layer 12 is formed. It is preferable to use a polyester resin, particularly a copolyester resin as the adhesive. The thickness of the adhesive layer 12 is preferably 5 to 200 nm, more preferably 10 to 100 nm. If this thickness is less than 5 nm, the adhesiveness between the transparent substrate film 11 and the hard coat layer 13 cannot be maintained, while if the thickness of the adhesive layer 12 exceeds 200 nm, the transparency decreases. It is not preferable.

次に、ハードコート層１３について説明する。
係るハードコート層１３は、前述のように活性エネルギー線硬化型樹脂、光重合開始剤、セシウム含有酸化タングステンの微粒子、レイリー散乱波長領域に吸収を持つ化合物を含有する硬化性組成物が接着層１２を形成した透明基材フィルム１１上に塗布され、活性エネルギー線の照射によって硬化されることにより得られる。 Next, the hard coat layer 13 will be described.
As described above, the hard coat layer 13 is formed of an adhesive layer 12 that includes an active energy ray-curable resin, a photopolymerization initiator, fine particles of cesium-containing tungsten oxide, and a compound having absorption in the Rayleigh scattering wavelength region. It is obtained by being coated on the transparent substrate film 11 on which the is formed and cured by irradiation with active energy rays.

硬化性組成物の主たる成分である活性エネルギー線硬化型樹脂は、活性エネルギー線の照射により硬化反応を生じて硬化物を形成することができる成分（化合物）であり、その種類は特に制限されない。係る活性エネルギー線硬化型樹脂は、活性エネルギー線硬化性の官能基を有する単量体、オリゴマー、重合体又はそれらの混合物を含む概念である。活性エネルギー線硬化型樹脂として具体的には、単官能（メタ）アクリレート〔ここで、本明細書では（メタ）アクリレートとは、アクリレートとメタクリレートの双方を含む総称を意味する。〕、多官能（メタ）アクリレート等が好ましい。これらのうち生産性及び硬度を両立させる観点より、活性エネルギー線硬化性多官能アクリレートを主成分として含む組成物がより好ましい。そのような活性エネルギー線硬化性多官能アクリレートを含む組成物としては特に限定されるものではなく、例えば公知の活性エネルギー線硬化性多官能アクリレートを２種類以上混合したもの、活性エネルギー線硬化性ハードコート材として市販されているもの等が挙げられる。   The active energy ray-curable resin, which is the main component of the curable composition, is a component (compound) capable of forming a cured product by causing a curing reaction upon irradiation with active energy rays, and the type thereof is not particularly limited. The active energy ray-curable resin is a concept including a monomer, oligomer, polymer, or mixture thereof having an active energy ray-curable functional group. Specifically, as the active energy ray curable resin, monofunctional (meth) acrylate [here, (meth) acrylate means a generic name including both acrylate and methacrylate. ], Polyfunctional (meth) acrylates and the like are preferable. Among these, a composition containing an active energy ray-curable polyfunctional acrylate as a main component is more preferable from the viewpoint of achieving both productivity and hardness. The composition containing such active energy ray-curable polyfunctional acrylate is not particularly limited. For example, a mixture of two or more known active energy ray-curable polyfunctional acrylates, active energy ray-curable hard What is marketed as a coating material etc. are mentioned.

前記活性エネルギー線硬化性多官能アクリレートとしては、例えばジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ビス（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）ヘキサン等の多官能アルコールのアクリル誘導体、ポリエチレングリコールジアクリレート、及び種々の変性がなされ又は種々の分子量を持つウレタンアクリレート等が好ましい。   Examples of the active energy ray-curable polyfunctional acrylate include dipentaerythritol hexaacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, tetramethylolmethane triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6- Preferred are acrylic derivatives of polyfunctional alcohols such as bis (3-acryloyloxy-2-hydroxypropyloxy) hexane, polyethylene glycol diacrylate, and urethane acrylates with various modifications or having various molecular weights.

前記光重合開始剤としては、活性エネルギー線硬化型樹脂に対する活性エネルギー線照射による重合開始能を有するものであれば何れの化合物でもよい。光重合開始剤として例えば、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフェリノプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン等のアセトフェノン系重合開始剤、ベンゾイン、２，２−ジメトキシ１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンゾイン系重合開始剤、ベンゾフェノン、［４−（メチルフェニルチオ）フェニル］フェニルメタノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系重合開始剤、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系重合開始剤等が挙げられる。係る光重合開始剤のうち、例えば光重合開始能に優れるアセトフェノン系重合開始剤等が用いられる。これらの光重合開始剤は単独又は混合物として用いることができる。   The photopolymerization initiator may be any compound as long as it has the ability to initiate polymerization by irradiation of active energy rays with respect to the active energy ray-curable resin. Examples of the photopolymerization initiator include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2- Acetophenone-based polymerization initiators such as morpholinopropan-1-one and 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, benzoin, 2,2 -Benzoin polymerization initiators such as -dimethoxy 1,2-diphenylethane-1-one, benzophenone, [4- (methylphenylthio) phenyl] phenylmethanone, 4-hydroxybenzophenone, 4-phenylbenzophenone, 3,3 ' , 4,4'-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone Agents, 2-chlorothioxanthone, and the like thioxanthone type polymerization initiators such as 2,4-diethyl thioxanthone, and the like. Among such photopolymerization initiators, for example, an acetophenone-based polymerization initiator having excellent photopolymerization initiation ability is used. These photopolymerization initiators can be used alone or as a mixture.

光重合開始剤の含有量は、前記活性エネルギー線硬化型樹脂１００質量部に対して通常１０質量部以下、好ましくは１〜５質量部である。光重合開始剤の含有量が１０質量部よりも多い場合、光重合開始に使用されなかった光重合開始剤が残存し、ハードコートフィルム１０の可視光線透過率が低下するなどの弊害が生ずるおそれがある。一方、１質量部より少ない場合、光重合開始能が十分に発現されず、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化が不十分になる傾向がある。   Content of a photoinitiator is 10 mass parts or less normally with respect to 100 mass parts of said active energy ray hardening-type resins, Preferably it is 1-5 mass parts. When the content of the photopolymerization initiator is more than 10 parts by mass, the photopolymerization initiator that has not been used for initiating the photopolymerization remains, and there is a risk that the visible light transmittance of the hard coat film 10 may be reduced. There is. On the other hand, when the amount is less than 1 part by mass, the photopolymerization initiating ability is not sufficiently exhibited, and the active energy ray-curable resin tends to be insufficiently cured.

次に、前記近赤外線吸収剤としてのセシウム含有酸化タングステン微粒子は、その平均粒子径が好ましくは１〜８００ｎｍ、より好ましくは１〜２００ｎｍ、さらに好ましくは１〜１００ｎｍ、特に好ましくは１〜８０ｎｍ、最も好ましくは１〜３０ｎｍである。セシウム含有酸化タングステンの微粒子の粒子径が８００ｎｍを超える場合、回折散乱や、ミー散乱によって、可視光線領域の光を散乱してしまうため、プラズマディスプレイパネルの用途では、良好な色再現性が得られず好ましくない。平均粒子径が１〜２００ｎｍになると、前記回折散乱やミー散乱が減少し、レイリー散乱領域になる。さらに、平均粒子径が１〜１００ｎｍになると散乱光は非常に少なくなるためより好ましく、１〜３０ｎｍになると散乱光は極めて少なくなるため最も好ましい。工学的には、平均粒子径が１ｎｍであれば粒子の製造は可能であるが、１ｎｍ未満になると製造が困難になるため不適当である。   Next, the cesium-containing tungsten oxide fine particles as the near-infrared absorber preferably have an average particle diameter of 1 to 800 nm, more preferably 1 to 200 nm, still more preferably 1 to 100 nm, particularly preferably 1 to 80 nm, most preferably Preferably it is 1-30 nm. When the particle size of fine particles of cesium-containing tungsten oxide exceeds 800 nm, light in the visible light region is scattered by diffraction scattering or Mie scattering, so that good color reproducibility can be obtained for plasma display panel applications. Not preferable. When the average particle diameter is 1 to 200 nm, the diffraction scattering and Mie scattering are reduced, and a Rayleigh scattering region is obtained. Furthermore, when the average particle diameter is 1 to 100 nm, the scattered light is very preferably reduced, and when the average particle diameter is 1 to 30 nm, the scattered light is extremely reduced, and thus the most preferable. From an engineering point of view, particles can be produced if the average particle diameter is 1 nm. However, if the average particle size is less than 1 nm, the production becomes difficult, which is inappropriate.

また、セシウム含有酸化タングステンは、一般式ＣｓｘＷｙＯｚ（但し、Ｃｓはセシウム、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１、２．２≦ｚ／ｙ≦４．０）で表記されるもので、公知のものがいずれも使用できる。係るセシウム含有酸化タングステンとしては、好ましくは０．１≦ｘ／ｙ≦０．５、２．５≦ｚ／ｙ≦４．０である。なお、前記平均粒子径とは、レーザ光による動的光散乱法に基づいて粒子径分布測定装置により測定した値である。   The cesium-containing tungsten oxide has a general formula CsxWyOz (where Cs is cesium, W is tungsten, O is oxygen, 0.001 ≦ x / y ≦ 1.1, 2.2 ≦ z / y ≦ 4.0). Any known material can be used. The cesium-containing tungsten oxide preferably satisfies 0.1 ≦ x / y ≦ 0.5 and 2.5 ≦ z / y ≦ 4.0. The average particle size is a value measured by a particle size distribution measuring device based on a dynamic light scattering method using laser light.

近赤外線吸収剤の含有量は、求める近赤外線領域の透過率や近赤外線吸収剤の吸光度にもよるが、前記活性エネルギー線硬化型樹脂１００質量部に対して、通常３０質量部以下、好ましくは１〜１５質量部である。近赤外線吸収剤の含有量が３０質量部よりも多い場合には、ハードコートフィルム１０の可視光線透過率が低下するおそれがある。その一方、１質量部よりも少ない場合には、ハードコートフィルム１０の近赤外線吸収特性を十分に発揮することができなくなる。近赤外線吸収剤の含有量が１〜１５質量部であれば、ハードコートフィルム１０の可視光線透過率が低下することなく、近赤外線吸収特性を十分に発揮することができる。   The content of the near-infrared absorber depends on the transmittance of the near-infrared region to be obtained and the absorbance of the near-infrared absorber, but is usually 30 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable resin, preferably 1 to 15 parts by mass. When there is more content of a near-infrared absorber than 30 mass parts, there exists a possibility that the visible light transmittance | permeability of the hard coat film 10 may fall. On the other hand, when the amount is less than 1 part by mass, the near-infrared absorption characteristics of the hard coat film 10 cannot be sufficiently exhibited. If content of a near-infrared absorber is 1-15 mass parts, the near-infrared absorption characteristic can fully be exhibited, without the visible light transmittance | permeability of the hard coat film 10 falling.

次に、前記レイリー散乱波長領域に吸収を持つ化合物について説明する。レイリー散乱は、当該光の波長よりも小さい大きさの粒子に基づく光の散乱を意味し、レイリー散乱波長としては光の波長３５０〜５５０ｎｍが重要である。レイリー散乱波長領域に吸収を持つ化合物としては、少なくとも光の波長３５０〜５５０ｎｍの領域に吸収を持つ有機系材料又は無機系材料が挙げられる。本発明においては、酸化鉄が用いられる。ここで、レイリー散乱の量について説明すると、係るレイリー散乱の量を示す散乱係数（Ｋｓ）は次式で表される。 Next, the compound having absorption in the Rayleigh scattering wavelength region will be described. Rayleigh scattering means light scattering based on particles having a size smaller than the wavelength of the light. As the Rayleigh scattering wavelength, the light wavelength of 350 to 550 nm is important. Examples of the compound having absorption in the Rayleigh scattering wavelength region include organic materials or inorganic materials having absorption in at least the light wavelength region of 350 to 550 nm . In the present invention, iron oxide is used. Here, the amount of Rayleigh scattering will be described. The scattering coefficient (Ks) indicating the amount of Rayleigh scattering is represented by the following equation.

Ｋｓ＝α×（ｄ^５／λ^４）
但し、αは係数、ｄはレイリー散乱波長領域に吸収を持つ化合物の粒子径及びλは光の波長を表す。 Ks = α × (d ⁵ / λ ⁴ )
Where α is a coefficient, d is the particle diameter of a compound having absorption in the Rayleigh scattering wavelength region, and λ is the wavelength of light.

この式で示されるように、レイリー散乱の量は化合物の粒子径と光の波長によって決定され、化合物の粒子径の５乗に比例し、光の波長の４乗に反比例する。そのため、レイリー散乱領域においては、化合物の粒子径が小さいほど散乱は小さく、波長が短いほど散乱は大きくなる。従って、レイリー散乱に起因する白ボケを抑えるためには、前記のような短波長側の光を吸収することが有効である。係る化合物としては、光の波長５５０〜８００ｎｍの可視光線領域にも吸収を持つ化合物が好ましい。そのような有機系材料としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤及びヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤が挙げられる。   As shown in this equation, the amount of Rayleigh scattering is determined by the particle diameter of the compound and the wavelength of light, and is proportional to the fifth power of the particle diameter of the compound and inversely proportional to the fourth power of the wavelength of light. Therefore, in the Rayleigh scattering region, the smaller the particle diameter of the compound, the smaller the scattering, and the shorter the wavelength, the larger the scattering. Therefore, in order to suppress white blur caused by Rayleigh scattering, it is effective to absorb the light on the short wavelength side as described above. As such a compound, a compound having absorption in a visible light region having a light wavelength of 550 to 800 nm is preferable. Examples of such organic materials include benzotriazole ultraviolet absorbers and hydroxyphenyltriazine ultraviolet absorbers.

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシメチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシヘキシル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−３′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−シアノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−ｔ−ブチル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−ニトロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ―ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ベンゼンプロパン酸−３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−（１、１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ−,Ｃ_７〜９−ブランチ直鎖アルキルエステル、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４,６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１,１,３,３−テトラメチルブチル）フェノール等が挙げられる。 Examples of the benzotriazole ultraviolet absorber include 2- [2′-hydroxy-5 ′-(methacryloyloxymethyl) phenyl] -2H-benzotriazole and 2- [2′-hydroxy-5 ′-(methacryloyloxyethyl) phenyl. ] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5 '-(methacryloyloxypropyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5'-(methacryloyloxyhexyl) phenyl]- 2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-3'-t-butyl-5 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5'-t-butyl -3 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazol 2- [2'-hydroxy-5 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -5-chloro-2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5'-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -5 Methoxy-2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -5-cyano-2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5'-(methacryloyloxyethyl) ) Phenyl] -5-t-butyl-2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -5-nitro-2H-benzotriazole, 2- (2-hydroxy-) 5-t-butylphenyl) -2H-benzotriazole, benzenepropanoic acid-3- (2H- Benzotriazole-2-yl) -5- (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy _{-, C 7 to 9} - Branch linear alkyl esters, 2-(2H-benzotriazol-2-yl) -4 , 6-Bis (1-methyl-1-phenylethyl) phenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (1-methyl-1-phenylethyl) -4- (1,1,3 , 3-tetramethylbutyl) phenol and the like.

ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤としては、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］４,６−ビス（２,４−ジメチルフェニル）−１,３,５−トリアジン、２−［４−（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４,６−ビス（２,４ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（２‘−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブチルオキシフェニル）−６−（２，４−ビス−ブチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシエトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−５，５′−ジスルホベンゾフェノン・２ナトリウム塩等が挙げられる。   As the hydroxyphenyltriazine ultraviolet absorber, 2- [4-[(2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] 4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1 , 3,5-triazine, 2- [4- (2-hydroxy-3-tridecyloxypropyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4 dimethylphenyl) -1,3 5-triazine, 2- [4-[(2-hydroxy-3- (2′-ethyl) hexyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1, 3,5-triazine, 2,4-bis (2-hydroxy-4-butyloxyphenyl) -6- (2,4-bis-butyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2- (2- Hydro -4- [1-octyloxycarbonylethoxy] phenyl) -4,6-bis (4-phenylphenyl) -1,3,5-triazine, 2,2 ', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 2, 2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-acetoxyethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4 '-Dimethoxy-5,5'-disulfobenzophenone Potassium salts and the like.

有機系材料の含有量は、求める透過率や有機系材料の種類にもよるが、前記活性エネルギー線硬化型樹脂１００質量部に対して、通常２０質量部以下、好ましくは０．０１〜１質量部である。有機系材料の含有量が２０質量部よりも多い場合には、硬化性組成物の紫外線による硬化性が低下する傾向があると共に、ハードコートフィルム１０の可視光線透過率が低下するおそれもある。一方、０．０１質量部より少ない場合には、ハードコートフィルム１０の波長３５０〜５５０ｎｍにおける光を十分に吸収できず、白ボケの抑制効果を十分に発揮することができなくなる。   The content of the organic material is usually 20 parts by mass or less, preferably 0.01 to 1 mass, with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable resin, although it depends on the desired transmittance and the type of organic material. Part. When the content of the organic material is more than 20 parts by mass, the curability of the curable composition by ultraviolet rays tends to decrease, and the visible light transmittance of the hard coat film 10 may also decrease. On the other hand, when the amount is less than 0.01 parts by mass, the hard coat film 10 cannot sufficiently absorb light at a wavelength of 350 to 550 nm, and the white blurring suppressing effect cannot be sufficiently exhibited.

一方、無機系材料としては、酸化鉄〔三酸化二鉄（Ｆｅ_２Ｏ_３）、四酸化三鉄（Ｆｅ_３Ｏ_４）、オキシ水酸化鉄〕、酸化セリウム、酸化亜鉛、二酸化チタン、酸化クロム等が挙げられる。これらの無機系材料のうち、吸収特性や安定性に優れた金属酸化物としての酸化鉄が用いられる。 On the other hand, as inorganic materials, iron oxide [diiron trioxide (Fe ₂ O ₃ ), triiron tetroxide (Fe ₃ O ₄ ), iron oxyhydroxide], cerium oxide, zinc oxide, titanium dioxide, chromium oxide Etc. Among these inorganic materials, iron oxide is used as a metal oxide having excellent absorption characteristics and stability.

無機系材料の含有量は、求める透過率や無機系材料の種類にもよるが、前記活性エネルギー線硬化型樹脂１００質量部に対して、通常２０質量部以下、好ましくは０．０１〜１０質量部、さらに好ましくは０．０１〜１質量部、特に好ましくは０．１〜１質量部である。無機系材料の含有量が２０質量部よりも多い場合には、ハードコートフィルム１０の可視光線透過率が低下するおそれがある。一方、０．１質量部より少ない場合には、ハードコートフィルム１０の波長３５０〜５５０ｎｍにおける光を十分に吸収できず、白ボケの抑制効果を十分に発揮することができなくなる。   The content of the inorganic material is usually 20 parts by mass or less, preferably 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable resin, although it depends on the desired transmittance and the type of inorganic material. Part, more preferably 0.01 to 1 part by weight, particularly preferably 0.1 to 1 part by weight. When there is more content of an inorganic type material than 20 mass parts, there exists a possibility that the visible light transmittance of the hard coat film 10 may fall. On the other hand, when the amount is less than 0.1 part by mass, the hard coat film 10 cannot sufficiently absorb light at a wavelength of 350 to 550 nm, and the white blurring suppressing effect cannot be sufficiently exhibited.

係る無機系材料の平均粒子径は、好ましくは１〜８００ｎｍ、より好ましくは１〜２００ｎｍ、特に好ましくは１〜１５０ｎｍである。無機系材料の平均粒子径が８００ｎｍを超える場合、回折散乱や、ミー散乱によって可視光線領域の光が散乱されるため、プラズマディスプレイパネルの用途では良好な色再現性が得られず好ましくない。その平均粒子径が１〜２００ｎｍになると、回折散乱やミー散乱が減少し、レイリー散乱領域になるため、好ましい。その平均粒子径が１ｎｍ未満の場合、無機系材料の製造が難しくなって好ましくない。また、これらの有機系材料及び無機系材料は、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。   The average particle diameter of the inorganic material is preferably 1 to 800 nm, more preferably 1 to 200 nm, and particularly preferably 1 to 150 nm. When the average particle diameter of the inorganic material exceeds 800 nm, light in the visible light region is scattered by diffraction scattering or Mie scattering, which is not preferable because good color reproducibility cannot be obtained in plasma display panel applications. The average particle size of 1 to 200 nm is preferable because diffraction scattering and Mie scattering are reduced and a Rayleigh scattering region is obtained. When the average particle diameter is less than 1 nm, it is not preferable because the production of the inorganic material becomes difficult. These organic materials and inorganic materials may be used alone or in combination of two or more.

次いで、以上のような各成分を含有する硬化性組成物からハードコート層１３を形成する方法は特に制限されないが、硬化性組成物をロールコート法、スピンコート法、コイルバー法、ディップコート法、ダイコート法等により透明基材フィルム１１上に塗布した後、紫外線、電子線等の活性エネルギー線を照射する方法が挙げられる。硬化性組成物の塗布方法としては、ロールコート法等、連続的に塗布することができ、ハードコート層１３を連続的に形成できる方法が生産性及び生産コストの点より好ましい。   Next, a method for forming the hard coat layer 13 from the curable composition containing each component as described above is not particularly limited, but the curable composition is formed by a roll coating method, a spin coating method, a coil bar method, a dip coating method, The method of irradiating active energy rays, such as an ultraviolet-ray and an electron beam, after apply | coating on the transparent base film 11 by the die-coating method etc. is mentioned. As a method for applying the curable composition, a method such as a roll coating method that can be continuously applied and the hard coat layer 13 can be continuously formed is preferable from the viewpoint of productivity and production cost.

次に、前記減反射層１４について説明する。
減反射層１４はハードコートフィルム１０の反射を抑えるためのもので、単層構成又は多層構成とすることができる。単層構成の場合には、ハードコート層１３上に該ハードコート層１３よりも屈折率の低い層（低屈折率層）を１層形成する。また多層構成の場合には、ハードコート層１３の上に屈折率の異なる層を多層形態で積層する。多層構成とすることにより、反射率をより効果的に下げることができる。具体的には、減反射層１４は、ハードコート層１３側から見て順に高屈折率層及び低屈折率層からなる２層形態や、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層からなる３層形態や、高屈折率層、低屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層からなる４層形態等で構成される。減反射の効果の観点からは３層以上の構成が好ましく、生産性及び生産コストの観点からは単層構成又は２層構成が好ましい。 Next, the reduced reflection layer 14 will be described.
The anti-reflection layer 14 is for suppressing reflection of the hard coat film 10 and can have a single layer structure or a multilayer structure. In the case of a single layer configuration, one layer having a refractive index lower than that of the hard coat layer 13 (low refractive index layer) is formed on the hard coat layer 13. In the case of a multilayer structure, layers having different refractive indexes are laminated on the hard coat layer 13 in a multilayer form. By adopting a multilayer structure, the reflectance can be lowered more effectively. Specifically, the anti-reflection layer 14 has a two-layer configuration including a high refractive index layer and a low refractive index layer in order as viewed from the hard coat layer 13 side, a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer. Or a four-layer configuration including a high refractive index layer, a low refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer. From the viewpoint of the effect of reducing reflection, a structure of three or more layers is preferable, and from the viewpoint of productivity and production cost, a single-layer structure or a two-layer structure is preferable.

減反射層１４の形成方法は特に限定されず、例えばドライコーティング法、ウェットコーティング法等の方法が採用される。これらの方法のうち、生産性及び生産コストの面より、特にウェットコーティング法が好ましい。ウェットコーティング法は公知の方法でよく、例えばロールコート法、スピンコート法、コイルバー法、ディップコート法等が代表的な方法である。これらの中では、ロールコート法等、連続的に減反射層１４を形成できる方法が生産性及び生産コストの点より好ましい。減反射層１４の機能を発現させるために、低屈折率層の屈折率としては、形成される層がその直下の層よりも低屈折率であることを要件とし、その屈折率は１．２０〜１．５５の範囲にあることが好ましい。屈折率が１．５５を超える場合にはウェットコーティング法では十分な減反射効果を得ることが難しく、一方１．２０未満の場合には十分に硬い層を形成することが困難となる傾向にある。   A method for forming the anti-reflection layer 14 is not particularly limited, and for example, a dry coating method, a wet coating method, or the like is employed. Among these methods, the wet coating method is particularly preferable in terms of productivity and production cost. The wet coating method may be a known method, and for example, a roll coating method, a spin coating method, a coil bar method, a dip coating method, etc. are representative methods. Among these, a method capable of continuously forming the antireflection layer 14 such as a roll coating method is preferable from the viewpoint of productivity and production cost. In order to express the function of the antireflection layer 14, the refractive index of the low refractive index layer requires that the formed layer has a lower refractive index than the layer immediately below, and the refractive index is 1.20. It is preferable to be in the range of ~ 1.55. When the refractive index exceeds 1.55, it is difficult to obtain a sufficient antireflection effect by the wet coating method, whereas when it is less than 1.20, it tends to be difficult to form a sufficiently hard layer. .

さらに、２層構成とする場合には、高屈折率層は直上に形成される低屈折率層より屈折率を高くすることが必要であるため、その屈折率は１．５５〜１．９０の範囲内であることが好ましい。この屈折率が１．５５未満では十分な減反射効果を得ることが難しく、またウェットコーティング法で１．９０を超える層を形成するのは困難となる傾向にある。また、中屈折率層を設けた多層構成とする場合には、積層する高屈折率層より屈折率が低く、低屈折率層より屈折率が高い層であればよく、その屈折率は常法に従って適宜定められる。   Further, in the case of a two-layer configuration, the high refractive index layer needs to have a higher refractive index than the low refractive index layer formed immediately above, so that the refractive index is 1.55 to 1.90. It is preferable to be within the range. If the refractive index is less than 1.55, it is difficult to obtain a sufficient anti-reflection effect, and it tends to be difficult to form a layer exceeding 1.90 by the wet coating method. In addition, in the case of a multilayer structure provided with a middle refractive index layer, any layer having a refractive index lower than that of the high refractive index layer to be laminated and higher in refractive index than that of the low refractive index layer may be used. As appropriate.

減反射層１４の厚さは、透明基材フィルム１１の種類、形状及び減反射層１４の構成によって異なるが、一層当たり可視光線の波長と同じ厚さ又はそれ以下の厚さが好ましい。例えば、可視光線に対して減反射効果を発現させる場合には、高屈折率層の光学膜厚ｎ_Ｈ・ｄは５００≦４ｎ_Ｈ・ｄ（ｎｍ）≦９５０、及び低屈折率層の光学膜厚ｎ_Ｌ・ｄは、４００≦４ｎ_Ｌ・ｄ（ｎｍ）≦６５０を満たすように設計される。但し、ｎ_Ｈ及びｎ_Ｌはそれぞれ高屈折率層及び低屈折率層の屈折率、ｄは層の厚さを表す。 The thickness of the antireflection layer 14 varies depending on the type and shape of the transparent base film 11 and the configuration of the antireflection layer 14, but a thickness equal to or less than the wavelength of visible light per layer is preferable. For example, when the effect of reducing reflection with respect to visible light is expressed, the optical film thickness n _H · d of the high refractive index layer is 500 ≦ 4 n _H · d (nm) ≦ 950, and the optical film of the low refractive index layer The thickness n _L · d is designed to satisfy 400 ≦ 4n _L · d (nm) ≦ 650. Here, n _H and n _L are the refractive indexes of the high refractive index layer and the low refractive index layer, respectively, and d is the thickness of the layer.

高屈折率層を構成する材料は特に限定されるものではなく、無機材料又は有機材料を用いることができる。無機材料として具体的には、酸化亜鉛、アンチモン酸亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム（屈折率２．３０）、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化シラン（屈折率１．９０）、酸化ジルコニウム、酸化インジウム錫（屈折率２．００）等の微粒子が挙げられる。また、有機材料として具体的には、屈折率が１．６０〜１．８０のチオール基やフェニル基を含有する高屈折率の有機単量体や重合体を用いることができる。   The material constituting the high refractive index layer is not particularly limited, and an inorganic material or an organic material can be used. Specific examples of inorganic materials include zinc oxide, zinc antimonate, titanium oxide, cerium oxide (refractive index 2.30), tin oxide, aluminum oxide, silane oxide (refractive index 1.90), zirconium oxide, and indium tin oxide. Fine particles such as (refractive index 2.00). As the organic material, specifically, a high refractive index organic monomer or polymer containing a thiol group or phenyl group having a refractive index of 1.60 to 1.80 can be used.

前記無機材料の微粒子を含む高屈折率層は、有機単量体や重合体をウェットコーティング時のバインダーとして用いることができる。無機材料の微粒子の平均粒子径は層の厚さを大きく超えないことが好ましく、特に０．１μｍ以下であることが好ましい。微粒子の平均粒子径が大きくなると、散乱が生じる等、高屈折率層の光学機能が低下するため好ましくない。また、必要に応じて微粒子表面を各種カップリング剤等により修飾することができる。そのようなカップリング剤としては、例えば有機置換された珪素化合物、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモン等の金属アルコキシドを含む有機酸塩等が挙げられる。   The high refractive index layer containing fine particles of the inorganic material can use an organic monomer or a polymer as a binder during wet coating. The average particle size of the fine particles of the inorganic material preferably does not greatly exceed the thickness of the layer, and particularly preferably 0.1 μm or less. When the average particle size of the fine particles is increased, scattering is caused and the optical function of the high refractive index layer is deteriorated. Further, the surface of the fine particles can be modified with various coupling agents as required. Examples of such a coupling agent include organically substituted silicon compounds, organic acid salts containing metal alkoxides such as aluminum, titanium, zirconium, and antimony.

低屈折率層を構成する材料としては、例えば中空酸化珪素、コロイダル酸化珪素、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム等の無機微粒子や、有機重合体微粒子や、含フッ素有機化合物の単体又は混合物を用いることができる。また、フッ素を含まない有機化合物（以下、非フッ素系有機化合物と略記する）の単体若しくは混合物又は重合体をバインダー樹脂として用いることができる。前記無機微粒子の平均粒子径は、低屈折率層の厚さを大きく超えないことが好ましく、０．１μｍ以下であることが特に好ましい。平均粒子径が大きくなると、光の散乱が生じる等、低屈折率層の光学性能が低下するため好ましくない。さらに、必要に応じて微粒子表面を各種カップリング剤等により修飾することができる。そのようなカップリング剤としては、例えば有機置換された珪素化合物が挙げられる。特に、表面を（メタ）アクリロイル基等の反応性基で修飾することにより、硬度の高い膜を形成することができる。   As a material constituting the low refractive index layer, for example, inorganic fine particles such as hollow silicon oxide, colloidal silicon oxide, lanthanum fluoride, and magnesium fluoride, organic polymer fine particles, or a simple substance or a mixture of fluorine-containing organic compounds may be used. Can do. In addition, a simple substance, a mixture, or a polymer of an organic compound not containing fluorine (hereinafter abbreviated as a non-fluorine organic compound) can be used as the binder resin. The average particle diameter of the inorganic fine particles preferably does not greatly exceed the thickness of the low refractive index layer, and is particularly preferably 0.1 μm or less. When the average particle size is increased, the optical performance of the low refractive index layer is deteriorated, such as light scattering. Furthermore, the surface of the fine particles can be modified with various coupling agents as required. An example of such a coupling agent is an organically substituted silicon compound. In particular, a film having high hardness can be formed by modifying the surface with a reactive group such as a (meth) acryloyl group.

前記含フッ素有機化合物は特に制限されるものではないが、反応性の観点より含フッ素（メタ）アクリレートが好ましく、特に含フッ素多官能（メタ）アクリレートが硬度及び屈折率の点から最も好ましい。これら含フッ素有機化合物を硬化させることにより、低屈折率かつ高硬度の層を形成することができる。上記含フッ素有機化合物の重合体又はその他の含フッ素有機化合物の重合体としては、含フッ素有機化合物の単独重合体、共重合体、又は非フッ素系有機化合物との共重合体等の直鎖状重合体、鎖中に炭素環や複素環を含む重合体、環状重合体、櫛型重合体等が挙げられる。前記非フッ素系有機化合物としては、従来公知のものを用いることができ、例えば単官能又は多官能（メタ）アクリレート、テトラエトキシシラン等の珪素化合物等が挙げられる。   The fluorine-containing organic compound is not particularly limited, but fluorine-containing (meth) acrylate is preferable from the viewpoint of reactivity, and fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylate is particularly preferable from the viewpoint of hardness and refractive index. By curing these fluorine-containing organic compounds, a layer having a low refractive index and a high hardness can be formed. As the polymer of the above-mentioned fluorine-containing organic compound or the polymer of other fluorine-containing organic compounds, a linear polymer such as a homopolymer of a fluorine-containing organic compound, a copolymer, or a copolymer with a non-fluorine-based organic compound is used. Examples thereof include a polymer, a polymer containing a carbocyclic ring or a heterocyclic ring in the chain, a cyclic polymer, and a comb polymer. A conventionally well-known thing can be used as said non-fluorine-type organic compound, For example, silicon compounds, such as monofunctional or polyfunctional (meth) acrylate, tetraethoxysilane, etc. are mentioned.

また、減反射層１４には上記化合物以外に本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を含んでいても差し支えない。その他の成分は特に制限されるものではなく、例えば無機又は有機顔料、重合体、重合開始剤、光重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、レベリング剤などの添加剤が挙げられる。また、ウェットコーティング法によって成膜後乾燥させる限りは、任意の量の溶媒を添加することができる。減反射層１４はウェットコーティング法により塗布、成膜した後、必要に応じて紫外線、電子線等の活性エネルギー線の照射や加熱により硬化反応を行って形成することができる。このような活性エネルギー線による硬化反応は、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下にて行うことが好ましい。   Further, the antireflection layer 14 may contain other components in addition to the above compounds as long as the effects of the present invention are not impaired. Other components are not particularly limited, and for example, inorganic or organic pigments, polymers, polymerization initiators, photopolymerization initiators, polymerization inhibitors, antioxidants, dispersants, surfactants, light stabilizers, leveling An additive such as an agent can be mentioned. Further, any amount of solvent can be added as long as it is dried after film formation by the wet coating method. The anti-reflection layer 14 can be formed by applying and forming a film by a wet coating method, and then performing a curing reaction by irradiation with an active energy ray such as an ultraviolet ray or an electron beam or heating as necessary. Such a curing reaction using active energy rays is preferably performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or argon.

以上のように構成されるハードコートフィルム１０においては、光の波長３５０〜５５０ｎｍの領域における積分反射率が３．０％以下、好ましくは０．１〜２．５％である。この積分反射率が３．０を超える場合には、拡散反射に基づく白ボケを抑制することができなくなる。ここで、積分反射率（％）は、物質の反射光（正反射光と拡散反射光）のうち、拡散反射光による反射率を表す。なお、正反射光は物質に垂直に光を当てたときに垂直に反射する光であり、拡散反射光は正反射光以外の反射光を意味する。また、最小反射率（％）は、正反射による反射率を意味する。このように積分反射率を低く抑えることにより、拡散反射に起因する白ボケを抑制することができる。   In the hard coat film 10 configured as described above, the integrated reflectance in the light wavelength region of 350 to 550 nm is 3.0% or less, preferably 0.1 to 2.5%. When the integrated reflectance exceeds 3.0, white blurring based on diffuse reflection cannot be suppressed. Here, the integrated reflectance (%) represents the reflectance by diffuse reflected light among the reflected light (regular reflected light and diffuse reflected light) of the substance. Note that specularly reflected light is light that is reflected vertically when light is applied perpendicularly to a substance, and diffusely reflected light means reflected light other than specularly reflected light. Further, the minimum reflectance (%) means the reflectance by regular reflection. By suppressing the integrated reflectance in this way, white blur due to diffuse reflection can be suppressed.

また、ハードコートフィルム１０においては、光の波長８００〜１０００ｎｍの近赤外線領域における近赤外線透過率が好ましくは３０％以下であり、より好ましくは１〜１５％である。ハードコートフィルム１０が優れた近赤外線吸収特性を発現できることにより、近赤外線透過率を低く抑えることができる。   Moreover, in the hard coat film 10, the near-infrared transmittance in the near-infrared region with a light wavelength of 800 to 1000 nm is preferably 30% or less, and more preferably 1 to 15%. When the hard coat film 10 can exhibit excellent near-infrared absorption characteristics, the near-infrared transmittance can be kept low.

次に、プラズマディスプレイパネルは、前述したハードコートフィルム１０をプラズマディスプレイパネルの表示画面上に直接又は表示画面の前面に配置される透明プレート上に貼り合わせて構成される。ハードコートフィルム１０は前記のように近赤外線吸収特性に優れ、白ボケの発生を抑制することができることから、プラズマディスプレイパネルは画像の視認性を長期に渡って良好に維持することができる。   Next, the plasma display panel is configured by bonding the above-described hard coat film 10 directly on the display screen of the plasma display panel or on a transparent plate disposed on the front surface of the display screen. Since the hard coat film 10 is excellent in near-infrared absorption characteristics as described above and can suppress the occurrence of white blur, the plasma display panel can maintain the image visibility well over a long period of time.

以上の実施形態により発揮される作用及び効果について以下にまとめて記載する。
・ 本実施形態におけるハードコートフィルム１０は、活性エネルギー線硬化型樹脂、光重合開始剤、セシウム含有酸化タングステン微粒子及びレイリー散乱波長領域に吸収を持つ化合物を含有する硬化性組成物が透明基材フィルム１１上に塗布され、硬化されてハードコート層１３が形成されて構成されている。このため、セシウム含有酸化タングステン微粒子の持つ機能により、近赤外線吸収性を発現することができる。さらに、レイリー散乱の量を表す散乱係数が光の波長の４乗に反比例するため、レイリー散乱波長領域に吸収を持つ化合物によって短波長側の光を吸収して波長の値を大きくすることにより、レイリー散乱量を抑えることができ、レイリー散乱に起因する白ボケを抑えることができる。 The actions and effects exhibited by the above embodiment will be described collectively below.
In the present embodiment, the hard coat film 10 has a transparent base film made of a curable composition containing an active energy ray-curable resin, a photopolymerization initiator, cesium-containing tungsten oxide fine particles, and a compound having absorption in the Rayleigh scattering wavelength region. 11 is applied and cured to form a hard coat layer 13. For this reason, near infrared absorptivity can be expressed by the function which a cesium containing tungsten oxide microparticles | fine-particles has. Furthermore, since the scattering coefficient representing the amount of Rayleigh scattering is inversely proportional to the fourth power of the wavelength of light, by absorbing light on the short wavelength side by a compound having absorption in the Rayleigh scattering wavelength region and increasing the wavelength value, The amount of Rayleigh scattering can be suppressed, and white blur caused by Rayleigh scattering can be suppressed.

加えて、レイリー散乱波長領域に吸収を持つ化合物によって光の波長３５０〜５５０ｎｍの光が吸収され、その領域の反射光（拡散反射光）が小さくなり、同領域における積分反射率が３．０％以下になり、白ボケが有効に抑えられ、黒のしまりが良好になって色再現性の優れたＰＤＰ用ハードコートフィルムを得ることができる。従って、ハードコートフィルム１０は、優れた近赤外線吸収特性を発揮することができると共に、レイリー散乱に起因する白ボケを抑制することができる。   In addition, light having a wavelength of 350 to 550 nm is absorbed by the compound having absorption in the Rayleigh scattering wavelength region, and reflected light (diffuse reflected light) in the region is reduced, and the integrated reflectance in the same region is 3.0%. The hard coating film for PDP having the following effects, effectively suppressing white blur, improving the blackness, and having excellent color reproducibility can be obtained. Therefore, the hard coat film 10 can exhibit excellent near-infrared absorption characteristics, and can suppress white blur caused by Rayleigh scattering.

・ 光の波長８００〜１０００ｎｍの領域における近赤外線透過率が３０％以下であることにより、特に近赤外線吸収特性を十分に発揮することができ、大画面のＰＤＰから放出される近赤外線を吸収することができ、その結果リモコン機器の誤作動を防止することができる。   -The near infrared transmittance in the light wavelength region of 800 to 1000 nm is 30% or less, so that particularly the near infrared absorption characteristics can be sufficiently exhibited, and the near infrared rays emitted from the large-screen PDP are absorbed. As a result, malfunction of the remote control device can be prevented.

・ レイリー散乱波長領域に吸収を持つ化合物が無機系材料としての酸化鉄であることにより、レイリー散乱量を有効に減少させることができ、レイリー散乱に起因する白ボケを効果的に抑制することができる。 ・ The compound having absorption in the Rayleigh scattering wavelength region is iron oxide as an inorganic material, so that the amount of Rayleigh scattering can be effectively reduced and white blur caused by Rayleigh scattering can be effectively suppressed. it can.

・ ハードコート層１３上にさらに減反射層１４を設けることにより、外光の反射を低減させることができ、視認性を向上させることができる。
・ プラズマディスプレイパネルは、ハードコートフィルム１０をプラズマディスプレイパネルの表示画面上に直接又は表示画面の前面に配置される透明プレート上に貼り合わせて構成されている。このため、プラズマディスプレイパネルについて近赤外線吸収特性に優れると共に、白ボケの発生を抑制することができる。 -By further providing the antireflection layer 14 on the hard coat layer 13, reflection of external light can be reduced and visibility can be improved.
The plasma display panel is configured by bonding the hard coat film 10 directly on the display screen of the plasma display panel or on a transparent plate disposed in front of the display screen. For this reason, while being excellent in the near-infrared absorption characteristic about a plasma display panel, generation | occurrence | production of white blur can be suppressed.

以下、実施例及び比較例を挙げて前記実施形態をさらに具体的に説明するが、本発明はそれら実施例の範囲に限定されるものではない。
（ａ）光学特性
（ａ−１）積分反射率の測定
裏面反射の影響をなくすため、ハードコート層１３を設けた面と反対側の面を黒色塗料で塗り潰したサンプルを作製した。得られたサンプルについて紫外可視分光光度計〔日本分光（株）製、Ｖ−５６０〕に、積分球装置〔日本分光（株）製、ILV-４７１〕を取り付けて測定を行った。反射光のうち、正反射光を含まない場合の波長３５０ｎｍ、３８０ｎｍ、４００ｎｍ、４５０ｎｍ、５００ｎｍ及び５５０ｎｍにおける反射率（％）を読み取った。
（ａ−２）近赤外線透過率の測定
分光光度計〔「ＵＶ−１６００ＰＣ」、（株）島津製作所製〕を用いて測定し、光の波長８００ｎｍ、８５０ｎｍ、９５０ｎｍ及び１０００ｎｍにおける近赤外線透過率（％）を読み取った。
（ａ−３）最小反射率の測定
裏面反射の影響をなくすため、ハードコート層１３を設けた面と反対側の面を黒色塗料で塗り潰したサンプルを作製した。得られたサンプルについて紫外可視分光光度計〔日本分光（株）製、Ｖ−５６０〕を用いて、光の波長４００〜８００ｎｍの５°、−５°の分光反射スペクトルを測定し、反射率スペクトルより最小反射率（％）を読み取った。
（ａ−４）白ボケの目視評価
裏面反射の影響をなくすため、ハードコート層１３を設けた面と反対側の面を黒色塗料で塗り潰したサンプルを作製した。暗室内で白色蛍光灯を光源としてサンプルを目視したときに、反射色の白ボケの度合いを以下の基準で評価した。 Hereinafter, although the said embodiment is described further more concretely by giving an Example and a comparative example, this invention is not limited to the range of these Examples.
(A) Optical characteristics (a-1) Measurement of integral reflectance In order to eliminate the influence of back surface reflection, a sample was prepared by painting the surface opposite to the surface on which the hard coat layer 13 was provided with a black paint. The obtained sample was measured by attaching an integrating sphere device [manufactured by JASCO Corporation, ILV-471] to an ultraviolet-visible spectrophotometer [manufactured by JASCO Corporation, V-560]. Of the reflected light, the reflectance (%) at wavelengths of 350 nm, 380 nm, 400 nm, 450 nm, 500 nm, and 550 nm when the regular reflected light was not included was read.
(A-2) Measurement of near-infrared transmittance Measured using a spectrophotometer [“UV-1600PC”, manufactured by Shimadzu Corporation], and measured near-infrared transmittance at light wavelengths of 800 nm, 850 nm, 950 nm and 1000 nm ( %).
(A-3) Measurement of minimum reflectance In order to eliminate the influence of back surface reflection, a sample was prepared by painting the surface opposite to the surface on which the hard coat layer 13 was provided with a black paint. Using the UV-visible spectrophotometer (manufactured by JASCO Corp., V-560), 5 ° and −5 ° spectral reflection spectra of light wavelengths of 400 to 800 nm were measured and the reflectance spectrum was obtained. The minimum reflectance (%) was read.
(A-4) Visual evaluation of white blur In order to eliminate the influence of back surface reflection, a sample was prepared by painting the surface opposite to the surface on which the hard coat layer 13 was provided with a black paint. When a sample was visually observed using a white fluorescent lamp as a light source in a dark room, the degree of white blurring of the reflected color was evaluated according to the following criteria.

◎：反射色の白ボケがなく、黒色の色再現性が極めて良好、○：反射色の白ボケがほとんどなく、黒色の色再現性が良好、△：反射色の白ボケがあり、黒色の色再現性がやや悪い×：反射色の白ボケが強くあり、黒色の色再現性が悪い。
（ａ−５）平均粒子径
粒子径分布測定装置〔大塚電子（株）製、ＰＡＲ−ＩＩＩ〕を使用して、レーザー光による動的光散乱法により平均粒子径を測定した。
（ａ−６）屈折率
（１）屈折率１．４９のアクリル板〔商品名：「デラグラスＡ」、旭化成工業（株）製〕上に、ディップコーター〔杉山元理化学機器（株）製〕により、減反射層用塗液をそれぞれ乾燥膜厚で光学膜厚が５５０ｎｍ程度になるように層の厚さを調整して塗布した。（２）溶媒乾燥後、必要に応じて紫外線照射装置〔岩崎電気（株）製〕により窒素雰囲気下で１２０Ｗ高圧水銀灯を用いて、４００ｍＪの紫外線を照射して硬化した。（３）アクリル板裏面をサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計〔「Ｕ−ｂｅｓｔ５０」、日本分光（株）製〕により、４００〜６５０ｎｍにおける５°、−５°正反射率を測定し、その反射率の極小値又は極大値を読み取った。（４）反射率の極値より以下の式を用いて屈折率を計算した。 A: There is no white bokeh of reflected color and black color reproducibility is very good. B: There is almost no white bokeh of reflected color and black color reproducibility is good. B: White bokeh of reflected color is present. X: Slightly poor color reproducibility: The white blurring of the reflected color is strong, and the black color reproducibility is poor.
(A-5) Average particle diameter The average particle diameter was measured by a dynamic light scattering method using a laser beam, using a particle size distribution measuring apparatus (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., PAR-III).
(A-6) Refractive index (1) On an acrylic plate having a refractive index of 1.49 [trade name: “Delagrass A”, manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.], by a dip coater (manufactured by Sugiyama Motochemical Co., Ltd.) The coating solution for the antireflection layer was applied by adjusting the layer thickness so that the optical film thickness was about 550 nm with a dry film thickness. (2) After the solvent was dried, it was cured by irradiating with 400 mJ ultraviolet rays using a 120 W high-pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere with an ultraviolet irradiation device (manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) as necessary. (3) The back surface of the acrylic plate is roughened with sandpaper and painted with black paint, and spectrophotometer ["U-best 50", manufactured by JASCO Corporation], 5 ° and -5 ° regular reflection at 400 to 650 nm. The rate was measured, and the minimum or maximum value of the reflectance was read. (4) The refractive index was calculated from the extreme value of the reflectance using the following formula.

（ｂ）物理的特性
（ｂ−１）密着性
ハードコート層１３を設けた面側について、ＪＩＳ Ｄ０２０２−１９９８に準拠して碁盤目剥離テープ試験を行った。セロハンテープ〔ニチバン（株）製、ＣＴ２４〕を用い、フィルムに密着させた後剥離した。判定は１００マスの内、剥離しないマス目の数で表し、全く剥離しない場合を１００／１００、完全に剥離する場合を０／１００として表した。
（ｂ−２）鉛筆硬度
ＪＩＳＫ５４００に準拠して鉛筆（３Ｈ）で引っかき試験を行った。
（製造例１、変性中空シリカゾルの製造）
第１工程として、平均粒子径５ｎｍ、シリカ（ＳｉＯ_２）濃度２０質量％のシリカゾルと純水とを混合して反応母液を調製し、８０℃に加温した。この反応母液のｐＨは１０．５であり、同反応母液にＳｉＯ_２として１．１７質量％の珪酸ナトリウム水溶液と、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）として０．８３質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液とを同時に添加した。その間、反応液の温度を８０℃に保持した。反応液のｐＨは、珪酸ナトリウム及びアルミン酸ナトリウムの添加直後１２．５に上昇し、その後ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０質量％のＳｉＯ_２・Ａｌ_２Ｏ_３一次粒子分散液（核粒子分散液）を調製した。 (B) Physical characteristics (b-1) Adhesiveness On the surface side on which the hard coat layer 13 was provided, a cross-cut peeling tape test was performed in accordance with JIS D0202-1998. Using cellophane tape [manufactured by Nichiban Co., Ltd., CT24], the film was adhered to the film and then peeled off. Judgment was represented by the number of squares that were not peeled out of 100 squares, where 100/100 was the case where no peeling occurred, and 0/100 was the case where peeling completely.
(B-2) Pencil hardness Based on JISK5400, the scratch test was done with the pencil (3H).
(Production Example 1, production of modified hollow silica sol)
As a first step, a silica sol having an average particle diameter of 5 nm and a silica (SiO ₂ ) concentration of 20% by mass and pure water were mixed to prepare a reaction mother liquor and heated to 80 ° C. The pH of this reaction mother liquor is 10.5, and 1.17% by mass sodium silicate aqueous solution as SiO ₂ and 0.83% by mass sodium aluminate aqueous solution as alumina (Al ₂ O ₃ ) are added to the reaction mother liquor. Added simultaneously. Meanwhile, the temperature of the reaction solution was kept at 80 ° C. The pH of the reaction solution rose to 12.5 immediately after the addition of sodium silicate and sodium aluminate and remained almost unchanged thereafter. After completion of the addition, the reaction solution was cooled to room temperature and washed with an ultrafiltration membrane to prepare a SiO ₂ .Al ₂ O ₃ primary particle dispersion (core particle dispersion) having a solid concentration of 20% by mass.

次いで、第２工程として、このＳｉＯ_２・Ａｌ_２Ｏ_３一次粒子分散液を採取し、純水を加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、濃度０．５質量％の硫酸ナトリウムを添加した。続いて、ＳｉＯ_２として濃度１．１７質量％の珪酸ナトリウム水溶液と、Ａｌ_２Ｏ_３として濃度０．５質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液とを添加して複合酸化物微粒子分散液（核粒子に第１シリカ被覆層を形成した微粒子分散液）を得た。そして、これを限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３質量％の複合酸化物微粒子分散液とした。 Next, as a second step, this SiO ₂ · Al ₂ O ₃ primary particle dispersion is collected, pure water is added and heated to 98 ° C., and sulfuric acid having a concentration of 0.5 mass% is maintained while maintaining this temperature. Sodium was added. Subsequently, an aqueous solution of sodium silicate having a concentration of 1.17% by mass as SiO ₂ and an aqueous solution of sodium aluminate having a concentration of 0.5% by mass as Al ₂ O ₃ were added, and a composite oxide fine particle dispersion (the core particles were first mixed). 1) A fine particle dispersion having a silica coating layer was obtained. And this was wash | cleaned with the ultrafiltration membrane, and it was set as the complex oxide fine particle dispersion liquid of solid content concentration 13 mass%.

第３工程として、この複合酸化物微粒子分散液に純水を加え、さらに濃塩酸（３５．５質量％）を滴下してｐＨ１．０とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌと純水５Ｌとを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、洗浄して固形分濃度２０質量％のシリカ系微粒子（１）の水分散液を得た。   As a third step, pure water was added to this composite oxide fine particle dispersion, and concentrated hydrochloric acid (35.5% by mass) was added dropwise to adjust the pH to 1.0, followed by dealumination. Next, the aluminum salt dissolved in the ultrafiltration membrane is separated while adding 10 L of hydrochloric acid aqueous solution of pH 3 and 5 L of pure water, and washed to obtain an aqueous dispersion of silica-based fine particles (1) having a solid content concentration of 20% by mass. It was.

第４工程として、前記固形分濃度２０質量％のシリカ系微粒子（１）の水分散液と、純水、エタノール及び２８質量％アンモニア水との混合液を３５℃に加温した後、エチルシリケート（ＳｉＯ_２ ２８質量％）を添加してシリカ被膜（第２シリカ被覆層）を形成した。続いて、純水５Ｌを加えながら、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０質量％のシリカ系微粒子（２）の分散液を調製した。 As a fourth step, a mixture of an aqueous dispersion of silica-based fine particles (1) having a solid content concentration of 20% by mass, pure water, ethanol and 28% by mass ammonia water is heated to 35 ° C., and then ethyl silicate. (SiO ₂ 28% by mass) was added to form a silica coating (second silica coating layer). Subsequently, while adding 5 L of pure water, it was washed with an ultrafiltration membrane to prepare a dispersion of silica-based fine particles (2) having a solid content concentration of 20% by mass.

最後に第５工程として、再びシリカ系微粒子（２）の分散液を２００℃にて１１時間水熱処理した。その後、純水５Ｌを加えながら限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０質量％に調整した。そして、限外濾過膜を用いて、この分散液の分散媒をエタノールに置換し、固形分濃度２０質量％のオルガノゾルを得た。このオルガノゾルは、平均粒子径が６０ｎｍで、比表面積が１１０ｍ^２／ｇの中空シリカ微粒子が分散されたオルガノゾル（以下、「中空シリカゾルＡ」と称する。）であった。 Finally, as a fifth step, the dispersion of silica-based fine particles (2) was hydrothermally treated again at 200 ° C. for 11 hours. Then, it washed with the ultrafiltration membrane, adding 5 L of pure water, and adjusted solid content concentration to 20 mass%. Then, using an ultrafiltration membrane, the dispersion medium of this dispersion was replaced with ethanol to obtain an organosol having a solid content concentration of 20% by mass. This organosol was an organosol in which hollow silica fine particles having an average particle diameter of 60 nm and a specific surface area of 110 m ² / g were dispersed (hereinafter referred to as “hollow silica sol A”).

該中空シリカゾルＡ（シリカ固形分濃度２０質量％）２００ｇを用意し、限外濾過膜にて、メタノールへの溶媒置換を行い、ＳｉＯ_２分が２０質量％のオルガノゾル１００ｇ（水分量はＳｉＯ_２分に対して０．５質量％）を調製した。そこへ２８質量％アンモニア水溶液を前記オルガノゾル１００ｇに対してアンモニアとして１００ｐｐｍとなるように加え、十分に混合し、次にγ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン〔信越化学工業（株）製、ＫＢＭ５１０３〕３．６ｇを添加し、反応液とした。これを５０℃に加温し、攪拌しながら５０℃で６時間加熱を行なった。 200 g of the hollow silica sol A (silica solid content concentration: 20% by mass) was prepared, and the solvent was replaced with methanol in an ultrafiltration membrane. 100 g of organosol having a SiO ₂ content of 20% by mass (water content was SiO ₂ content) 0.5 mass%) was prepared. 28% by weight aqueous ammonia solution was added to the organosol so as to be 100 ppm as ammonia with respect to 100 g of the organosol, and mixed well. Then, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane [manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM5103] 3 .6 g was added to prepare a reaction solution. This was heated to 50 ° C. and heated at 50 ° C. for 6 hours with stirring.

加熱終了後、反応液を常温まで冷却し、さらにロータリーエバポレーターでイソプロピルアルコールへ溶媒置換を行い、ＳｉＯ_２濃度２０質量％の被覆中空微粒子からなるオルガノゾルを得た。このオルガノゾルは、平均粒子径が６０ｎｍ、屈折率１．２５、空隙率４０〜４５％で、比表面積が１３０ｍ^２／ｇ、熱質量測定法（ＴＧ）による質量減少割合が３．６％の変性中空シリカ微粒子が分散されたオルガノゾル（以下、「変性中空シリカゾルα」と称する。）であった。
（製造例２、重合性二重結合をもつ含フッ素化合物の製造）
四つ口フラスコにパーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビスフルオロメチル−３，６−ジオキサノネノール）１０４質量部と、ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロヘプタノイル）パーオキサイドの８％パーフルオロヘキサン溶液１１質量部とを注入した。そして、その中空部を窒素置換した後、窒素気流下２０℃で２４時間撹拌して高粘度の固体を得た。得られた固体をジエチルエーテルに溶解させたものをパーフルオロヘキサンに注ぎ、分離後に真空乾燥させて無色透明なポリマーを得た。 After completion of the heating, the reaction solution was cooled to room temperature, and further the solvent was replaced with isopropyl alcohol by a rotary evaporator to obtain an organosol composed of coated hollow fine particles having a SiO ₂ concentration of 20% by mass. This organosol has an average particle size of 60 nm, a refractive index of 1.25, a porosity of 40 to 45%, a specific surface area of 130 m ² / g, and a mass reduction ratio by thermal mass measurement (TG) of 3.6%. It was an organosol in which hollow silica fine particles were dispersed (hereinafter referred to as “modified hollow silica sol α”).
(Production Example 2, production of fluorine-containing compound having a polymerizable double bond)
In a four-necked flask, 104 parts by mass of perfluoro- (1,1,9,9-tetrahydro-2,5-bisfluoromethyl-3,6-dioxanonenol) and bis (2,2,3, 3,4,4,5,5,6,6,7,7-dodecafluoroheptanoyl) peroxide 11% by mass of 8% perfluorohexane solution was injected. The hollow portion was purged with nitrogen, and then stirred at 20 ° C. for 24 hours under a nitrogen stream to obtain a highly viscous solid. A solution obtained by dissolving the obtained solid in diethyl ether was poured into perfluorohexane, followed by separation and vacuum drying to obtain a colorless and transparent polymer.

このポリマーを１９Ｆ−ＮＭＲ（核磁気共鳴スペクトル）、１Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲ（赤外線吸収スペクトル）により分析したところ、上記アリルエーテルの構造単位からなる側鎖末端に水酸基を有する含フッ素ポリマーであった。ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフ）により測定した数平均分子量は７２，０００、質量平均分子量は１１８，０００であった。   When this polymer was analyzed by 19F-NMR (nuclear magnetic resonance spectrum), 1H-NMR, and IR (infrared absorption spectrum), it was a fluorine-containing polymer having a hydroxyl group at the end of the side chain consisting of the structural unit of the allyl ether. The number average molecular weight measured by GPC (gel permeation chromatograph) was 72,000, and the mass average molecular weight was 118,000.

得られたヒドロキシル基含有含フッ素アリルエーテルポリマー５質量部、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）４３質量部、及びピリジン１質量部を四つ口フラスコ中に仕込み、５℃以下に氷冷した。続いて、窒素気流下で撹拌しながらα−フルオロアクリル酸フルオライド１質量部をＭＥＫ９質量部に溶解したものを１０分間かけて滴下した。そして、重合性二重結合をもつ含フッ素化合物として含フッ素反応性ポリマーの溶液を得た。得られたＭＥＫ溶液の固形分は１３質量％であり、１９Ｆ−ＮＭＲにより分析した結果、α−フルオロアクリロイル基の導入率は４０モル％であった。
（ハードコート層塗布液Ａの調製）
近赤外線吸収剤〔住友金属鉱山（株）製、ＹＭＦ−０２Ａ、セシウム含有酸化タングステン（Ｃｓ_０．３３ＷＯ_３）、濃度１８．５質量％、平均粒子径１５ｎｍ〕１４．４質量部、無機系材料Ｘ〔三酸化二鉄（Ｆｅ_２Ｏ_３）、平均粒子径１２０ｎｍ、ランクセス（株）製、バイフェロックス９２０〕０．０５質量部、ウレタンアクリレート〔日本合成化学工業（株）製、ＵＶ−７６００Ｂ〕４６．３質量部、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７〕２．１質量部を４-メチル-２-ペンタノン３７．２質量部に分散して、ハードコート層塗布液Ａとした。
（ハードコート層塗布液Ｂの調製）
近赤外線吸収剤〔住友金属鉱山（株）製、ＹＭＦ−０２Ａ、セシウム含有酸化タングステン（Ｃｓ_０．３３ＷＯ_３）、濃度１８．５質量％、平均粒子径１５ｎｍ〕１４．７質量部、無機系材料Ｘ〔三酸化二鉄（Ｆｅ_２Ｏ_３）、平均粒子径１２０ｎｍ、ランクセス（株）製、バイフェロックス９２０〕０．０９質量部、ウレタンアクリレート〔日本合成化学工業（株）製、ＵＶ−７６００Ｂ〕４６．３質量部、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７〕２．１質量部を４-メチル-２-ペンタノン３６．８質量部に分散して、ハードコート層塗布液Ｂとした。
（ハードコート層塗布液Ｃの調製）
近赤外線吸収剤〔住友金属鉱山（株）製、ＹＭＦ−０２Ａ、セシウム含有酸化タングステン（Ｃｓ_０．３３ＷＯ_３）、濃度１８．５質量％、平均粒子径１５ｎｍ〕１５．２質量部、無機系材料Ｘ〔三酸化二鉄（Ｆｅ_２Ｏ_３）、平均粒子径１２０ｎｍ、ランクセス（株）製、バイフェロックス９２０〕０．１８質量部、ウレタンアクリレート〔日本合成化学工業（株）製、ＵＶ−７６００Ｂ〕４６．３質量部、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７〕２．１質量部を４-メチル-２-ペンタノン３５．９質量部に分散して、ハードコート層塗布液Ｃとした。
（ハードコート層塗布液Ｄの調製）
近赤外線吸収剤〔住友金属鉱山（株）製、ＹＭＦ−０２Ａ、セシウム含有酸化タングステン（Ｃｓ_０．３３ＷＯ_３）、濃度１８．５質量％、平均粒子径１５ｎｍ〕１４．３質量部、無機系材料Ｙ〔微量のシリカ（ＳｉＯ_２）を含む三酸化二鉄（Ｆｅ_２Ｏ_３）、平均粒子径１２０ｎｍ、ランクセス（株）製、バイフェロックス６６３〕０．０３質量部、ウレタンアクリレート〔日本合成化学工業（株）製、ＵＶ−７６００Ｂ〕４６．３質量部、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７〕２．１質量部を４-メチル-２-ペンタノン３７．３質量部に分散して、ハードコート層塗布液Ｄとした。
（ハードコート層塗布液Ｅの調製）
近赤外線吸収剤〔住友金属鉱山（株）製、ＹＭＦ−０２Ａ、セシウム含有酸化タングステン（Ｃｓ_０．３３ＷＯ_３）、濃度１８．５質量％、平均粒子径１５ｎｍ〕１５．３質量部、無機系材料Ｙ〔微量のシリカ（ＳｉＯ_２）を含む三酸化二鉄（Ｆｅ_２Ｏ_３）、平均粒子径 １２０ｎｍ、ランクセス（株）製、バイフェロックス６６３〕０．０３質量部、有機系材料Ｚ（トリアジン系紫外線吸収剤、チバスペシャルティケミカルズ（株）製、ＣＧＬ ７７７ ＭＰＡ Ｄ）０．０１質量部、ウレタンアクリレート〔日本合成化学工業（株）製、ＵＶ−７６００Ｂ〕４６．３質量部、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７〕２．１質量部を４-メチル-２-ペンタノン３６．３質量部に分散して、ハードコート層塗布液Ｅとした。
（ハードコート層塗布液Ｆの調製）
近赤外線吸収剤〔住友金属鉱山（株）製、ＹＣＦ−０２Ａ、セシウム含有酸化タングステン（Ｃｓ_０．３３ＷＯ_３）、濃度１７．３質量％、平均粒子径１５ｎｍ、光の波長５５０ｎｍ以下に吸収を持つ無機系材料を含む〕１７．６質量部、ウレタンアクリレート〔日本合成化学工業（株）製、ＵＶ−７６００Ｂ〕４６．３質量部、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７〕２．１質量部を４-メチル-２-ペンタノン３４．０質量部に分散して、ハードコート層塗布液Ｆとした。
（ハードコート層塗布液Ｇの調製）
近赤外線吸収剤〔住友金属鉱山（株）製、ＹＭＦ−０２Ａ、セシウム含有酸化タングステン（Ｃｓ_０．３３ＷＯ_３）、濃度１８．５質量％、平均粒子径２０ｎｍ〕１１．６質量部、ウレタンアクリレート〔日本合成化学工業（株）製、ＵＶ−７６００Ｂ〕４６．３質量部、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７〕２．１質量部を４-メチル-２-ペンタノン４０．０質量部に分散して、ハードコート層塗布液Ｇとした。このハードコート層塗布液Ｇには、少なくとも波長５５０ｎｍ以下に吸収を持つ有機系材料及び無機系材料は含まれていない。
（ハードコート層塗布液Ｈの調製）
近赤外線吸収剤〔住友金属鉱山（株）製、ＹＭＦ−０２Ａ、セシウム含有酸化タングステン（Ｃｓ_０．３３ＷＯ_３）、濃度１８．５質量％、平均粒子径１５ｎｍ〕１３．１質量部、ウレタンアクリレート〔日本合成化学工業（株）製、ＵＶ−７６００Ｂ〕４６．３質量部、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７〕２．１質量部を４-メチル-２-ペンタノン３８．５質量部に分散して、ハードコート層塗布液Ｈとした。このハードコート層塗布液Ｈには、少なくとも波長５５０ｎｍ以下に吸収を持つ有機系材料及び無機系材料は含まれていない。
（ハードコート層塗布液Ｉの調製）
近赤外線吸収剤〔住友金属鉱山（株）製、ＹＭＦ−０２Ａ、セシウム含有酸化タングステン（Ｃｓ_０．３３ＷＯ_３）、濃度１８．５質量％、平均粒子径１５ｎｍ〕１５．２質量部、無機系材料Ｚ〔酸化亜鉛、平均粒子径３０ｎｍ、ハクスイテック（株）製、パゼットＧＫ〕０．１８質量部、ウレタンアクリレート〔日本合成化学工業（株）製、ＵＶ−７６００Ｂ〕４６．３質量部、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７〕２．１質量部を４-メチル-２-ペンタノン３５．９質量部に分散して、ハードコート層塗布液Ｉとした。
（ハードコート層塗布液Ｊの調製）
近赤外線吸収剤〔住友金属鉱山（株）製、ＹＭＦ−０２Ａ、セシウム含有酸化タングステン（Ｃｓ_０．３３ＷＯ_３）、濃度１８．５質量％、平均粒子径１５ｎｍ〕１５．２質量部、無機系材料α〔二酸化チタン、平均粒子径３０ｎｍ、石原産業（株）製、ＴＴＯ-５５（Ｂ）〕０．２０質量部、ウレタンアクリレート〔日本合成化学工業（株）製、ＵＶ−７６００Ｂ〕４６．３質量部、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７〕２．１質量部を４-メチル-２-ペンタノン３５．９質量部に分散して、ハードコート層塗布液Ｊとした。
（高屈折率層塗布液Ａの調製）
平均粒径０．０６μｍのアンチモン酸亜鉛微粒子３０質量部、ウレタンアクリレート〔日本合成化学工業（株）製、ＵＶ−７６００Ｂ〕７０質量部、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４〕５質量部及びイソプロパノール９００質量部を混合し、高屈折率層塗布液Ａを調製した。その高屈折率層塗布液Ａの重合硬化物の屈折率は１．６２であった。
（高屈折率層塗布液Ｂの調製）
平均粒径０．０７μｍのＩＴＯ微粒子８５質量部、ウレタンアクリレート〔日本合成化学工業（株）製、ＵＶ−７６００Ｂ〕１５質量部、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４〕５質量部及びブチルアルコール９００質量部を混合し、高屈折率層塗布液Ｂを調製した。その高屈折率層塗布液Ｂの重合硬化物の屈折率は１．６６であった。
（低屈折率層塗布液Ａの調製）
パーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビスフルオロメチル−３，６−ジオキサノネノール）１０４質量部及びビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロヘプタノイル）パーオキサイドの８質量％パーフルオロヘキサン溶液１１質量部の重合反応により得られるヒドロキシル基含有含フッ素アリルエーテル重合体（数平均分子量７２，０００、質量平均分子量１１８，０００）５質量部、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）４３質量部、ピリジン１質量部、及びα−フルオロアクリル酸フルオライド１質量部より重合性二重結合を有する含フッ素反応性重合体溶液（固形分１３質量％、α−フルオロアクリロイル基の導入率４０モル％）を調製した。 The obtained hydroxyl group-containing fluorine-containing allyl ether polymer (5 parts by mass), methyl ethyl ketone (MEK) (43 parts by mass), and pyridine (1 part by mass) were charged into a four-necked flask and cooled to 5 ° C. or less with ice. Subsequently, a solution prepared by dissolving 1 part by mass of α-fluoroacrylic acid fluoride in 9 parts by mass of MEK was added dropwise over 10 minutes while stirring under a nitrogen stream. And the solution of the fluorine-containing reactive polymer was obtained as a fluorine-containing compound having a polymerizable double bond. The obtained MEK solution had a solid content of 13% by mass, and was analyzed by 19F-NMR. As a result, the α-fluoroacryloyl group introduction rate was 40 mol%.
(Preparation of hard coat layer coating solution A)
Near-infrared absorber [Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., YMF-02A, cesium-containing tungsten oxide (Cs _0.33 WO ₃ ), concentration 18.5% by mass, average particle size 15 nm] 14.4 parts by mass, inorganic Material X [diiron trioxide (Fe ₂ O ₃ ), average particle size 120 nm, manufactured by LANXESS Corporation, Biferox 920] 0.05 parts by mass, urethane acrylate [manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., UV- 7600B] 46.3 parts by mass, photopolymerization initiator [manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 907] 2.1 parts by mass are dispersed in 37.2 parts by mass of 4-methyl-2-pentanone, and a hard coat layer It was set as the coating liquid A.
(Preparation of hard coat layer coating solution B)
Near-infrared absorber [Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., YMF-02A, cesium-containing tungsten oxide (Cs _0.33 WO ₃ ), concentration 18.5% by mass, average particle size 15 nm] 14.7 parts by mass, inorganic Material X [diiron trioxide (Fe ₂ O ₃ ), average particle size 120 nm, manufactured by LANXESS Co., Ltd., Biferox 920] 0.09 parts by mass, urethane acrylate [manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., UV- 7600B] 46.3 parts by mass, a photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 907) 2.1 parts by mass was dispersed in 36.8 parts by mass of 4-methyl-2-pentanone, and a hard coat layer It was set as the coating liquid B.
(Preparation of hard coat layer coating solution C)
Near-infrared absorber [Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., YMF-02A, cesium-containing tungsten oxide (Cs _0.33 WO ₃ ), concentration 18.5% by mass, average particle size 15 nm] 15.2 parts by mass, inorganic Material X [diiron trioxide (Fe ₂ O ₃ ), average particle size 120 nm, manufactured by LANXESS, 0.18 parts by mass of Biferox 920], urethane acrylate [manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry, UV- 7600B] 46.3 parts by mass, a photopolymerization initiator [Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 907] 2.1 parts by mass was dispersed in 35.9 parts by mass of 4-methyl-2-pentanone, and a hard coat layer A coating solution C was obtained.
(Preparation of hard coat layer coating solution D)
Near-infrared absorber [manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., YMF-02A, cesium-containing tungsten oxide (Cs _0.33 WO ₃ ), concentration 18.5% by mass, average particle size 15 nm] 14.3 parts by mass, inorganic Material Y [ferric trioxide (Fe ₂ O ₃ ) containing a small amount of silica (SiO ₂ ), average particle size 120 nm, manufactured by LANXESS Co., Ltd., Biferox 663] 0.03 parts by mass, urethane acrylate [Nippon Synthesis Chemical Industry Co., Ltd., UV-7600B] 46.3 parts by mass, photopolymerization initiator [Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 907] 2.1 parts by mass 4-methyl-2-pentanone 37.3 parts by mass The hard coat layer coating solution D was obtained by dispersing in the part.
(Preparation of hard coat layer coating solution E)
Near-infrared absorber [Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., YMF-02A, cesium-containing tungsten oxide (Cs _0.33 WO ₃ ), concentration 18.5% by mass, average particle size 15 nm] 15.3 parts by mass, inorganic Material Y [ferric trioxide (Fe ₂ O ₃ ) containing a small amount of silica (SiO ₂ ), average particle size of 120 nm, manufactured by LANXESS Co., Ltd., Biferox 663] 0.03 parts by mass, organic material Z ( Triazine UV absorber, Ciba 777 MPA D) 0.01 parts by mass, urethane acrylate [manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., UV-7600B] 46.3 parts by mass, photopolymerization started Agent (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 907) was dispersed in 2.1 parts by mass of 36.3 parts by mass of 4-methyl-2-pentanone. And a layer coating solution E.
(Preparation of hard coat layer coating solution F)
Near-infrared absorber [Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., YCF-02A, cesium-containing tungsten oxide (Cs _0.33 WO ₃ ), concentration 17.3% by mass, average particle size 15 nm, absorption at light wavelength 550 nm or less 17.6 parts by mass of urethane acrylate [manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., UV-7600B] 46.3 parts by mass of photopolymerization initiator [manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 907 2.1 parts by mass were dispersed in 34.0 parts by mass of 4-methyl-2-pentanone to obtain a hard coat layer coating solution F.
(Preparation of hard coat layer coating solution G)
Near-infrared absorber [Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., YMF-02A, cesium-containing tungsten oxide (Cs _0.33 WO ₃ ), concentration 18.5% by mass, average particle size 20 nm] 11.6 parts by mass, urethane acrylate [Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., UV-7600B] 46.3 parts by mass, photopolymerization initiator [Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 907] 2.1 parts by mass of 4-methyl-2-pentanone 40 Dispersed in 0.0 part by mass to obtain a hard coat layer coating solution G. The hard coat layer coating solution G does not contain an organic material or an inorganic material having absorption at least at a wavelength of 550 nm or less.
(Preparation of hard coat layer coating solution H)
Near-infrared absorber [Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., YMF-02A, cesium-containing tungsten oxide (Cs _0.33 WO ₃ ), concentration 18.5% by mass, average particle size 15 nm] 13.1 parts by mass, urethane acrylate [Manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., UV-7600B] 46.3 parts by mass, photopolymerization initiator [manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 907] 2.1 parts by mass of 4-methyl-2-pentanone 38 Dispersed in 5 parts by mass to obtain a hard coat layer coating solution H. This hard coat layer coating liquid H does not contain an organic material or an inorganic material having absorption at least at a wavelength of 550 nm or less.
(Preparation of hard coat layer coating solution I)
Near-infrared absorber [Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., YMF-02A, cesium-containing tungsten oxide (Cs _0.33 WO ₃ ), concentration 18.5% by mass, average particle size 15 nm] 15.2 parts by mass, inorganic Material Z [Zinc oxide, average particle size 30 nm, manufactured by Hakusuitec Co., Ltd., passet GK] 0.18 parts by mass, urethane acrylate [manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., UV-7600B] 46.3 parts by mass, photopolymerization 2.1 parts by mass of an initiator [manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 907] was dispersed in 35.9 parts by mass of 4-methyl-2-pentanone to obtain a hard coat layer coating solution I.
(Preparation of hard coat layer coating solution J)
Near-infrared absorber [Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., YMF-02A, cesium-containing tungsten oxide (Cs _0.33 WO ₃ ), concentration 18.5% by mass, average particle size 15 nm] 15.2 parts by mass, inorganic Material α [titanium dioxide, average particle size 30 nm, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., TTO-55 (B)] 0.20 parts by mass, urethane acrylate [manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., UV-7600B] 46.3 2.1 parts by mass of a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 907) was dispersed in 35.9 parts by mass of 4-methyl-2-pentanone to obtain a hard coat layer coating solution J. .
(Preparation of high refractive index layer coating solution A)
30 parts by mass of zinc antimonate fine particles having an average particle size of 0.06 μm, 70 parts by mass of urethane acrylate [manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., UV-7600B], photopolymerization initiator [manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 184 5 parts by mass and 900 parts by mass of isopropanol were mixed to prepare a high refractive index layer coating solution A. The refractive index of the polymerized cured product of the high refractive index layer coating solution A was 1.62.
(Preparation of high refractive index layer coating solution B)
85 parts by mass of ITO fine particles having an average particle size of 0.07 μm, 15 parts by mass of urethane acrylate [manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., UV-7600B], photopolymerization initiator [manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 184] 5 Mass parts and 900 parts by mass of butyl alcohol were mixed to prepare a high refractive index layer coating solution B. The refractive index of the polymerized cured product of the high refractive index layer coating solution B was 1.66.
(Preparation of low refractive index layer coating solution A)
104 parts by mass of perfluoro- (1,1,9,9-tetrahydro-2,5-bisfluoromethyl-3,6-dioxanonenol) and bis (2,2,3,3,4,4,4) 5,5,6,6,7,7-dodecafluoroheptanoyl) peroxide-containing fluorine-containing allyl ether polymer (number average molecular weight 72) obtained by polymerization reaction of 11 parts by mass of an 8% by mass perfluorohexane solution Fluorine-containing reactive heavy having a polymerizable double bond from 5 parts by mass, 43 parts by mass of methyl ethyl ketone (MEK), 1 part by mass of pyridine, and 1 part by mass of α-fluoroacrylic acid fluoride. A coalescence solution (solid content 13 mass%, introduction rate of α-fluoroacryloyl group 40 mol%) was prepared.

また、中空シリカゾル〔触媒化成工業（株）製、商品名：ＥＬＣＯＭ ＮＹ−１００１ＳＩＶ、イソプロピルアルコールによる中空シリカゾルの２５質量％分散液、平均粒子径：６０ｎｍ〕２０００質量部、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン〔信越化学工業（株）製、ＫＢＭ５１０３〕７０質量部及び蒸留水８０質量部を混合して変性中空シリカ微粒子（ゾル）（平均粒子径：６０ｎｍ）を調製した。そして、前記含フッ素反応性重合体溶液５０質量部と、変性中空シリカ微粒子５０質量部と、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７〕２質量部と、イソプロピルアルコール２０００質量部とを混合して、低屈折率層塗布液Ａを得た。
（低屈折率層塗布液Ｂの調製）
製造例１で得られた変性中空シリカゾルαを固形分換算で５０質量部、製造例２で得られた溶媒可溶性の含フッ素反応性ポリマー（フッ素含有率６４質量％）を固形分換算で５０質量部、１−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１３，１３，１３−ヘンエイコサフルオロトリデカン（以下、ＤＨＰＡと略記する）４質量部、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７〕５質量部と、イソプロピルアルコール２０００質量部とを混合して、低屈折率層塗布液Ｂを得た。
（実施例１）
透明基材フィルム１１として厚さが１００μｍの紫外線吸収剤入りポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム〔帝人デュポンフィルム（株）製、ＨＢ３、接着層１２を有する〕の接着層１２上に前記ハードコート層塗布液Ａを、乾燥膜厚２０μｍになるようにグラビアコート法で塗布した。続いて、２００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギーで紫外線（光の波長２００〜４４０ｎｍ）を照射してハードコート層塗布液Ａを硬化させることによりハードコート層１３を形成し、ハードコートフィルム１０を作製した。このハードコートフィルム１０について、積分反射率、近赤外線透過率、白ボケの目視評価、密着性及び鉛筆硬度を測定し、評価した。それらの評価結果を表１に示した。
（実施例２）
実施例１において、ハードコート層塗布液Ａに代えてハードコート層塗布液Ｂを用いた以外は実施例１と同様にしてハードコートフィルム１０を作製し、評価を行った。得られた評価結果を表１に示した。
（実施例３）
実施例１において、ハードコート層塗布液Ａに代えてハードコート層塗布液Ｃを用いた以外は実施例１と同様にしてハードコートフィルム１０を作製し、評価を行った。得られた評価結果を表１に示した。
（実施例４）
実施例１において、ハードコート層塗布液Ａに代えてハードコート層塗布液Ｄを用いた以外は実施例１と同様にしてハードコートフィルム１０を作製し、評価を行った。得られた評価結果を表１に示した。
（実施例５）
実施例１において、ハードコート層塗布液Ａに代えてハードコート層塗布液Ｅを用いた以外は実施例１と同様にしてハードコートフィルム１０を作製し、評価を行った。得られた評価結果を表１に示した。
（実施例６）
実施例１において、ハードコート層塗布液Ａに代えてハードコート層塗布液Ｆを用い、４００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギーで紫外線（光の波長２００〜４４０ｎｍ）を照射して硬化させること以外は実施例１と同様にしてハードコートフィルム１０を作製し、評価を行った。得られた評価結果を表１に示した。
（参考例７）
実施例１において、ハードコート層塗布液Ａに代えてハードコート層塗布液Ｉを用い、４００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギーで紫外線（光の波長２００〜４４０ｎｍ）を照射して硬化させること以外は実施例１と同様にしてハードコートフィルム１０を作製し、評価を行った。得られた評価結果を表１に示した。
（参考例８）
実施例１において、ハードコート層塗布液Ａに代えてハードコート層塗布液Jを用い、４００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギーで紫外線（光の波長２００〜４４０ｎｍ）を照射して硬化させること以外は実施例１と同様にしてハードコートフィルム１０を作製し、評価を行った。得られた評価結果を表１に示した。
（比較例１）
実施例１において、ハードコート層塗布液Ａに代えてハードコート層塗布液Ｇを用いた以外は実施例１と同様にしてハードコートフィルムを作製し、評価を行った。得られた評価結果を表１に示した。
（比較例２）
実施例１において、ハードコート層塗布液Ａに代えてハードコート層塗布液Ｈを用いた以外は実施例１と同様にしてハードコートフィルムを作製し、評価を行った。得られた評価結果を表１に示した。 Further, hollow silica sol [manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name: ELCOM NY-1001SIV, 25 mass% dispersion of hollow silica sol with isopropyl alcohol, average particle size: 60 nm] 2000 parts by mass, γ-acryloyloxypropyltrimethoxy 70 parts by mass of silane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM5103) and 80 parts by mass of distilled water were mixed to prepare modified hollow silica fine particles (sol) (average particle size: 60 nm). And, 50 parts by mass of the fluorine-containing reactive polymer solution, 50 parts by mass of the modified hollow silica fine particles, 2 parts by mass of a photopolymerization initiator [manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 907], and 2000 parts by mass of isopropyl alcohol And a low refractive index layer coating solution A was obtained.
(Preparation of low refractive index layer coating solution B)
50 parts by mass of the modified hollow silica sol α obtained in Production Example 1 in terms of solid content and 50 masses in terms of solid content of the solvent-soluble fluorine-containing reactive polymer (fluorine content 64 mass%) obtained in Production Example 2. Part, 1-acryloyloxy-2-hydroxy-4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,13,13 , 13-heneicosafluorotridecane (hereinafter abbreviated as DHPA), 4 parts by mass, 5 parts by mass of a photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 907) and 2000 parts by mass of isopropyl alcohol are mixed. Thus, a low refractive index layer coating solution B was obtained.
Example 1
The hard coat layer coating solution on the adhesive layer 12 of a polyethylene terephthalate (PET) film containing UV absorber having a thickness of 100 μm as a transparent base film 11 (manufactured by Teijin DuPont Films, Ltd., having HB3 and adhesive layer 12) A was applied by a gravure coating method to a dry film thickness of 20 μm. Subsequently, the hard coat layer 13 was formed by irradiating the hard coat layer coating liquid A by irradiating ultraviolet rays (wavelength of light of 200 to 440 nm) with an energy of 200 mJ / cm ² , and the hard coat film 10 was produced. About this hard coat film 10, integrated reflectance, near-infrared transmittance, visual evaluation of white blur, adhesion, and pencil hardness were measured and evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.
(Example 2)
In Example 1, a hard coat film 10 was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer coating liquid B was used instead of the hard coat layer coating liquid A. The obtained evaluation results are shown in Table 1.
(Example 3)
In Example 1, a hard coat film 10 was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer coating liquid C was used instead of the hard coat layer coating liquid A. The obtained evaluation results are shown in Table 1.
Example 4
In Example 1, a hard coat film 10 was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer coating solution D was used instead of the hard coat layer coating solution A. The obtained evaluation results are shown in Table 1.
(Example 5)
In Example 1, a hard coat film 10 was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer coating liquid E was used instead of the hard coat layer coating liquid A. The obtained evaluation results are shown in Table 1.
(Example 6)
In Example 1, the hard coat layer coating solution F was used in place of the hard coat layer coating solution A, and the curing was performed by irradiating with ultraviolet rays (light wavelength 200 to 440 nm) with an energy of 400 mJ / cm ^2. The hard coat film 10 was produced in the same manner as in Example 1 and evaluated. The obtained evaluation results are shown in Table 1.
( Reference Example 7)
In Example 1, the hard coat layer coating liquid I was used in place of the hard coat layer coating liquid A, and it was cured by irradiating with ultraviolet rays (light wavelength 200 to 440 nm) with an energy of 400 mJ / cm ^2. The hard coat film 10 was produced in the same manner as in Example 1 and evaluated. The obtained evaluation results are shown in Table 1.
( Reference Example 8)
In Example 1, the hard coat layer coating solution J is used in place of the hard coat layer coating solution A, and the curing is performed by irradiating with ultraviolet rays (light wavelength 200 to 440 nm) with an energy of 400 mJ / cm ^2. The hard coat film 10 was produced in the same manner as in Example 1 and evaluated. The obtained evaluation results are shown in Table 1.
(Comparative Example 1)
In Example 1, a hard coat film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer coating solution G was used instead of the hard coat layer coating solution A. The obtained evaluation results are shown in Table 1.
(Comparative Example 2)
In Example 1, a hard coat film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer coating solution H was used instead of the hard coat layer coating solution A. The obtained evaluation results are shown in Table 1.

表１に示したとおり、実施例１〜３ではハードコートフィルム１０に近赤外線吸収剤と無機系材料Ｘとが含まれていることから、積分反射率が光の波長３５０〜５５０ｎｍの領域において１．７％以下に抑えることができた。すなわち、レイリー散乱波長領域（光の波長３５０〜５５０ｎｍ）に吸収を持つ無機系材料Ｘの効果により、短波長の光が吸収され、短波長における光のレイリー散乱が減少したため、積分反射率を十分に抑えることができた。このようにレイリー散乱が減少したため、白ボケの目視評価は良好な結果であった。 As shown in Table 1, in Examples 1 to 3, since the hard coat film 10 contains the near-infrared absorber and the inorganic material X, the integrated reflectance is 1 in the region of the light wavelength of 350 to 550 nm. 0.7% or less. That is, due to the effect of the inorganic material X having absorption in the Rayleigh scattering wavelength region (light wavelength 350 to 550 nm), the short wavelength light is absorbed and the Rayleigh scattering of the light at the short wavelength is reduced, so that the integrated reflectance is sufficient. I was able to suppress it. Since Rayleigh scattering was thus reduced, visual evaluation of white blur was a good result.

また、実施例４では無機系材料Ｘの代わりに無機系材料Ｙを用いたが、積分反射率を光の波長３５０〜５５０ｎｍの領域で１．３％以下に抑制することができ、白ボケの目視評価も良好な結果が得られた。実施例５では無機系材料Ｙと有機系材料Ｚが含まれており、積分反射率を光の波長３５０〜５５０ｎｍの領域で１．１％以下に抑えることができ、白ボケの目視評価も良好な結果であった。実施例６のように、ハードコート層１３に光の波長５５０ｎｍ以下に吸収を持つ無機系材料が含まれておれば、市販の近赤外線吸収剤を使用しても、白ボケに対して同様の効果が得られた。また、参考例７では無機系材料Ｚ（酸化亜鉛）を用い、参考例８では無機系材料α（二酸化チタン）を用いた結果、積分反射率を光の波長３５０〜５５０ｎｍの領域で２．３％以下に抑制することができ、白ボケの目視評価も良好な結果が得られた。これらの実施例１〜６及び参考例７，８では、近赤外線透過率を１２．０％以下に抑えることができると共に、ウレタンアクリレートの硬化物により、十分な密着性と鉛筆硬度を得ることができた。 Further, in Example 4, the inorganic material Y was used instead of the inorganic material X, but the integrated reflectance can be suppressed to 1.3% or less in the light wavelength region of 350 to 550 nm, Good results were also obtained by visual evaluation. In Example 5, the inorganic material Y and the organic material Z are included, and the integrated reflectance can be suppressed to 1.1% or less in the light wavelength region of 350 to 550 nm, and the visual evaluation of white blur is also good. It was a result. As in Example 6, if the hard coat layer 13 contains an inorganic material having absorption at a wavelength of light of 550 nm or less, the same effect can be obtained against white blur even if a commercially available near-infrared absorber is used. The effect was obtained. Further, in Reference Example 7, the inorganic material Z (zinc oxide) was used, and in Reference Example 8, the inorganic material α (titanium dioxide) was used. As a result, the integrated reflectance was 2.3 in the light wavelength region of 350 to 550 nm. %, And good results were also obtained for visual evaluation of white blur. In these Examples 1 to 6 and Reference Examples 7 and 8, the near-infrared transmittance can be suppressed to 12.0% or less, and sufficient adhesion and pencil hardness can be obtained by a cured product of urethane acrylate. did it.

一方、比較例１では、ハードコートフィルムに、近赤外線吸収剤以外に光の波長３５０〜５５０ｎｍに吸収を持つ有機系材料及び無機系材料は含まれていないため、光の波長３８０ｎｍ及び４００ｎｍにおける積分反射率は３．０％を越える結果となった。また、この場合、白ボケの目視評価も×であった。比較例２でも比較例１と同様に、ハードコートフィルムに、近赤外線吸収剤以外に光の波長３５０〜５５０ｎｍに吸収を持つ有機系材料及び無機系材料が含まれていないため、波長３８０ｎｍにおける積分反射率は３．０％を越える結果となり、白ボケの目視評価は△であった。
（実施例９）
実施例１で作製したハードコートフィルム１０のハードコート層１３上に低屈折率層塗布液Ａを、光学膜厚が１４０ｎｍになるようにグラビアコート法で塗布し、乾燥後、窒素雰囲気下で４００ｍＪ／ｃｍ^２の出力にて紫外線を照射して硬化させることにより、減反射層１４を有するハードコートフィルム１０を作製した。得られたハードコートフィルム１０について、積分反射率、近赤外線透過率、白ボケの目視評価、密着性及び鉛筆硬度を測定し、評価した。それらの評価結果を表２に示した。
（実施例１０）
実施例９において、実施例１で作製したハードコートフィルム１０に代えて実施例２で作製したハードコートフィルム１０を用いた以外は実施例９と同様にして、減反射層１４を有するハードコートフィルム１０を作製した。得られたハードコートフィルム１０について、積分反射率、近赤外線透過率、最小反射率、密着性及び鉛筆硬度を測定し、評価した。それらの評価結果を表２に示した。
（実施例１１）
実施例９において、実施例１で作製したハードコートフィルム１０に代えて実施例３で作製したハードコートフィルム１０を用いた以外は実施例９と同様にして、減反射層１４を有するハードコートフィルム１０を作製した。得られたハードコートフィルム１０について、積分反射率、近赤外線透過率、密着性及び鉛筆硬度を測定し、評価した。それらの評価結果を表２に示した。
（実施例１２）
実施例１１において、低屈折率層塗布液Ａに代えて低屈折率層塗布液Ｂを用いた以外は実施例１１と同様にして、減反射層１４を有するハードコートフィルム１０を作製した。得られたハードコートフィルム１０について、積分反射率、近赤外線透過率、密着性及び鉛筆硬度を測定し、評価した。それらの評価結果を表２に示した。
（実施例１３）
実施例１２において、実施例１で作製したハードコートフィルム１０に代えて実施例２で作製したハードコートフィルム１０を用いた以外は実施例１２と同様にして、減反射層１４を有するハードコートフィルム１０を作製した。得られたハードコートフィルム１０について、積分反射率、近赤外線透過率、密着性及び鉛筆硬度を測定し、評価した。それらの評価結果を表２に示した。
（実施例１４）
実施例１２において、実施例１で作製したハードコートフィルム１０に代えて実施例３で作製したハードコートフィルム１０を用いた以外は実施例１２と同様にして、減反射層１４を有するハードコートフィルム１０を作製した。得られたハードコートフィルム１０について、積分反射率、近赤外線透過率、密着性及び鉛筆硬度を測定し、評価した。それらの評価結果を表２に示した。
（実施例１５）
実施例３で作製したハードコートフィルム１０のハードコート層１３上に高屈折率層塗布液Ａを、光学膜厚が１３０ｎｍになるようにグラビアコート法で塗布し、乾燥後、窒素雰囲気下で２００ｍＪ／ｃｍ^２の出力にて紫外線を照射して硬化させた。前記高屈折率層を有するハードコートフィルム１０に、低屈折率層塗布液Ｂを、光学膜厚が１００ｎｍになるようにグラビアコート法で塗布し、乾燥後、窒素雰囲気下で４００ｍＪ／ｃｍ^２の出力にて紫外線を照射して硬化させることにより、減反射層１４を有するハードコートフィルム１０を作製した。得られたハードコートフィルム１０について、積分反射率、近赤外線透過率、白ボケの目視評価、密着性及び鉛筆硬度を測定し、評価した。それらの評価結果を表２に示した。
（実施例１６）
実施例１５において、高屈折率層塗布液Ａを高屈折率塗布液Ｂに代えて作製した以外は実施例１５と同様にして、減反射層１４を有するハードコートフィルム１０を作製した。得られたハードコートフィルム１０について、積分反射率、近赤外線透過率、密着性及び鉛筆硬度を測定し、評価した。それらの評価結果を表２に示した。
（比較例３）
実施例９において、実施例１で作製したハードコートフィルム１０に代えて比較例１で作製したハードコートフィルムを用いた以外は実施例９と同様にして、減反射層を有するハードコートフィルムを作製した。得られたハードコートフィルムについて、積分反射率、近赤外線透過率、密着性及び鉛筆硬度を測定し、評価した。それらの評価結果を表２に示した。 On the other hand, in Comparative Example 1, since the hard coat film does not contain an organic material or an inorganic material having absorption at a light wavelength of 350 to 550 nm other than the near-infrared absorber, the integration at the light wavelengths of 380 nm and 400 nm is not included. The reflectivity exceeded 3.0%. In this case, the visual evaluation of white blur was also x. In Comparative Example 2, as in Comparative Example 1, since the hard coat film does not contain an organic material or an inorganic material having absorption at a light wavelength of 350 to 550 nm other than the near-infrared absorber, the integration at a wavelength of 380 nm is not included. The reflectance exceeded 3.0%, and the visual evaluation of white blur was Δ.
Example 9
The low refractive index layer coating liquid A is applied on the hard coat layer 13 of the hard coat film 10 produced in Example 1 by a gravure coating method so that the optical film thickness is 140 nm, dried, and then 400 mJ in a nitrogen atmosphere. The hard coat film 10 having the antireflection layer 14 was produced by irradiating and curing ultraviolet rays at an output of / cm ² . About the obtained hard coat film 10, the integral reflectance, near-infrared transmittance, visual evaluation of white blur, adhesion, and pencil hardness were measured and evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.
(Example 10)
In Example 9, the hard coat film having the antireflection layer 14 was used in the same manner as in Example 9 except that the hard coat film 10 produced in Example 2 was used instead of the hard coat film 10 produced in Example 1. 10 was produced. About the obtained hard coat film 10, the integral reflectance, near-infrared transmittance, the minimum reflectance, adhesiveness, and pencil hardness were measured and evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.
(Example 11)
In Example 9, the hard coat film having the antireflection layer 14 was used in the same manner as in Example 9 except that the hard coat film 10 produced in Example 3 was used instead of the hard coat film 10 produced in Example 1. 10 was produced. About the obtained hard coat film 10, the integral reflectance, near-infrared transmittance, adhesiveness, and pencil hardness were measured and evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.
(Example 12)
In Example 11, a hard coat film 10 having a reduced reflection layer 14 was produced in the same manner as in Example 11 except that the low refractive index layer coating solution B was used instead of the low refractive index layer coating solution A. About the obtained hard coat film 10, the integral reflectance, near-infrared transmittance, adhesiveness, and pencil hardness were measured and evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.
(Example 13)
In Example 12, it replaced with the hard coat film 10 produced in Example 1, and except having used the hard coat film 10 produced in Example 2, it carried out similarly to Example 12, and the hard coat film which has the low reflection layer 14 was used. 10 was produced. About the obtained hard coat film 10, the integral reflectance, near-infrared transmittance, adhesiveness, and pencil hardness were measured and evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.
(Example 14)
In Example 12, the hard coat film having the antireflection layer 14 was obtained in the same manner as in Example 12 except that the hard coat film 10 produced in Example 3 was used instead of the hard coat film 10 produced in Example 1. 10 was produced. About the obtained hard coat film 10, the integral reflectance, near-infrared transmittance, adhesiveness, and pencil hardness were measured and evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.
(Example 15)
The high refractive index layer coating solution A is applied onto the hard coat layer 13 of the hard coat film 10 produced in Example 3 by a gravure coating method so that the optical film thickness becomes 130 nm, dried, and then 200 mJ in a nitrogen atmosphere. It was cured by irradiating with ultraviolet rays at an output of / cm ² . The low refractive index layer coating liquid B is applied to the hard coat film 10 having the high refractive index layer by a gravure coating method so that the optical film thickness becomes 100 nm, and after drying, the coating thickness is 400 mJ / cm ² under a nitrogen atmosphere. The hard coat film 10 having the anti-reflection layer 14 was produced by irradiating with ultraviolet rays at the output and curing. About the obtained hard coat film 10, the integral reflectance, near-infrared transmittance, visual evaluation of white blur, adhesion, and pencil hardness were measured and evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.
(Example 16)
A hard coat film 10 having the antireflection layer 14 was produced in the same manner as in Example 15 except that the high refractive index layer coating liquid A was replaced with the high refractive index coating liquid B in Example 15. About the obtained hard coat film 10, the integral reflectance, near-infrared transmittance, adhesiveness, and pencil hardness were measured and evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.
(Comparative Example 3)
In Example 9, a hard coat film having a antireflection layer was produced in the same manner as in Example 9 except that the hard coat film produced in Comparative Example 1 was used instead of the hard coat film 10 produced in Example 1. did. About the obtained hard coat film, the integral reflectance, near-infrared transmittance, adhesiveness, and pencil hardness were measured and evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.

表２に示したように、実施例９〜１１においては、ハードコート層１３上に減反射層１４を有するハードコートフィルム１０としても、近赤外線透過率及び積分反射率を低く抑えつつ、白ボケの目視評価の良好な結果が得られた。また、実施例１２〜１４においても、実施例９〜１１と同様に、白ボケの目視評価の良好な結果が得られた。さらに、実施例１５及び１６に示されるように、高屈折率層を設けた場合でも、実施例９〜１１と同様に、白ボケの目視評価の良好な結果が得られた。反射防止性能については、高屈折率層を設けた場合の方が、最小反射率は低く、より良好な反射防止能を示した。加えて、実施例９〜１６では、十分な密着性と鉛筆硬度を得ることができた。 As shown in Table 2, in Examples 9 to 11, even when the hard coat film 10 having the reduced reflection layer 14 on the hard coat layer 13 is used, white blurring is suppressed while the near-infrared transmittance and the integrated reflectance are kept low. A good result of visual evaluation was obtained. Moreover, also in Examples 12-14, the favorable result of the visual evaluation of white blur was obtained similarly to Examples 9-11. Furthermore, as shown in Examples 15 and 16, even when a high refractive index layer was provided, good results of visual evaluation of white blur were obtained as in Examples 9-11. Regarding the antireflection performance, the minimum reflectance was lower when the high refractive index layer was provided, and the antireflection performance was better. In addition, in Examples 9 to 16, sufficient adhesion and pencil hardness could be obtained.

一方、比較例３のハードコートフィルムにおいては、ハードコート層に近赤外線吸収剤以外に光の波長３５０〜５５０ｎｍに吸収を持つ有機系材料及び無機系材料は含まれていないため、波長３８０ｎｍ及び４００ｎｍでの積分反射率が３．０％を超える結果となり、白ボケの目視評価は×であった。   On the other hand, in the hard coat film of Comparative Example 3, since the hard coat layer does not include organic materials and inorganic materials having absorption at a light wavelength of 350 to 550 nm in addition to the near infrared absorber, the wavelengths of 380 nm and 400 nm are not included. As a result, the integrated reflectivity at 3% exceeded 3.0%, and the visual evaluation of white blur was x.

なお、前記実施形態を次のように変更して実施することも可能である。
・ 前記レイリー散乱波長領域に吸収を持つ化合物を複数組合せて使用し、レイリー散乱に起因する白ボケを抑制する効果を高めるように構成することもできる。特に、積分反射率を低下させるように、レイリー散乱波長領域に吸収を持つ化合物を選択することが望ましい。 It should be noted that the above embodiment can be modified as follows.
A combination of a plurality of compounds having absorption in the Rayleigh scattering wavelength region may be used to increase the effect of suppressing white blur caused by Rayleigh scattering. In particular, it is desirable to select a compound having absorption in the Rayleigh scattering wavelength region so as to reduce the integrated reflectance.

・ 近赤外線吸収剤を複数組合せて使用し、近赤外線吸収特性を近赤外線の広い波長領域に渡って発揮できるように構成することも可能である。
・ 前記レイリー散乱波長領域に吸収を持つ化合物と、近赤外線吸収剤との組合せを適宜設定し、レイリー散乱に起因する白ボケを抑制する効果と近赤外線吸収効果とを向上させるように構成することもできる。 It is also possible to use a combination of a plurality of near-infrared absorbers so that the near-infrared absorption characteristics can be exhibited over a wide wavelength region of the near-infrared.
-A combination of a compound having absorption in the Rayleigh scattering wavelength region and a near-infrared absorber is appropriately set to improve the effect of suppressing white blur caused by Rayleigh scattering and the near-infrared absorption effect. You can also.

・ 減反射層１４に近赤外線吸収剤やレイリー散乱波長領域に吸収を持つ化合物を含有させることも可能である。
・ 前記接着層１２を省略することもでき、その場合ハードコート層１３は活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化によって透明基材フィルム１１に密着させることができる。 -It is also possible for the anti-reflection layer 14 to contain a near-infrared absorber or a compound having absorption in the Rayleigh scattering wavelength region.
The adhesive layer 12 can be omitted, and in that case, the hard coat layer 13 can be brought into close contact with the transparent substrate film 11 by curing of the active energy ray-curable resin.

・ 前記ハードコート層１３上などにぎらつき防止層等を設けることも可能である。この場合、ハードコート層１３表面のぎらつきを防止することができる。
さらに、前記実施形態より把握される技術的思想について以下に記載する。 -It is also possible to provide a glare-preventing layer or the like on the hard coat layer 13 or the like. In this case, glare on the surface of the hard coat layer 13 can be prevented.
Furthermore, the technical idea grasped from the embodiment will be described below.

・ 活性エネルギー線硬化型樹脂、光重合開始剤、近赤外線吸収剤としてのセシウム含有酸化タングステン微粒子及びレイリー散乱波長領域に吸収を持つ化合物として酸化鉄を含有する硬化性組成物を透明基材フィルム上に塗布した後、活性エネルギー線を照射して硬化性組成物を硬化させてハードコート層を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用ハードコートフィルムの製造方法。この製造方法によれば、近赤外線吸収特性に優れ、レイリー散乱に起因する白ボケを抑制することができるハードコートフィルムを容易に製造することができる。 -Active energy ray-curable resin, photopolymerization initiator, cesium-containing tungsten oxide fine particles as near infrared absorbers, and a curable composition containing iron oxide as a compound having absorption in the Rayleigh scattering wavelength region on a transparent substrate film A method for producing a hard coat film for a plasma display panel, comprising applying an active energy ray to cure the curable composition to form a hard coat layer. According to this manufacturing method, it is possible to easily manufacture a hard coat film that has excellent near-infrared absorption characteristics and can suppress white blur caused by Rayleigh scattering.

本発明の実施形態におけるプラズマディスプレイパネル用ハードコートフィルムの一例を示す断面図。Sectional drawing which shows an example of the hard coat film for plasma display panels in embodiment of this invention. 図１のハードコートフィルムのハードコート層上に減反射層を設けたハードコートフィルムを示す断面図。Sectional drawing which shows the hard coat film which provided the antireflection layer on the hard coat layer of the hard coat film of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

１０…ハードコートフィルム、１１…透明基材フィルム、１３…ハードコート層、１４…減反射層。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Hard coat film, 11 ... Transparent base film, 13 ... Hard coat layer, 14 ... Decrease reflection layer.

Claims (4)

活性エネルギー線硬化型樹脂、光重合開始剤、近赤外線吸収剤としてのセシウム含有酸化タングステン微粒子及びレイリー散乱波長領域に吸収を持つ化合物として酸化鉄を含有する硬化性組成物が透明基材フィルム上に塗布され、硬化されてハードコート層が形成されて構成されると共に、光の波長３５０〜５５０ｎｍの領域における積分反射率が３．０％以下であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用ハードコートフィルム。 An active energy ray-curable resin, a photopolymerization initiator, a cesium-containing tungsten oxide fine particle as a near-infrared absorber, and a curable composition containing iron oxide as a compound having absorption in the Rayleigh scattering wavelength region on a transparent substrate film A hard coat film for a plasma display panel, characterized in that it is applied and cured to form a hard coat layer, and has an integrated reflectance of 3.0% or less in a light wavelength region of 350 to 550 nm. . 光の波長８００〜１０００ｎｍの領域における近赤外線透過率が３０％以下であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用ハードコートフィルム。 2. The hard coat film for a plasma display panel according to claim 1, wherein the near-infrared transmittance in a region of light having a wavelength of 800 to 1000 nm is 30% or less. 前記ハードコート層上にさらに減反射層を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル用ハードコートフィルム。 Hard coat film for a plasma display panel according to claim 1 or claim 2, characterized in that it has a further reflection-reducing layer on the hard coat layer. 請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のプラズマディスプレイパネル用ハードコートフィルムを表示画面上に直接又は表示画面の前面に配置される透明プレート上に貼り合わせて構成されることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。 The hard coat film for a plasma display panel according to any one of claims 1 to 3 is configured to be bonded directly on a display screen or on a transparent plate disposed in front of the display screen. Plasma display panel.