JP5271611B2 - 研磨装置及び研磨方法 - Google Patents

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Description

本発明は、平面基板の研磨に関し。特に半導体ウェーハ(以下、単に「ウェーハ」と記す)の裏面研削後の仕上げ研磨および再生ウェーハ研磨に使用する研磨装置及び研磨方法に関するものである。
近年、電子機器の小型化、軽量化のニーズ(例えば、薄型ICカード等に組み込まれる半導体素子等)に対応して、チップの厚みが100μm以下、或いは、50μm以下というように、極めて薄いものが要求されている。そのために表面に半導体素子や電子部品等が形成されたウェーハをダイシング工程で個々のチップに分割する前に、ウェーハの裏面を研削してウェーハの厚さを薄くする裏面研削(バックグラインド)工程が行われるようになってきた。
ところが上記裏面研削に起因してウェーハの裏面に加工変質層が形成され、この加工変質層によってウェーハが破損する場合があるという欠点があった。この不具合を解決するために、研削加工終了後に、研磨工程を入れて加工変質層を除去することによって防止するようにしている。
この研磨は、砥石の砥粒径を小さくする方法や、さらに砥粒結合材に柔らかい材料を使用したものが用いられていた(例えば、特許文献1参照)。また、別の方法では、砥石研削の後に、エッチング工程を入れて、砥石研削によるダメージを除去する方法が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
一方、半導体ウェーハでは、使用済みウェーハを再生して使用する方法が行われている。例えば、薄膜形成工程において、種々の目的で使用され、表面上に数層の膜を有しているウェーハや、製造工程で不良品として抜き出されたウェーハ基板等がある。この再生ウェーハ基板には、新品と同様の表面性状や金属汚染レベルなどの品質が求められており、その再生方法が種々提案されている(例えば、特許文献3、4参照)。再生に際しては、研削砥石で研削後エッチング処理によって最終的に表面のダメージや不純物を除去する方法があるが、このエッチング処理は、環境破壊につながる恐れがあるため、レジノイド砥石のような加工ダメージの少ない砥石を用いて研磨する方法が提案されている。
ところが上記ウェーハの裏面加工やウェーハの再生加工に使用されている仕上げ砥石加工では、砥石の目詰まりによる加工品質の低下が発生するため、砥石のドレッシングを頻繁に行う必要がある。さらに研削装置の機械的精度、剛性及び構造も複雑になり、メンテナンス性も悪く、付帯設備も必要となる。
そのためウェーハの裏面加工またはウェーハ再生加工においては、研磨テープを使用し、この研磨テープを走行しながら常に新しいテープを供給することによって、上記目詰まりの問題を回避し、さらに研磨テープを回転することによって研磨の不均一の問題に対応している。そして液晶ディスプレイやプリント基板等の平坦な被研磨材を研磨テープにより研磨またはクリーニングを行う研磨装置が提案されている(例えば、特許文献5参照)。
具体的な例として、この研磨装置100は、図9(a)及び(b)に示すように、研磨テープ101が装着された研磨ヘッド102と、研磨ヘッド102を支持する支持部材103と、研磨ヘッド102の下方に設置され被研磨材が装着される研磨台(図示せず)とを備えている。
そして、研磨装置100は、研磨ヘッド102に装着された研磨テープ101を研磨台上に設置された被研磨材の表面に接触させながら、研磨ヘッド102を支持部材103に対して研磨台の面と直交する線を軸線として回転させるように構成されている。
さらに、研磨ヘッド102は、研磨テープ101を複数の走行ローラ104で走行させながら被研磨材を研磨するようになっている。研磨ヘッド102の内部に、研磨テープ101が巻かれたロールが取り付けられる供給リール106と、供給リール106から引き出された研磨テープ101を巻き取るための巻取りリール107とが取り付けられ、研磨ヘッド102内に設けられる研磨テープ搬送用モータ108により、巻取りリール107及び走行ローラ104の一部を回転駆動させて、研磨テープ101が供給リール104から引き出され、複数の走行ローラ104で研磨テープ101を搬送しながら、研磨ヘッド102の下端に設けられるコンタクトローラ105を通過させた後、巻取りリール107で巻き取るようになっている。
また、研磨ヘッド102の下端に設けたコンタクトローラ105は、コンタクトローラ105の軸線と研磨ヘッド102の回転中心とを直交させて研磨台に対して水平になるように設けられ、研磨テープ101を走行させながらコンタクトローラ105により研磨テープ101を研磨台上の被研磨材に押し付けるようになっている。さらに、支持部材103に設けた研磨ヘッド回転用モータ109により、研磨ヘッド102を研磨台の被研磨材設置面と直交する方向に延びる軸線を中心に回転させるようになっている。
以上のように、従来の研磨装置100では、研磨テープ101を研磨ヘッド102に設ける研磨テープ搬送用モータ108により研磨テープ101を走行ローラ104に沿って走行させながら、研磨ヘッド102を支持部材103に対して回転させて、研磨テープ101をコンタクトローラ105により研磨台上に設置させる被研磨材に接触させることにより、被研磨材の表面を自動的に研磨するようにしている。
ところで、図9(a)及び(b)に示す研磨装置100では、一本の研磨テープ101を複数の走行ローラ104で走行させながら、研磨ヘッド102も回転させて研磨するようにしていることから、研磨ヘッド102が回転すると、コンタクトローラ105の軸線と研磨ヘッド102の回転中心とが交差する点を中心にして研磨ヘッド102の下端に設けられたコンタクトローラ105が旋回することになる。即ち、研磨テープ101の幅方向の中心を軸心として回転することとなる。
このとき、コンタクトローラ105のローラ全面にわたって研磨テープ101を接触させると、研磨ヘッド102の回転時にコンタクトローラ105による研磨テープ101の被研磨材への押付けで研磨テープ101がねじれ、テープ幅方向中央部において大きな皺が生じ、研磨が良好に行えない問題があった。
そのため、従来の研磨装置では、図9(b)に示すように、コンタクトローラ105を、幅方向中央部110のローラ径が両端のローラ径よりも小径となるように形成し、コンタクトローラ105の幅方向中央部110において研磨テープ101がローラ面に接触しないようにしている。
しかしながら、コンタクトローラ105の中央部110に研磨テープ101との非接触部分が形成されてしまうと、研磨テープ101の幅方向中央部110において被研磨材への押え付けができなくなることから、研磨テープ101の幅方向中央部においては研磨力が弱くなり不均一な研磨面になる不具合が生じる。
特に、被研磨材が高精度の表面仕上げを必要とする半導体ウェーハの場合は、コンタクトローラの接触圧力に不均一な部分があると均一な表面が得られない問題が生じた。
また、本発明のようにウェーハが円盤状であること、及び回転して研磨する工程においては、コンタクトローラの中央部において研磨テープのねじれも十分解消されず、これが原因となり、回転するウェーハを破損する問題が生じた。
一方、不均一な研磨面の発生を抑えるべく、研磨ヘッドの回転中心を基準にして研磨テープを左右に配置した研磨装置が提案されている(特許文献6参照)。
特開H11−42540号公報 特開2001−223202号公報 特開2002−57129号公報 特開2000−269174号公報 特開平11−273053号公報 特開平6−155269号公報
上記特許文献6に記載された研磨装置は、繰り出しレール、巻取りリールを左右一対備えてなり、一対の研磨テープは研磨ヘッドの回転中心から離れた位置で左右を研磨するものである。
しかしながらこの研磨装置は、研磨ヘッドの回転と研磨テープの走行を同一の駆動源を用いた構造のため、研磨ヘッドの回転と研磨テープの制御における自由度が損なわれる一方、装置構成が複雑になっているものである。また研磨テープが同一方向に走行するため、研磨ヘッドの回転により生じる応力の作用により、一方の研磨テープは巻取り方向に応力が生じ、他方の研磨テープには巻取り方向と反対方向に応力が生じるため、巻取り方向と反対方向に応力が生じる他方の研磨テープには弛みが生じるおそれがあり不均一な研磨面となるおそれがある。
そこで、本発明は、このような上記事情に鑑みてなされたもので、回転するウェーハなどの被研磨材を破損することなく、平滑で均一な表面を得る研磨装置及び研磨方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために本発明が提案するのは、走行する研磨テープが装着される研磨ヘッドと、前記研磨テープを被研磨材に押圧して前記研磨ヘッドを回転させる支持ユニットと、前記被研磨材が回転可能に装着されるワーク回転ユニットとを備えてなる研磨装置であって、前記研磨ヘッドは、研磨テープと、該研磨テープを供給する供給リールと、供給された研磨テープを前記被研磨材に当接させるコンタクトローラと、該コンタクトローラを経た研磨テープを巻き取る巻取りリールと、を各2組有し、前記被研磨材に押圧される前記研磨テープが、前記研磨ヘッドの回転軸と左右対称に、かつ所定の距離をおいて配置されると共に、それぞれ逆方向に走行可能とであることを特徴とする研磨装置である。
このように研磨ヘッドの回転軸に対し所定の距離をおいて左右対称に逆方向に走行する研磨テープを2組配置しているので、回転軸の位置における研磨テープのねじれ発生を防止できる。また2組の研磨テープを研磨ヘッドの回転方向と対向する向きに走行させることで研磨テープの弛みも防止でき、研磨テープの切断防止を考慮した研磨装置が提供されることになる。よって研磨仕上げ面も均一な表面を得ることができる。また、走行する研磨テープによれば、常時新しい研磨テープが供給されるので、研磨テープの目詰まりの問題もなく、能率良く安定に研磨することができる。
前記供給リール及び前記巻取りリールは、同期回転可能となるように、前記供給リール及び前記巻取りリールを駆動させる駆動モータ及び該駆動を伝達する駆動伝達装置に連結されてなることが好ましい。研磨テープの弛みの発生や切断といった問題に対応するものである。
さらに前記駆動モータは、前記研磨ヘッドの回転軸の一方の側に配置されると共に、前記回転軸の他方の側に前記駆動モータ及び前記伝達装置との重量平衡をとる重量平衡用部材を配置する。これにより被研磨材の研磨面を、より均一な表面とすることができる。また研磨ヘッドの回転を行う駆動装置とは別に、研磨テープの走行用の駆動モータを設けてあるので、研磨ヘッドの回転と研磨テープの走行とを別々に制御することができ、用途に応じた研磨が可能となる。
また本発明がさらに提案するのは、上記研磨装置を使用してなる研磨方法であって、逆方向に走行する2本の前記研磨テープの前記コンタクトローラに当接する位置において、前記研磨ヘッドの回転方向と対向する向きに走行して前記被研磨部材を研磨することを特徴とする研磨方法である。研磨テープの走行において弛みの発生が防止される。
さらに前記2本の研磨テープのうち、一方の研磨テープの外側と、他方の研磨テープの外側との間が、薄板円形である被研磨材の半径を超えた長さであって、かつ前記被研磨材の直径の長さよりも小さい範囲に設定することができる。このようにすることで被研磨材の研磨面が均一に研磨され、一部に不要な研磨模様が形成されるのを抑えることができる。
なお本発明においては、研磨テープの種類、すなわち研磨テープの研磨砥粒の粒子径や、研磨ヘッド等の回転速さなどを適宜変更することが可能であり、研磨面をさらにクリーニングすることができる。
また研磨テープを研磨ヘッドの回転軸と対称に2組配置したが、研磨ヘッドの回転軸と対称に配置するのであれば2組以上でもよく、すなわち少なくとも2組配置とするものである。
本発明によれば、研磨テープのねじれや弛みの発生を抑え、回転するウェーハなどの被研磨材を破損することなく、平滑で均一な表面を得る研磨装置及び研磨方法を提供することができる。
以下添付図面を参照して本発明の好ましい実施形態を説明する。
図1は本発明のウェーハ平面研磨装置の主要機構部の構成を示す装置正面図、図2は
図1の研磨ヘッドのX−X断面図、図3(a)は図2のA−A断面図、図3(b)は図2のB−B断面図、図4(a)は図2のA−A断面における駆動伝達経路説明図、図4(b)は図2のC−C断面における駆動伝達経路説明図、図5(a)は図2のD−D矢視図、図5(b)は図2のE−E矢視図である。
図1に示すように、研磨装置1は、研磨走行する研磨テープを装着した研磨ヘッド4と、研磨ヘッド4を支持する支持ユニット2と、研磨対象となる被研磨材Wを載置するワークテーブルユニット3とを備えてなるものである。研磨装置1には、機体(図示せず)から突きだされる上部フレーム5と、下部フレーム6が平行に配置され、上部フレーム5には、研磨ヘッドを装着した研磨ヘッド4を支持するための、支持ユニット2が配置され、下部フレーム6には、ワークテーブルユニット3が備えられている。また支持ユニット2には、研磨ヘッド4の水平方向移動部、昇降部及び回転部が備えられている。
研磨ヘッド4の水平方向の移動は、被研磨材表面の位置決めとしてLMガイド21で行われるようになっており、このLMガイド21の基板上に研磨ヘッド4の昇降部及び回転部が配置されている。さらに研磨ヘッド4は、上部フレーム5に直交した回転軸20に連結され、昇降及び回転可能なボールロータリースプライン22を通り、上部のロータリージョイント28に連結して回転自由に支持されている。
研磨ヘッド4の昇降は、研磨ヘッド4に連結された回転軸(研磨ヘッド4のフランジに固定され、ロータリージョイン28まで連なるシャフト)20が加圧シリンダ(例えばエアーシリンダ)23によって制御され、ワークテーブル31に設置された被研磨材Wに適当な荷重を加えるために用いられる。研磨ヘッド4を回転可能に支持するため、加圧シリンダ23と回転軸20とは、ロータリージョイント28によって接続されている。さらに回転軸20には、ボールロータリースプライン22によって上下方向に移動および回転できるように支持されている。これにより、研磨ヘッド4の先端とワーク表面の位置決めを行うことが可能となっている。
そして、研磨ヘッド4の回転駆動用にモータ24が上部フレーム5の上に載置されている。そしてモータ24側のプーリ25と回転軸20側のプーリ26とがベルト27で連結され、モータ24の回転駆動により、回転軸20が回転し、スピンドルに連結された研磨ヘッド4が回転するようになっている。
一方、下部フレーム6には、ワークテーブル31と、テーブル駆動モータ32とが配置されている。そしてワークテーブル31に連結したフランジ33のプーリ34とモータ32側のプーリ35とがベルト36で連結されており、これによりワークテーブル31が回転できるようになっている。
また研磨ヘッド4の内部には後述するように2組の研磨テープが装着され、それぞれ独立した研磨テープ走行部が内蔵されている。
以下、本発明の研磨ヘッド4の構成について、添付図面を参照して説明する。図2〜図4に示すように、研磨ヘッド4は、回転軸20によって保持されている。研磨ヘッド4は、図2の回転軸の軸線Zを境にテープ走行系を保持する2つのブロック(左側ブロック10a、右側ブロック10b)で構成され、それぞれ研磨テープT1、T2がテープ幅方向に並列に内蔵され、複数の走行ローラによって走行されるようになっている。
左側ブロック10a、右側ブロック10bの内部には、研磨テープT1、T2が巻かれたロールが取り付けられる供給リール62a、62bと、供給リール62a、62bからそれぞれ引き出された研磨テープT1、T2を巻き取るための巻取りリール61a、61bが取り付けられている。そして左側ブロック10a内に設けられている研磨テープ搬送用の駆動モータであるテープ走行用モータ48により巻取りリール部及び走行ローラの一部を回転駆動させて、研磨テープT1、T2が供給リール62a、62bから引き出され、複数の走行ローラで研磨テープT1、T2を搬送しながら、研磨ヘッドの下端に設けるコンタクトローラ41a、41bを通過した後、巻取りリール61a、61bに巻き取るようになっている。
左側ブロック10aと右側ブロック10bとは、回転軸線Zで対称になっており、2組のテープ走行部を構成している。なお、回転軸線周囲には中空部19があり、この中空部19で走行モータ48の駆動力を複数のギヤ及びベルトによって巻取りリール部に伝達して、研磨テープT1、T2が走行される。
巻取り部は、一方がテープ巻取りトルク調整部(例えば、スリップリング)13a、13bを有し、もう一方は軸受によって回転自由なリール受け14a、14bになっている。また、テープ供給部も、一方がすべり軸受17a、17bを有し、テープ供給トルク調整部16a、16bを有している。このようにして、研磨テープが一定に調整された張力で走行できるようにしてある。
前記研磨テープの巻取り部、及び供給部は、それぞれ内部側壁12a、12b、と外部側壁11a、11bに軸受を介して回転可能に支持されている。またこれらテープ供給リール62a、62b及びテープ巻取りリール61a、61bの回転軸線は、研磨ヘッド回転軸線Zに対して直交するように設けられている。
そして、テープ供給リール62a、62b及びテープ巻取りリール61a、61bも2本のコンタクトローラ41a、41bと上下方向においてそれぞれ中心が同一線上に位置するように研磨ヘッド4の回転軸線Zよりの径方向外方に配置されている。
また、テープ巻取りリール61a、61bの内側端部には、図3、図4に示すようにテープ巻取り軸タイミングプーリ50が設けられ、テープ供給軸タイミングプーリ50とベルト52を介して連結されている。
テープ走行モータ48が駆動してギヤGを介してアイドルギヤAに伝達し、その回転がさらにギヤHに伝達されて、タイミングプーリが回転し、その回転がベルト52を介して巻取り軸のタイミングプーリ50に伝えられ、テープ巻取りリール61a、61bが回転するようになっている。
また本実施形態での研磨ヘッド4は、1個のテープ走行用モータ48で、中央の中空部19に走行機構(ギヤ及びベルト等の駆動力伝達部材)を設けることによって、部品点数を低減し、小型化を図り、かつ供給リール62a、62bと巻取りリール61a、61bとが同期回転可能とされている。また均一な研磨に必要な研磨ヘッド4の回転の際の重量バランスを取るために、左側ブロック10bに設けた走行モータ48やその他の伝達装置(ギヤ、ベルト等)との重量平衡をとるために、重量平衡用部材としてのダミー部材49が右側ブロック10bに設けられている。
また、研磨ヘッド4の下端に設けるコンタクトローラ41a、41bは、コンタクトローラ41a、41bの軸線と研磨ヘッド4の回転中心と直交させてワークテーブル31に対して平行になるように設けられ、研磨テープT1、T2を走行させながらコンタクトローラ41a、41bによって研磨テープをワークテーブル31上の被研磨材Wに一定の押圧力で押し付けられるようになっている。
そして、2本のコンタクトローラ41a、41bは、研磨テープT1、T2が互いに反対方向に走行されるようにテープ走行モータ48と複数のギヤによって伝達され、コンタクトローラ41a、41bが軸線Zを中心に回転するようになっている。
そのため、2つのコンタクトローラ41a、41bを個別に反対方向に回転させるために、それぞれの押付ローラ41a、41bをテープ走行用モータ48とギヤによって回転方向を相互に逆となるように複数のギヤによって調整されている。
以下に、テープ走行用モータ48から複数のギヤによる、コンタクトローラへの伝達と、巻取りリールへの伝達について図4を参照して説明する。
図3(a)に示すように、左側ブロック10aのコンタクトローラ41aには、テープ走行用モータ48に直結したギヤGからアイドルギヤB、Dによってコンタクトローラ部ギヤF1に伝達され、コンタクトローラ41aを回転させる。一方、右側ブロック10bのコンタクトローラ41bには、同一のテープ走行用モータ48に直結したギヤGからアイドルギヤA、C、Eによってコンタクトローラ部ギヤF2に伝達され、コンタクトローラ41bを回転させる。これらのギヤの組合せによって、コンタクトローラ41a、41bは逆方向に回転するようになっている。
同時にテープ走行用モータ48のギヤGからアイドルギヤAに伝達され、タイミングプーリ50に伝達された回転力は巻取りプーリ51に伝達され、これと巻取りプーリ51に掛けまわされたタイミングベルト52によって巻取りプーリ51を回転し、供給リールに巻かれた研磨テープはコンタクトローラ41aを通して巻取りながら走行される。ここで、巻取りリール61a、61bは、互いに連結され、巻取りプーリ51によって回転される。なお、供給リール62a及び62bは、逆回転できるようにベアリング55(図2参照)によって連結され、回転自由になっている。
次に、研磨テープの走行経路を、図5(a)、(b)で説明する。図5(a)、(b)は研磨ヘッドの側面図で、図5(a)は図2のD−D矢視図で左側ブロック10aの研磨テープの走行経路を、図5(b)は図2のE−E矢視図で右側ブロック10bの研磨テープの走行経路を示すものである。
図5(a)において、研磨テープT1は、供給リール62aから送り出され、複数のローラ(71a、72a、73a、75a及び76)を通って、巻取りリ−ル61aの下側から矢印の方向に巻き取られる。一方、研磨テープT2は、供給リール62bから送り出され、複数のローラ(71b、72b、73b、75b)を通って、巻取りリール61bの上側から矢印の方向に巻き取られる。
このように研磨テープT1、T2は互いに同一方向、すなわち巻き取り回転方向が同一に回転して巻き取られるようになっている。なお、コンタクトローラ41a、41bの側面に、テープを緊張するためにピンチローラ77a、77bが設けられている。
上述したように、本発明において、2つのコンタクトローラ41a、41bは、ワークテーブル(研磨台)31に設置された被研磨材Wの表面に接触させる研磨テープT1、T2の接触部が研磨ヘッド4の回転軸線Zよりも径方向の外に位置するようにするために、図2に示すように、被研磨材に接触させる研磨テープT1、T2の接触部を構成する2つのコンタクトローラ41a、41bを研磨ヘッド4の回転軸線Zよりも径方向外方で、且つ、2つのコンタクトローラ41a、41bが同一軸線上で研磨ヘッド4の回転軸線Zに対して対称に位置するように支持されている。
さらに、コンタクトローラ41a、41bは、研磨ヘッド4の回転中に被研磨材の所定の位置において互いに逆方向にローラ軸線を中心に回転するように、研磨ヘッド4に取り付けられている。これらは複数のアイドルギヤによって調整されているものである。
上記のような研磨装置による研磨方法(被研磨材の研磨又はクリーニング)は次のように行われる。
先ず、平坦な被研磨材を図1に示すワークテーブル31上に配置し、吸着させて固定する。
次に図1及び図2に示すように、水平移動装置(LMガイド21)を駆動させて、研磨ヘッド4を被研磨材の適切な位置まで水平移動させて、昇降装置の駆動により研磨ヘッド4に装着した研磨テープT1、T2をコンタクトローラ41a、41bにより被研磨材の表面に適当な圧力で接触させる。
そして、テープ走行用モータ48を駆動させて、コンタクトローラ41a、41bとテープ巻取りリール61a、61bを回転させる。これにより、新しい研磨テープT1、T2がコンタクトローラ41a、41bへと順次供給された後にテープ巻取りリールに巻き取られる。
さらに、支持ユニット2の駆動モータ24を駆動させて、ベルト27で連結されたプーリ26を介して回転軸20を回転させることによって研磨ヘッド4を回転させる。このようにして、常に供給される新しい研磨テープによる回転研磨又はクリーニングが成し遂げられるようになっている。
本発明の作用について、添付図面の参照と実施例及び比較例をあげて、本発明の研磨方法を具体的に説明する。
図6(a)は従来法による1本の研磨テープTを回転中心Pとして回転した場合、図6(b)は本発明による回転中心Pの両側に2本の研磨テープT1、T2を配置して互いに逆方向に走行しながら回転させた時の研磨テープに掛かる応力の模式図を示す。
図6(a)及び(b)において、Tはテープ、Pは研磨ヘッドの回転中心を示す。矢印81は研磨ヘッドの回転方向、矢印82、82a、82bはテープ送り方向示し、83a、83bは、このときの発生する応力方向を示すものである。
図6(a)の従来例においては、研磨ヘッドの回転中心Pに対して、1本のテープに回転中心を境に逆方向の応力104a、104bが掛かる。そのためテープにねじれや皺が生じる。この応力が原因となってテープが切断されることがある。
一方、図6(b)に示す本発明の研磨方法によれば、回転中心Pに対して外側に研磨テープT1及びT2が配置されているため、研磨テープにねじれ応力が発生しないので、回転中心に応力が集中しない為、テープによじれや皺が生じない。また、テープ送り方向をT1及びT2で逆にしているため、2本のテープにバランスの取れた応力が発生するので、研磨ヘッドも安定に回転することになる。その結果、平滑性、平坦性の優れた研磨ができることになる。
図7はコンタクトローラ41a、41bにより押圧され、走行する研磨テープT1、T2の概略斜視図である。研磨テープT1及びT2の供給リール62a、62bと巻取りリール61a、61bにはそれぞれ、走行する研磨テープT1、T2に一定の引っ張り力が加わるように、また異常な引っ張り力が加わった時にスリップするように、テープ供給トルク調整部(スリップリング)16a、16bとテープ巻取り調整部(スリップリング)13a、13bにより調整されている(図2参照)。調整は研磨テープT1、T2の巻き弛みのないように、テープ巻取り調整部(スリップリング)13a、13bの方が引っ張り力を大きくなっている。
そのため図7に示すように、回転軸Pにおいて回転する研磨ヘッド4(図示せず)の回転方向81に対して、コンタクトローラ41a、41bの回転が互いに巻取り方向に向けて引っ張り力が加わるようにすれば、研磨テープT1、T2に弛みや皺の発生を抑えることができるようになり、結果均一な研磨面の形成に寄与することができる。
図8(a)及び(b)は、半導体ウェーハの好適な研磨例を示す。図8(a)は、ウェーハWの径が大きい(例えば、300φ)場合、図8(b)は、ウェーハWの径が小さい(例えば、200φ)場合、のウェーハWと研磨テープ幅(研磨領域幅)の位置関係を示すものである。
矢印85はウェーハWの回転方向、Sはウェーハの回転中心、Pは2組の研磨テープT1、T2の回転中心、矢印81は研磨ヘッド(研磨テープ)の回転方向である。
図8(a)において、ウェーハの半径に対して、2本の研磨テープ(T1+T2)の回転端がウェーハの半径よりも大きくし、一端がウェーハの回転中心Sの外側にあり、他端がウェーハの外周からはみ出すように配置される。
また図8(b)のようにウェーハの半径が小さい(200φ)場合の一例を示す。具体的には、2.5インチ幅テープを2本使用し、トータル7インチとすれば、大小のウェーハ(300φと200φ)に対して研磨テープを変えずに使用することが可能である。
このようにすればウェーハの前面が均一に研磨され、一部に不要な研磨模様を形成することがない。また、2本のテープ幅(コンタクトローラ幅)を変えずに300φ、200φの研磨が可能である。
なお、ウェーハの回転方向と研磨ヘッドの回転方向は、特に規定するものではないが、互いに逆方向の方が研磨効率を向上することができる。
本発明のウェーハ平面研磨装置の主要機構部の構成を示す装置正面図。 図1の研磨ヘッドのX−X断面図。 (a)は図2のA−A断面図、(b)は図2のB−B断面図。 (a)は図2のA−A断面における駆動伝達経路説明図、(b)は図2のC−C断面における駆動伝達経路説明図。 (a)は図2のD−D矢視図、(b)は図2のE−E矢視図。 (a)は従来法による1本の研磨テープTを回転中心Pとして回転した場合の研磨テープに掛かる応力の模式図、(b)は本発明による回転中心Pの両側に2本の研磨テープT1、T2を配置して互いに逆方向に走行しながら回転させた場合の研磨テープに掛かる応力の模式図。 コンタクトローラにより押圧され、走行する研磨テープの概略斜視図。 (a)、(b)は半導体ウェーハの好適な研磨例。 (a)は従来の研磨装置正面図、(b)はその断面図である。
符号の説明
1 研磨装置
2 支持ユニット
3 ワークテーブルユニット
4 研磨ヘッド
5 上部フレーム
6 下部フレーム
10a 左側ブロック
10b 右側ブロック
41a、41b コンタクトローラ
61a、61b 巻取りリール
62a、62b 供給リール
T1、T2 研磨テープ
Z 回転軸

Claims (3)

  1. 走行する研磨テープが装着される研磨ヘッドと、前記研磨テープを被研磨材に押圧して前記研磨ヘッドを回転させる支持ユニットと、前記被研磨材が回転可能に装着されるワーク回転ユニットとを備えてなる研磨装置であって、
    前記研磨ヘッドは、研磨テープと、該研磨テープを供給する供給リールと、供給された研磨テープを前記被研磨材に当接させるコンタクトローラと、該コンタクトローラを経た研磨テープを巻き取る巻取りリールと、を各2組有し、
    前記被研磨材に押圧される前記研磨テープが、前記研磨ヘッドの回転軸と左右対称に、かつ所定の距離をおいて配置されると共に、それぞれ逆方向に走行可能とであり、
    前記供給リール及び前記巻取りリールは、同期回転可能となるように、前記供給リール及び前記巻取りリールを駆動させる駆動モータ及び該駆動を伝達する駆動伝達装置に連結されて成り、
    前記駆動モータは、前記研磨ヘッドの回転軸の一方の側に配置されると共に、前記回転軸の他方の側に前記駆動モータ及び前記伝達装置との重量平衡をとる重量平衡用部材を配置したことを特徴とする研磨装置。
  2. 請求項に記載の研磨装置を使用してなる研磨方法であって、
    逆方向に走行する2本の前記研磨テープの前記コンタクトローラに当接する位置において、前記研磨ヘッドの回転方向と対向する向きに走行して前記被研磨部材を研磨することを特徴とする研磨方法。
  3. 前記2本の研磨テープのうち、一方の研磨テープの外側と、他方の研磨テープの外側との間が、薄板円形である被研磨材の半径を超えた長さであって、かつ前記被研磨材の直径の長さよりも小さい範囲に設定してなることを特徴とする請求項に記載の研磨方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013026247A (ja) * 2011-07-15 2013-02-04 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体装置の製造方法
US10144109B2 (en) * 2015-12-30 2018-12-04 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Polisher, polishing tool, and polishing method
CN108857746A (zh) * 2018-09-18 2018-11-23 天津冰科技有限公司 一种模具零件打磨装置
CN114505751B (zh) * 2021-12-30 2023-06-09 河南豫科光学科技股份有限公司 一种自动蒙砂玻璃生产线

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3024947B2 (ja) * 1997-07-03 2000-03-27 日本ミクロコーティング株式会社 研磨装置
JPH11216654A (ja) * 1998-02-02 1999-08-10 Speedfam Co Ltd 研磨装置
JP2006272546A (ja) * 2000-06-30 2006-10-12 Ebara Corp 研磨装置及び研磨方法

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