JP5268253B2 - 対話型閾値調整 - Google Patents
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Description
したがって、パラメータ閾値の最適化をより容易に行うことができ、それによって、より良い結果が得られるようにするシステムの提供が求められている。
Claims (19)
- 検査システムをリアル・タイムで対話的に調整する調整方法であって、
a.前記検査システムを用いて検査片の特性を検知するステップと、
b.前記検知した特性を分析して、位置情報及びレベル情報を含む異常を識別するステップと、
c.前記異常のレベル情報を、検査システム・パラメータの1組の初期閾値を用いて分析するステップと、
d.ステップcにおける前記レベル情報の分析に基づいて、前記異常の初期部分を欠陥として捕らえるステップと、
e.前記捕らえた異常の概要を表示するステップと、
f.潜在的に捕らえられる欠陥と前記検査システム・パラメータの少なくとも1つの閾値との関係を表す動作曲線を表示するステップと、
g.前記検査システム・パラメータの少なくとも1つを選択的に変化させて前記検査システムのパラメータの1組の修正閾値を形成するステップと、
h.前記検査システム・パラメータの少なくとも1つを変更することのリアル・タイムのフィードバックを受信し、該変更された検査システム・パラメータであって変更された閾値である修正閾値を含む検査システム・パラメータに基づいて、前記検査片を再走査することなく、前記異常のレベル情報を分析するステップと、
i.ステップhにおける前記レベル情報の分析に基づいて、前記異常の更新された部分を欠陥として捕らえるステップと、
j.前記捕らえた異常の概要を表示するステップと、
k.致命的欠陥、真性欠陥、無害欠陥からなる欠陥の種類、並びに、欠陥粒子、欠陥パターン、欠陥色ばらつき、欠陥粒からなる欠陥の等級によって、識別された欠陥を弁別するステップであって、前記動作曲線は、前記欠陥の種類または前記欠陥の等級ごとに表示される、ステップと、
l.ステップgからkまでを選択的に繰り返えして、前記検査片の歩留まりに影響を及ぼす欠陥を検出するステップと、
m.検査システムでの処方に用いるために、前記検査システム・パラメータの1組の修正閾値を記憶するステップと
から成ることを特徴とする方法。 - 請求項1記載の方法において、前記検査システムは、光学検査システムであることを特徴とする方法。
- 請求項1記載の方法において、前記検査片は、半導体ウェハであることを特徴とする方法。
- 請求項1記載の方法において、前記検査片の特性は、表面欠陥であることを特徴とする方法。
- 請求項1記載の方法において、該方法は更に、前記検査片上で捕らえた異常の空間表現を選択的に表示するステップを含むことを特徴とする方法。
- 検査システムの処方をリアル・タイムで対話的に調整する調整方法であって、
a.検知した異常についてのレベル情報を受け取るステップと、
b.検査システム・パラメータの1組の初期閾値を用いて、前記異常のレベル情報を分析するステップと、
c.ステップbにおける前記レベル情報の分析に基づいて、前記異常の初期部分を欠陥として捕らえるステップと、
d.該捕らえた異常の概要を表示するステップと、
e.潜在的に捕らえられる欠陥と前記検査システム・パラメータの少なくとも1つの閾値との関係を表す動作曲線を表示するステップと、
f.前記検査システム・パラメータの少なくとも1つを選択的に変化させ、前記検査システム・パラメータの1組の修正閾値を形成するステップと、
g.前記検査システム・パラメータの少なくとも1つの変更をリアル・タイムで受け取り、検査片を再度走査することなく、該変更された検査システム・パラメータであって変更された閾値である前記修正閾値を含む検査システム・パラメータの少なくとも1つに基づいて、前記異常のレベル情報を分析するステップと、
h.ステップgにおける前記レベル情報の分析に基づいて、前記異常の更新された部分を欠陥として捕らえるステップと、
i.該捕らえた異常の概要を表示するステップと、
j.致命的欠陥、真性欠陥、無害欠陥からなる欠陥の種類、並びに、欠陥粒子、欠陥パターン、欠陥色ばらつき、欠陥粒からなる欠陥の等級によって、識別された欠陥を弁別するステップであって、前記動作曲線は、前記欠陥の種類または前記欠陥の等級ごとに表示される、ステップと、
k.ステップfからjまでを選択的に繰り返えして、検査片の歩留まりに影響を及ぼす欠陥を特定するステップと、
l.検査システムの処方に用いるために、前記検査システム・パラメータの1組の修正閾値を記憶するステップと
から成ることを特徴とする方法。 - 請求項6記載の方法において、前記異常は、検査片上の表面欠陥を表すことを特徴とする方法。
- 請求項6記載の方法において、該方法は更に、前記捕らえた異常の空間表現を選択的に表示するステップを含むことを特徴とする方法。
- 検査システムであって、
検査片の特性を検知するように構成されたセンサと、
プロセッサであって、
前記検知した特性を分析して、位置情報及びレベル情報を有する異常を識別し、
検査システム・パラメータの1組の初期閾値を用いて、前記異常のレベル情報を分析し、
前記レベル情報の分析に基づいて、前記異常の初期部分を欠陥として捕らえる
ように構成されたプロセッサと、
前記捕らえた異常の概要を表示し、かつ、潜在的に捕らえられる欠陥と前記検査システム・パラメータの少なくとも1つに対する閾値との関係を表す動作曲線を表示するように構成されたディスプレイと、
前記検査システム・パラメータの少なくとも1つを選択的に変化させ、前記検査システム・パラメータの1組の修正閾値を形成するように構成された入力と
を備えており、
前記プロセッサは、更に、前記検査システム・パラメータの少なくとも1つの変更をリアル・タイムで受信し、検査片を再走査することなく、該変更された検査システム・パラメータであって変更された閾値である前記修正閾値を含む検査システム・パラメータに基づいて、前記異常のレベル情報を分析し、前記レベル情報の直前の分析に基づいて、前記異常の更新部分を欠陥として捕らえるように構成されており、
前記ディスプレイは、更に、前記捕らえた欠陥の更新した概要を表示するように構成されており、
前記プロセッサはさらに、致命的欠陥、真性欠陥、無害欠陥からなる欠陥の種類、並びに、欠陥粒子、欠陥パターン、欠陥色ばらつき、欠陥粒からなる欠陥の等級によって、識別された欠陥を弁別し、前記動作曲線を前記欠陥の種類または前記欠陥の等級ごとに前記ディスプレイへ表示するよう構成されており、
前記検査システムはさらに、該検査システムの処方に用いるために、前記検査システム・パラメータの1組の修正閾値を記憶するように構成されたメモリを備えている
ことを特徴とする検査システム。 - 請求項9記載の検査システムにおいて、該検査システムは光学的検査システムであることを特徴とする検査システム。
- 請求項9記載の検査システムにおいて、前記検査片は半導体ウェハであることを特徴とする検査システム。
- 請求項9記載の検査システムにおいて、前記検査片の特性は表面欠陥であることを特徴とする検査システム。
- 請求項9記載の検査システムにおいて、前記ディスプレイは更に、前記検査片上で捕らえた異常の空間表現を選択的に表示するように構成されていることを特徴とする検査システム。
- 請求項1記載の方法において、ステップiにおいて、再計算された動作曲線を表示することを特徴とする方法。
- 請求項1記載の方法において、前記検査システムは、検査片の特性を複数枚の画像として感知するよう構成され、前記検査システムによって感知された検査片の各画像について、前記方法のそれぞれのステップが繰り返し実行されることを特徴とする方法。
- 請求項6記載の方法において、ステップiにおいて、再計算された動作曲線を表示することを特徴とする方法。
- 請求項6記載の方法において、前記レベル情報は検査片の複数枚の画像として受け取られ、該受け取られた各画像について、前記方法のそれぞれのステップが繰り返し実行されることを特徴とする方法。
- 請求項9記載の検査システムにおいて、前記ディスプレイは更に、再計算された動作曲線を表示するよう構成されていることを特徴とする検査システム。
- 請求項9記載の検査システムにおいて、前記センサが検査片の複数の画像を生成し、前記検査システムが前記検査片の各画像を処理するよう構成されていることを特徴とする検査システム。
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