JP5256693B2 - 酸化チタン系光触媒薄膜の製造法 - Google Patents
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Description
酸化チタン系薄膜を形成する基材は、特に限定されない。特に本発明で効果が期待できる基材としては、プラスティックのフィルム若しくは成形品、繊維製品等の有機材料が挙げられる。その他、アルミニウム、ステンレス鋼、鉄などの金属、及びガラス、タイル等のセラミック製品も使用できる。具体的には、塩化ビニル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリアセタール、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、EVA(エチレン−酢酸ビニル共重合体)、NBR(アクリロニトリル−ブタジエンゴム)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、EVOH(エチレン−ビニルアルコール共重合体)、ポリイミド樹脂、PPS(ポリフェニレンサルファイド)、ABS(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン)樹脂、メラミン樹脂等のフィルム、積層体若しくは成形品が挙げられる。
本発明で薄膜の形成に使用し得る酸化チタン系材料は、光触媒として従来知られている酸化チタン系材料の中で、ペルオキソチタンを含有する酸化チタン系材料である。特にアナターゼ型の結晶構造を持つペルオキソチタンを含有する酸化チタン系材料が好ましい。ペルオキソチタンは、下記構造式に示すような、Ti-O-Ti結合の一部がTi-O-O-Ti結合に転化した過酸化チタンである。
ペルオキソチタンは酸化チタン系材料中に0.1質量%以上、特に0.2〜5質量%含まれるのが好ましい。
基材に酸化チタン系薄膜を形成した面にプラズマ処理をして、酸化チタン系薄膜の触媒活性を向上させる。この処理法としては特に低圧低温の無機ガスプラズマ処理法が望ましい。
[光触媒活性の評価法]
メチレンブルー水溶液をサンプルに塗布し、光触媒評価チェッカーPCC-2(商品名、ULVAC製)により、青色色素の吸光度の減少を測定した。
PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムから成る25μm厚の基材フイルムを7cm×7cmに裁断した。裁断した基材フイルムの表面に、下記の酸化チタン系光触媒塗液を、デップコーターMICRODIP MD0408(商品名、EINTESLA製)を用いて、引き上げ速度0.1mm/sec〜1.0mm/secの間でコーティングした。風乾した薄膜をそれぞれ80℃で30分間加熱することで完全に乾燥した酸化チタン系光触媒薄膜を得た。次に酸化チタン系光触媒薄膜面に、実施例1〜3及び比較例1では下記に示すプラズマ処理条件でプラズマ処理を施した。
得られた酸化チタン系光触媒薄膜について、下記に示す膜厚測定を行い、そして上記の光触媒活性の評価法で光触媒活性を測定して、膜厚の変化及びプラズマ処理の有無による光触媒活性の変化を評価した。その結果を下記表1に示す。
市販のサガンコート(商品名TPXゾル、アナターゼ型ペルオキソチタン含有二酸化チタン水分散液、ペルオキソチタン固形分濃度0.85質量%、鯤コーポレーション製)を使用した。
小型バッチ式プラズマ処理機PC-300(商品名、SAMCO製)によりプラズマ処理を実施した。高周波電源13.56MHz/250W、酸素又は窒素のガス圧力12Pa、処理時間60秒である。
光触媒薄膜の膜厚は、薄膜測定装置FILMETRICS F20(商品名、松下テクノトレーディング製)及び走査型電子顕微鏡S-3400NX(商品名、日立ハイテクノロジーズ)を用いて測定した。
基材として表2に示す樹脂フィルムを使用し、実施例4及び5では酸化チタン系薄膜の形成にティオスカイコート(商品名TAK-A、ペルオキソチタン含有二酸化チタンの水分散体、ペルオキソチタン固形分濃度0.85質量%、ティオテクノ製)を使用した以外は実施例1または比較例2と同様にして酸化チタン系光触媒薄膜を製造し、その光触媒活性を実施例1と同様に測定して、基材別の光触媒活性、及びプラズマ処理の有無による光触媒活性の変化を評価した。その結果を下記表2に示す。
*2:光触媒活性は、測定開始10分後のメチレンブルー吸光度の変化量×103。
酸化チタン系薄膜の形成に、比較例ではペルオキソチタンを含まないMPT-623(商品名、石原産業製)の1.0質量%水分散体、又はペルオキソチタンを含まないビストレイター(商品名、日本曹達製)を使用し、それ以外は実施例1又は比較例2と同様にして酸化チタン系光触媒薄膜を製造し、その光触媒活性を実施例1と同様に測定して、酸化チタン系薄膜のペルオキソチタン含有/非含有による光触媒活性の変化を評価した。その結果を下記表3に示す。
Claims (5)
- 基材上にペルオキソチタンを含有する酸化チタン系薄膜を形成し、次いで該酸化チタン系薄膜面を酸素ガス雰囲気中、圧力0.001〜10Torrで電極間に周波数50Hz〜13.6MHz、0.1〜50kWの電力を印加しグロー放電させることによりプラズマ処理することを特徴とする、酸化チタン系光触媒薄膜の製造法。
- 上記ペルオキソチタンを含有する酸化チタン系薄膜が、アナターゼ型の結晶構造を持つペルオキソチタン含有酸化チタン系材料から形成される、請求項1記載の製造法。
- 上記基材が有機材料からなることを特徴とする、請求項1又は2記載の製造法。
- 上記基材が塩化ビニル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリアセタール、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、EVA(エチレン−酢酸ビニル共重合体)、NBR(アクリロニトリル−ブタジエンゴム)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、EVOH(エチレン−ビニルアルコール共重合体)、ポリイミド樹脂、PPS(ポリフェニレンサルファイド)、ABS(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン)樹脂、及びメラミン樹脂から選ばれる有機材料からなることを特徴とする、請求項3記載の製造法。
- 上記基材に酸化チタン系薄膜を形成する前に、該基材を表面活性化処理することを特徴とする、請求項3又は4記載の製造法。
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