JP5249296B2 - 汚染物トラップシステム及び汚染物トラップシステムを有するリソグラフィ装置 - Google Patents
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- 実質的に発光点から発光される放射ビームを調整するように構成された照明システムを備えており、
前記照明システムは、汚染物トラップシステムを備え、
前記トラップシステムは、複数の小板を有する第1汚染物トラップと、複数の小板を有する第2汚染物トラップと、を備え、第1および第2汚染物トラップは、前記発光点から発光されるいくらかの光が第1および第2汚染物トラップを通って伝播できるように、位置合わせされており、第1汚染物トラップは、第2汚染物トラップに対して、前記発光点を通って実質的に延在する仮想線を中心に回転でき、第1および第2汚染物トラップの一方の小板は、第1および第2汚染物トラップの他方の小板と数および/角分布の点で異なり、それによって、いずれの回転位置においても、前記一方の汚染物トラップの小板の1つが、前記他方の汚染物トラップを通過した放射を遮断できる、
リソグラフィ装置。 - 前記第1および/または第2汚染物トラップは、中心ゾーンと周辺ゾーンとを備え、
前記小板は、前記中心ゾーン側から、前記中心ゾーンから遠ざかる外側へと、前記周辺ゾーン内部において延在し、前記小板の1つは、前記中心ゾーンに向けられたコンポーネントを有する法線を備える、
請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第1および/または第2汚染物トラップの前記小板の各々は、ヒンジ軸にてヒンジ連結されており、各ヒンジ軸は、対応する小板が真っ直ぐな平面状である場合に、ヒンジ軸と重なる仮想線が前記発光点を通って延在するように、配向されている、
請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記小板の各々はスロットを備え、スロットは、対応する小板が真っ直ぐな平面状である場合に、スロットの長手方向と重なる仮想線が前記発光点を通って延在するように、配向されている、
請求項3に記載のリソグラフィ装置。 - 前記放射ビームの断面にパターンを付けてパターン付き放射ビームを形成できるパターニングデバイスをさらに備えており、
前記照明システムは、前記パターニングデバイスの上流においての前記放射ビームの非均一性を低減するように構成されている、
請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第1および第2汚染物トラップは、使用中、前記放射ビームが前記第1および第2汚染物トラップを出る際に前記放射ビーム内に実質的に所定の非均一性が存在するように構成されており、
前記照明システムには、反射素子の第1セットと、反射素子の第2セットとが設けられており、第1セットの各反射素子は、前記第1および第2汚染物トラップの下流においての前記放射ビームの一部を第2セットの反射素子に反射するように構成され、第2セットの各反射素子は、前記放射ビームをさらに前記パターニングデバイスへの光学経路に反射するように構成され、各反射素子が所定の位置および形状を有することによって、使用中、前記放射ビーム内の前記所定の非均一性を低減できる、
請求項5に記載のリソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置の照明システム内で使用する汚染物トラップシステムであって、
前記トラップシステムは、複数の小板を有する第1汚染物トラップと、複数の小板を有する第2汚染物トラップとを備え、
前記第1および第2汚染物トラップは、使用中、前記第1および第2汚染物トラップの外にある所定の点から発光されるいくらかの光が前記第1および第2汚染物トラップを通って伝播できるように、位置合わせされており、前記第1汚染物トラップは、前記第2汚染物トラップに対して、前記所定の点を通って実質的に延在する仮想線を中心に回転でき、前記第1および第2汚染物トラップの一方の小板は、前記第1および第2汚染物トラップの他方の小板と数および/角分布の点で異なる、
汚染物トラップシステム。 - 前記第1および/または第2汚染物トラップは、中心ゾーンと周辺ゾーンとを有し、前記中心ゾーンと前記周辺ゾーンとを有する前記汚染物トラップの前記小板は、前記中心ゾーン側から、前記中心ゾーンから遠ざかる外側へと、前記周辺ゾーン内部において延在し、前記中心ゾーンと前記周辺ゾーンとを有する前記汚染物トラップの前記小板の1つは、前記中心ゾーンに向けられたコンポーネントを有する法線を備える、
請求項7に記載のトラップシステム。 - 前記第1および/または第2汚染物トラップの前記小板の各々は、ヒンジ軸でヒンジ連結されており、各ヒンジ軸は、対応する小板が真っ直ぐな平面状である場合に、ヒンジ軸と重なる仮想線が前記発光点を通って延在するように、配向されている、
請求項7に記載のトラップシステム。 - 前記小板の各々はスロットを備え、スロットは、対応する小板が真っ直ぐな平面状である場合に、スロットの長手方向と重なる仮想線が前記発光点を通って延在するように、配向されている、
請求項9に記載のトラップシステム。 - 使用中、前記放射ビームが前記第1および第2汚染物トラップを出る際に前記放射ビーム内に実質的に所定の非均一性が存在するように、構成されている、
請求項7に記載の汚染物トラップシステム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/944,422 US7161653B2 (en) | 2004-09-20 | 2004-09-20 | Lithographic apparatus having a contaminant trapping system, a contamination trapping system, a device manufacturing method, and a method for improving trapping of contaminants in a lithographic apparatus |
US10/944,422 | 2004-09-20 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007532268A Division JP5005544B2 (ja) | 2004-09-20 | 2005-09-19 | 汚染物トラップシステムを有するリソグラフィ装置、汚染物トラップシステム及びデバイス製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011029653A JP2011029653A (ja) | 2011-02-10 |
JP2011029653A5 JP2011029653A5 (ja) | 2012-09-06 |
JP5249296B2 true JP5249296B2 (ja) | 2013-07-31 |
Family
ID=35677316
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007532268A Expired - Fee Related JP5005544B2 (ja) | 2004-09-20 | 2005-09-19 | 汚染物トラップシステムを有するリソグラフィ装置、汚染物トラップシステム及びデバイス製造方法 |
JP2010211817A Expired - Fee Related JP5249296B2 (ja) | 2004-09-20 | 2010-09-22 | 汚染物トラップシステム及び汚染物トラップシステムを有するリソグラフィ装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007532268A Expired - Fee Related JP5005544B2 (ja) | 2004-09-20 | 2005-09-19 | 汚染物トラップシステムを有するリソグラフィ装置、汚染物トラップシステム及びデバイス製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7161653B2 (ja) |
JP (2) | JP5005544B2 (ja) |
TW (1) | TWI327256B (ja) |
WO (1) | WO2006049489A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7368733B2 (en) * | 2006-03-30 | 2008-05-06 | Asml Netherlands B.V. | Contamination barrier and lithographic apparatus comprising same |
US7889312B2 (en) * | 2006-09-22 | 2011-02-15 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus comprising a rotating contaminant trap |
US8227771B2 (en) * | 2007-07-23 | 2012-07-24 | Asml Netherlands B.V. | Debris prevention system and lithographic apparatus |
US7700930B2 (en) * | 2007-09-14 | 2010-04-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus with rotation filter device |
JP5577351B2 (ja) * | 2008-12-22 | 2014-08-20 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置および放射システム |
JP5355115B2 (ja) * | 2009-01-30 | 2013-11-27 | 株式会社東芝 | 極端紫外光光源装置及びその調整方法 |
US9753383B2 (en) * | 2012-06-22 | 2017-09-05 | Asml Netherlands B.V. | Radiation source and lithographic apparatus |
KR20200128275A (ko) | 2019-05-02 | 2020-11-12 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자의 제조 장치 및 그를 이용한 반도체 소자의 제조 방법 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL1008352C2 (nl) * | 1998-02-19 | 1999-08-20 | Stichting Tech Wetenschapp | Inrichting, geschikt voor extreem ultraviolet lithografie, omvattende een stralingsbron en een verwerkingsorgaan voor het verwerken van de van de stralingsbron afkomstige straling, alsmede een filter voor het onderdrukken van ongewenste atomaire en microscopische deeltjes welke door een stralingsbron zijn uitgezonden. |
EP1223468B1 (en) | 2001-01-10 | 2008-07-02 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus and device manufacturing method |
JP2003022950A (ja) * | 2001-07-05 | 2003-01-24 | Canon Inc | X線光源用デブリ除去装置及び、デブリ除去装置を用いた露光装置 |
DE10138284A1 (de) | 2001-08-10 | 2003-02-27 | Zeiss Carl | Beleuchtungssystem mit genesteten Kollektoren |
KR20040052231A (ko) * | 2001-10-12 | 2004-06-22 | 코닌클리즈케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. | 리소그래피용 투영 장치, 소자 제조 방법 및 오염 물질집진부 |
TWI229242B (en) * | 2002-08-23 | 2005-03-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic projection apparatus and particle barrier for use in said apparatus |
CN100476585C (zh) * | 2002-12-23 | 2009-04-08 | Asml荷兰有限公司 | 具有可扩展薄片的杂质屏蔽 |
-
2004
- 2004-09-20 US US10/944,422 patent/US7161653B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-09-19 WO PCT/NL2005/000680 patent/WO2006049489A1/en active Application Filing
- 2005-09-19 JP JP2007532268A patent/JP5005544B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-09-20 TW TW094132537A patent/TWI327256B/zh not_active IP Right Cessation
-
2010
- 2010-09-22 JP JP2010211817A patent/JP5249296B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7161653B2 (en) | 2007-01-09 |
WO2006049489A1 (en) | 2006-05-11 |
TWI327256B (en) | 2010-07-11 |
JP2011029653A (ja) | 2011-02-10 |
JP5005544B2 (ja) | 2012-08-22 |
JP2008513995A (ja) | 2008-05-01 |
TW200625015A (en) | 2006-07-16 |
US20060061740A1 (en) | 2006-03-23 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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