JP5247013B2 - イオンビーム加工方法および装置 - Google Patents
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- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 title claims description 124
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 68
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 50
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 8
- 238000013461 design Methods 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 56
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 12
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 11
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 11
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 8
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 229910001423 beryllium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
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Description
2 引き出し電極
3 イオンビーム
5 イオンビーム発生装置
6 駆動ステージ
7 光学素子材料
8 ファラデーカップ
9 真空チャンバー
10 大径ファラデーカップ
11 小径ファラデーカップ
Claims (6)
- 加工プログラムに従って制御されるイオンビームによって真空チャンバー内で被加工物を加工するイオンビーム加工方法において、
前記被加工物が内部に載置された状態の前記真空チャンバー内で前記イオンビームの電流を測定することによって、前記イオンビームによる単位時間あたりの除去量および除去形状を検知する工程と、
前記イオンビームによる前記単位時間あたりの除去量および除去形状に基づいて前記加工プログラムを作成する工程と、
前記イオンビームの電流を測定した際の前記真空チャンバー内の真空状態を維持したまま、前記加工プログラムに従って前記イオンビームにより前記被加工物を加工する工程と、を有することを特徴とするイオンビーム加工方法。 - 前記単位時間あたりの除去量が前記イオンビームの全電流値から把握され、前記単位時間あたりの除去形状が前記イオンビームのビームプロファイルから把握されることを特徴とする請求項1記載のイオンビーム加工方法。
- 前記加工プログラムにおいて、前記被加工物に対する前記イオンビームの走査速度を制御することによって、前記イオンビームの照射量を制御することを特徴とする請求項1または2記載のイオンビーム加工方法。
- 前記加工プログラムにおいて、前記イオンビームによって除去される目標加工形状は、加工前の前記被加工物の形状と、前記被加工物の設計形状との誤差量から導き出されることを特徴とする請求項1ないし3いずれか1項記載のイオンビーム加工方法。
- イオンビームと光学素子とを相対的に移動させて、前記イオンビームの前記光学素子の表面に対する走査速度を変化させながら、真空チャンバー内で前記光学素子を加工する光学素子の製造方法において、
前記被加工物が内部に載置された状態の前記真空チャンバー内で前記イオンビームの電流を測定することによって、前記イオンビームによる単位時間あたりの除去量および除去形状を求める工程と、
前記被加工物の加工すべき加工形状を予め求めておく工程と、
前記加工形状と、前記イオンビームによる前記単位時間あたりの除去量および除去形状とから前記走査速度を求める工程と、
前記イオンビームの電流を測定した際の前記真空チャンバー内の真空状態を維持したまま、前記走査速度に従って前記イオンビームにより前記光学素子を加工する工程と、を有することを特徴とする光学素子の製造方法。 - 真空チャンバーと、前記真空チャンバー内に、イオンビームを発生させるイオン源と、前記イオンビームによって加工される被加工物を支持するステージと、前記イオンビームの電流を計測するための電流測定手段と、前記電流測定手段の出力に基づいて設定された加工プログラムによって前記イオンビームを制御するための制御手段と、を有し、
前記イオンビームの電流を前記被加工物が前記ステージに支持された前記真空チャンバー内で測定し、前記被加工物を、前記イオンビームの電流を測定した際の真空状態を維持した前記真空チャンバー内で、前記加工プログラムに従って前記イオンビームにより加工することを特徴とするイオンビーム加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006209366A JP5247013B2 (ja) | 2006-08-01 | 2006-08-01 | イオンビーム加工方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006209366A JP5247013B2 (ja) | 2006-08-01 | 2006-08-01 | イオンビーム加工方法および装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008034324A JP2008034324A (ja) | 2008-02-14 |
JP5247013B2 true JP5247013B2 (ja) | 2013-07-24 |
Family
ID=39123509
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006209366A Expired - Fee Related JP5247013B2 (ja) | 2006-08-01 | 2006-08-01 | イオンビーム加工方法および装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5247013B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107414609A (zh) * | 2017-09-13 | 2017-12-01 | 成都睿坤科技有限公司 | 延长稳定工作时长的离子束抛光机 |
CN107457617A (zh) * | 2017-09-13 | 2017-12-12 | 成都睿坤科技有限公司 | 具有长期连续工作能力的离子束抛光设备 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8392015B2 (en) * | 2009-07-10 | 2013-03-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Processing method for a workpiece |
JP5500955B2 (ja) * | 2009-11-19 | 2014-05-21 | キヤノン株式会社 | イオンビームを用いた加工装置、その調整方法およびイオンビームを用いた加工方法 |
JP5414515B2 (ja) * | 2009-12-24 | 2014-02-12 | キヤノン株式会社 | 被加工物の製造方法、加工方法、及び加工装置 |
CN102279301A (zh) * | 2010-06-08 | 2011-12-14 | 江苏天瑞仪器股份有限公司 | 质谱仪真空腔内样品离子流大小检测装置 |
JP2013195152A (ja) * | 2012-03-16 | 2013-09-30 | Fujitsu Ltd | 二次イオン質量分析装置及び二次イオン質量分析方法 |
JP5856574B2 (ja) * | 2013-02-13 | 2016-02-10 | 株式会社東芝 | 試料加工方法 |
CN103495907B (zh) * | 2013-09-24 | 2015-12-02 | 中国科学院高能物理研究所 | 一种利用离子束刻蚀技术抛光微结构侧壁的方法 |
CN109623560B (zh) * | 2018-12-14 | 2021-09-14 | 中国兵器科学研究院宁波分院 | 用于六轴运动抛光***的确定离子束抛光工艺参数的方法 |
CN111002111A (zh) * | 2019-12-10 | 2020-04-14 | 中国空气动力研究与发展中心设备设计及测试技术研究所 | 一种面向亚纳米精度离子束抛光的面形误差优化去除方法 |
CN111223738B (zh) * | 2020-01-16 | 2024-05-03 | 昆明凯航光电科技有限公司 | 双真空室离子束加工***及加工方法 |
CN112257219B (zh) * | 2020-08-20 | 2024-05-03 | 合肥工业大学 | 一种利用弧斑等离子体去除叶片表面硫化物腐蚀层的方法 |
CN113182944B (zh) * | 2021-05-24 | 2023-08-15 | 中国人民解放军国防科技大学 | 一种动态可控超宽幅高频响离子源调控方法 |
CN113560963B (zh) * | 2021-09-24 | 2022-01-28 | 摩高光学科技(佛山)有限公司 | 多离子源协同加工拼痕抑制方法、装置和电子设备 |
CN114536113B (zh) * | 2022-04-27 | 2022-07-29 | 四川欧瑞特光电科技有限公司 | 一种负压装置及离子束抛光机 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0626198B2 (ja) * | 1986-12-26 | 1994-04-06 | 株式会社日立製作所 | 集束イオンビーム加工方法及びその装置 |
JP2892690B2 (ja) * | 1989-07-12 | 1999-05-17 | 株式会社日立製作所 | イオンビーム加工方法及びその装置 |
JP3397390B2 (ja) * | 1993-10-13 | 2003-04-14 | 日本電子株式会社 | 集束イオンビームによる加工方法 |
-
2006
- 2006-08-01 JP JP2006209366A patent/JP5247013B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107414609A (zh) * | 2017-09-13 | 2017-12-01 | 成都睿坤科技有限公司 | 延长稳定工作时长的离子束抛光机 |
CN107457617A (zh) * | 2017-09-13 | 2017-12-12 | 成都睿坤科技有限公司 | 具有长期连续工作能力的离子束抛光设备 |
CN107457617B (zh) * | 2017-09-13 | 2019-03-26 | 成都睿坤科技有限公司 | 具有长期连续工作能力的离子束抛光设备 |
CN107414609B (zh) * | 2017-09-13 | 2019-03-26 | 成都睿坤科技有限公司 | 延长稳定工作时长的离子束抛光机 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008034324A (ja) | 2008-02-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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A621 | Written request for application examination |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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