JP5236557B2 - レーザーを用いたパターン形成方法 - Google Patents
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Description
(2)(メタ)アクリル酸などの不飽和カルボン酸と、メチル(メタ)アクリレートなどの不飽和二重結合を有する化合物の共重合体に、グリシジル(メタ)アクリレートや(メタ)アクリル酸クロライドなどにより、エチレン性不飽和基をペンダントとして付加させることによって得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、
(3)グリシジル(メタ)アクリレートなどのエポキシ基と不飽和二重結合を有する化合物と、メチル(メタ)アクリレートなどの不飽和二重結合を有する化合物の共重合体に、(メタ)アクリル酸などの不飽和カルボン酸を反応させ、生成した2級の水酸基にテトラヒドロフタル酸無水物などの多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、
(4)無水マレイン酸などの不飽和二重結合を有する酸無水物と、スチレンなどの不飽和二重結合を有する化合物の共重合体に、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートなどの水酸基と不飽和二重結合を有する化合物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、
(5)多官能エポキシ化合物と(メタ)アクリル酸などの不飽和カルボン酸を反応させ、生成した2級の水酸基にテトラヒドロフタル酸無水物などの多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、
(6)メチル(メタ)アクリレートなどの不飽和二重結合を有する化合物とグリシジル(メタ)アクリレートの共重合体のエポキシ基に、1分子中に1つのカルボキシル基を有し、エチレン性不飽和結合を持たない有機酸を反応させ、生成した2級の水酸基に多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、
(7)ポリビニルアルコールなどの水酸基含有ポリマーに多塩基無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂、及び
(8)ポリビニルアルコールなどの水酸基含有ポリマーに、テトラヒドロフタル酸無水物などの多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂に、グリシジル(メタ)アクリレートなどのエポキシ基と不飽和二重結合を有する化合物をさらに反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂などが挙げられ、特に(1)、(2)、(3)、(6)の樹脂が好適に用いられる。なお、本明細書において、(メタ)アクリレートとは、アクリレート、メタアクリレート及びそれらの混合物を総称する用語で、他の類似の表現についても同様である。
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明が下記実施例に限定されるものではないことはもとよりである。なお、以下において「部」は、特に断りのない限りすべて質量部であるものとする。
温度計、攪拌機、滴下ロート、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルメタクリレートとメタクリル酸を0.76:0.24のモル比で仕込み、溶媒としてジプロピレングリコールモノメチルエーテル、触媒としてアゾビスイソブチロニトリルを入れ、窒素雰囲気下、80℃で2〜6時間攪拌し、樹脂溶液を得た。この樹脂溶液を冷却し、重合禁止剤としてメチルハイドロキノン、触媒としてテトラブチルホスホニウムブロマイドを用い、グリシジルメタクリレートを、95〜105℃で16時間の条件で、上記樹脂のカルボキシル基1モルに対し0.12モルの割合の付加モル比で付加反応させ、冷却後取り出し、有機バインダーを得た。この有機バインダーは、重量平均分子量が約10,000、固形分酸価が59mgKOH/g、二重結合当量が950であった。なお、得られた共重合樹脂の重量平均分子量の測定は、島津製作所社製ポンプLC−6ADと昭和電工社製カラムShodex(登録商標)KF−804、KF−803、KF−802を三本つないだ高速液体クロマトグラフィーにより測定した。
乾燥塗膜:高歪ガラス(PD200:旭ガラス社製)基板上に、評価用のペーストを200メッシュのポリエステルスクリーンを用いて全面に塗布し、次いで、熱風循環式乾燥炉にて90℃で30分間乾燥して指触乾燥性の良好な乾燥塗膜(膜厚10μm)を形成した。
上記方法にて作成された評価パターンについて、レーザー照射部にテスターにて導通を評価した。
×;導電性無し。
上記現像方法によって得られたレーザー照射部分についての有無について評価した。
△;一部のレーザー照射部分しか残っていない。
×;すべてのレーザー照射部分が残っていない。
上記方法にて形成した評価パターンの膜厚を測定した。膜厚の測定は表面粗さ計により測定した。
上記現像方法によって得られたパターンの線幅を光学顕微鏡にて測定した。
パターニングした部分について抵抗計(HIOKI3540mΩHITESTER)にて抵抗値を測定し、膜厚(表面粗さ計)、線幅(光学顕微鏡)にてそれぞれ測定した。なお、
体積固有抵抗値(Ω・cm)=抵抗値(Ω)×断面積(cm2)/長さ(cm)
とした。
上記方法にて作成された評価パターンのレーザー照射部分について、光学顕微鏡にて表面形状を観察した。
△;一部ポーラス形状があり、その他は緻密である。
×;ほとんどポーラス形状である。
上記方法により合成された有機バインダーを用い、以下に示す組成比にて配合し、攪拌機により攪拌後、3本ロールミルにより練肉してペースト化を行い、導電ペーストを得た。
有機バインダー 100.0部
ペンタエリスリトールトリアクリレート 50.0部
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル 80.0部
銀粉末 630.0部
ガラスフリット 59.0部
次亜リン酸 1.0部
このようにして得られた組成物を用いて作成した乾燥塗膜について、レーザー照射速度0.1と1.5mm/sの場合におけるレーザー出力0.2、0.5、1.0Wで得られた評価パターンの各々の導電性、耐現像性、線幅、体積固有抵抗値を上記測定方法にて評価した。評価結果を表1に示す。
銀含有量による評価
上記方法により合成された有機バインダーを用い、組成物2〜4として、表2に示す組成比にて配合し、攪拌機により攪拌後、3本ロールミルにより練肉してペースト化を行い、銀含有量率の異なる導電ペーストを得た。なお、組成物1は、実施例1で使用した導電ペーストと同様の組成比のものである。
銀粉末の粒径による評価
上記方法により合成された有機バインダーを用い、組成物5〜7として、表4に示す組成比にて配合し、攪拌機により攪拌後、3本ロールミルにより練肉してペースト化を行い、銀粉末の粒径の異なる導電ペーストを得た。
ブラックマトリックスパターンの評価
上記方法により合成された有機バインダーを用い、以下に示す組成比にて配合し、攪拌機により攪拌後、3本ロールミルにより練肉してペースト化を行い、ペーストを得た。
有機バインダー 100.0部
ペンタエリスリトールトリアクリレート 50.0部
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル 80.0部
四三酸価コバルト 45.0部
低融点ガラス粉末 29.0部
マロン酸 1.0部
試験基板作成にあたっては、300メッシュのポリエステルスクリーンを用いて塗布し、乾燥膜厚を4μmとしたこと以外は、上記方法の手順で作成した。
上記現像方法によって得られたパターンを光学顕微鏡にて不規則なばらつき、欠けを評価した。
酸化銀粉末の比較評価
上記方法により合成された有機バインダーを用い、組成物9として、表7に示す組成比にて配合し、攪拌機により攪拌後、3本ロールミルにより練肉してペースト化を行った。しかし、組成物9が、ペースト化の際にゲル化してしまったため、有機バインダーをブチラール樹脂(BL−10C)に変更し、酸化銀粉末を含有する導電ペースト(組成物10)を得た。
Claims (10)
- 無機粉末と、カルボキシル基含有樹脂と、ガラスフリットと、溶剤からなるペーストを基板上に塗布する塗布工程と、
塗布されたペーストを乾燥し、乾燥塗膜を形成する乾燥工程と、
レーザー照射により、前記乾燥塗膜にパターンを描画するレーザー照射工程と、
アルカリ溶液を用いて前記パターンを現像する現像工程と、を備え、前記レーザー照射工程は、前記乾燥塗膜中の有機成分をバーンアウトし、前記無機粉末を前記基板上に融着するようにレーザーを照射することを特徴とするパターン形成方法。 - 前記ペーストは、低分子モノマーを含むことを特徴とする請求項1に記載のパターン形成方法。
- 前記無機粉末は、導電性粉末であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のパターン形成方法。
- 前記乾燥塗膜中の前記導電性粉末が60質量%以上であることを特徴とする請求項3に記載のパターン形成方法。
- 前記無機粉末は、耐熱顔料であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のパターン形成方法。
- 前記乾燥塗膜中の前記耐熱顔料が10質量%以上であることを特徴とする請求項5に記載のパターン形成方法。
- 前記レーザーの波長は、266−10600nmであることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のパターン形成方法。
- 前記レーザー照射に、YVO4レーザーの第二高調波が用いられることを特徴とする請求項7に記載のパターン形成方法。
- 前記乾燥工程は、60−120℃で、5−60分行われることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載のパターン形成方法。
- 現像された前記導電パターン上に誘電体層を形成し、焼成する焼成工程を含むことを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載のパターン形成方法。
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