JP5231917B2 - 成膜装置 - Google Patents
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Description
特許文献2は、配線や配管を柔軟性の高い樹脂性の配管で覆い、被覆配管内を真空排気することを開示している。
また、本発明の第二の目的は、真空排気の必要のない真空内配線・配管機構を提供することである。
さらに、本発明三の目的は、本発明の真空内配線・配管機構を使用することによって、信頼性の高い有機ELデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
また、上記目的を達成するために、第1の特徴に加え、前記リンクは錆び難くアウトガスが少ない金属製であることを第3の特徴とする。
また、上記目的を達成するために、前記移動体は前記基板を載置した位置から蒸着位置に移動する移動体であり、前記配管は前記基板を冷却する前記移動体上の冷却部に流体を供給・回収する配管であることを第5の特徴とする請求項1に記載の有機ELデバイス製造装置。
また、本発明によれば、真空排気の必要のない真空内駆動装置を提供することである。
さらに、本発明によれば、信頼性の高い有機ELデバイス製造装置または成膜装置を提供することである
2本ハンドにするか1本ハンドにするかは要求される生産能力によって決める。以後の説明では、説明を簡単にするために1本ハンドで説明する。
また、上記本実施形態によれば、図5に示すように真空蒸着チャンバ1buの処理基板1枚の処理サイクルは実質的に蒸着時間+蒸発部71の移動時間となり、生産性を向上させることができる。前述の条件で処理時間を評価すれば、従来の2分に対し、本発明では1分5秒となり、チャンバひとつあたりの生産性を約2倍に向上できる。
2:搬送チャンバ 3:ロードクラスタ
4:受渡室 5:搬送ロボット
6:基板 7:蒸着部
8:アライメント部 9:処理受渡部
10:ゲート弁 11:仕切り板
31:ロード室 40,50:真空内配線・配管機構
60:制御装置 41、42、51,52:リンク
43,44:冷却水配管 54:配線
71:蒸発源 100:有機ELデバイスの製造装置
A〜D:クラスタ。
Claims (5)
- 真空チャンバ内で蒸着材料される基板を載置し、移動する第2の移動部と、
該第2の移動部を旋回させて直立し、蒸着位置に正対させる基板旋回駆動部と、備え
該基板旋回駆動部は、大気側に設けられた駆動源により旋回する第1のリンクと、一端を該第1リンクに、他端を前記第2の移動部に固定された第2リンクとを備え、
前記第1リンク及び該第2リンクを第2の中空のリンクで構成し、前記第2の中空のリンク内に前記第2の移動部への配線または流体を流す配管のうち少なくとも流体を流す前記配管を敷設し、前記第1のリンクの前記大気側を大気に開放し、前記第2リンクの他端側を前記第2の移動部に接続した第2の真空内配線・配管機構を備え、
かつ前記第2の中空のリンクの可動部、前記第2の移動部への接続部及び大気への接続部が真空シールされていると共に、前記第2の中空のリンクは金属であり、
前記配管は、前記基板を冷却する前記移動体上の冷却部に流体を供給・回収する配管であることを特徴とする成膜装置。 - 真空チャンバ内で蒸着材料を蒸発する蒸発源を移動させる第1の移動部と、
第1の中空のリンクで構成し、該第1の中空のリンク内に前記第1の移動部への配線または流体を流す配管のうち少なくとも一方を敷設し、一端を大気に開放し、他端を前記第1の移動部に接続した第1の真空内配線・配管機構を備え、
かつ前記第1の中空のリンクの可動部、前記第1の移動部への接続部及び大気への接続部が真空シールされていると共に、前記第1の中空のリンクは金属であることを特徴とする成膜装置。 - 請求項1または2記載の成膜装置において、
前記金属はステンレスまたはアルミニウムであること特徴とする成膜装置。 - 請求項2記載の成膜装置において、
前記第1の移動部は、前記基板への蒸着速度を検出するセンサを有することを特徴とする成膜装置。 - 請求項1〜4のいずれかに記載の成膜装置は、有機EL材料を成膜するものであることを特徴とする成膜装置。
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