JP5214771B2 - リソグラフィ装置およびリソグラフィ装置の冷却方法 - Google Patents
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Description
1.ステップモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンの全体が1回の照射(すなわち単一静的露光)で目標部分Cに投影される間、マスクテーブルMTまたは「マスク支持部」及び基板テーブルWTまたは「基板支持部」は実質的に静止状態とされる。そして基板テーブルWTまたは「基板支持部」がX方向及び/またはY方向に移動されて、異なる目標部分Cが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズが単一静的露光で転写される目標部分Cのサイズを制限することになる。
2.スキャンモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間(すなわち単一動的露光の間)、マスクテーブルMTまたは「マスク支持部」及び基板テーブルWTまたは「基板支持部」は同期して走査される。マスクテーブルMTまたは「マスク支持部」に対する基板テーブルWTまたは「基板支持部」の速度及び方向は、投影系PSの拡大(縮小)特性及び像反転特性により定められる。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが単一動的露光での目標部分の(非走査方向の)幅を制限し、走査移動距離が目標部分の(走査方向の)長さを決定する。
3.別のモードにおいては、マスクテーブルMTまたは「マスク支持部」がプログラム可能パターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間、基板テーブルWTまたは「基板支持部」が移動または走査される。このモードではパルス放射源が通常用いられ、プログラム可能パターニングデバイスは、基板テーブルWTまたは「基板支持部」の毎回の移動後、または走査中の連続放射パルス間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上述のプログラマブルミラーアレイ等のプログラム可能パターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (5)
- 放射ビームを調整するように構成された照明系と、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付与された放射ビームを形成可能であるパターニングデバイスを支持するように構成された支持部と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターン付与された放射ビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影系と、
リソグラフィ装置の部分を冷却する冷却システムであって、
冷却液を保持する冷却流路であって、前記部分と少なくとも部分的に熱接触し入口と出口を有する、冷却流路と、
前記入口から前記冷却流路を通り前記出口に冷却液を輸送するように構成された冷却液輸送デバイスと、
前記冷却流路の前記入口および前記出口の両方と熱接触し、前記入口に存在する冷却液から前記出口に存在する冷却液に熱を伝達する熱輸送装置と、
を有する冷却システムと、
を備えるリソグラフィ装置。 - 前記熱輸送装置は熱電ヒートポンプまたは熱電子ヒートポンプであることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記冷却流路は前記部分の周りにループ状に配置され、前記部分の同一側に前記冷却流路の前記入口および前記出口が設けられており、
前記熱輸送装置は前記部分に隣接して配置され、前記部分と前記熱輸送装置が前記冷却流路の二つの部分の間に挟まれていることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記冷却流路は前記リソグラフィ装置の他の部分に対向する外壁部を有しており、
前記冷却システムは、前記外壁部の温度を測定する温度センサを備え、
前記冷却システムは、前記温度センサの出力に基づき前記熱輸送装置を駆動する制御ユニットを備えることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置の前記部分が、前記基板または基板テーブルを位置決めするアクチュエータのコイルであることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
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