JPH11312632A - 温度制御装置および露光装置 - Google Patents
温度制御装置および露光装置Info
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- JPH11312632A JPH11312632A JP10117589A JP11758998A JPH11312632A JP H11312632 A JPH11312632 A JP H11312632A JP 10117589 A JP10117589 A JP 10117589A JP 11758998 A JP11758998 A JP 11758998A JP H11312632 A JPH11312632 A JP H11312632A
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- temperature control
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 温度制御対象部に対して高精度の温度制御、
例えば０．００１℃水準の温度制御を可能にする。 【解決手段】 一次媒体を循環させる一次媒体循環系３
４と、一次媒体の温度を調節する第一温度調節部５２
と、二次媒体を循環させ、二次媒体に基づいて温度制御
対象部２２，３２の温度を制御する二次媒体循環系７０
と、温度調節された一次媒体の温度に基づいて、二次媒
体の温度を調節する第二温度調節部３６とを有する。
例えば０．００１℃水準の温度制御を可能にする。 【解決手段】 一次媒体を循環させる一次媒体循環系３
４と、一次媒体の温度を調節する第一温度調節部５２
と、二次媒体を循環させ、二次媒体に基づいて温度制御
対象部２２，３２の温度を制御する二次媒体循環系７０
と、温度調節された一次媒体の温度に基づいて、二次媒
体の温度を調節する第二温度調節部３６とを有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、温度制御対象部に
対して温度制御する温度制御装置およびこの温度制御装
置で温度制御される温度制御対象室を備える露光装置に
関するものである。
対して温度制御する温度制御装置およびこの温度制御装
置で温度制御される温度制御対象室を備える露光装置に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図４に、従来技術による露光装置の温度
制御装置の一例を示す。この図において、符号１は温度
制御装置で、例えば投影レンズを支持する鏡筒あり、符
号２はレンズ部等の温度制御対象部である。
制御装置の一例を示す。この図において、符号１は温度
制御装置で、例えば投影レンズを支持する鏡筒あり、符
号２はレンズ部等の温度制御対象部である。
【０００３】温度制御装置１は、工業用水等の冷却水を
循環させる冷却水循環系３と、該冷却水循環系３に対し
て熱交換された冷却液を循環させる冷却液循環系４とか
ら構成されている。冷却水循環系３と冷却液循環系４と
の間には、ペルチェユニットにより冷却液の熱を冷却水
に放出させる温度調整ユニット５が配設されている。
循環させる冷却水循環系３と、該冷却水循環系３に対し
て熱交換された冷却液を循環させる冷却液循環系４とか
ら構成されている。冷却水循環系３と冷却液循環系４と
の間には、ペルチェユニットにより冷却液の熱を冷却水
に放出させる温度調整ユニット５が配設されている。
【０００４】また、冷却液循環系４には、温度調整ユニ
ット５により冷却された冷却液を貯留する冷却液タンク
６と、該冷却液タンク６に貯留された冷却液を強制的に
循環させるポンプ７と、該ポンプ７により循環する冷却
液を加熱するヒータ８と、該ヒータ８により加熱された
冷却液の温度を検知するセンサ９と、該センサ９の検知
結果に基づいて冷却液が所定温度になるようにヒータ８
を制御するコントローラ１０とが配設されている。
ット５により冷却された冷却液を貯留する冷却液タンク
６と、該冷却液タンク６に貯留された冷却液を強制的に
循環させるポンプ７と、該ポンプ７により循環する冷却
液を加熱するヒータ８と、該ヒータ８により加熱された
冷却液の温度を検知するセンサ９と、該センサ９の検知
結果に基づいて冷却液が所定温度になるようにヒータ８
を制御するコントローラ１０とが配設されている。
【０００５】上記の構成の温度制御装置においては、冷
却水循環系３を循環する冷却水の外乱による熱変動が１
〜２℃程度であったものが、温度調整ユニット５を介し
て冷却することにより、冷却液の熱変動が０．１〜０．
２℃程度に抑制することができる。
却水循環系３を循環する冷却水の外乱による熱変動が１
〜２℃程度であったものが、温度調整ユニット５を介し
て冷却することにより、冷却液の熱変動が０．１〜０．
２℃程度に抑制することができる。
【０００６】また、この温度制御装置では、冷却液タン
ク６に冷却液を貯留して該冷却液の温度を安定させると
共に、センサ９の温度検知結果に基づいてコントローラ
１０がヒータ８による冷却液の加熱を制御することによ
り、温度制御対象部２へ供給される冷却液の熱変動を、
０．０１〜０．０２℃程度に抑制・制御することができ
る。
ク６に冷却液を貯留して該冷却液の温度を安定させると
共に、センサ９の温度検知結果に基づいてコントローラ
１０がヒータ８による冷却液の加熱を制御することによ
り、温度制御対象部２へ供給される冷却液の熱変動を、
０．０１〜０．０２℃程度に抑制・制御することができ
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような従来の温度制御装置には、以下のような問題が
存在する。近年、露光装置においては、ウエハの大口径
化（例えば、直径３００ｍｍ）が進むと共に、ウエハに
形成される集積回路の高集積化、集積回路を構成する配
線の微細化によって、回路パターンの重ね合わせ精度の
向上が一層求められ、これに伴って投影レンズを保持す
る鏡筒に係わる温度も、上記従来の０．０１℃水準の精
度ではなく、０．００１℃水準の精度の制御が求められ
るようになっている。
たような従来の温度制御装置には、以下のような問題が
存在する。近年、露光装置においては、ウエハの大口径
化（例えば、直径３００ｍｍ）が進むと共に、ウエハに
形成される集積回路の高集積化、集積回路を構成する配
線の微細化によって、回路パターンの重ね合わせ精度の
向上が一層求められ、これに伴って投影レンズを保持す
る鏡筒に係わる温度も、上記従来の０．０１℃水準の精
度ではなく、０．００１℃水準の精度の制御が求められ
るようになっている。
【０００８】ところが、上記冷却液と熱交換される冷却
水の温度は、季節や時間によって、例えば、１６〜３２
℃と変動が大きいことに加えて、３０分程度の短い時間
においても２℃程度の変動が発生することがある。ま
た、冷却液を加熱するヒータ８に対する制御は、その作
動が例えば２秒毎のオンまたはオフによって行われるた
め応答性が低い。そのため、このような状況下では上記
精度向上に対応した０．００１℃水準の精度の温度制御
を実現することは困難であった。
水の温度は、季節や時間によって、例えば、１６〜３２
℃と変動が大きいことに加えて、３０分程度の短い時間
においても２℃程度の変動が発生することがある。ま
た、冷却液を加熱するヒータ８に対する制御は、その作
動が例えば２秒毎のオンまたはオフによって行われるた
め応答性が低い。そのため、このような状況下では上記
精度向上に対応した０．００１℃水準の精度の温度制御
を実現することは困難であった。
【０００９】本発明は、以上のような点を考慮してなさ
れたもので、冷却水の温度変動が存在していても、温度
制御対象部に対して高精度の温度制御、例えば０．００
１℃水準の精度の温度制御が可能な温度制御装置および
露光装置を提供することを目的とする。
れたもので、冷却水の温度変動が存在していても、温度
制御対象部に対して高精度の温度制御、例えば０．００
１℃水準の精度の温度制御が可能な温度制御装置および
露光装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、実施の形態を示す図１ないし図３に対応
付けした以下の構成を採用している。請求項１記載の温
度制御装置は、一次媒体を循環させる一次媒体循環系
（３４）と、一次媒体の温度を調節する第一温度調節部
（５２）と、二次媒体を循環させ、二次媒体に基づいて
温度制御対象部（２２，３２）の温度を制御する二次媒
体循環系（３５）と、温度調節された一次媒体の温度に
基づいて、二次媒体の温度を調節する第二温度調節部
（３６）とを有するものである。
めに本発明は、実施の形態を示す図１ないし図３に対応
付けした以下の構成を採用している。請求項１記載の温
度制御装置は、一次媒体を循環させる一次媒体循環系
（３４）と、一次媒体の温度を調節する第一温度調節部
（５２）と、二次媒体を循環させ、二次媒体に基づいて
温度制御対象部（２２，３２）の温度を制御する二次媒
体循環系（３５）と、温度調節された一次媒体の温度に
基づいて、二次媒体の温度を調節する第二温度調節部
（３６）とを有するものである。
【００１１】従って、本発明の温度制御装置では、一次
媒体循環系（３４）を循環する一次媒体の温度を、第一
温度調節部（５２）で温度変動幅の少ない一定の精度に
調節することができる。そして、この一定の精度に調節
された一次媒体に基づいて、第二温度調節部（３６）が
二次媒体循環系（３５）を循環する二次媒体の温度を高
精度に調節することができる。従って、この温度制御装
置では、高精度に温度調節された二次媒体に基づいて、
温度制御対象部（２２，３２）を高精度に温度制御する
ことができる。
媒体循環系（３４）を循環する一次媒体の温度を、第一
温度調節部（５２）で温度変動幅の少ない一定の精度に
調節することができる。そして、この一定の精度に調節
された一次媒体に基づいて、第二温度調節部（３６）が
二次媒体循環系（３５）を循環する二次媒体の温度を高
精度に調節することができる。従って、この温度制御装
置では、高精度に温度調節された二次媒体に基づいて、
温度制御対象部（２２，３２）を高精度に温度制御する
ことができる。
【００１２】請求項２記載の温度制御装置は、請求項１
記載の温度制御装置において、第二温度調節部に（３
６）、一次媒体と二次媒体との間で熱交換を行うペルチ
ェ素子（４９）を配設したものである。
記載の温度制御装置において、第二温度調節部に（３
６）、一次媒体と二次媒体との間で熱交換を行うペルチ
ェ素子（４９）を配設したものである。
【００１３】従って、本発明の温度制御装置では、ペル
チェ素子（４９）に通電することにより一次媒体と二次
媒体との間で熱交換を行うことができる。また、この通
電によりペルチェ素子（４９）は迅速に、かつ通電量に
より可変的に上記熱交換を行うので、二次媒体に対して
迅速、かつ連続的に、微細な温度調節を施すことができ
る。
チェ素子（４９）に通電することにより一次媒体と二次
媒体との間で熱交換を行うことができる。また、この通
電によりペルチェ素子（４９）は迅速に、かつ通電量に
より可変的に上記熱交換を行うので、二次媒体に対して
迅速、かつ連続的に、微細な温度調節を施すことができ
る。
【００１４】請求項３記載の温度制御装置は、請求項１
または２記載の温度制御装置において、第一温度調節部
（５２）が冷却媒体に基づいて一次媒体の温度を所定温
度に制御し、一次媒体循環系（３４）が所定温度に制御
された一次媒体を循環させる主循環系（３７）と、主循
環系（３７）を循環する一次媒体を貯留する貯留室（３
９）と、第二温度調節部（３６）に接続され、貯留室
（３９）に貯留された一次媒体を循環させる従循環系
（３８）とを備えるものである。
または２記載の温度制御装置において、第一温度調節部
（５２）が冷却媒体に基づいて一次媒体の温度を所定温
度に制御し、一次媒体循環系（３４）が所定温度に制御
された一次媒体を循環させる主循環系（３７）と、主循
環系（３７）を循環する一次媒体を貯留する貯留室（３
９）と、第二温度調節部（３６）に接続され、貯留室
（３９）に貯留された一次媒体を循環させる従循環系
（３８）とを備えるものである。
【００１５】従って、本発明の温度制御装置では、第一
温度調節部（５２）において温度変動が存在する冷却媒
体に基づいて所定温度に制御された一次媒体が、主循環
系（３７）を循環して貯留室（３９）に貯留されること
によって熱的に安定し、所定温度に対して温度変動幅の
少ない一定の精度に温度調節される。
温度調節部（５２）において温度変動が存在する冷却媒
体に基づいて所定温度に制御された一次媒体が、主循環
系（３７）を循環して貯留室（３９）に貯留されること
によって熱的に安定し、所定温度に対して温度変動幅の
少ない一定の精度に温度調節される。
【００１６】そして、この一定の精度に温度制御された
貯留室（３９）内の一次媒体は、従循環系（３８）を循
環し第二温度調節部（３６）へ到達することができる。
第二温度調節部（３６）は、この一定の精度に調節され
た一次媒体に基づいて、二次媒体循環系（３５）を循環
する二次媒体の温度を高精度に調節することができる。
従って、この温度制御装置では、高精度に温度調節され
た二次媒体に基づいて、温度制御対象部（２２，３２）
を高精度に温度制御することができる。
貯留室（３９）内の一次媒体は、従循環系（３８）を循
環し第二温度調節部（３６）へ到達することができる。
第二温度調節部（３６）は、この一定の精度に調節され
た一次媒体に基づいて、二次媒体循環系（３５）を循環
する二次媒体の温度を高精度に調節することができる。
従って、この温度制御装置では、高精度に温度調節され
た二次媒体に基づいて、温度制御対象部（２２，３２）
を高精度に温度制御することができる。
【００１７】請求項４記載の露光装置は、露光光で照明
されたマスク（１７）のパターンの像を投影光学系（２
２）を介して基板（２１）上に転写する露光装置におい
て、露光装置本体（１２）に設けられる少なくとも一つ
の温度制御対象部（２２，３２）と、温度制御対象部
（２２，３２）の温度を制御する温度制御装置（３３）
とを備え、温度制御装置（３３）が、一次媒体を循環さ
せる一次媒体循環系（３４）と、一次媒体の温度を調節
する第一温度調節部（５２）と、二次媒体を循環させ、
二次媒体に基づいて温度制御対象部（２２，３２）の温
度を調節する二次媒体循環系（３５）と、温度調節され
た一次媒体の温度に基づいて二次媒体の温度を調節する
第二温度調節部（３６）とを有するものである。
されたマスク（１７）のパターンの像を投影光学系（２
２）を介して基板（２１）上に転写する露光装置におい
て、露光装置本体（１２）に設けられる少なくとも一つ
の温度制御対象部（２２，３２）と、温度制御対象部
（２２，３２）の温度を制御する温度制御装置（３３）
とを備え、温度制御装置（３３）が、一次媒体を循環さ
せる一次媒体循環系（３４）と、一次媒体の温度を調節
する第一温度調節部（５２）と、二次媒体を循環させ、
二次媒体に基づいて温度制御対象部（２２，３２）の温
度を調節する二次媒体循環系（３５）と、温度調節され
た一次媒体の温度に基づいて二次媒体の温度を調節する
第二温度調節部（３６）とを有するものである。
【００１８】従って、本発明の露光装置では、露光装置
本体（１２）に設けられた少なくとも一つの温度制御対
象部（２２，３２）が、温度制御装置（３３）により高
精度に温度制御される。
本体（１２）に設けられた少なくとも一つの温度制御対
象部（２２，３２）が、温度制御装置（３３）により高
精度に温度制御される。
【００１９】即ち、露光装置は、一次媒体循環系（３
４）を循環する一次媒体の温度を、第一温度調節部（５
２）で温度変動幅の少ない一定の精度に調節することが
でき、この一定の精度に調節された一次媒体に基づい
て、第二温度調節部（３６）が二次媒体循環系（３５）
を循環する二次媒体の温度を高精度に調節することがで
きる。従って、この露光装置では、この高精度に温度調
節された二次媒体に基づいて、温度制御対象部（２２，
３２）を高精度に温度制御することができる。
４）を循環する一次媒体の温度を、第一温度調節部（５
２）で温度変動幅の少ない一定の精度に調節することが
でき、この一定の精度に調節された一次媒体に基づい
て、第二温度調節部（３６）が二次媒体循環系（３５）
を循環する二次媒体の温度を高精度に調節することがで
きる。従って、この露光装置では、この高精度に温度調
節された二次媒体に基づいて、温度制御対象部（２２，
３２）を高精度に温度制御することができる。
【００２０】請求項５記載の露光装置は、請求項４記載
の露光装置において、投影光学系（２２）を温度制御装
置（３３）による温度制御対象部としたものである。従
って、本発明の露光装置では、投影光学系（２２）の温
度を温度制御装置（３３）によって高精度に制御するこ
とができる。
の露光装置において、投影光学系（２２）を温度制御装
置（３３）による温度制御対象部としたものである。従
って、本発明の露光装置では、投影光学系（２２）の温
度を温度制御装置（３３）によって高精度に制御するこ
とができる。
【００２１】請求項６記載の露光装置は、請求項４また
は５記載の露光装置において、投影光学系（２２）を露
光装置本体（１２）にフランジ（３２）を介して取り付
け、このフランジ（３２）を、温度制御装置（３３）に
よる温度制御対象部としたものである。
は５記載の露光装置において、投影光学系（２２）を露
光装置本体（１２）にフランジ（３２）を介して取り付
け、このフランジ（３２）を、温度制御装置（３３）に
よる温度制御対象部としたものである。
【００２２】従って、本発明の露光装置では、フランジ
（３２）の温度を温度制御装置（３３）によって高精度
に制御することができ、露光装置本体（１２）を介して
投影光学系（２２）に伝わる熱の悪影響を排除すること
ができる。
（３２）の温度を温度制御装置（３３）によって高精度
に制御することができ、露光装置本体（１２）を介して
投影光学系（２２）に伝わる熱の悪影響を排除すること
ができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の温度制御装置およ
び露光装置の実施の形態を、図１ないし図３を参照して
説明する。これらの図において、従来例として示した図
４と同一の構成要素には同一符号を付し、その説明を簡
略化する。
び露光装置の実施の形態を、図１ないし図３を参照して
説明する。これらの図において、従来例として示した図
４と同一の構成要素には同一符号を付し、その説明を簡
略化する。
【００２４】図２において、符号１１は、露光装置であ
る。露光装置１１は、防振台１９によって防振された定
盤２０の上に載置された露光装置本体１２と、該露光装
置本体１２を取り囲むチャンバ１３とを備えるものであ
る。
る。露光装置１１は、防振台１９によって防振された定
盤２０の上に載置された露光装置本体１２と、該露光装
置本体１２を取り囲むチャンバ１３とを備えるものであ
る。
【００２５】チャンバ１３内には、熱交換器１４により
所定温度に調整された空気が送出される吹き出しダクト
１５と、該吹き出しダクト１５から送出された空気を排
出するリターンダクト１６とが配設されている。
所定温度に調整された空気が送出される吹き出しダクト
１５と、該吹き出しダクト１５から送出された空気を排
出するリターンダクト１６とが配設されている。
【００２６】露光装置本体１２には、チャンバ１３の外
部に設けられたＡｒＦエキシマレーザ光源（不図示）か
ら供給される露光光でレチクル（マスク）１７を照明す
る照明光学系１８と、該照明光学系１８によって照明さ
れたレチクル１７のパターンをウエハ（基板）２１の露
光領域に転写する投影光学系とが設けられている。投影
光学系は、不図示であるが、複数の投影レンズと、投影
レンズを支持するレンズ支持部材と、レンズ支持部材が
内部に取り付けられる投影レンズ鏡筒（投影光学系）２
２とから構成されている。
部に設けられたＡｒＦエキシマレーザ光源（不図示）か
ら供給される露光光でレチクル（マスク）１７を照明す
る照明光学系１８と、該照明光学系１８によって照明さ
れたレチクル１７のパターンをウエハ（基板）２１の露
光領域に転写する投影光学系とが設けられている。投影
光学系は、不図示であるが、複数の投影レンズと、投影
レンズを支持するレンズ支持部材と、レンズ支持部材が
内部に取り付けられる投影レンズ鏡筒（投影光学系）２
２とから構成されている。
【００２７】ウエハ２１は、ウエハステージ２３上に載
置されている。このウエハステージ２３は、ウエハ２１
を上下方向（投影レンズ鏡筒２２の光軸方向）に移動可
能に支持するＺステージ２４と、該Ｚステージ２４を介
してウエハ２１をＸ、Ｙ方向（投影レンズの光軸と直交
する方向）にそれぞれ移動させるＸステージ２５、Ｙス
テージ２６とから構成されている。
置されている。このウエハステージ２３は、ウエハ２１
を上下方向（投影レンズ鏡筒２２の光軸方向）に移動可
能に支持するＺステージ２４と、該Ｚステージ２４を介
してウエハ２１をＸ、Ｙ方向（投影レンズの光軸と直交
する方向）にそれぞれ移動させるＸステージ２５、Ｙス
テージ２６とから構成されている。
【００２８】また、これらＸステージ２５、Ｙステージ
２６は、レーザ干渉計測長器２７によりモニタされ、ウ
エハ２１が所定の位置に位置決めされるように移動可能
な構成となっている。そして、ウエハ２１は、高さセン
サ（図示せず）によって表面の高さが検出され、Ｚステ
ージ２４を介してその高さが調節される構成となってい
る。
２６は、レーザ干渉計測長器２７によりモニタされ、ウ
エハ２１が所定の位置に位置決めされるように移動可能
な構成となっている。そして、ウエハ２１は、高さセン
サ（図示せず）によって表面の高さが検出され、Ｚステ
ージ２４を介してその高さが調節される構成となってい
る。
【００２９】投影レンズ鏡筒２２とウエハ２１との間に
は、レーザ干渉計測長器２７の光路を含み、且つウエハ
ステージ２３を取り囲むチャンバ２８が設けられてい
る。レチクル１７と投影レンズ鏡筒２２との間には、露
光光の光路を含む空間を取り囲むチャンバ５１が設けら
れている。
は、レーザ干渉計測長器２７の光路を含み、且つウエハ
ステージ２３を取り囲むチャンバ２８が設けられてい
る。レチクル１７と投影レンズ鏡筒２２との間には、露
光光の光路を含む空間を取り囲むチャンバ５１が設けら
れている。
【００３０】これらチャンバ２８，５１には、それぞれ
図示しない送風機から所定温度に調節された空気が送出
される構成になっている。レーザ干渉計測長器２７のレ
ーザ光源２９は、チャンバ２８の外部に設置されてい
る。レーザ光源２９から供給されたレーザ光は、パイプ
３０で覆われた導入光学系によってチャンバ２８内に導
入される。
図示しない送風機から所定温度に調節された空気が送出
される構成になっている。レーザ干渉計測長器２７のレ
ーザ光源２９は、チャンバ２８の外部に設置されてい
る。レーザ光源２９から供給されたレーザ光は、パイプ
３０で覆われた導入光学系によってチャンバ２８内に導
入される。
【００３１】一方、投影レンズ鏡筒２２は、定盤２０上
に設置されたコラム３１の中段に、該コラム３１からの
熱の影響を排除するフランジ３２を介して固定されてい
る。投影レンズ鏡筒２２、フランジ３２には、これらを
温度制御対象部としてその温度を制御する温度制御装置
３３が接続されている。
に設置されたコラム３１の中段に、該コラム３１からの
熱の影響を排除するフランジ３２を介して固定されてい
る。投影レンズ鏡筒２２、フランジ３２には、これらを
温度制御対象部としてその温度を制御する温度制御装置
３３が接続されている。
【００３２】図１に示すように、温度制御装置３３は、
一次媒体が循環する一次媒体循環系３４と、二次媒体が
循環する共に該二次媒体に基づいて投影レンズ鏡筒２２
およびフランジ３２の温度を制御する二次媒体循環系７
０と、一次媒体の温度に基づいて二次媒体の温度を調節
する熱交換部（第二温度調節部）３６とから構成されて
いる。一次、二次媒体には、例えば、フッ素と水素との
化合物のような不活性な液体が用いられている。
一次媒体が循環する一次媒体循環系３４と、二次媒体が
循環する共に該二次媒体に基づいて投影レンズ鏡筒２２
およびフランジ３２の温度を制御する二次媒体循環系７
０と、一次媒体の温度に基づいて二次媒体の温度を調節
する熱交換部（第二温度調節部）３６とから構成されて
いる。一次、二次媒体には、例えば、フッ素と水素との
化合物のような不活性な液体が用いられている。
【００３３】一次媒体循環系３４は、主循環路（主循環
系）３７と、熱交換部３６に接続される従循環路（従循
環系）３８と、これら主循環路３７および従循環路３８
双方の一次媒体を合流させた状態で貯留する冷却液タン
ク（貯留室）３９とを備えるものである。
系）３７と、熱交換部３６に接続される従循環路（従循
環系）３８と、これら主循環路３７および従循環路３８
双方の一次媒体を合流させた状態で貯留する冷却液タン
ク（貯留室）３９とを備えるものである。
【００３４】一次媒体循環系３４には、工業用水等の冷
却水（冷却媒体）を循環させる冷却水循環路３が付設さ
れている。冷却水循環路３と主循環路３７との間には、
冷却水に基づいて一次媒体の温度を制御する温度調節ユ
ニット（第一温度調節部）５２が配設されている。
却水（冷却媒体）を循環させる冷却水循環路３が付設さ
れている。冷却水循環路３と主循環路３７との間には、
冷却水に基づいて一次媒体の温度を制御する温度調節ユ
ニット（第一温度調節部）５２が配設されている。
【００３５】即ち、温度調節ユニット５２には、ペルチ
ェユニット等の熱交換機（図示せず）が設けられてい
る。この熱交換機は、主循環路３７を循環する一次媒体
の熱を冷却水循環路３を循環する冷却水に放出させて該
一次媒体の温度を制御するものである。
ェユニット等の熱交換機（図示せず）が設けられてい
る。この熱交換機は、主循環路３７を循環する一次媒体
の熱を冷却水循環路３を循環する冷却水に放出させて該
一次媒体の温度を制御するものである。
【００３６】また、主循環路３７には、冷却液タンク３
９で貯留された一次媒体を強制的に循環させるポンプ４
０と、該ポンプ４０により循環して温度調節ユニット５
２により冷却された一次媒体を加熱するヒータ４１と、
該ヒータ４１により加熱された一次媒体の温度を検知す
るセンサ４２と、該センサ４２の検知結果に基づいて一
次媒体が所定温度になるようにヒータ４１を制御するコ
ントローラ４３とが配設されている。
９で貯留された一次媒体を強制的に循環させるポンプ４
０と、該ポンプ４０により循環して温度調節ユニット５
２により冷却された一次媒体を加熱するヒータ４１と、
該ヒータ４１により加熱された一次媒体の温度を検知す
るセンサ４２と、該センサ４２の検知結果に基づいて一
次媒体が所定温度になるようにヒータ４１を制御するコ
ントローラ４３とが配設されている。
【００３７】従循環路３８には、主循環路３７および従
循環路３８双方の一次媒体が合流した状態で貯留された
冷却液タンク３９から一次媒体を強制的に循環させるポ
ンプ４４が配設されている。
循環路３８双方の一次媒体が合流した状態で貯留された
冷却液タンク３９から一次媒体を強制的に循環させるポ
ンプ４４が配設されている。
【００３８】二次媒体循環系７０には、循環路３５と冷
却液タンク４５とポンプ４６とセンサ４７とコントロー
ラ４８とが配設されている。冷却液タンク４５は、投影
レンズ鏡筒２２およびフランジ３２に対して熱交換され
た二次媒体が貯留されるものである。
却液タンク４５とポンプ４６とセンサ４７とコントロー
ラ４８とが配設されている。冷却液タンク４５は、投影
レンズ鏡筒２２およびフランジ３２に対して熱交換され
た二次媒体が貯留されるものである。
【００３９】ポンプ４６は、冷却液タンク４５に貯留さ
れた二次媒体を強制的に循環させるものである。センサ
４７は、ポンプ４６により循環して熱交換部３６により
熱交換された二次媒体の温度を検知するものである。コ
ントローラ４８は、センサ４７の検知結果に基づいて二
次媒体が所定温度になるように熱交換部３６を制御する
ものである。
れた二次媒体を強制的に循環させるものである。センサ
４７は、ポンプ４６により循環して熱交換部３６により
熱交換された二次媒体の温度を検知するものである。コ
ントローラ４８は、センサ４７の検知結果に基づいて二
次媒体が所定温度になるように熱交換部３６を制御する
ものである。
【００４０】一方、図３に示すように、熱交換部３６に
は、ペルチェ素子４９が一次媒体循環系３４の従循環路
３８と二次媒体循環系７０の循環路３５との間に配設さ
れている。ペルチェ素子４９は、通電状態において上記
一次媒体循環系３４の従循環路３８を循環する一次媒体
と、二次媒体循環系７０の循環路３５を循環する二次媒
体との間で熱交換を行うものであって、配線５０を介し
てコントローラ４８に接続されている。
は、ペルチェ素子４９が一次媒体循環系３４の従循環路
３８と二次媒体循環系７０の循環路３５との間に配設さ
れている。ペルチェ素子４９は、通電状態において上記
一次媒体循環系３４の従循環路３８を循環する一次媒体
と、二次媒体循環系７０の循環路３５を循環する二次媒
体との間で熱交換を行うものであって、配線５０を介し
てコントローラ４８に接続されている。
【００４１】また、このペルチェ素子４９は、コントロ
ーラ４８の制御により配線５０を介して通電された際
に、通電方向によって一次媒体から二次媒体へ、または
二次媒体から一次媒体へ熱が移動するように選択的に、
かつ通電量に応じて熱の移動量が調整可能なように熱交
換を行うものである。
ーラ４８の制御により配線５０を介して通電された際
に、通電方向によって一次媒体から二次媒体へ、または
二次媒体から一次媒体へ熱が移動するように選択的に、
かつ通電量に応じて熱の移動量が調整可能なように熱交
換を行うものである。
【００４２】上記の構成の温度制御装置および露光装置
の内、まず温度制御装置の作用について以下に説明す
る。一次媒体循環系３４の主循環路３７を循環する一次
媒体は、ポンプ４０の作動によって、強制的に温度調節
ユニット５２へ向けて循環し、ここでその熱を、冷却水
循環路３を循環する冷却水に放出することにより冷却さ
れ、温度調節される。ここで、冷却水に発生していた熱
変動は、１〜２℃から０．１〜０．２℃程度に抑制され
る。
の内、まず温度制御装置の作用について以下に説明す
る。一次媒体循環系３４の主循環路３７を循環する一次
媒体は、ポンプ４０の作動によって、強制的に温度調節
ユニット５２へ向けて循環し、ここでその熱を、冷却水
循環路３を循環する冷却水に放出することにより冷却さ
れ、温度調節される。ここで、冷却水に発生していた熱
変動は、１〜２℃から０．１〜０．２℃程度に抑制され
る。
【００４３】そして、冷却された一次媒体は、ヒータ４
１により加熱される。この加熱された一次媒体の温度
は、センサ４２によって検知されており、コントローラ
４３がセンサ４２の検知結果に基づいて一次媒体の温度
が所定温度、例えば２３℃になるように、ヒータ４１の
作動をオンまたはオフさせることにより制御する。
１により加熱される。この加熱された一次媒体の温度
は、センサ４２によって検知されており、コントローラ
４３がセンサ４２の検知結果に基づいて一次媒体の温度
が所定温度、例えば２３℃になるように、ヒータ４１の
作動をオンまたはオフさせることにより制御する。
【００４４】温度調節された一次媒体は、一旦冷却液タ
ンク３９内に貯留されることによりその温度の安定化が
図られ、一次媒体に発生する熱変動は０．０１〜０．０
２℃程度に抑制される。冷却液タンク３９内で温度が安
定した一次媒体は、ポンプ４４の作動により従循環路３
８を循環すると共に、熱交換部３６において、二次媒体
循環系７０の循環路３５を循環する二次媒体との間で熱
交換される。
ンク３９内に貯留されることによりその温度の安定化が
図られ、一次媒体に発生する熱変動は０．０１〜０．０
２℃程度に抑制される。冷却液タンク３９内で温度が安
定した一次媒体は、ポンプ４４の作動により従循環路３
８を循環すると共に、熱交換部３６において、二次媒体
循環系７０の循環路３５を循環する二次媒体との間で熱
交換される。
【００４５】二次媒体循環系７０の循環路３５を循環す
る二次媒体の温度は、センサ４７によって検知されてい
る。この検知結果に基づいてコントローラ４８は、図３
に示すように、二次媒体が所定温度になるように配線５
０を介してペルチェ素子４９に通電し、従循環路３８の
一次媒体の熱が二次媒体循環系７０の循環路３５の二次
媒体へ移動するように高精度に制御する。
る二次媒体の温度は、センサ４７によって検知されてい
る。この検知結果に基づいてコントローラ４８は、図３
に示すように、二次媒体が所定温度になるように配線５
０を介してペルチェ素子４９に通電し、従循環路３８の
一次媒体の熱が二次媒体循環系７０の循環路３５の二次
媒体へ移動するように高精度に制御する。
【００４６】なお、このとき、二次媒体の温度が所定温
度より高くなった場合には、コントローラ４８がペルチ
ェ素子４９に対する通電方向を切り換えて、二次媒体の
熱が一次媒体へ移動するように制御する。
度より高くなった場合には、コントローラ４８がペルチ
ェ素子４９に対する通電方向を切り換えて、二次媒体の
熱が一次媒体へ移動するように制御する。
【００４７】そして、この熱交換部３６で温度制御され
た二次媒体は、二次媒体循環系７０の循環路３５を循環
して、図２に示すように、その経路途中に配置された投
影レンズ鏡筒２２およびフランジ３２に対して高精度に
熱交換、即ち温度制御を行った後に冷却液タンク４５に
貯留される。
た二次媒体は、二次媒体循環系７０の循環路３５を循環
して、図２に示すように、その経路途中に配置された投
影レンズ鏡筒２２およびフランジ３２に対して高精度に
熱交換、即ち温度制御を行った後に冷却液タンク４５に
貯留される。
【００４８】ここで、熱的に安定した二次媒体は、再び
二次媒体循環系７０の循環路３５を循環して熱交換部３
６で熱交換が行われる。かくして、温度制御装置３３に
より投影レンズ鏡筒２２およびフランジ３２が温度制御
される。
二次媒体循環系７０の循環路３５を循環して熱交換部３
６で熱交換が行われる。かくして、温度制御装置３３に
より投影レンズ鏡筒２２およびフランジ３２が温度制御
される。
【００４９】続いて、露光装置１１の作動について説明
する。まず、Ｘステージ２５、Ｙステージ２６が、レー
ザ干渉計測長器２７にモニタされて移動する。これによ
り、ウエハ２１が所定位置に位置決めされる。
する。まず、Ｘステージ２５、Ｙステージ２６が、レー
ザ干渉計測長器２７にモニタされて移動する。これによ
り、ウエハ２１が所定位置に位置決めされる。
【００５０】次に、照明光学系１８からの露光光によ
り、レチクル１７に形成されたパターンの像が投影レン
ズ鏡筒２２を介して、ウエハ２１の投影レンズ鏡筒２２
直下に位置する露光領域に転写される。そして、このウ
エハ２１は、上記レーザ干渉計測長器２７にモニタされ
て移動することにより順次位置決めする、いわゆるステ
ップ・アンド・リピート方式により複数の露光領域に順
次パターンの像を転写される。
り、レチクル１７に形成されたパターンの像が投影レン
ズ鏡筒２２を介して、ウエハ２１の投影レンズ鏡筒２２
直下に位置する露光領域に転写される。そして、このウ
エハ２１は、上記レーザ干渉計測長器２７にモニタされ
て移動することにより順次位置決めする、いわゆるステ
ップ・アンド・リピート方式により複数の露光領域に順
次パターンの像を転写される。
【００５１】このとき、露光装置本体１２は、チャンバ
１３によって取り囲まれている。また、チャンバ１３内
には、所定温度に調整された空気が送出されているた
め、露光装置本体１２の温度は均一に、かつ正確に所定
温度に保たれる。同様にして、レーザ干渉計測長器２７
の光路を含むウエハステージ２３およびレチクル１７と
投影レンズ鏡筒２２との間の露光光の光路を含む空間の
温度は、均一に、かつ正確に所定温度に保たれる。
１３によって取り囲まれている。また、チャンバ１３内
には、所定温度に調整された空気が送出されているた
め、露光装置本体１２の温度は均一に、かつ正確に所定
温度に保たれる。同様にして、レーザ干渉計測長器２７
の光路を含むウエハステージ２３およびレチクル１７と
投影レンズ鏡筒２２との間の露光光の光路を含む空間の
温度は、均一に、かつ正確に所定温度に保たれる。
【００５２】本実施の形態の温度制御装置および露光装
置では、一次媒体循環系３４により０．０１〜０．０２
℃程度に熱変動が抑制された一次媒体を、ペルチェ素子
４９を用いて連続的に、且つ熱の移動量を自在に調節し
た状態で二次媒体と熱交換させるので、二次媒体の温度
は高精度に、例えば０．００１℃水準の精度の温度に安
定して調節されて二次媒体循環系７０を循環し、投影レ
ンズ鏡筒２２およびフランジ３２の温度を制御すること
ができる。
置では、一次媒体循環系３４により０．０１〜０．０２
℃程度に熱変動が抑制された一次媒体を、ペルチェ素子
４９を用いて連続的に、且つ熱の移動量を自在に調節し
た状態で二次媒体と熱交換させるので、二次媒体の温度
は高精度に、例えば０．００１℃水準の精度の温度に安
定して調節されて二次媒体循環系７０を循環し、投影レ
ンズ鏡筒２２およびフランジ３２の温度を制御すること
ができる。
【００５３】そのため、光源にＡｒＦエキシマ、ＫｒＦ
エキシマ等の波長が短いものを使用し、これらの光源か
ら発せられるエネルギにより投影レンズの温度が変動し
た際にも、上記温度制御装置３３がこの投影レンズを高
精度に温度制御するため、レンズの熱安定性が向上する
と共に、レンズの熱的影響による弊害を排除することが
できる。
エキシマ等の波長が短いものを使用し、これらの光源か
ら発せられるエネルギにより投影レンズの温度が変動し
た際にも、上記温度制御装置３３がこの投影レンズを高
精度に温度制御するため、レンズの熱安定性が向上する
と共に、レンズの熱的影響による弊害を排除することが
できる。
【００５４】また、温度制御装置３３により投影レンズ
鏡筒２２およびフランジ３２が高精度に温度制御される
ことに加えて、チャンバ１３，２８，５１内の温度が均
一に、かつ正確に所定温度に保たれるため、露光装置１
１においては温度変化によるレンズの屈折率の変動や、
光路における空気の屈折率の変動が非常に小さくなり、
転写される像の揺らぎ、歪みが効果的に解消される。即
ち、この露光装置では、上記露光装置を集積回路の製造
に用いることによりウエハに形成されるパターンの重ね
合わせ精度が向上し、より集積度の高い集積回路を効率
よく製造することができる。
鏡筒２２およびフランジ３２が高精度に温度制御される
ことに加えて、チャンバ１３，２８，５１内の温度が均
一に、かつ正確に所定温度に保たれるため、露光装置１
１においては温度変化によるレンズの屈折率の変動や、
光路における空気の屈折率の変動が非常に小さくなり、
転写される像の揺らぎ、歪みが効果的に解消される。即
ち、この露光装置では、上記露光装置を集積回路の製造
に用いることによりウエハに形成されるパターンの重ね
合わせ精度が向上し、より集積度の高い集積回路を効率
よく製造することができる。
【００５５】さらに、露光装置１１においては、冷却液
タンク３９に貯留された一次媒体を、ウエハステージ２
３等の０．０１℃水準の制御でも充分な部分に接続して
温度制御することで、一つの温度制御装置３３により高
精度系および中精度系を選択して、温度制御系を形成す
ることができる。
タンク３９に貯留された一次媒体を、ウエハステージ２
３等の０．０１℃水準の制御でも充分な部分に接続して
温度制御することで、一つの温度制御装置３３により高
精度系および中精度系を選択して、温度制御系を形成す
ることができる。
【００５６】なお、上記実施の形態の露光装置は、二次
媒体に基づく温度制御対象部を投影レンズおよびフラン
ジとし、一次媒体に基づく温度制御対象部をウエハステ
ージとする構成であったが、これに限られることなく、
例えば上記ウエハステージ、照明光学系、レチクルステ
ージ等を二次媒体に基づく温度制御対象部とするような
構成であってもよい。
媒体に基づく温度制御対象部を投影レンズおよびフラン
ジとし、一次媒体に基づく温度制御対象部をウエハステ
ージとする構成であったが、これに限られることなく、
例えば上記ウエハステージ、照明光学系、レチクルステ
ージ等を二次媒体に基づく温度制御対象部とするような
構成であってもよい。
【００５７】また、温度制御装置３３は、一次媒体循環
系と二次媒体循環系との間にペルチェ素子を備える熱交
換部を配設する構成であったが、これに限られることな
く、一次媒体循環系と二次媒体循環系との間に通常のプ
レート式熱交換器等を配置して、二次媒体循環系３５に
ヒーターを追加した構成であってもよい。
系と二次媒体循環系との間にペルチェ素子を備える熱交
換部を配設する構成であったが、これに限られることな
く、一次媒体循環系と二次媒体循環系との間に通常のプ
レート式熱交換器等を配置して、二次媒体循環系３５に
ヒーターを追加した構成であってもよい。
【００５８】この場合、上記ペルチェ素子４９を用いた
ときのような高精度の温度制御は困難であるが、熱変動
を０．００３℃程度に抑制する精度の温度制御は可能で
ある。一方、露光装置１１は、露光光によりレチクル１
７に形成されたパターンの像をウエハ２１に転写する構
成であったが、このパターンの像を液晶ディスプレイに
用いられるガラス基板に投影転写する構成であってもよ
い。
ときのような高精度の温度制御は困難であるが、熱変動
を０．００３℃程度に抑制する精度の温度制御は可能で
ある。一方、露光装置１１は、露光光によりレチクル１
７に形成されたパターンの像をウエハ２１に転写する構
成であったが、このパターンの像を液晶ディスプレイに
用いられるガラス基板に投影転写する構成であってもよ
い。
【００５９】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１に係る温
度制御装置は、一次媒体を循環させる一次媒体循環系
と、一次媒体の温度を調節する第一温度調節部と、二次
媒体を循環させて温度制御対象部の温度を制御する二次
媒体循環系と、一次媒体の温度に基づいて二次媒体の温
度を調節する第二温度調節部とを有する構成となってい
る。
度制御装置は、一次媒体を循環させる一次媒体循環系
と、一次媒体の温度を調節する第一温度調節部と、二次
媒体を循環させて温度制御対象部の温度を制御する二次
媒体循環系と、一次媒体の温度に基づいて二次媒体の温
度を調節する第二温度調節部とを有する構成となってい
る。
【００６０】これにより、この温度制御装置では、第一
温度調節部で一次媒体の制御に用いられる冷却水の温度
が変動した場合でも、温度制御対象部を、例えば０．０
０１℃水準の高精度の温度制御をすることができるとい
う優れた効果を奏するものである。
温度調節部で一次媒体の制御に用いられる冷却水の温度
が変動した場合でも、温度制御対象部を、例えば０．０
０１℃水準の高精度の温度制御をすることができるとい
う優れた効果を奏するものである。
【００６１】請求項２に係る温度制御装置は、第二温度
調節部に、一次媒体と二次媒体との間で熱交換を行うペ
ルチェ素子が配設される構成となっている。これによ
り、この温度制御装置では、連続的に、且つ熱の移動量
を自在に制御できるため、冷却水の温度が変動した場合
でも、温度制御対象部を、例えば０．００１℃水準の精
度の温度に安定して制御することができるという優れた
効果を奏するものである。
調節部に、一次媒体と二次媒体との間で熱交換を行うペ
ルチェ素子が配設される構成となっている。これによ
り、この温度制御装置では、連続的に、且つ熱の移動量
を自在に制御できるため、冷却水の温度が変動した場合
でも、温度制御対象部を、例えば０．００１℃水準の精
度の温度に安定して制御することができるという優れた
効果を奏するものである。
【００６２】請求項３に係る温度制御装置は、第一温度
調節部が冷却媒体に基づいて一次媒体の温度を所定温度
に制御し、一次媒体循環系が所定温度に制御された一次
媒体を循環させる主循環路と、主循環路を循環する一次
媒体を貯留する貯留室と、第二温度調節部に接続され貯
留室に貯留された一次媒体を循環させる従循環路とを備
える構成となっている。
調節部が冷却媒体に基づいて一次媒体の温度を所定温度
に制御し、一次媒体循環系が所定温度に制御された一次
媒体を循環させる主循環路と、主循環路を循環する一次
媒体を貯留する貯留室と、第二温度調節部に接続され貯
留室に貯留された一次媒体を循環させる従循環路とを備
える構成となっている。
【００６３】これにより、この温度制御装置では、熱的
に安定した一次媒体を第二温度調節部に供給できること
に加えて、貯留室内に貯留された一次媒体を用いて、例
えば０．０１℃水準の精度の温度制御対象部も制御する
ことができるという優れた効果を奏するものである。
に安定した一次媒体を第二温度調節部に供給できること
に加えて、貯留室内に貯留された一次媒体を用いて、例
えば０．０１℃水準の精度の温度制御対象部も制御する
ことができるという優れた効果を奏するものである。
【００６４】請求項４に係る露光装置は、露光装置本体
の温度制御対象部の温度を制御する温度制御装置を備え
ており、この温度制御装置は一次媒体が循環する一次媒
体循環系と、一次媒体の温度を調節する第一温度調節部
と、二次媒体が循環して温度制御対象部の温度を制御す
る二次媒体循環系と、二次媒体の温度を調節する第二温
度調節部とを有する構成となっている。
の温度制御対象部の温度を制御する温度制御装置を備え
ており、この温度制御装置は一次媒体が循環する一次媒
体循環系と、一次媒体の温度を調節する第一温度調節部
と、二次媒体が循環して温度制御対象部の温度を制御す
る二次媒体循環系と、二次媒体の温度を調節する第二温
度調節部とを有する構成となっている。
【００６５】これにより、この露光装置では、光源に、
例えばＡｒＦエキシマ、ＫｒＦエキシマ等の波長が短い
ものを使用した際でも、レンズの熱安定性が向上すると
共に、レンズの熱的影響による弊害を排除することがで
きる。
例えばＡｒＦエキシマ、ＫｒＦエキシマ等の波長が短い
ものを使用した際でも、レンズの熱安定性が向上すると
共に、レンズの熱的影響による弊害を排除することがで
きる。
【００６６】請求項５に係る露光装置は、投影光学系が
温度制御装置による温度制御対象部とされる構成になっ
ている。これにより、この露光装置では、光源にＡｒＦ
エキシマ、ＫｒＦエキシマ等の波長が短いものを使用し
た際でも、レンズの熱安定性が向上すると共に、レンズ
の熱的影響による弊害を排除することができ、ウエハに
形成されるパターンの重ね合わせ精度が向上するという
優れた効果を奏するものである。
温度制御装置による温度制御対象部とされる構成になっ
ている。これにより、この露光装置では、光源にＡｒＦ
エキシマ、ＫｒＦエキシマ等の波長が短いものを使用し
た際でも、レンズの熱安定性が向上すると共に、レンズ
の熱的影響による弊害を排除することができ、ウエハに
形成されるパターンの重ね合わせ精度が向上するという
優れた効果を奏するものである。
【００６７】請求項６に係る露光装置は、投影光学系が
露光装置本体にフランジを介して取り付けられ、このフ
ランジが温度制御装置による温度制御対象部とされる構
成になっている。
露光装置本体にフランジを介して取り付けられ、このフ
ランジが温度制御装置による温度制御対象部とされる構
成になっている。
【００６８】これにより、この露光装置では、投影光学
系の熱的影響による弊害を排除することができる。
系の熱的影響による弊害を排除することができる。
【図１】 本発明の実施の形態を示す図であって、一次
媒体循環系と二次媒体循環系との間に熱交換部が設けら
れた構成図である。
媒体循環系と二次媒体循環系との間に熱交換部が設けら
れた構成図である。
【図２】 本発明の実施の形態を示す図であって、露光
装置を構成する投影レンズおよびフランジに温度制御装
置が接続された断面図である。
装置を構成する投影レンズおよびフランジに温度制御装
置が接続された断面図である。
【図３】 本発明の温度制御装置を構成する熱交換部に
ペルチェ素子が配設された断面図である。
ペルチェ素子が配設された断面図である。
【図４】 従来技術による露光装置の温度制御装置の一
例を示す構成図である。
例を示す構成図である。
１１ 露光装置 １２ 露光装置本体 １７ レチクル（マスク） ２１ ウエハ（基板） ２２ 投影レンズ（投影光学系） ３２ フランジ ３３ 温度制御装置 ３４ 一次媒体循環系 ３６ 熱交換部（第二温度調節部） ３７ 主循環路（主循環系） ３８ 従循環路（従循環系） ３９ 冷却液タンク（貯留室） ４９ ペルチェ素子 ５２ 温度調節ユニット（第一温度調節部） ７０ 二次媒体循環系
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 23/46 Ｚ (72)発明者 新井 浩二 宮城県名取市田高字原277番地 株式会社 仙台ニコン内 (72)発明者 折笠 恒明 宮城県名取市田高字原277番地 株式会社 仙台ニコン内
Claims (6)
- 【請求項１】 一次媒体を循環させる一次媒体循環系
と、 該一次媒体の温度を調節する第一温度調節部と、 二次媒体を循環させ、該二次媒体に基づいて温度制御対
象部の温度を制御する二次媒体循環系と、 温度調節された前記一次媒体の温度に基づいて、前記二
次媒体の温度を調節する第二温度調節部とを有すること
を特徴とする温度制御装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の温度制御装置において、 前記第二温度調節部には、前記一次媒体と前記二次媒体
との間で熱交換を行うペルチェ素子が配設されているこ
とを特徴とする温度制御装置。 - 【請求項３】 請求項１または２記載の温度制御装置に
おいて、 前記第一温度調節部は、冷却媒体に基づいて前記一次媒
体の温度を所定温度に制御し、 前記一次媒体循環系は、所定温度に制御された前記一次
媒体を循環させる主循環系と、 前記主循環系を循環する前記一次媒体を貯留する貯留室
と、 前記第二温度調節部に接続され、前記貯留室に貯留され
た前記一次媒体を循環させる従循環系とを備えることを
特徴とする温度制御装置。 - 【請求項４】 露光光で照明されたマスクのパターンの
像を投影光学系を介して基板上に転写する露光装置にお
いて、 露光装置本体に設けられる少なくとも一つの温度制御対
象部と、 該温度制御対象部の温度を制御する温度制御装置とを備
え、 該温度制御装置は、一次媒体を循環させる一次媒体循環
系と、 前記一次媒体の温度を調節する第一温度調節部と、 二次媒体を循環させ、該二次媒体に基づいて前記温度制
御対象部の温度を調節する二次媒体循環系と、 温度調節された前記一次媒体の温度に基づいて前記二次
媒体の温度を調節する第二温度調節部とを有することを
特徴とする露光装置。 - 【請求項５】 請求項４記載の露光装置において、 前記投影光学系が、前記温度制御装置による温度制御対
象部とされていることを特徴とする露光装置。 - 【請求項６】 請求項４または５記載の露光装置におい
て、 前記投影光学系は、前記露光装置本体にフランジを介し
て取り付けられ、 該フランジが、前記温度制御装置による温度制御対象部
とされていることを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10117589A JPH11312632A (ja) | 1998-04-27 | 1998-04-27 | 温度制御装置および露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10117589A JPH11312632A (ja) | 1998-04-27 | 1998-04-27 | 温度制御装置および露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11312632A true JPH11312632A (ja) | 1999-11-09 |
Family
ID=14715568
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10117589A Withdrawn JPH11312632A (ja) | 1998-04-27 | 1998-04-27 | 温度制御装置および露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11312632A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020072199A (ko) * | 2001-03-08 | 2002-09-14 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 처리장치 및 온도조절시스템 |
| WO2007066582A1 (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-14 | Nikon Corporation | 温調装置、露光装置、温調方法及びデバイスの製造方法 |
| JP2008116199A (ja) * | 2007-10-26 | 2008-05-22 | Tokyo Electron Ltd | 熱媒体循環装置及びこれを用いた熱処理装置 |
| JP2012009861A (ja) * | 2010-06-23 | 2012-01-12 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびリソグラフィ装置の冷却方法 |
-
1998
- 1998-04-27 JP JP10117589A patent/JPH11312632A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020072199A (ko) * | 2001-03-08 | 2002-09-14 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 처리장치 및 온도조절시스템 |
| WO2007066582A1 (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-14 | Nikon Corporation | 温調装置、露光装置、温調方法及びデバイスの製造方法 |
| JP2008116199A (ja) * | 2007-10-26 | 2008-05-22 | Tokyo Electron Ltd | 熱媒体循環装置及びこれを用いた熱処理装置 |
| JP2012009861A (ja) * | 2010-06-23 | 2012-01-12 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびリソグラフィ装置の冷却方法 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050415 |
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|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20061003 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20061017 |