JP5198999B2 - Method for producing a gravure plate having cushioning properties - Google Patents
Method for producing a gravure plate having cushioning properties Download PDFInfo
- Publication number
- JP5198999B2 JP5198999B2 JP2008241492A JP2008241492A JP5198999B2 JP 5198999 B2 JP5198999 B2 JP 5198999B2 JP 2008241492 A JP2008241492 A JP 2008241492A JP 2008241492 A JP2008241492 A JP 2008241492A JP 5198999 B2 JP5198999 B2 JP 5198999B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gravure
- photosensitive composition
- group
- negative photosensitive
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 31
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 96
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 93
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 52
- -1 sulfonyl compound Chemical class 0.000 claims description 44
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 17
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 17
- 150000001414 amino alcohols Chemical class 0.000 claims description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 16
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 16
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 16
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 15
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 14
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 13
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 13
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 13
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 12
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 11
- 239000005060 rubber Substances 0.000 claims description 11
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims description 10
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 8
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 8
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 8
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N diethylenediamine Natural products C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 6
- HHOJVZAEHZGDRB-UHFFFAOYSA-N 2-(4,6-diamino-1,3,5-triazin-2-yl)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC1=NC(N)=NC(N)=N1 HHOJVZAEHZGDRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 5
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CLEJZSNZYFJMKD-UHFFFAOYSA-N 3h-1,3-oxazole-2-thione Chemical compound SC1=NC=CO1 CLEJZSNZYFJMKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZXLYUNPVVODNRE-UHFFFAOYSA-N 6-ethenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=C)=N1 ZXLYUNPVVODNRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical class C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 4
- FRCQMXHPNJVPJC-UHFFFAOYSA-N 2-(tribromomethylsulfonyl)pyridine Chemical compound BrC(Br)(Br)S(=O)(=O)C1=CC=CC=N1 FRCQMXHPNJVPJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 claims description 3
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims description 3
- DWWMSEANWMWMCB-UHFFFAOYSA-N tribromomethylsulfonylbenzene Chemical compound BrC(Br)(Br)S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 DWWMSEANWMWMCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 55
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 39
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 33
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 33
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 24
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 24
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 22
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 19
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 16
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 16
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 15
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 11
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 9
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 8
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 7
- 239000002585 base Substances 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 7
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 229960005141 piperazine Drugs 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 2
- OOCCDEMITAIZTP-QPJJXVBHSA-N (E)-cinnamyl alcohol Chemical compound OC\C=C\C1=CC=CC=C1 OOCCDEMITAIZTP-QPJJXVBHSA-N 0.000 description 2
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 1-heptanol Chemical compound CCCCCCCO BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(2-methylpropoxy)propane Chemical compound CC(C)COCC(C)C SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 2
- XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N butyl butanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- MPSZITJFIKCNBV-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-2,4-dien-1-imine Chemical class N=C1CC=CC=C1 MPSZITJFIKCNBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N ethylcyclohexane Chemical compound CCC1CCCCC1 IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N limonene Chemical compound CC(=C)C1CCC(C)=CC1 XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005026 oriented polypropylene Substances 0.000 description 2
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 2
- 150000002990 phenothiazines Chemical class 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001003 triarylmethane dye Substances 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)-trimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(C=C)C=C1 LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALSTYHKOOCGGFT-KTKRTIGZSA-N (9Z)-octadecen-1-ol Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCO ALSTYHKOOCGGFT-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUWDFGKRNIDKAE-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCCOCC(C)OC(C)=O FUWDFGKRNIDKAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PECUPOXPPBBFLU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=CC(C=C)=C1 PECUPOXPPBBFLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLDZVCMRASJQFO-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)benzene-1,4-diol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC(O)=C(C(C)(C)CC(C)(C)C)C=C1O CLDZVCMRASJQFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZNRFEXEPBITDS-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(2-methylbutan-2-yl)benzene-1,4-diol Chemical class CCC(C)(C)C1=CC(O)=C(C(C)(C)CC)C=C1O CZNRFEXEPBITDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZODKRWQWUWGCD-UHFFFAOYSA-N 2,5-di-tert-butylbenzene-1,4-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1O JZODKRWQWUWGCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJZBTBIZXCDAMV-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-dioxo-5,6,7,7a-tetrahydro-4h-isoindol-3a-yl)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C1CCCC2C(=O)NC(=O)C21CCOC(=O)C=C VJZBTBIZXCDAMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWSZDQRGNFLMJS-UHFFFAOYSA-N 2-(dibutylamino)ethanol Chemical compound CCCCN(CCO)CCCC IWSZDQRGNFLMJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOMNTHCQHJPVAZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpiperazine Chemical compound CC1CNCCN1 JOMNTHCQHJPVAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNZNJOQNLFEAKG-UHFFFAOYSA-N 2-morpholin-4-ylethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN1CCOCC1 MNZNJOQNLFEAKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical compound OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFCSWCVEJLETKA-UHFFFAOYSA-N 2-piperazin-1-ylethanol Chemical compound OCCN1CCNCC1 WFCSWCVEJLETKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-[1-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butyl]-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(CCC)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-n-[2-(trifluoromethyl)phenyl]butanamide Chemical compound CC(=O)CC(=O)NC1=CC=CC=C1C(F)(F)F VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRYFCNPYGUORTK-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-benzothiazol-2-yldisulfanyl)morpholine Chemical compound C1COCCN1SSC1=NC2=CC=CC=C2S1 QRYFCNPYGUORTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHKLKWCYGIBEQF-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)morpholine Chemical compound C1COCCN1SC1=NC2=CC=CC=C2S1 MHKLKWCYGIBEQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTGCZBEERTTDQ-UHFFFAOYSA-N 4-Methoxy-1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(OC)=CC=C(O)C2=C1 BOTGCZBEERTTDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVCNXQOWACZAFN-UHFFFAOYSA-N 4-ethylmorpholine Chemical compound CCN1CCOCC1 HVCNXQOWACZAFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRKPGWQEKNEVEU-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-n-(3-triethoxysilylpropyl)pentan-2-imine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C(C)CC(C)C PRKPGWQEKNEVEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCRFHJVEZDTORL-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)O.C(C1=C(C(=CC(=C1)CC)C(C)(C)C)O)C1=C(C(=CC(=C1)CC)C(C)(C)C)O Chemical class C1(=CC=CC=C1)O.C(C1=C(C(=CC(=C1)CC)C(C)(C)C)O)C1=C(C(=CC(=C1)CC)C(C)(C)C)O UCRFHJVEZDTORL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPKOKAMJFNKNAS-UHFFFAOYSA-N N-methylethanolamine Chemical compound CNCCO OPKOKAMJFNKNAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACIAHEMYLLBZOI-ZZXKWVIFSA-N Unsaturated alcohol Chemical compound CC\C(CO)=C/C ACIAHEMYLLBZOI-ZZXKWVIFSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N [CH2]CN(CC)CC Chemical group [CH2]CN(CC)CC MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRVIJRFYXPBHFP-UHFFFAOYSA-N [SiH4].BrC(S(=O)(=O)C1=NC=CC=C1)(Br)Br Chemical compound [SiH4].BrC(S(=O)(=O)C1=NC=CC=C1)(Br)Br IRVIJRFYXPBHFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- OOCCDEMITAIZTP-UHFFFAOYSA-N allylic benzylic alcohol Natural products OCC=CC1=CC=CC=C1 OOCCDEMITAIZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical group 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920006378 biaxially oriented polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011127 biaxially oriented polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- DBDNZCBRIPTLJF-UHFFFAOYSA-N boron(1-) monohydride Chemical group [BH-] DBDNZCBRIPTLJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 239000004918 carbon fiber reinforced polymer Substances 0.000 description 1
- 125000004181 carboxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- IXPUJMULXNNEHS-UHFFFAOYSA-L copper;n,n-dibutylcarbamodithioate Chemical compound [Cu+2].CCCCN(C([S-])=S)CCCC.CCCCN(C([S-])=S)CCCC IXPUJMULXNNEHS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCC[14CH3] DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N dibenzothiazol-2-yl disulfide Chemical compound C1=CC=C2SC(SSC=3SC4=CC=CC=C4N=3)=NC2=C1 AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)OCC GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical group CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N diethyl oxalate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)OCC WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWWOQRSLYPHAMK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxybutanoate Chemical compound CCOC(=O)C(O)CC KWWOQRSLYPHAMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093858 ethyl acetoacetate Drugs 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 229940087305 limonene Drugs 0.000 description 1
- 235000001510 limonene Nutrition 0.000 description 1
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 125000005439 maleimidyl group Chemical group C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 description 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N mono-hydroxyphenyl-ethylene Natural products OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N n'-(3-triethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCN INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMAUJSNXENPPOF-UHFFFAOYSA-N n-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)-n-cyclohexylcyclohexanamine Chemical compound C1CCCCC1N(C1CCCCC1)SC1=NC2=CC=CC=C2S1 CMAUJSNXENPPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEQZTKGFXNUBJL-UHFFFAOYSA-N n-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)cyclohexanamine Chemical compound C1CCCCC1NSC1=NC2=CC=CC=C2S1 DEQZTKGFXNUBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N n-butylhexane Natural products CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N n-hydroxy-n-phenylnitrous amide Chemical compound O=NN(O)C1=CC=CC=C1 DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940032017 n-oxydiethylene-2-benzothiazole sulfenamide Drugs 0.000 description 1
- 150000002790 naphthalenes Chemical group 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 150000002832 nitroso derivatives Chemical class 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940055577 oleyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- XMLQWXUVTXCDDL-UHFFFAOYSA-N oleyl alcohol Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCCCCO XMLQWXUVTXCDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N phthalic acid di-n-butyl ester Natural products CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003506 piperazine hexahydrate Drugs 0.000 description 1
- AVRVZRUEXIEGMP-UHFFFAOYSA-N piperazine;hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.C1CNCCN1 AVRVZRUEXIEGMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004193 piperazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003248 quinolines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 239000010979 ruby Substances 0.000 description 1
- 229910001750 ruby Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005415 substituted alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004964 sulfoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 229940066767 systemic antihistamines phenothiazine derivative Drugs 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003513 tertiary aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical group CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O triethylammonium ion Chemical compound CC[NH+](CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical group C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical group CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLWJPGAKXJBKKA-UHFFFAOYSA-N victoria blue B Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)=C(C=C1)C2=CC=CC=C2C1=[NH+]C1=CC=CC=C1 LLWJPGAKXJBKKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Materials For Photolithography (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Printing Methods (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
本発明は、段ボール等の粗面に印刷したり、あるいはコンパクトディスク等に画像を印刷したり、あるいは液晶パネル用ガラスへカラーフィルタを構成するためのマトリックス画像をカラー印刷するのに好適なクッション性を有するグラビア版の製造方法に関する。 The present invention provides cushioning properties suitable for printing on a rough surface such as cardboard, printing an image on a compact disk, etc., or color printing a matrix image for constituting a color filter on a glass for a liquid crystal panel. It relates to the method of manufacturing a gravure plate having a.
従来、印刷版、特に、液晶パネル用ガラスへカラーフィルタを構成するためのマトリックス画像をカラー印刷したり、あるいはコンパクトディスク等に画像をカラー印刷するには、グラビアオフセット印刷または水なしオフセット印刷が採用されてきており、グラビア印刷は採用されてこなかった。その理由は、グラビア印刷は、クッション性がないので印圧が増大するとガラスを割ってしまったり、コンパクトディスク等に歪みを与えるおそれがあるので、ゴムからなるブランケットロールを介して印刷することにより、印圧が増大するときはゴムの変形により印圧の増大を抑制できるグラビアオフセット印刷が適切だからである。 Conventionally, gravure offset printing or waterless offset printing has been adopted for color printing of matrix images for forming color filters on printing plates, especially glass for liquid crystal panels, or color printing of images on compact discs, etc. Gravure printing has not been adopted. The reason is that gravure printing does not have cushioning properties, so if the printing pressure increases, it may break the glass or distort the compact disc, etc., so by printing through a blanket roll made of rubber, This is because when the printing pressure increases, gravure offset printing that can suppress an increase in printing pressure due to deformation of rubber is appropriate.
液晶パネル用ガラスへカラー印刷するには、ガラスに転移した直後のウエットのインキの膜厚を均一な５〜６μｍとして、ドライなインキの膜厚を均一な１〜１．５μｍとして、バックライト光を均一に透過しかつ高い透過率を保障する必要がある。また、コンパクトディスク等に画像をカラー印刷するには、画像がシャープに得られる限度にインキの膜厚を可能な限り薄くする必要がある。その理由は、コンパクトディスク等に印刷する画像は、中心に対して偏って印刷されるので、画像を形成しているインキの重量が、次世代のコンパクトディスク装置の流体動圧軸受を採用したスピンドルモータの高速回転化にともなって、アンバランス回転の原因として無視できなくなることが分かったからである。 For color printing on glass for liquid crystal panels, the thickness of the wet ink film immediately after transfer to the glass is set to a uniform 5-6 μm, and the dry ink film thickness is set to a uniform 1-1.5 μm. It is necessary to ensure uniform transmission and high transmittance. In addition, in order to print an image on a compact disk or the like, it is necessary to make the ink film thickness as thin as possible to the extent that the image can be obtained sharply. The reason is that the image printed on a compact disk or the like is printed with a bias with respect to the center, so the weight of the ink forming the image is the spindle that uses the fluid dynamic pressure bearing of the next generation compact disk device It is because it became clear that it became non-negligible as a cause of unbalanced rotation with high-speed rotation of a motor.
従来のグラビア印刷版は、銅メッキの表層部に深さが１５〜２５μｍとなるようにセルを形成する必要があり、そうすると、ウエットのインキの膜厚が１５〜２５μｍとなるから、液晶パネル用ガラスへカラー印刷する、あるいはコンパクトディスク等に画像をカラー印刷するのにはインキの膜厚が厚すぎて適していない。 In conventional gravure printing plates, it is necessary to form cells in the surface layer portion of copper plating so that the depth is 15 to 25 μm. Then, the film thickness of the wet ink is 15 to 25 μm. The ink film is too thick for color printing on glass or color printing of images on compact discs.
従来のグラビア印刷版において、銅メッキの表面に深さが５〜６μｍとなるようにエッチングし、セルをエッチング形成できないのは、セルの大きさにより、エッチング速度にバラツキが出来、セルの深度が均一にならないためである。セルの輪郭や底面に凹凸が生じたり、大きさによって深度が異なったセルができるのは避けられない。特にシャドウ部の大きなセルについて、深さが５〜６μｍとなるようにできても、ハイライト部の小さなセルについては、輪郭や底面に凹凸が生じる確率が高く、深さが５〜６μｍになるようにすることはほとんど望めない。 In a conventional gravure printing plate, etching is performed so that a depth of 5 to 6 μm is formed on the surface of the copper plating, and the cell cannot be formed by etching. This is because it is not uniform. It is inevitable that the contour and bottom surface of the cell are uneven, and cells having different depths depending on the size are formed. In particular, even for a cell having a large shadow portion, even if the depth can be 5 to 6 μm, a cell having a small highlight portion has a high probability of irregularities on the contour and bottom surface, and the depth is 5 to 6 μm. I can hardly hope to do so.
そこで、セルの深さが５〜６μｍのグラビア版を確実に得るには、ガラスに画像を焼き付けて現像しフッ酸によりエッチングすることにより深さが均一なかなり正確なセルを形成することができる。ただし、これは、グラビア印刷とはならず、ブランケットロールを介して印刷を行うグラビアオフセット印刷となる。 Therefore, in order to reliably obtain a gravure plate having a cell depth of 5 to 6 μm, a fairly accurate cell having a uniform depth can be formed by printing an image on glass, developing it, and etching with hydrofluoric acid. . However, this is not gravure printing but gravure offset printing in which printing is performed via a blanket roll.
こうして、従来は、液晶パネル用ガラスへカラー印刷したり、あるいはコンパクトディスク等にカラー印刷するには、グラビアオフセット印刷、または水なし平版オフセット印刷が採用されてきており、グラビア印刷は採用されてこなかった。 Thus, conventionally, gravure offset printing or waterless lithographic offset printing has been adopted for color printing on glass for liquid crystal panels or color printing on compact discs, etc., but gravure printing has not been adopted. It was.
他方、従来のフレキソ版（樹脂凸版）は、光硬化性樹脂にマスクフィルムを重ねて、紫外線で露光するか、または半導体サーマルレーザ、ＹＡＧレーザ等を照射して現像する、又は光硬化性樹脂にカーボンブラックの被膜を塗布し、レーザーでカーボンブラックを焼飛ばしてポジ画像を形成し、紫外線により最初の光硬化性樹脂を焼き付けて現像することにより製版している。 On the other hand, a conventional flexographic plate (resin relief plate) is developed by applying a mask film on a photocurable resin and exposing it with ultraviolet rays, or irradiating with a semiconductor thermal laser, a YAG laser or the like, or developing a photocurable resin. A plate of carbon black is applied, carbon black is burned off with a laser to form a positive image, and the first photocurable resin is baked and developed with ultraviolet rays to make a plate.
しかしながら、従来の印刷法によって製作される液晶パネル用カラーフィルタは、画像のシャープさが低く、線画像のエッジの乱れ、線画像の凹凸があり、フィルム法によって製作される液晶パネル用カラーフィルタに比べて著しく品質が劣り、このため、玩具関係にしか用途が広がらず、ＴＦＴの付いているコンピュータディスプレイや液晶テレビジョン等の高級品には全く採用されていない。 However, the color filter for liquid crystal panels manufactured by the conventional printing method has low image sharpness, the edge of the line image is irregular, and the line image has irregularities. The quality is remarkably inferior to that of the above, and therefore, its use is widespread only for toys, and it is not used at all for high-end products such as computer displays and liquid crystal televisions with TFTs.
グラビアオフセット印刷によって製作される液晶パネル用カラーフィルタの品質が劣る原因は、次のように考えられる。グラビアオフセット印刷は、ブランケットロールからガラス等の被印刷物にインキを転移させる際に多少なりとも印圧が加わる。該印圧は、インキを押圧するので、インキの輪郭が外側に広がりあるいは乱れ、これが、解像性或いは精細性の指標として用いるラインアンドスペースの数値を小さくできない原因の一つである。また、転移するインキが版からブランケットロールに、さらにブランケットロールからガラス等の被印刷物に、それぞれ１００％の確率で転移しないときは、インキが引きちぎられる結果となり、ガラス等の被印刷物に印刷されるインキの膜厚は均一でなく表面に凹凸ができる。 The reason why the quality of the color filter for a liquid crystal panel manufactured by gravure offset printing is inferior is considered as follows. In gravure offset printing, a printing pressure is applied to some extent when ink is transferred from a blanket roll to a substrate such as glass. Since the printing pressure presses the ink, the contour of the ink spreads outward or is disturbed, which is one of the reasons why the line and space value used as an indicator of resolution or fineness cannot be reduced. In addition, when the transferred ink does not transfer from the plate to the blanket roll and from the blanket roll to the printed material such as glass with a probability of 100%, the ink is torn off and printed on the printed material such as glass. The ink film thickness is not uniform and the surface is uneven.
グラビアオフセット印刷機械の高精度をいくら追求しても、印圧をかける必要があり、印圧の変動を抑えることは不可能である。従って、印圧がかかり、印圧が変動することが必須なので、ブランケットロールから液晶パネル用ガラスに１００％の確率でインキを転移させることは、実験ではできたとしても、実用化はとても困難であると考えられる。 No matter how high the precision of a gravure offset printing machine is pursued, it is necessary to apply printing pressure, and it is impossible to suppress fluctuations in printing pressure. Therefore, since it is essential that printing pressure is applied and the printing pressure fluctuates, it is very difficult to put it into practical use even if it is possible to transfer ink from the blanket roll to the liquid crystal panel glass with a probability of 100%. It is believed that there is.
他方、従来のフレキソ版（樹脂凸版）は、光硬化性樹脂を使用しているので、ちいさなドットを柱状に形成すると容易に折損してしまい、硬化樹脂の脆性を解消できず、高精細な版を作ることができなかった。 On the other hand, the conventional flexographic plate (resin relief plate) uses a photo-curing resin, so if a small dot is formed in a columnar shape, it easily breaks, and the brittleness of the cured resin cannot be eliminated. Could not make.
そこで、本願出願人は、ゴムまたはクッション性を有する樹脂からなる版材に金属膜を形成し、金属膜の表面にレジスト画像を形成し、エッチングにより前記金属膜の露出部分を除去し、次いで、前記と異なるエッチングにより、前記版材の露出部分にセルを彫り込み、次いで、金属膜の画像を除去する、クッション性を有するグラビア版の製造方法を既に提案した（特許文献１）。しかしながら、上記方法は、煩雑な操作を必要とし、さらに、グラビア印刷に対応しうる実用性のあるシャープなグラビアセルの形状を形成することができないといった問題があった。
本発明は、印刷版、特に、クッション性を有することにより、硬質な被印刷物に対してブランケットロールを用いないダイレクトなグラビア印刷が可能であり、段ボール印刷等、粗面に対するグラビア印刷が良好に行えて、液晶パネル用ガラスへカラーフィルタを構成するためのマトリックス画像をカラー印刷する、あるいはコンパクトディスク等に画像をカラー印刷するのに好適であるクッション性を有するグラビア版の製造方法を提供することを目的としている。 Since the present invention has a printing plate, in particular, cushioning properties, direct gravure printing without using a blanket roll can be performed on a hard substrate, and gravure printing on a rough surface such as cardboard printing can be performed well. Te, to provide a method for producing a gravure plate having a cushioning property is suitable for the liquid crystal panel glass for color printing the matrix image for forming a color filter, or a color print an image on a compact disk or the like it is an object.
上記課題を解決するために、本発明のクッション性を有するグラビア版の製造方法は、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を表面に設けた版母材を準備する工程と、前記クッション層の表面にネガ型感光性組成物からなるネガ型感光性組成物層を形成する工程と、該ネガ型感光性組成物層の表面にマスクを介して光線を照射し露光部分を現像液に対して不溶化する露光工程と、未露光部分を現像液によって前記クッション層の表面が露出するまで溶解除去する現像工程と、前記クッション層の露出部分をエッチング手段でエッチングしてグラビアセルを形成する工程と、前記不溶化露光部分を剥離除去する工程と、を含むことを特徴とする。 In order to solve the above problems, a method for producing a gravure plate having cushioning properties according to the present invention includes a step of preparing a plate base material provided with a cushion layer made of rubber or a resin having cushioning properties on the surface, and the cushion layer. Forming a negative photosensitive composition layer comprising a negative photosensitive composition on the surface of the substrate, and irradiating the surface of the negative photosensitive composition layer with light through a mask to expose the exposed portion to the developer An insolubilizing exposure step, a developing step of dissolving and removing the unexposed portion with a developer until the surface of the cushion layer is exposed, and a step of etching the exposed portion of the cushion layer with an etching means to form a gravure cell; And a step of peeling and removing the insolubilized exposed portion.
前記ネガ型感光性組成物の第１の態様としては、（Ａ）カルボキシル基を有し且つエチレン性不飽和結合を有するポリマーと、（Ｂ）近赤外線吸収色素と、（Ｃ）少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有するモノマーと、（Ｄ）アミノアルコール、アミノアルコールの誘導体及び環状アミンからなる群から選択される１種以上のアミン類と、（Ｅ）有機ホウ素化合物と、（Ｆ）下記式（１）で示されるスルホニル化合物と、を含有する組成を採用することができる。 As a first aspect of the negative photosensitive composition, (A) a polymer having a carboxyl group and having an ethylenically unsaturated bond, (B) a near-infrared absorbing dye, (C) at least one A monomer having an ethylenically unsaturated bond; (D) one or more amines selected from the group consisting of amino alcohols, amino alcohol derivatives and cyclic amines; (E) organoboron compounds; and (F) A composition containing a sulfonyl compound represented by the formula (1) can be employed.
［式（１）中、Ｑはアリール基又はヘテロ環基を示し、Ｘ１〜Ｘ３は各々独立してハロゲン原子を示す］ [In formula (1), Q represents an aryl group or a heterocyclic group, and X 1 to X 3 each independently represent a halogen atom]
前記アミノアルコールの誘導体が、アミノアルコールの（メタ）アクリル酸エステルであるのが好ましい。また、前記環状アミンが、モルホリノ基含有化合物又はピペラジン系化合物であることが好適である。なお、本願明細書において、アクリルとメタクリルをあわせて（メタ）アクリルと称し、アクリレートとメタクリレートをあわせて（メタ）アクリレートと称する。 The amino alcohol derivative is preferably a (meth) acrylic acid ester of amino alcohol. Moreover, it is preferable that the cyclic amine is a morpholino group-containing compound or a piperazine-based compound. In the present specification, acrylic and methacryl are collectively referred to as (meth) acrylic, and acrylate and methacrylate are collectively referred to as (meth) acrylate.
前記式（１）で示される化合物（Ｆ）が、トリブロモメチルフェニルスルホン又は２−［（トリブロモメチル）スルホニル］ピリジンであることが好ましい。 The compound (F) represented by the formula (1) is preferably tribromomethylphenyl sulfone or 2-[(tribromomethyl) sulfonyl] pyridine.
前記ネガ型感光性組成物の第２の態様としては、（Ａ）カルボキシル基を有し且つエチレン性不飽和結合を有するポリマーと、（Ｂ）近赤外線吸収色素と、（Ｃ）少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有するモノマーと、（Ｇ）２−メルカプトベンゾオキサゾール及び／又は２−メルカプトオキサゾールと、（Ｈ）下記式（２）で示されるジフェニルヨードニウム塩と、を含有する組成を採用することもできる。 As a second aspect of the negative photosensitive composition, (A) a polymer having a carboxyl group and having an ethylenically unsaturated bond, (B) a near-infrared absorbing dye, (C) at least one A composition containing a monomer having an ethylenically unsaturated bond, (G) 2-mercaptobenzoxazole and / or 2-mercaptooxazole, and (H) a diphenyliodonium salt represented by the following formula (2) is adopted. You can also.
前記ネガ型感光性組成物の第２の態様が、（Ｉ）下記一般式（３）で示されるトリアジン化合物をさらに含有することが好適である。 It is preferable that the second aspect of the negative photosensitive composition further comprises (I) a triazine compound represented by the following general formula (3).
［前記一般式（３）において、Ｒ１はビニル基又はビニル基を含む１価の有機基である］ [In the general formula (3), R 1 is a vinyl group or a monovalent organic group containing a vinyl group]
前記（Ｉ）トリアジン化合物としては、２，４−ジアミノ−６−ビニル−ｓ−トリアジン及び／又は２，４−ジアミノ−６−メタクリロイルオキシエチル−ｓ−トリアジンであることが好ましい。 The (I) triazine compound is preferably 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine and / or 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-s-triazine.
前記ネガ型感光性組成物の第１及び第２の態様が、（Ｊ）シランカップリング剤をさらに含有することが好適である。 It is preferable that the first and second aspects of the negative photosensitive composition further contain (J) a silane coupling agent.
前記ネガ型感光性組成物の第１及び第２の態様が、（Ｋ）重合禁止剤をさらに含有することが好ましい。前記重合禁止剤（Ｋ）として、チアゾール系化合物が好適に用いられる。 It is preferable that the first and second aspects of the negative photosensitive composition further contain (K) a polymerization inhibitor. As the polymerization inhibitor (K), a thiazole compound is preferably used.
前記エッチング手段としては、有機溶剤又はプラズマエッチングを用いることができる。 As the etching means, an organic solvent or plasma etching can be used.
本発明の製造方法は、前記グラビアセルを形成した前記クッション層の表面を被覆する強化被覆層を形成する工程をさらに含むことが好適である。 It is preferable that the manufacturing method of the present invention further includes a step of forming a reinforcing coating layer that covers a surface of the cushion layer on which the gravure cell is formed.
前記強化被覆層としては、ＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）層、二酸化珪素被膜又はクロムめっき層を用いることができる。前記二酸化珪素被膜を、ペルヒドロポリシラザン溶液を用いて形成することが好適である。 As the reinforcing coating layer, a DLC (diamond-like carbon) layer, a silicon dioxide film or a chromium plating layer can be used. The silicon dioxide film is preferably formed using a perhydropolysilazane solution.
本クッション性を有するグラビア版の第１の態様は、本発明のグラビア版の製造方法によって製造され、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を表面に設けた版母材と、該クッション層の表面に形成されたグラビアセルと、を含むものである。 The first aspect of the gravure plate having the present cushioning property is a plate base material produced by the method for producing a gravure plate of the present invention and provided with a cushion layer made of rubber or a resin having a cushioning property on the surface, and the cushion layer. And a gravure cell formed on the surface.
本クッション性を有するグラビア版の第２の態様は、本発明のグラビア版の製造方法によって製造され、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を表面に設けた版母材と、該クッション層の表面に形成されたグラビアセルと、該グラビアセルを形成した該クッション層の表面に形成された強化被覆層とを含むものである。 The second aspect of the gravure plate having the present cushioning property is produced by the method for producing a gravure plate of the present invention, and a plate base material provided with a cushion layer made of rubber or a resin having a cushioning property on the surface, and the cushion layer A gravure cell formed on the surface of the film, and a reinforcing coating layer formed on the surface of the cushion layer on which the gravure cell is formed.
本印刷物は、本グラビア版を用いて製造されることを特徴とする。
前記印刷物としては、被印刷物シートの表面に水性インキ、油性インキ又は相変化インキからなるグラビアインキを印刷により所定のパターンを形成するように配置することによってグラビア印刷される印刷物であって、本グラビア版を用いて前記グラビアインキの印刷を行うようにした印刷物が好適である。
This printed matter is manufactured using this gravure plate.
As the printed matter, a printed matter is gravure printing by arranging so as to form a predetermined pattern by printing on the surface of the substrate sheet water-based ink, a gravure ink composed of oil-based inks or phase change inks, the gravure A printed matter in which the gravure ink is printed using a plate is preferable.
本マイクロレンズは、シート状基材の表面にマイクロレンズ形成用インキを印刷により所定間隔を保って突条状に配置することによって製造されるマイクロレンズであって、本グラビア版を用いて前記マイクロレンズ形成用インキの印刷を行うようにしたことを特徴とする。 This microlens is a microlens is produced by keeping the predetermined interval by printing a microlens forming ink on the surface of the substrate sheet is arranged in a ridge shape, the micro using the gravure plate It is characterized by printing lens forming ink.
本壁紙は、壁紙基材の表面に壁紙用インキを印刷により所定のパターンを形成するように配置することによって製造される壁紙であって、本グラビア版を用いて前記壁紙用インキの印刷を行うようにしたことを特徴とする。 This picture is a picture that is produced by arranging so as to form a predetermined pattern by printing wallpaper ink on the surface of the wallpaper substrate, performs printing of the picture ink with the gravure plate It is characterized by doing so.
本電磁波シールドシートは、電磁波シールド基材の表面に導電性ペーストを印刷により所定パターンの電磁波シールド層を形成するように配置することによって製造される電磁波シールドシートであって、本グラビア版を用いて前記導電性ペーストの印刷を行うようにしたことを特徴とする。 This electromagnetic wave shielding sheet is an electromagnetic wave shielding sheet produced by placing a conductive paste on the surface of an electromagnetic wave shielding substrate so as to form an electromagnetic wave shielding layer having a predetermined pattern by printing, and using this gravure plate The conductive paste is printed.
本カラーフィルタは、カラーフィルタ基材の表面にカラーフィルタインキを印刷により所定パターンのカラーフィルタ層を形成するように配置することによって製造されるカラーフィルタであって、本グラビア版を用いて前記カラーフィルタインキの印刷を行うようにしたことを特徴とする。 This color filter is a color filter manufactured by arranging so as to form a color filter layer of a predetermined pattern by printing a color filter ink to the surface of the color filter substrate, the color with the gravure plate The filter ink is printed.
本偏光板は、偏光板基材の表面に偏光インキを印刷により所定パターンの偏光層を形成するように配置することによって製造される偏光板であって、本グラビア版を用いて前記偏光インキの印刷を行うようにしたことを特徴とする。 This polarizing plate is a polarizing plate produced by placing a polarizing ink on the surface of a polarizing plate substrate so as to form a polarizing layer of a predetermined pattern by printing, and using this gravure plate, It is characterized by printing.
本セラミックコンデンサは、セラミック基材上に導電性ペーストを印刷により内部電極を形成するように配置することによって製造されるセラミックコンデンサであって、本グラビア版を用いて前記導電性ペーストの印刷を行うようにしたことを特徴とする。 This ceramic capacitor is a ceramic capacitor produced by arranging so as to form an internal electrode by printing a conductive paste on a ceramic substrate, performs printing of the conductive paste using the gravure plate It is characterized by doing so.
本電子ペーパーは、基材フィルム上に磁性粉を含有するマイクロカプセル化セルをバインダーを介して塗布することにより所定のパターンを形成するように配置することによって製造される電子ペーパーであって、本グラビア版を用いて前記マイクロカプセル化セルを塗布するようにしたことを特徴とする。 This electronic paper, an electronic paper which is produced by placing the microencapsulated cell containing a magnetic powder on a substrate film to form a predetermined pattern by applying through a binder, the The microencapsulated cell is applied using a gravure plate.
本発明によれば、印刷版に、クッション性を持たせることができ、硬質な被印刷物に対してブランケットロールを用いないダイレクトなグラビア印刷が可能であり、液晶パネル用ガラスへカラーフィルタを構成するためのマトリックス画像をカラー印刷したり、あるいはコンパクトディスク等に画像をカラー印刷するのに好適であり、また、段ボール印刷等、粗面に対する印刷も良好にできる。さらに、本グラビア版を用いることによって、印刷物、マイクロレンズ、壁紙、電磁波シールドシート、カラーフィルタ、偏光板、コンデンサー、電子ペーパー等の製造において、インキ材料や塗布材料の微細転写や微細転移が容易となり、性能に優れた最終製品を得ることが可能となる。 According to the present invention, the printing plate can have cushioning properties, and direct gravure printing can be performed on a hard substrate without using a blanket roll, and a color filter is formed on the glass for a liquid crystal panel. Therefore, it is suitable for color printing a matrix image or color printing an image on a compact disk or the like, and printing on a rough surface such as corrugated cardboard printing can be performed well. Furthermore, the use of this gravure plate facilitates the fine transfer and fine transfer of ink materials and coating materials in the production of printed materials, microlenses, wallpaper, electromagnetic shielding sheets, color filters, polarizing plates, capacitors, electronic paper, etc. It is possible to obtain a final product with excellent performance.
ネガ型感光性組成物として、前述した第１及び第２の態様のネガ型感光性組成物を用いることにより、露光前のバーニング及びオーバーコートが不要とすることができる。さらに、該ネガ型感光性組成物は、優れた感度、密着性及び保存安定性を有しており、このネガ型感光性組成物を用いてフォトリソグラフィを利用して形成された本発明のグラビアセルはグラビア印刷に対応しうる実用性のあるシャープなグラビアセル形状を有するという著大な効果を有する。 By using the negative photosensitive composition of the first and second aspects described above as the negative photosensitive composition, it is possible to eliminate burning and overcoat before exposure. Further, the negative photosensitive composition has excellent sensitivity, adhesion and storage stability, and the gravure of the present invention formed using photolithography using the negative photosensitive composition. The cell has a remarkable effect that it has a sharp gravure cell shape that can be used for gravure printing.
以下に本発明の実施の形態を説明するが、これら実施の形態は例示的に示されるもので、本発明の技術思想から逸脱しない限り種々の変形が可能なことはいうまでもない。 Embodiments of the present invention will be described below, but these embodiments are exemplarily shown, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the technical idea of the present invention.
図１は本発明のクッション性を有するグラビア版の製造方法の工程の一例を模式的に示す説明図で、（ａ）はゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を表面に形成した中空ロール（版母材）の全体断面図、（ｂ）はクッション層の表面にネガ型感光性組成物層を形成した状態を示す部分拡大断面図、（ｃ）はネガ型感光性組成物層の表面にマスクを設けた状態を示す部分拡大断面図、（ｄ）は露光によって露光部分を現像液に対する不溶化露光部分とし現像液によって未露光部分をクッション層面まで溶解除去した状態を示す部分拡大断面図、（ｅ）エッチングによってクッション層にグラビアセルを形成した状態を示す部分拡大断面図、（ｆ）不溶化露光部分を剥離除去した状態を示す部分拡大断面図、（ｇ）はクッション層の表面に強化被覆層を形成した状態を示す部分拡大断面図である。図２は図１に示した製造方法の工程順を示すフローチャートである。 FIG. 1 is an explanatory view schematically showing an example of a process for producing a gravure plate having cushioning properties according to the present invention. (A) is a hollow roll having a cushion layer made of a rubber or a resin having cushioning properties formed on the surface. (Plate base material) whole sectional view, (b) is a partially enlarged sectional view showing a state in which a negative photosensitive composition layer is formed on the surface of the cushion layer, (c) is the surface of the negative photosensitive composition layer (D) is a partially enlarged cross-sectional view showing a state in which the exposed portion is insolubilized exposed portion with respect to the developer by exposure and the unexposed portion is dissolved and removed to the cushion layer surface by the developer by exposure, (E) Partial enlarged cross-sectional view showing a state in which a gravure cell is formed in the cushion layer by etching, (f) Partial enlarged cross-sectional view showing a state in which the insolubilized exposed portion is peeled and removed, (g) is a cushion It is an enlarged partial sectional view showing a state of forming a reinforcing coating layer on the surface of the layer. FIG. 2 is a flowchart showing a process sequence of the manufacturing method shown in FIG.
まず、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を表面に設けた版母材を準備する（図２のステップ１００）。図１において、符号１０は版母材であり、中空ロール１１ａの表面にクッション層１１ｂを設けたものが用いられる。該クッション層１１ｂは、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなり、１ｍｍ〜１０ｃｍ程度の均一な厚さで表面の平滑度が高いシート状のものを、継ぎ目に隙間が開かないように中空ロール１１ａに巻付け強固に接着し、その後精密円筒研削、鏡面研磨される。前記中空ロール１１ａが、アルミニウム、鉄等の金属製又は炭素繊維強化樹脂（ＣＦＲＰ）製であることが好適である。
First, a plate base material provided with a cushion layer made of rubber or a resin having cushioning properties on the surface is prepared (step 100 in FIG. 2). In FIG. 1, the code |
次に、前記クッション層１１ｂの表面にネガ型感光性組成物からなるネガ型感光性組成物層１２を形成する（図１（ｂ）及び図２のステップ１０２）。前記ネガ型感光性組成物は特に制限はなく、公知のネガ型感光性組成物を用いることができるが、後述する第１及び第２の態様のネガ型感光性組成物を用いることが好適である。
Next, a negative
前記ネガ型感光性組成物の第１の態様として、（Ａ）カルボキシル基を有し且つエチレン性不飽和結合を有するポリマーと、（Ｂ）近赤外線吸収色素と、（Ｃ）少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有するモノマーと、（Ｄ）アミノアルコール、アミノアルコールの誘導体及び環状アミンからなる群から選択される１種以上のアミン類と、（Ｅ）有機ホウ素化合物と、（Ｆ）下記式（１）で示されるスルホニル化合物と、を含有する組成を採用することが好適である。 As a first aspect of the negative photosensitive composition, (A) a polymer having a carboxyl group and having an ethylenically unsaturated bond, (B) a near-infrared absorbing dye, and (C) at least one ethylene A monomer having a polar unsaturated bond, (D) one or more amines selected from the group consisting of amino alcohols, amino alcohol derivatives and cyclic amines, (E) organoboron compounds, and (F) the following formula It is preferable to employ a composition containing the sulfonyl compound represented by (1).
［式（１）中、Ｑはアリール基又はヘテロ環基を示し、Ｘ１〜Ｘ３は各々独立してハロゲン原子を示す］ [In formula (1), Q represents an aryl group or a heterocyclic group, and X 1 to X 3 each independently represent a halogen atom]
前記ポリマー（Ａ）としては、カルボキシル基及びエチレン性不飽和結合を有するポリマーであれば特に限定されないが、例えば、カルボキシル基を有する不飽和化合物を単量体単位として有する（共）重合体を、エチレン性不飽和結合を有する化合物と反応させることにより得られるポリマーが好適に用いられる。前記ポリマー（Ａ）は、カルボキシル基を酸価が３０〜５００、特に、２００〜２５０になるように含むことが好ましい。重量平均分子量としては１，５００〜１００，０００が好適で好ましく、６，０００〜５０，０００前後のものが更に好ましい。 The polymer (A) is not particularly limited as long as it is a polymer having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated bond. For example, a (co) polymer having an unsaturated compound having a carboxyl group as a monomer unit, A polymer obtained by reacting with a compound having an ethylenically unsaturated bond is preferably used. The polymer (A) preferably contains a carboxyl group so that the acid value is 30 to 500, particularly 200 to 250. The weight average molecular weight is preferably 1,500 to 100,000, more preferably around 6,000 to 50,000.
前記カルボキシル基を有する不飽和化合物としては、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマール酸、イタコン酸、及びそれらの誘導体等が好ましく、これらを単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。 As the unsaturated compound having a carboxyl group, (meth) acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, and derivatives thereof are preferable, and these can be used alone or in combination of two or more.
カルボキシル基を有する不飽和化合物を単量体単位として有する（共）重合体は、単量体単位として、前記カルボキシル基を有する不飽和化合物以外の他の不飽和化合物を併用してもよい。該他の不飽和化合物としては、不飽和二重結合を有する化合物が好ましく、スチレン、α−メチルスチレン、ｍ又はｐ−メトキシスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、３−ヒドロキシメチル−４−ヒドロキシ−スチレン等のスチレン系単量体や、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステルがより好ましい。これらを単独又は２種以上組み合わせて使用することができる。 The (co) polymer having an unsaturated compound having a carboxyl group as a monomer unit may be used in combination with another unsaturated compound other than the unsaturated compound having a carboxyl group as a monomer unit. As the other unsaturated compound, a compound having an unsaturated double bond is preferable, and styrene, α-methylstyrene, m or p-methoxystyrene, p-methylstyrene, p-hydroxystyrene, 3-hydroxymethyl-4. -Styrenic monomers such as hydroxy-styrene, and (meth) acrylic acid esters such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, etc. preferable. These can be used alone or in combination of two or more.
前記エチレン性不飽和結合を有する化合物としては、例えば、不飽和アルコール（例えば、アリルアルコール、２−ブテン−１−２−オール、フルフリルアルコール、オレイルアルコール、シンナミルアルコール、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド等），アルキル（メタ）アクリレート（例えば、メチルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート等），オキシラン環及びエチレン性不飽和結合をそれぞれ１個有するエポキシ化合物（例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、α−エチルグリシジルアクリレート、クロトニルグリシジルエーテル、イタコン酸モノアルキルモノグリシジルエステル等）等が好適な例として挙げられる。 Examples of the compound having an ethylenically unsaturated bond include unsaturated alcohols (for example, allyl alcohol, 2-buten-1--2-ol, furfuryl alcohol, oleyl alcohol, cinnamyl alcohol, 2-hydroxyethyl acrylate, Hydroxyethyl methacrylate, N-methylolacrylamide, etc.), alkyl (meth) acrylate (eg, methyl methacrylate, t-butyl methacrylate, etc.), epoxy compound having one oxirane ring and one ethylenically unsaturated bond (eg, glycidyl acrylate, Suitable examples include glycidyl methacrylate, allyl glycidyl ether, α-ethyl glycidyl acrylate, crotonyl glycidyl ether, itaconic acid monoalkyl monoglycidyl ester, and the like. And the like.
また、上記ポリマー（Ａ）として、不飽和アルコールによりエチレン性不飽和結合を導入されたものに、さらにエチレン性不飽和結合濃度を大きくするために、前記したオキシラン環及びエチレン性不飽和結合をそれぞれ１個有するエポキシ化合物を反応させ、さらにエチレン性不飽和結合濃度を大きくしたものを用いてもよい。 Further, as the polymer (A), in order to further increase the concentration of the ethylenically unsaturated bond in the polymer having the ethylenically unsaturated bond introduced by the unsaturated alcohol, the above-described oxirane ring and ethylenically unsaturated bond are respectively You may use what reacted the epoxy compound which has one, and also enlarged the ethylenically unsaturated bond density | concentration.
前記ネガ型感光性組成物の第１の態様における前記ポリマー（Ａ）の含有割合は、特に限定されないが、組成物の固形分総量に対して、４５〜６５重量％であるのが好ましく、５０〜６０重量％であるのが更に好ましい。前記ポリマー（Ａ）は単独で用いてもよく、２種以上組み合わせて用いてもよい。 The content ratio of the polymer (A) in the first aspect of the negative photosensitive composition is not particularly limited, but is preferably 45 to 65% by weight based on the total solid content of the composition, 50 More preferred is -60% by weight. The said polymer (A) may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.
前記（Ｂ）近赤外線吸収色素としては、波長７００〜１，１００ｎｍの赤外線領域の一部又は全部に吸収帯を有する有機又は無機の色素が挙げられ、前記波長域の光を効率良く吸収し、且つ紫外線領域の光は殆ど吸収しないか又は吸収しても実質的に感応しない光吸収色素が好ましく、下記一般式（４）で示される化合物及びその誘導体、下記式（５）で示されるポリメチン系化合物（例えば、特開２００１−６４２５５号及びＷＯ２００５／０４９７３６号等参照）等がより好適に用いられる。 Examples of the (B) near-infrared absorbing dye include organic or inorganic dyes having an absorption band in part or all of the infrared region having a wavelength of 700 to 1,100 nm, efficiently absorbing light in the wavelength region, In addition, a light-absorbing dye that absorbs almost no light in the ultraviolet region or is substantially insensitive even when absorbed is preferable, a compound represented by the following general formula (4) and a derivative thereof, and a polymethine type represented by the following formula (5) Compounds (for example, see JP-A No. 2001-64255 and WO 2005/049736) and the like are more preferably used.
［前記一般式（４）において、Ｒ２〜Ｒ５は各々独立して、水素原子、アルコキシル基、又は３級アミノ基であり、メトキシ基、−Ｎ（ＣＨ３）２、又は−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）２が好ましい。Ｘ−は対アニオンを示し、ＸとしてはＣ４Ｈ９−Ｂ（Ｃ６Ｈ５）３、ｐ−ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３、又はＣＦ３ＳＯ３等が好ましい。］ [In General Formula (4), R 2 to R 5 are each independently a hydrogen atom, an alkoxyl group, or a tertiary amino group, and include a methoxy group, —N (CH 3 ) 2 , or —N (C 2 H 5) 2 is preferred. X - is represents a counter anion, as the X C 4 H 9 -B (C 6 H 5) 3, p-CH 3 C 6 H 4 SO 3, or CF 3 SO 3 and the like are preferable. ]
［前記一般式（５）において、Ｒ６は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基又は置換基を有してもよいアルコキシ基を示し、水素原子又は炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。Ｒ７は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基又は置換基を有してもよいアルコキシ基を示し、炭素数１〜８のアルキル基、総炭素数２〜８のアルコキシアルキル基、炭素数１〜８のスルホアルキル基、又は総炭素数２〜９のカルボキシアルキル基が好ましい。Ｒ８及びＲ９はそれぞれ炭素数１〜４のアルキル基を示し、メチル基が好ましく、またＲ８とＲ９は互いに連結して環状構造を形成してもよく、シクロペンタン環又はシクロヘキサン環を形成していることが好ましい。Ｙ１は水素原子、置換基を有してもよいアルコキシ基又は置換基を有してもよいアルキル基を示し、水素原子、炭素数１〜４のアルコキシ基又は炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。Ｙ２は水素原子、ハロゲン原子又は置換アルキル基を示し、Ｈ、Ｃｌ、Ｂｒ又はジフェニルアミノ基が好ましい。Ｚは電荷中和イオンを示し、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−、ＣｌＯ４ −、ＢＦ４ −、ＣＦ３ＣＯ２ −、ＰＦ６ −、ＳｂＦ６ −、ＣＨ３ＳＯ３ −又はｐ−トルエンスルホネート、Ｎａ＋、Ｋ＋、トリエチルアンモニウムイオンが好ましい。］ [In the general formula (5), R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent or an alkoxy group which may have a substituent, and a hydrogen atom or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. Is preferred. R 7 represents a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted alkoxy group, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxyalkyl group having 2 to 8 carbon atoms in total, A sulfoalkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a carboxyalkyl group having 2 to 9 carbon atoms is preferable. R 8 and R 9 each represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably a methyl group, and R 8 and R 9 may be linked to each other to form a cyclic structure, and a cyclopentane ring or a cyclohexane ring It is preferable to form. Y 1 represents a hydrogen atom, an alkoxy group which may have a substituent or an alkyl group which may have a substituent, a hydrogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Is preferred. Y 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a substituted alkyl group, and is preferably H, Cl, Br or a diphenylamino group. Z represents a charge neutralizing ion, and Cl − , Br − , I − , ClO 4 − , BF 4 − , CF 3 CO 2 − , PF 6 − , SbF 6 − , CH 3 SO 3 − or p-toluenesulfonate. , Na + , K + , and triethylammonium ion are preferable. ]
また、他の光吸収色素としては、例えば、特開平１１−２３１５１５号公報に記載されているような窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子等を含む複素環等がポリメチン（−ＣＨ＝）ｎで結合された、広義の所謂シアニン系色素が代表的なものとして挙げられ、具体的には、例えば、キノリン系（所謂、シアニン系）、インドール系（所謂、インドシアニン系）、ベンゾチアゾール系（所謂、チオシアニン系）、イミノシクロヘキサジエン系（所謂、ポリメチン系）、ピリリウム系、チアピリリウム系、スクアリリウム系、クロコニウム系、アズレニウム系等が挙げられ、中で、キノリン系、インドール系、ベンゾチアゾール系、イミノシクロヘキサジエン系、ピリリウム系、又はチアピリリウム系が好ましい。特に、フタロシアニンやシアニンが好ましい。 As other light-absorbing dyes, for example, polymethine (—CH═) n is a heterocyclic ring containing a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, or the like as described in JP-A-11-231515. The so-called cyanine dyes in a broad sense bound to each other can be cited as representative examples. Specifically, for example, quinoline (so-called cyanine), indole (so-called indocyanine), benzothiazole (so-called) , Thiocyanine series), iminocyclohexadiene series (so-called polymethine series), pyrylium series, thiapyrylium series, squarylium series, croconium series, azurenium series, etc. Among them, quinoline series, indole series, benzothiazole series, iminocyclo Hexadiene, pyrylium, or thiapyrylium are preferred. In particular, phthalocyanine and cyanine are preferable.
前記ネガ型感光性組成物の第１の態様における近赤外線吸収色素（Ｂ）の含有割合は、特に限定されないが、組成物の固形分総量に対して、０．２〜４．０重量％であるのが好ましく、０．４〜３．０重量％であるのが更に好ましい。前記近赤外線吸収色素（Ｂ）は単独で用いてもよく、２種以上組み合わせて用いてもよい。 Although the content rate of the near-infrared absorption pigment | dye (B) in the 1st aspect of the said negative photosensitive composition is not specifically limited, It is 0.2 to 4.0 weight% with respect to the solid content total amount of a composition. It is preferable that it is 0.4 to 3.0% by weight. The near infrared absorbing dye (B) may be used alone or in combination of two or more.
前記（Ｃ）少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有するモノマーとしては、エチレン性不飽和結合を分子中に１個以上有する化合物であれば特に制限はないが、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート四級化物、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド等のイミド基又はマレイミド基を有する（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、レゾルシノールジ（メタ）アクリレート、ｐ，ｐ’−ジヒドロキシジフェニルジ（メタ）アクリレート、スピログリコールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメチロールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、ウレタン系ジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。 The monomer (C) having at least one ethylenically unsaturated bond is not particularly limited as long as it is a compound having at least one ethylenically unsaturated bond in the molecule. For example, methyl (meth) acrylate, Alkyl (meth) acrylates such as ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, furfuryl (Meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, mono (2- (meth) acryloyloxyethyl) acid phosphate , (Meth) acrylate having imide group or maleimide group such as dimethylaminoethyl (meth) acrylate quaternized product, N- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalimide, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane Di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, hexamethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, tetra Methylolmethane tetra (meth) acrylate, resorcinol di (meth) acrylate, p, p'-dihydroxydiphenyl di (meth) acrylate, spiroglycol di (meth) ) Acrylate, cyclohexane dimethylol di (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, methylene bis (meth) acrylamide, urethane di (meth) acrylate Etc.
前記ネガ型感光性組成物の第１の態様におけるモノマー（Ｃ）の含有割合は、特に限定されないが、組成物の固形分総量に対して、２５〜４６重量％であるのが好ましく、３０〜４０重量％であるのが更に好ましい。前記モノマー（Ｃ）は単独で用いてもよく、２種以上組み合わせて用いてもよい。 The content ratio of the monomer (C) in the first aspect of the negative photosensitive composition is not particularly limited, but is preferably 25 to 46% by weight with respect to the total solid content of the composition, 30 to More preferably, it is 40% by weight. The monomer (C) may be used alone or in combination of two or more.
前記（Ｄ）アミン類における前記アミノアルコールとしては、１分子中にアミノ基とアルコール性の水酸基とを有する有機化合物が使用可能であり、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン等が好適な例として挙げられる。 As the amino alcohol in the (D) amine, an organic compound having an amino group and an alcoholic hydroxyl group in one molecule can be used, and examples thereof include N, N-dimethylethanolamine, N, N-diethyl. Preferable examples include ethanolamine, N, N-dibutylethanolamine, N-methylethanolamine, N-methyldiethanolamine and the like.
前記（Ｄ）アミン類における前記アミノアルコールの誘導体としては、アミノアルコールのエステルや塩が好ましく、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のアミノアルコールと（メタ）アクリル酸とのエステルがより好ましい。 As the derivative of the amino alcohol in the (D) amines, an ester or salt of an amino alcohol is preferable, and an amino alcohol such as dimethylaminoethyl (meth) acrylate or diethylaminoethyl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid Esters are more preferred.
前記（Ｄ）アミン類における前記環状アミンとしては、環の内外にアミン性窒素を有する化合物であれば特に制限はないが、モルホリン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−エチルモルホリン及びモルホリノエチルメタクリレート等のモルホリノ基含有化化合物や、ピペラジン、ヒドロキシエチルピペラジン及び２−メチルピペラジン等のピペラジン環を有する化合物（ピペラジン系化合物）が好ましい。 The cyclic amine in the (D) amine is not particularly limited as long as it is a compound having an amine nitrogen inside and outside the ring, but morpholino such as morpholine, N-methylmorpholine, N-ethylmorpholine and morpholinoethyl methacrylate. A group-containing compound and a compound having a piperazine ring such as piperazine, hydroxyethylpiperazine and 2-methylpiperazine (piperazine-based compound) are preferable.
前記ネガ型感光性組成物の第１の態様における前記アミン類（Ｄ）の含有割合は、特に限定されないが、組成物の固形分総量に対して、０．３〜５．０重量％であるのが好ましく、０．５〜４．０重量％であるのが更に好ましい。前記アミン類（Ｄ）は単独で用いてもよく、２種以上組み合わせて用いてもよい。 Although the content rate of the said amines (D) in the 1st aspect of the said negative photosensitive composition is not specifically limited, It is 0.3 to 5.0 weight% with respect to the solid content total amount of a composition. And is more preferably 0.5 to 4.0% by weight. The amines (D) may be used alone or in combination of two or more.
前記（Ｅ）有機ホウ素化合物としては、例えば、４級ホウ素アニオンのアンモニウム塩の構造を有するものが好ましく、具体的には、下記一般式（６）で示される構造を有する化合物が好適である。 As said (E) organic boron compound, what has the structure of the ammonium salt of a quaternary boron anion, for example is preferable, and the compound which specifically has a structure shown by following General formula (6) is suitable.
［前記一般式（６）において、Ｒ１０は、１価の有機基であり、アルキル基が好ましく、ｎ−ブチル基がより好ましい。Ｒ１１〜Ｒ１３は各々独立して１価の有機基であり、アリール基が好ましく、フェニル基、ナフチル基、アルキルフェニル基がより好ましい。Ｒ１４〜Ｒ１７は各々独立して１価の有機基であり、アルキル基が好ましい。］ [In the general formula (6), R 10 is a monovalent organic group, preferably an alkyl group, and more preferably an n-butyl group. R 11 to R 13 are each independently a monovalent organic group, preferably an aryl group, and more preferably a phenyl group, a naphthyl group, or an alkylphenyl group. R 14 to R 17 are each independently a monovalent organic group, preferably an alkyl group. ]
また、前記一般式（６）で示される化合物として、下記式（７）で示される化合物が好適に用いられる。 Moreover, as the compound represented by the general formula (6), a compound represented by the following formula (7) is preferably used.
前記ネガ型感光性組成物の第１の態様における有機ホウ素化合物（Ｅ）の含有割合は、特に限定されないが、組成物の固形分総量に対して、０．３〜４．０重量％であるのが好ましく、０．５〜３．０重量％であるのが更に好ましい。前記有機ホウ素化合物（Ｅ）は単独で用いてもよく、２種以上組み合わせて用いてもよい。 The content ratio of the organoboron compound (E) in the first aspect of the negative photosensitive composition is not particularly limited, but is 0.3 to 4.0% by weight with respect to the total solid content of the composition. And is more preferably 0.5 to 3.0% by weight. The organoboron compound (E) may be used alone or in combination of two or more.
（Ｆ）前記式（１）で示されるスルホニル化合物において、Ｑはアリール基又はヘテロ環基であり、アリール基は単環のアリール基及び多環のアリール基のいずれでもよく、また置換されていてもよい。前記アリール基としては、例えば、置換又は非置換のベンゼン環、置換又は非置換のナフタレン環が挙げられ、フェニレン基が好ましい。
前記ヘテロ環基は単環又は多環のヘテロ環基であり、芳香族のヘテロ環基が好ましく、他のアリール基と縮環していてもよい。前記ヘテロ環基としては、例えば、ピリジン環、ピリミジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環等が挙げられ、ピリジン環がより好ましい。
前記スルホニル化合物（Ｆ）としては、具体的には、トリブロモメチルフェニルスルホン又は２−［（トリブロモメチル）スルホニル］ピリジンがより好ましい。
(F) In the sulfonyl compound represented by the formula (1), Q is an aryl group or a heterocyclic group, and the aryl group may be either a monocyclic aryl group or a polycyclic aryl group, and is substituted. Also good. Examples of the aryl group include a substituted or unsubstituted benzene ring and a substituted or unsubstituted naphthalene ring, and a phenylene group is preferable.
The heterocyclic group is a monocyclic or polycyclic heterocyclic group, preferably an aromatic heterocyclic group, and may be condensed with other aryl groups. Examples of the heterocyclic group include a pyridine ring, pyrimidine ring, imidazole ring, pyrazole ring, quinoline ring, isoquinoline ring, benzimidazole ring, thiazole ring, and benzothiazole ring, and a pyridine ring is more preferable.
Specifically, the sulfonyl compound (F) is more preferably tribromomethylphenyl sulfone or 2-[(tribromomethyl) sulfonyl] pyridine.
前記ネガ型感光性組成物の第１の態様におけるスルホニル化合物（Ｆ）の含有割合は、特に限定されないが、組成物の固形分総量に対して、０．１〜５．０重量％であるのが好ましく、０．３〜４．０重量％であるのが更に好ましい。前記スルホニル化合物（Ｆ）は単独で用いてもよく、２種以上組み合わせて用いてもよい。 The content ratio of the sulfonyl compound (F) in the first aspect of the negative photosensitive composition is not particularly limited, but is 0.1 to 5.0% by weight with respect to the total solid content of the composition. Is preferable, and it is further more preferable that it is 0.3 to 4.0 weight%. The said sulfonyl compound (F) may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.
前記ネガ型感光性組成物の第１の態様は、（Ｊ）シランカップリング剤をさらに含有することが好ましい。前記（Ｊ）シランカップリング剤を添加することにより、密着性を向上させることができる。前記（Ｊ）シランカップリング剤としては、反応性官能基を有するアルコキシシラン化合物が好ましく、例えば、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン及びビニルトリエトキシシラン等のビニル基を有するアルコキシシラン化合物、２−（３，４−エポキシシクロへキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン及び３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシ基を含有するアルコキシシラン化合物、ｐ−スチリルトリメトキシシラン等のスチリル基を有するアルコキシシラン化合物、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン及び３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等のメタクリロキシ基を有するアルコキシシラン化合物、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアクリロキシ基を有するアルコキシシラン化合物、Ｎ−２（アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２（アミノエチル）３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、及びＮ−（ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩等のアミノ基を有するアルコキシシラン化合物、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のウレイド基を有するアルコキシシラン化合物、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等のクロロプロピル基を有するアルコキシシラン化合物、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン及び３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト基を有するアルコキシシラン化合物、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド等のスルフィド基を有するアルコキシシラン化合物、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネート基を有するアルコキシシラン化合物、イミダゾールシラン等のイミダゾール基を有するアルコキシシラン化合物が挙げられ、特に、イミダゾール基を有するアルコキシシラン化合部が、ニッケルやステンレス等の鏡面基材に対する密着性をより向上させることができ好ましい。 The first aspect of the negative photosensitive composition preferably further comprises (J) a silane coupling agent. Adhesion can be improved by adding the (J) silane coupling agent. The (J) silane coupling agent is preferably an alkoxysilane compound having a reactive functional group. For example, an alkoxysilane compound having a vinyl group such as vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, or vinyltriethoxysilane, 2- Epoxy groups such as (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane and 3-glycidoxypropyltriethoxysilane Contained alkoxysilane compounds, alkoxysilane compounds having a styryl group such as p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropiyl Alkoxysilane compounds having a methacryloxy group such as methyldiethoxysilane and 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, alkoxysilane compounds having an acryloxy group such as 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-2 (aminoethyl) 3- Aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2 (aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2 (aminoethyl) 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxy Silane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethylbutylidene) propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, and N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-amino Propyl Alkoxysilane compounds having an amino group such as hydrochloride of rmethoxysilane, alkoxysilane compounds having a ureido group such as 3-ureidopropyltriethoxysilane, and alkoxysilane compounds having a chloropropyl group such as 3-chloropropyltrimethoxysilane Alkoxysilane compounds having a mercapto group such as 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, alkoxysilane compounds having a sulfide group such as bis (triethoxysilylpropyl) tetrasulfide, 3-isocyanatopropyltri Examples include alkoxysilane compounds having an isocyanate group such as ethoxysilane, and alkoxysilane compounds having an imidazole group such as imidazolesilane. An alkoxysilane compound having a group is preferable because it can further improve the adhesion to a mirror surface substrate such as nickel or stainless steel.
前記ネガ型感光性組成物の第１の態様におけるシランカップリング剤（Ｊ）の含有割合は、特に限定されないが、組成物の固形分総量に対して、０〜３．０重量％であるのが好ましく、０．３〜２．０重量％であるのが更に好ましい。前記シランカップリング剤（Ｊ）は単独で用いてもよく、２種以上組み合わせて用いてもよい。 The content ratio of the silane coupling agent (J) in the first aspect of the negative photosensitive composition is not particularly limited, but is 0 to 3.0% by weight based on the total solid content of the composition. Is preferable, and it is still more preferable that it is 0.3 to 2.0 weight%. The said silane coupling agent (J) may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.
前記ネガ型感光性組成物は、（Ｋ）重合禁止剤をさらに含むことが好適である。重合禁止剤としては、エチレン性不飽和結合含有基の重合を抑制しうる化合物であればよいが、例えば、ハイドロキノン、２，５−ジ−ｔ−ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−ｔ−アミルハイドロキノン、２，５−ビス（１，１，３，３−テトラメチルブチル）ハイドロキノン等のハイドロキノン系化合物；４−メトキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等のフェノール類；フェノチアジン及びフェノチアジン誘導体等のフェノチアジン系化合物；ジブチルジチオカルバミン酸銅等のジチオカルバミン酸塩；Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等のニトロソ系化合物；２−メルカプトベンゾチアゾール、２−ベンゾチアゾリルジスルフィド、２−メルカプトベンゾチアゾールの亜鉛塩、Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミド、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミド、Ｎ−オキシジエチレン−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミド、Ｎ−ｔ−ブチル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミド、２（４−モルフォリニルジチオ）ベンゾチアゾール等のチアゾール系化合物が挙げられ、チアゾール系化合物がより好ましい。 The negative photosensitive composition preferably further comprises (K) a polymerization inhibitor. The polymerization inhibitor may be any compound that can suppress the polymerization of the ethylenically unsaturated bond-containing group. For example, hydroquinone, 2,5-di-t-butylhydroquinone, 2,5-di-t-amyl Hydroquinone compounds such as hydroquinone and 2,5-bis (1,1,3,3-tetramethylbutyl) hydroquinone; 4-methoxyphenol, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 4,4 '-Butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-ethyl-6-tert-butylphenol) Phenols such as: phenothiazine compounds such as phenothiazine and phenothiazine derivatives; dithiocarls such as copper dibutyldithiocarbamate Minates; nitroso compounds such as N-nitrosophenylhydroxylamine and N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salts; 2-mercaptobenzothiazole, 2-benzothiazolyl disulfide, zinc salt of 2-mercaptobenzothiazole, N- Cyclohexyl-2-benzothiazole sulfenamide, N, N-dicyclohexyl-2-benzothiazole sulfenamide, N-oxydiethylene-2-benzothiazole sulfenamide, Nt-butyl-2-benzothiazole sulfenamide Examples include thiazole compounds such as 2 (4-morpholinyldithio) benzothiazole, and thiazole compounds are more preferable.
前記ネガ型感光性組成物の第１の態様における重合禁止剤（Ｋ）の含有割合は、特に限定されないが、組成物の固形分総量に対して、０．１〜７重量％であるのが好ましく、０．１〜５重量％であるのが更に好ましい。前記重合禁止剤（Ｋ）は単独で用いてもよく、２種以上組み合わせて用いてもよい。 The content of the polymerization inhibitor (K) in the first aspect of the negative photosensitive composition is not particularly limited, but is 0.1 to 7% by weight based on the total solid content of the composition. Preferably, it is 0.1 to 5 weight%. The said polymerization inhibitor (K) may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.
また、本発明で用いられる前記ネガ型感光性組成物の第２の態様として、（Ａ）カルボキシル基を有し且つエチレン性不飽和結合を有するポリマーと、（Ｂ）近赤外線吸収色素と、（Ｃ）少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有するモノマーと、（Ｇ）２−メルカプトベンゾオキサゾール及び／又は２−メルカプトオキサゾールと、（Ｈ）下記式（２）で示されるジフェニルヨードニウム塩と、を含有する組成を採用することが好適である。 Further, as a second aspect of the negative photosensitive composition used in the present invention, (A) a polymer having a carboxyl group and having an ethylenically unsaturated bond, (B) a near infrared absorbing dye, C) a monomer having at least one ethylenically unsaturated bond, (G) 2-mercaptobenzoxazole and / or 2-mercaptooxazole, and (H) a diphenyliodonium salt represented by the following formula (2): It is preferable to adopt the composition to be contained.
前記ネガ型感光性組成物の第２の態様における、（Ａ）カルボキシル基を有し且つエチレン性不飽和結合を有するポリマー、（Ｂ）近赤外線吸収色素、及び（Ｃ）少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有するモノマーは、前記第１の態様のネガ型感光性組成物と同様の成分であり、これら成分の具体例や含有割合については前述した内容と同様であるので再度の説明は省略する。 In the second embodiment of the negative photosensitive composition, (A) a polymer having a carboxyl group and having an ethylenically unsaturated bond, (B) a near-infrared absorbing dye, and (C) at least one ethylenic compound The monomer having an unsaturated bond is the same component as in the negative photosensitive composition of the first aspect, and the specific examples and content ratios of these components are the same as those described above, so that the description thereof is omitted. To do.
前記成分（Ｇ）は、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトオキサゾール、又は両者の併用であり、連鎖移動剤として用いられる。前記ネガ型感光性組成物の第２の態様における成分（Ｇ）の含有割合は、特に限定されないが、組成物の固形分総量に対して、０．５〜２０重量％であるのが好ましく、３〜１５重量％であるのが更に好ましい。 The component (G) is 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptooxazole, or a combination of both, and is used as a chain transfer agent. The content ratio of the component (G) in the second aspect of the negative photosensitive composition is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 20% by weight based on the total solid content of the composition, More preferably, it is 3 to 15% by weight.
前記成分（Ｈ）は、前記式（２）で示されるジフェニルヨードニウム塩であり、光開始剤として用いられる。前記ネガ型感光性組成物の第２の態様における成分（Ｈ）の含有割合は、特に限定されないが、組成物の固形分総量に対して、０．５〜２０．０重量％であるのが好ましく、４．０〜１５．０重量％であるのが更に好ましい。 The component (H) is a diphenyliodonium salt represented by the formula (2) and is used as a photoinitiator. Although the content rate of the component (H) in the 2nd aspect of the said negative photosensitive composition is not specifically limited, It is 0.5-20.0 weight% with respect to the solid content total amount of a composition. It is preferably 4.0 to 15.0% by weight.
前記ネガ型感光性組成物の第２の態様は、（Ｉ）下記一般式（３）で示されるトリアジン化合物をさらに含有することが好ましい。
前記一般式（３）において、Ｒ１はビニル基又はビニル基を含む１価の有機基であり、ビニル基又は（メタ）アクリロイルオキシアルキル基が好ましい。前記（Ｉ）トリアジン化合物としては、２，４−ジアミノ−６−ビニル−ｓ−トリアジン及び／又は２，４−ジアミノ−６−メタクリロイルオキシエチル−ｓ−トリアジン等が好適な例として挙げられる。 In the general formula (3), R 1 is a vinyl group or a monovalent organic group containing a vinyl group, preferably a vinyl group or a (meth) acryloyloxyalkyl group. Preferred examples of the (I) triazine compound include 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine and / or 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-s-triazine.
前記ネガ型感光性組成物の第２の態様における成分（Ｉ）の含有割合は、特に限定されないが、組成物の固形分総量に対して、０．１〜５．０重量％であるのが好ましく、０．２〜４．０重量％であるのが更に好ましい。前記（Ｉ）トリアジン化合物は単独で用いてもよく、２種以上組み合わせて用いてもよい。 The content ratio of component (I) in the second aspect of the negative photosensitive composition is not particularly limited, but is 0.1 to 5.0% by weight based on the total solid content of the composition. Preferably, it is 0.2 to 4.0 weight%. The (I) triazine compounds may be used alone or in combination of two or more.
前記ネガ型感光性組成物の第２の態様において、前記ネガ型感光性組成物の第１の態様における成分である（Ｄ）アミノアルコール、アミノアルコールの誘導体及び環状アミンからなる群から選択される１種以上のアミン類をさらに含有することが好適である。このアミン類の具体例や含有割合については前述した内容と同様であるので再度の説明は省略する。 In the second aspect of the negative photosensitive composition, the negative photosensitive composition is selected from the group consisting of (D) amino alcohol, a derivative of amino alcohol, and a cyclic amine, which are components in the first aspect of the negative photosensitive composition. It is preferred to further contain one or more amines. Since specific examples and content ratios of the amines are the same as those described above, the description thereof will be omitted.
前記ネガ型感光性組成物の第２の態様において、前記ネガ型感光性組成物の第１の態様の場合と同様に（Ｊ）シランカップリング剤をさらに含有するのが好ましい。このシランカップリング剤の具体例や含有割合については前述した内容と同様であるので再度の説明は省略する。 In the second aspect of the negative photosensitive composition, it is preferable that the composition further contains (J) a silane coupling agent as in the case of the first aspect of the negative photosensitive composition. Since specific examples and content ratios of the silane coupling agent are the same as those described above, description thereof will be omitted.
前記ネガ型感光性組成物の第２の態様において、前記ネガ型感光性組成物の第１の態様の場合と同様に（Ｋ）重合禁止剤をさらに含有するのが好ましい。この重合禁止剤の具体例や含有割合については前述した内容と同様であるので再度の説明は省略する。 In the second aspect of the negative photosensitive composition, it is preferable that the composition further contains (K) a polymerization inhibitor as in the case of the first aspect of the negative photosensitive composition. Since specific examples and content ratios of the polymerization inhibitor are the same as those described above, the description thereof will be omitted.
前記ネガ型感光性組成物（第１及び第２の態様を含めて）は、上記した成分に加えて、必要に応じて、顔料又は染料等の着色剤、増感剤、現像促進剤、密着性改質剤、塗布性改良剤、表面調整剤等の各種添加剤を配合してもよい。 In addition to the above components, the negative photosensitive composition (including the first and second embodiments) may include a colorant such as a pigment or a dye, a sensitizer, a development accelerator, and an adhesion as necessary. Various additives such as a property modifier, a coating property improver, and a surface conditioner may be blended.
現像促進剤は、例えば、ジカルボン酸又はアミン類又はグリコール類を微量添加することが好ましい。 As the development accelerator, for example, it is preferable to add a small amount of dicarboxylic acid or amines or glycols.
前記着色剤は特に限定されないが、トリアリールメタン系染料が好ましい。該トリアリールメタン系染料としては、従来公知のトリアリールメタン系の着色染料を広く使用できるが、具体的には、メチルバイオレット、クリスタルバイオレット、ビクトリアブルーＢ、オイルブルー６１３（オリエント化学工業（株）製の商品名）及びこれらの誘導体が好ましい。これらトリアリールメタン系色素は単独又は２種以上組み合わせて使用することができる。 The colorant is not particularly limited, but a triarylmethane dye is preferable. As the triarylmethane-based dye, conventionally known triarylmethane-based colored dyes can be widely used. Specifically, methyl violet, crystal violet, Victoria blue B, oil blue 613 (Orient Chemical Co., Ltd.) Product names) and derivatives thereof. These triarylmethane dyes can be used alone or in combination of two or more.
着色染料を用いることにより、現像によりパターンができた際に感光膜の表面のピンホール、ゴミ等がはっきり認識でき修正液（オペーク）で塗込み作業がし易いという効果がある。染料の濃度が高いほど見やすく好ましい。なお、半導体産業では修正出来ないため、クリーンルームで製造を行っているが、印刷業界、電子部品関連では失敗品を再生させるため、修正を行う。 By using a colored dye, there is an effect that when a pattern is formed by development, pinholes, dust and the like on the surface of the photosensitive film can be clearly recognized and the coating operation can be easily performed with a correction solution (opaque). The higher the concentration of the dye, the better it is easy to see. Since the semiconductor industry cannot make corrections, manufacturing is performed in a clean room. However, in the printing industry and electronic parts, corrections are made to regenerate failed products.
前記ネガ型感光性組成物は、通常、溶媒に溶解した溶液（感光液）として使用される。溶媒の使用割合は、感光性組成物の固形分総量に対して、通常、重量比で１〜２０倍程度の範囲である。 The negative photosensitive composition is usually used as a solution (photosensitive solution) dissolved in a solvent. The ratio of the solvent used is usually in the range of about 1 to 20 times by weight with respect to the total solid content of the photosensitive composition.
溶媒としては、使用成分に対して十分な溶解度を持ち、良好な塗膜性を与えるものであれば特に制限はなく、セロソルブ系溶媒、プロピレングリコール系溶媒、エステル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、高極性溶媒を使用できる。セロソルブ系溶媒としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等が挙げられる。プロピレングリコール系溶媒としては、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等が挙げられる。エステル系溶媒としては、酢酸ブチル、酢酸アミル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル等が挙げられる。アルコール系溶媒としては、ヘプタノール、ヘキサノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール等が挙げられる。高極性溶媒としては、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン等のケトン系溶媒やジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。その他、酢酸、あるいはこれらの混合溶媒、更にはこれらに芳香族炭化水素を添加したもの等が挙げられる。 The solvent is not particularly limited as long as it has sufficient solubility with respect to the components used and gives good coating properties. Cellosolve solvent, propylene glycol solvent, ester solvent, alcohol solvent, ketone solvent Solvents and highly polar solvents can be used. Examples of the cellosolve solvent include methyl cellosolve, ethyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, and ethyl cellosolve acetate. Examples of the propylene glycol solvent include propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether acetate, dipropylene glycol dimethyl ether and the like. . As ester solvents, butyl acetate, amyl acetate, ethyl butyrate, butyl butyrate, diethyl oxalate, ethyl pyruvate, ethyl-2-hydroxybutyrate, ethyl acetoacetate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl 3-methoxypropionate Etc. Examples of the alcohol solvent include heptanol, hexanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol and the like. Examples of the highly polar solvent include ketone solvents such as cyclohexanone and methyl amyl ketone, dimethylformamide, dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone. In addition, acetic acid or a mixed solvent thereof, and those obtained by adding aromatic hydrocarbons to these may be used.
ネガ型感光性組成物を感光液として用いたネガ型感光性組成物層の形成方法の一例を以下に説明する。
まず、クッション層１１ｂの表面に感光液を塗布する。塗布方法としては、メニスカスコート、ファウンティンコート、ディップコート、回転塗布、ロール塗布、ワイヤーバー塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、及びカーテン塗布等を用いることができる。
この感光液の塗布膜の膜厚は、所望のネガ型感光性組成物層１２の膜厚に応じて適宜設定すればよいが、ドライ膜厚で１〜１０μｍの範囲とすることが好ましく、３〜７μｍとするのがより好ましい。塗布膜の厚さは、ピンホールを無くすためには、膜は厚い方が良いが、薄い方が感光液の使用量が少ない分コストは安くなる利点がある。
An example of a method for forming a negative photosensitive composition layer using the negative photosensitive composition as a photosensitive solution will be described below.
First, a photosensitive solution is applied to the surface of the
The film thickness of the coating film of this photosensitive solution may be appropriately set according to the desired film thickness of the negative
次に、塗布した感光液を乾燥し、ネガ型感光膜からなるネガ型感光性組成物層１２を形成する（図２のステップ１０４）。乾燥方法は特に制限はないが、感光液をクッション層の表面に塗布し自然乾燥した後、高速回転してクッション層の表面で風を切り感光膜内における遠心力による質量作用と表面近傍が若干の負圧状態になることで溶剤残留濃度を６％以下に低減することが好適である。この乾燥に要する時間は膜厚にもよるが、タッチドライまで１５分程度であり、乾燥終了までは１５〜２０分程度である。前述した第１及び第２の態様のネガ型感光性組成物により形成されるネガ型感光膜は、露光前のバーニング処理（加熱処理）を行なわなくても十分な密着性を発揮するという効果を奏する。
Next, the applied photosensitive solution is dried to form a negative
前記形成されたネガ型感光性組成物層１２の表面に、グラビア画像であるマスク画像を有するマスク１３を積層し又は密着して重ね、マスク１３を介して光線（紫外線等）２０を照射して露光する（図１（ｃ）及び図２のステップ１０６）。該露光処理により、ネガ型感光性組成物層１２の必要な部分に光反応を生じさせ、現像液に対して露光部分を不溶化する。
A
前記マスク１３としては、カーボン含有ポリマーよりなる黒色コート剤、又は、ネガチブのフォトクロミック剤をコーティングにより成膜してなるものが好適である。前記ネガチブのフォトクロミック剤とは、有色のときに紫外線遮蔽性を有しレーザ照射により透明になる有機フォトクロミック分子単独、又は有機フォトクロミック分子と高分子との相溶体であり、半導体レーザによる焼付けが良好にでき省エネルギーが図れる。
The
ネガ型感光性組成物層を画像露光する光源としては、波長７００〜１，１００ｎｍの赤外レーザー光線を発生する半導体レーザーやＹＡＧレーザーが好ましく、例えば、波長８３０ｎｍ、強度２２０ｍＪ／ｃｍ２の半導体レーザー２０を用いることが好適である。他に、ルビーレーザー、ＬＥＤ等の固体レーザーを用いることが出来る。レーザー光源の光強度としては、２．０×１０６ｍＪ／ｓ・ｃｍ２以上とすることが好ましく、１．０×１０７ｍＪ／ｓ・ｃｍ２以上とすることが特に好ましい。
The light source for image exposure of the negative photosensitive composition layer is preferably a semiconductor laser or YAG laser that generates an infrared laser beam having a wavelength of 700 to 1,100 nm. For example, the
上記露光後のネガ型感光性組成物層に対して、現像前にバーニング処理（加熱処理）を行なっても良い。バーニング処理を行なうことにより、より密着性を高めることができる。バーニング処理を行なう場合、処理条件は特に制限はないが、過熱水蒸気を用いて所定時間加熱処理することが好ましい。過熱水蒸気の温度は１００℃以上、好ましくは１００℃を越え３００℃以下、より好ましくは１０５℃以上２００℃以下が好適である。加熱時間は過熱水蒸気の温度によって変動するが、５分から１時間程度で十分である。また、複数回バーニング処理を行なってもよい。 You may perform a burning process (heat processing) before image development with respect to the negative photosensitive composition layer after the said exposure. Adhesion can be further improved by performing the burning treatment. When performing the burning treatment, the treatment conditions are not particularly limited, but it is preferable to perform the heat treatment for a predetermined time using superheated steam. The temperature of the superheated steam is 100 ° C or higher, preferably more than 100 ° C and 300 ° C or lower, more preferably 105 ° C or higher and 200 ° C or lower. The heating time varies depending on the temperature of the superheated steam, but about 5 minutes to 1 hour is sufficient. Moreover, you may perform a burning process in multiple times.
続いて、この露光したネガ型感光性組成物層１２上のマスク１３を除いた後、現像する（図２のステップ１０８）。図１（ｄ）に示すように、未露光部分をクッション層１１ｂの表面が露出するように現像液に溶解することにより、未露光部分が溶解除去され、光反応した不溶化露光部分１２ａのみを残した状態となる。
Subsequently, the
現像は、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像等により、通常、１５〜４５℃程度の温度、好ましくは２２〜３２℃で行なう。
該現像に用いられる現像液としては、無機アルカリ（例えば、Ｎａ、Ｋの塩等）、又は有機アルカリ（例えば、ＴＭＡＨ（Tetra Methyl Ammonium Hydroxide）、又はコリン、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等）などの無機又は有機のアルカリからなる現像剤が好ましい。例えば、トリエタノールアミン０．８％液等の現像液を用いて、２０℃〜３０℃の温度で６０〜９０秒程度現像を行うことが好適である。
Development is usually performed at a temperature of about 15 to 45 ° C., preferably 22 to 32 ° C., by immersion development, spray development, brush development, ultrasonic development and the like.
Examples of the developer used for the development include inorganic alkalis (for example, Na and K salts), organic alkalis (for example, TMAH (Tetra Methyl Ammonium Hydroxide), choline, triethanolamine, diethanolamine, monoethanolamine, and the like. A developer made of an inorganic or organic alkali such as For example, it is preferable to perform development at a temperature of 20 ° C. to 30 ° C. for about 60 to 90 seconds using a developer such as a triethanolamine 0.8% solution.
この現像処理されたクッション層表面をスプレー水洗等で２０秒〜１分程度水洗し未露光部分を完全に除去し、未露光部分に対応するクッション層１１ｂの面を露出させる（図２のステップ１１０）。
The surface of the developed cushion layer is washed with spray water for about 20 seconds to 1 minute to completely remove the unexposed portion, and the surface of the
続いて、露出したクッション層の面に対して、エッチング手段、例えば、有機溶剤やプラズマエッチングによってエッチングをおこない、所定の深度の凹部（グラビアセル）１４を形成する（図１（ｅ）及び図２ステップ１１２）。 Subsequently, the exposed surface of the cushion layer is etched by an etching means, for example, an organic solvent or plasma etching to form a recess (gravure cell) 14 having a predetermined depth (FIGS. 1E and 2). Step 112).
上記エッチング手段としての有機溶剤は、トルエン、キシレンの他に、アセトンやメチルエチルケトンなどのケトン系、酢酸エチルや酢酸ブチルなどのエステル系、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロへキサン等の炭化水素系、メタノールやエタノール等のアルコール系の溶剤を挙げることができる。 In addition to toluene and xylene, organic solvents as the above etching means include ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, hydrocarbons such as n-hexane, cyclohexane and methylcyclohexane, methanol And alcohol solvents such as ethanol.
グラビアセルの深さは版の使用目的に対応して決める。例えば、段ボール印刷等ではグラビアセルの深さを１ミリ以上とすることがある。また、例えば、液晶パネル用ガラスへカラーフィルタを構成するためのマトリックス画像をカラー印刷するには、インキ膜厚が均一になるようにするため、グラビアセルを均一な５〜６μｍの深さに形成する必要がある。さらに好ましくは、クッション層１１ｂをシリコンゴムにより形成してセルに盛られるインキの液晶パネル用ガラスへの転移性を高めるのが良い。コンパクトディスク等も極めて薄いインキ膜厚となるのが良いので、セルの深さを数μｍとする。
The depth of the gravure cell is determined according to the purpose of use of the plate. For example, in cardboard printing or the like, the depth of the gravure cell may be 1 mm or more. For example, in order to color-print a matrix image for forming a color filter on a glass for a liquid crystal panel, a gravure cell is formed to a uniform depth of 5 to 6 μm in order to make the ink film thickness uniform. There is a need to. More preferably, the
次に、前記不溶化露光部分１２ａを剥離除去する（図１（ｆ）及び図２のステップ１１４）。剥離除去方法としては、特に制限はないが、ＫＯＨ水溶液、ＮａＯＨ水溶液等のアルカリ水溶液（濃度は５ｗｔ％程度でよい）を用いることが好適である。
Next, the insolubilized exposed
ついで、図１（ｇ）に示すように、表面に凹部（グラビアセル）１４が形成されたクッション層１１ｂの表面に強化被覆層１８を形成する（図１（ｇ）及び図２のステップ１１６）。これによって、グラビア製版ロール（グラビア版）が完成する。
Next, as shown in FIG. 1 (g), the reinforcing
前記強化被覆層１８としてはＤＬＣ層、二酸化珪素被膜又はクロムめっき層を適用することができる。
前記ＤＬＣ層はＣＶＤ法又はスパッタ法によって好適に形成される。前記ＤＬＣ層の厚さは０．１〜１０μｍを適用することができる。
また、前記クロムメッキ層は常法により形成することができる。前記クロムメッキ層の厚さは０．１〜１０μｍ程度が好適である。
As the reinforcing
The DLC layer is preferably formed by CVD or sputtering. The thickness of the DLC layer may be 0.1 to 10 μm.
The chrome plating layer can be formed by a conventional method. The thickness of the chromium plating layer is preferably about 0.1 to 10 μm.
前記二酸化珪素被膜はペルヒドロポリシラザン溶液を用いて形成するのが好適である。前記ペルヒドロポリシラザン溶液を用いて二酸化珪素被膜を形成する方法としては、前記感光性組成物層の表面にペルヒドロポリシラザン溶液を塗布し所定の膜厚の塗布膜を形成する塗布膜形成工程と、前記塗布されたペルヒドロポリシラザン塗布膜を過熱水蒸気によって所定の条件で加熱処理して所定の硬度の二酸化珪素被膜を前記感光性組成物層の表面に形成する工程と、を含むことが好ましい。 The silicon dioxide film is preferably formed using a perhydropolysilazane solution. As a method of forming a silicon dioxide film using the perhydropolysilazane solution, a coating film forming step of forming a coating film having a predetermined thickness by applying a perhydropolysilazane solution to the surface of the photosensitive composition layer; It is preferable to include a step of heat-treating the coated perhydropolysilazane coating film with superheated steam under predetermined conditions to form a silicon dioxide film having a predetermined hardness on the surface of the photosensitive composition layer.
ペルヒドロポリシラザンを溶解する溶剤としては公知のものを用いればよいが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、エーテル、ＴＨＦ、塩化メチレン、四塩化炭素、アニソール、デカリン、シクロヘキセン、メチルシクロヘキサン、ソルベッソ、デカヒドロナフタリン、メチルターシャリーブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、エチルシクロヘキサン、リモネン、ヘキサン、オクタン、ノナン，デカン、Ｃ８−Ｃ１１アルカン混合物、Ｃ１８−Ｃ１１芳香族炭化水素混合物、Ｃ８以上の芳香族炭化水素を５重量％以上２５重量％以下含有する脂肪族／脂環式炭化水素混合物、及びジブチルエーテルなどを用いることができる。 As the solvent for dissolving perhydropolysilazane, known solvents may be used. For example, benzene, toluene, xylene, ether, THF, methylene chloride, carbon tetrachloride, anisole, decalin, cyclohexene, methylcyclohexane, sorbeso, decahydronaphthalene. , Methyl tertiary butyl ether, diisobutyl ether, ethylcyclohexane, limonene, hexane, octane, nonane, decane, C8-C11 alkane mixture, C18-C11 aromatic hydrocarbon mixture, C8 or higher aromatic hydrocarbon in an amount of 5 wt% or more 25 Aliphatic / alicyclic hydrocarbon mixtures containing not more than% by weight, dibutyl ether and the like can be used.
上記した各種溶剤に溶解されて作製されるペルヒドロポリシラザン溶液は、そのままでも過熱水蒸気による加熱処理によって二酸化珪素へ転化するが、反応速度の増加、反応時間の短縮、反応温度の低下、形成される二酸化珪素被膜の密着性の向上等を図る目的で触媒を用いるのが好ましい。これらの触媒も公知であり、例えばアミンやパラジウムが用いられるが、具体的には、有機アミン、例えばＣ１−５のアルキル基が１−３個配置された第１−第３級の直鎖状脂肪族アミン、フェニル基が１−３個配置された第１−第３級の芳香族アミン、ピリジン又はこれにメチル、エチル基等のアルキル基が核置換された環状脂肪族アミン等が挙げられ、さらに好ましいものとして、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノブチルアミン、モノプロピルアミン、ジプロピルアミン等を挙げることができる。これらの触媒はペルヒドロポリシラザン溶液に予め添加しておいてもよく、また過熱水蒸気による加熱処理の際の処理雰囲気中に気化状態で含有させることもできる。 The perhydropolysilazane solution prepared by dissolving in the above-mentioned various solvents can be converted into silicon dioxide by heating with superheated steam, but the reaction rate is increased, the reaction time is shortened, the reaction temperature is decreased, and formed. It is preferable to use a catalyst for the purpose of improving the adhesion of the silicon dioxide film. These catalysts are also known. For example, amines and palladium are used. Specifically, organic amines such as primary to tertiary straight chain in which 1-3 alkyl groups of C1-5 are arranged. Aliphatic amines, primary to tertiary aromatic amines having 1 to 3 phenyl groups arranged, pyridine or cyclic aliphatic amines in which an alkyl group such as methyl or ethyl group is substituted with a nucleus. More preferable examples include diethylamine, triethylamine, monobutylamine, monopropylamine, dipropylamine and the like. These catalysts may be added in advance to the perhydropolysilazane solution, or may be contained in a vaporized state in the treatment atmosphere during the heat treatment with superheated steam.
ペルヒドロポリシラザン溶液の塗布層の形成方法としては、ペルヒドロポリシラザン溶液をスプレーコート方式やインクジェット方式で塗布すればよい。 As a method for forming the coating layer of the perhydropolysilazane solution, the perhydropolysilazane solution may be applied by a spray coating method or an inkjet method.
続いて、前記ペルヒドロポリシラザン塗布層に対して過熱水蒸気による熱処理を行うことにより二酸化珪素被膜とする。前記過熱水蒸気の温度は１００〜３００℃が用いられるが、中空ロールの材質がアルミニウムの場合には２００℃を超える加熱は中空ロールの劣化を招くため、高い硬度の二酸化珪素被膜の形成は１００〜２００℃が好適である。 Subsequently, a heat treatment with superheated steam is performed on the perhydropolysilazane coating layer to form a silicon dioxide coating. The temperature of the superheated steam is 100 to 300 ° C. However, when the material of the hollow roll is aluminum, heating exceeding 200 ° C. causes deterioration of the hollow roll. 200 ° C. is preferred.
前記加熱処理としては、第１次及び第２次加熱処理を含む複数段の加熱処理とするのがより好ましく、第１次加熱処理の条件を１００℃〜１７０℃、１分〜３０分、及び第２次加熱処理の条件を１４０℃〜２００℃、１分〜３０分とし、第２次加熱処理の温度を第１次加熱処理の温度よりも高く設定するようにした構成を採用するのが好適である。さらに、上記第２次加熱処理の温度を第１次加熱処理の温度よりも５℃以上、好ましくは１０℃以上高く設定するのがよい。 The heat treatment is more preferably a multi-stage heat treatment including a primary heat treatment and a secondary heat treatment, and the conditions of the primary heat treatment are 100 ° C. to 170 ° C., 1 minute to 30 minutes, and Adopting a configuration in which the conditions of the secondary heat treatment are 140 ° C. to 200 ° C., 1 minute to 30 minutes, and the temperature of the secondary heat treatment is set higher than the temperature of the primary heat treatment. Is preferred. Furthermore, the temperature of the second heat treatment is preferably set to 5 ° C. or more, preferably 10 ° C. or more higher than the temperature of the first heat treatment.
前記加熱処理によって形成された二酸化珪素被膜の表面を冷水又は温水で洗浄する工程をさらに設けることによって、得られた二酸化珪素被膜の硬度をさらに向上させることが可能である。 By further providing a step of washing the surface of the silicon dioxide film formed by the heat treatment with cold water or hot water, the hardness of the obtained silicon dioxide film can be further improved.
前記二酸化珪素被膜の厚さは０．１〜５μｍ、好ましくは０．１〜３μｍ、さらに好ましくは０．１〜１μｍであることが好適である。 The thickness of the silicon dioxide film is 0.1 to 5 μm, preferably 0.1 to 3 μm, and more preferably 0.1 to 1 μm.
以下に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、これらの実施例は例示的に示されるもので限定的に解釈されるべきでないことはいうまでもない。 The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. However, it is needless to say that these examples are shown by way of illustration and should not be construed in a limited manner.
（製造例１〜６）
表１に示す配合物質及び配合割合（重量部）によりネガ型感光性組成物を調製し、テスト感光液とした。
(Production Examples 1-6)
A negative photosensitive composition was prepared with the compounding substances and blending ratios (parts by weight) shown in Table 1, and used as a test photosensitive solution.
表１中の各成分は下記の通りである。
ポリマーＡ１：下記式（８）で示される構造を有するポリマー［酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）＝５５］
Each component in Table 1 is as follows.
Polymer A1: Polymer having a structure represented by the following formula (8) [acid value (mgKOH / g) = 55]
（前記式（８）において、Ｒ２１はメチル基又はエチル基を示し、ｌは２０〜５０、ｍは１５〜２５、ｎは５〜２５である。） (In the formula (8), R 21 represents a methyl group or an ethyl group, l is 20 to 50, m is 15 to 25, and n is 5 to 25.)
ポリマーＡ２：下記式（９）で示される構造を有するポリマー（酸価６５） Polymer A2: a polymer having a structure represented by the following formula (9) (acid value 65)
［前記式（９）において、Ｒ２２は水素又は下記式（１０）で示される基であり、ポリマー中のＲ２２における水素原子：下記式（１０）で示される基の当量比は、０．６：０．４である。ｍは３７〜４０である。］ [In the formula (9), R 22 is hydrogen or a group represented by the following formula (10), and the equivalent ratio of the hydrogen atom in R 22 in the polymer to the group represented by the following formula (10) is 0.00. 6: 0.4. m is 37-40. ]
近赤外線吸収色素Ｂ１：ＩＲ−Ｔ（昭和電工（株）製、下記式（１１）で示される構造を有する化合物） Near-infrared absorbing dye B1: IR-T (made by Showa Denko KK, compound having a structure represented by the following formula (11))
近赤外線吸収色素Ｂ２：ＹＫＲ−２１００（山本化成（株）製、近赤外線吸収色素）
モノマーＣ１：ＤＰＥ−６Ａ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）
アミン類Ｄ１：ジメチルアミノエチルアクリレート
アミン類Ｄ２：Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン
アミン類Ｄ３：モルホリン
アミン類Ｄ４：ピペラジン・６水塩
有機ホウ素化合物Ｅ１：Ｐ３Ｂ（昭和電工（株）製、下記式（１２）で示される構造を有する化合物）
Near-infrared absorbing dye B2: YKR-2100 (manufactured by Yamamoto Kasei Co., Ltd., near-infrared absorbing dye)
Monomer C1: DPE-6A (dipentaerythritol hexaacrylate)
Amines D1: Dimethylaminoethyl acrylate Amines D2: N, N-dimethylethanolamine Amines D3: Morpholine Amines D4: Piperazine hexahydrate Organic boron compound E1: P3B (made by Showa Denko K.K. 12) a compound having the structure
有機ホウ素化合物Ｅ２：ＣＧＩ９０９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、前記式（７）で示される化合物）
スルホニル化合物Ｆ１：α，α，α−トリブロモメチルフェニルスルホン
スルホニル化合物Ｆ２：２−［（トリブロモメチル）スルホニル］ピリジン
シランカップリング剤Ｊ１：イミダゾールシラン［（株）日鉱マテリアルズ製］
重合禁止剤Ｋ１：クペロン（和光純薬工業（株）製、商品名Ｑ−１３００）
重合禁止剤Ｋ２：２−メルカプトベンゾチアゾール
着色色素：オイルブルー６１３（オリエント化学工業（株）製、Color Index（C.I.）No. 42595）
表面調整剤：ＢＹＫ−３７８（３％溶液、ビックケミー社製、ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサン）
ＰＭ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
ＭｅＯＨ：メタノール
ＩＰＡ：イソプロピルアルコール
ＭＥＫ：メチルエチルケトン
Organoboron compound E2: CGI909 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., compound represented by formula (7))
Sulfonyl Compound F1: α, α, α-Tribromomethylphenylsulfone Sulfonyl Compound F2: 2-[(Tribromomethyl) sulfonyl] pyridine Silane coupling agent J1: Imidazolesilane [manufactured by Nikko Materials Co., Ltd.]
Polymerization inhibitor K1: Cuperon (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., trade name Q-1300)
Polymerization inhibitor K2: 2-mercaptobenzothiazole Coloring pigment: Oil blue 613 (manufactured by Orient Chemical Co., Ltd., Color Index (CI) No. 42595)
Surface conditioner: BYK-378 (3% solution, manufactured by Big Chemie, polyether-modified dimethylpolysiloxane)
PM: Propylene glycol monomethyl ether MeOH: Methanol IPA: Isopropyl alcohol MEK: Methyl ethyl ketone
（製造例７〜９）
表２に示す配合物質及び配合割合（重量部）によりネガ型感光性組成物を調製し、テスト感光液とした。
(Production Examples 7 to 9)
A negative photosensitive composition was prepared with the compounding substances and blending ratios (parts by weight) shown in Table 2, and used as a test photosensitive solution.
表２中の各成分は下記の通りである。
ポリマーＡ３：下記式（１３）で示される構造を有するポリマー［酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）＝９７、分子量Ｍｗ＝１７０００，Ｍｎ＝９２００］
Each component in Table 2 is as follows.
Polymer A3: a polymer having a structure represented by the following formula (13) [acid value (mgKOH / g) = 97, molecular weight Mw = 17000, Mn = 9200]
［前記式（１３）において、Ｒ２３はメチル基又はエチル基を示し、ｍは１５〜６０、ｎは４０〜８５である。］ [In Formula (13), R 23 represents a methyl or ethyl group, m is 15 to 60, n is 40 to 85. ]
イルガキュア（イルガキュアはチバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッドの登録商標）２５０：チバ・ジャパン（株）製の光開始剤、前記式（２）で示される化合物。
トリアジン化合物Ｉ１：キュアゾール（キュアゾールは四国化成工業（株）の登録商標）ＶＴ（四国化成工業（株）製、２，４−ジアミノ−６−ビニル−ｓ−トリアジン）
トリアジン化合物Ｉ２：キュアゾール（キュアゾールは四国化成工業（株）の登録商標）ＭＡＶＴ（四国化成工業（株）製、２，４−ジアミノ−６−メタクリロイルオキシエチル−ｓ−トリアジン）
重合禁止剤Ｋ３：ＭＮＴ（４−メトキシナフトール）
なお、近赤外線吸収色素Ｂ２、モノマーＣ１、着色色素、表面調整剤、ＰＭ、ＭｅＯＨ、ＩＰＡ及びＭＥＫは表１と同じである。
Irgacure (Irgacure is a registered trademark of Ciba Specialty Chemicals Holdings Inc.) 250: a photoinitiator manufactured by Ciba Japan, a compound represented by the formula (2).
Triazine compound I1: Curezole (Cureazole is a registered trademark of Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) VT (2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.)
Triazine Compound I2: Cureazole (Cureazole is a registered trademark of Shikoku Chemicals Co., Ltd.) MAVT (manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd., 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-s-triazine)
Polymerization inhibitor K3: MNT (4-methoxynaphthol)
The near-infrared absorbing dye B2, the monomer C1, the coloring dye, the surface conditioner, PM, MeOH, IPA, and MEK are the same as in Table 1.
（製造例１０）
表３に示す配合物質及び配合割合（重量部）によりネガ型感光性組成物を調製し、テスト感光液とした。
(Production Example 10)
A negative photosensitive composition was prepared with the compounding substances and blending ratios (parts by weight) shown in Table 3, and used as a test photosensitive solution.
表３中の各成分は表１と同じである。 Each component in Table 3 is the same as Table 1.
（実施例１）
製造例１で得られたテスト感光液を用いて下記の実験を行った。
まず、円周６００ｍｍ、面長１１００ｍｍの鉄製中空ロールの表面に厚さ５ｃｍの合成ゴムシートを巻きつけ強固に接着して研磨機を用いて円筒研削及び鏡面研磨してその表面を均一な研磨面とし、クッション層を有する被製版ロールを形成した。
Example 1
The following experiment was conducted using the test photosensitive solution obtained in Production Example 1.
First, a synthetic rubber sheet having a thickness of 5 cm is wound around the surface of an iron hollow roll having a circumference of 600 mm and a surface length of 1100 mm, and is firmly bonded, and then the surface is uniformly polished by cylindrical grinding and mirror polishing using a polishing machine. And a plate-making roll having a cushion layer was formed.
上記被製版ロールを、ファウンテンコーティング装置（除湿装置と加湿装置が付設されていて湿度を所望にコントロールできる装置）で両端チャックして２５ｒ．ｐ．ｍで回転し、ワイピングクロスで十分に拭浄した。なお、該ファウンテンコーティング装置は、ネガ型感光性組成物中の溶剤がコーティング中に蒸発して溶剤の割合が徐々にシリンダーが回転しながらレベリングするのに適している。 The plate making roll is chucked at both ends with a fountain coating device (a device in which a dehumidifying device and a humidifying device are attached so that humidity can be controlled as desired). p. Rotate at m and wipe thoroughly with a wiping cloth. The fountain coating apparatus is suitable for leveling while the solvent in the negative photosensitive composition evaporates during coating and the ratio of the solvent gradually rotates.
その後、上端からテスト感光液が涌き出るパイプを被製版ロールの一端に約５００μｍのギャップを有するように位置させ、テスト感光液をコーティングに必要な量だけ湧き出させるようにして、該パイプを被製版ロールの一端から他端まで移動してスパイラルスキャン方式でテスト感光液を５μｍの厚さに均一に塗布し、塗布終了から８分間２５ｒ．ｐ．ｍで回転を続行した後タッチドライ（塗膜のベトツキのない状態）になり回転停止した。 After that, the pipe from which the test photosensitive solution is sprinkled from the upper end is positioned so as to have a gap of about 500 μm at one end of the plate making roll, and the test photosensitive solution is swelled by an amount necessary for coating, and the pipe is made to plate making. The test photosensitive solution was moved from one end of the roll to the other end and uniformly applied in a thickness of 5 μm by a spiral scan method, and 25 r. p. After continuing the rotation at m, it became touch dry (the state without the stickiness of the coating film) and stopped rotating.
５分間待って、液垂れについて観察したところ、肉眼で液垂れが生じたことが観察できなかった。そして、膜厚測定をしたところ、ロールの下面部分と上面部分とで差異はなかった。もって、液垂れが生じなく状態に乾固した感光膜をセットできたことを確認した。 After waiting for 5 minutes and observing the dripping, it was not possible to observe that dripping occurred with the naked eye. When the film thickness was measured, there was no difference between the lower surface portion and the upper surface portion of the roll. Thus, it was confirmed that the dried photosensitive film could be set in a state without dripping.
引き続いて、被製版ロールを１００ｒ．ｐ．ｍで２０分間回転して停止し、感光膜中の溶剤残留濃度を測定したところ、２％であった。 Subsequently, the plate making roll was set to 100 r. p. After rotating at m for 20 minutes and stopping, the residual solvent concentration in the photosensitive film was measured and found to be 2%.
続いて、被製版ロールをクレオサイテックス社の高出力半導体レーザーヘッドを搭載した露光装置（株式会社シンク・ラボラトリー製）に取付けて感光膜の表面にグラビア画像であるマスク画像を有するマスクを積層し、該被製版ロールに赤外波長域のレーザーを照射してネガ画像を焼き付け、次いで、マスクを除いて被製版ロールを現像装置に取付けて回転して現像槽を上昇させて現像を行い、感光膜の光反応した不溶化露光部分を残し未露光部分をクッション層が露出するように現像液に溶解し、その後水洗した。なお、現像液はトリエタノールアミン０．８％（２４℃）を用いた。 Subsequently, the plate-making roll is attached to an exposure apparatus (manufactured by Sink Laboratories, Inc.) equipped with a high-power semiconductor laser head of Creositex, and a mask having a mask image as a gravure image is laminated on the surface of the photosensitive film. The plate-making roll is irradiated with a laser in the infrared wavelength region to print a negative image, and then the plate-making roll is attached to the developing device except for the mask and rotated to raise the developing tank for development and photosensitivity. The insolubilized exposed part of the film that had been photoreacted was left, and the unexposed part was dissolved in the developer so that the cushion layer was exposed, and then washed with water. The developer used was 0.8% triethanolamine (24 ° C.).
この現像処理され不溶化露光部分を残した被製版ロールをスプレー水洗等で２０秒〜１分程度水洗し未露光部分を完全に除去した。次いで、不溶化露光部分（レジスト）を残した被製版ロールのクッション層表面をエッチングした。このエッチングはトルエンを用いて行った。凹部（グラビアセル）の深度は５μｍとした。エッチング終了後、不溶化露光部分（レジスト）をＮａＯＨ水溶液で剥離除去した。最後に、不溶化露光部分（レジスト）を除去した被製版ロールの表面を水洗した。得られた被製版ロールのクッション層の表面にはエッジの綺麗な深度５μｍの凹部（グラビアセル）を形成することができた。 The plate-making roll that had been developed and left the insolubilized exposed portion was washed with spray water for about 20 seconds to 1 minute to completely remove the unexposed portion. Subsequently, the cushion layer surface of the plate-making roll leaving the insolubilized exposed portion (resist) was etched. This etching was performed using toluene. The depth of the recess (gravure cell) was 5 μm. After completion of the etching, the insolubilized exposed portion (resist) was peeled off with an aqueous NaOH solution. Finally, the surface of the plate making roll from which the insolubilized exposed portion (resist) was removed was washed with water. A concave part (gravure cell) having a beautiful edge depth of 5 μm could be formed on the surface of the cushion layer of the plate-making roll obtained.
このグラビアセルを形成した被製版ロールのクッション層の上面にスパッタリング法によってタングステン層を形成した。スパッタリング条件は次の通りである。
タングステン試料：固体タングステンターゲット、雰囲気：アルゴンガス雰囲気、成膜温度：２００〜３００℃、成膜時間：６０分、成膜厚さ：０．１μｍ。
A tungsten layer was formed by sputtering on the upper surface of the cushion layer of the plate-making roll on which the gravure cell was formed. The sputtering conditions are as follows.
Tungsten sample: solid tungsten target, atmosphere: argon gas atmosphere, film formation temperature: 200 to 300 ° C., film formation time: 60 minutes, film formation thickness: 0.1 μm.
次に、タングステン層の上面に炭化タングステン層を形成した。スパッタリング条件は次の通りである。
タングステン試料：固体タングステンターゲット、雰囲気：アルゴンガス雰囲気で炭化水素ガスを徐々に増加、成膜温度：２００〜３００℃、成膜時間：６０分、成膜厚さ：０．１μｍ。
Next, a tungsten carbide layer was formed on the top surface of the tungsten layer. The sputtering conditions are as follows.
Tungsten sample: solid tungsten target, atmosphere: hydrocarbon gas gradually increased in an argon gas atmosphere, film formation temperature: 200 to 300 ° C., film formation time: 60 minutes, film formation thickness: 0.1 μm.
さらに、炭化タングステン層の上面にスパッタリング法によってダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）被膜を被覆形成した。スパッタリング条件は次の通りである。
ＤＬＣ試料：固体カーボンターゲット、雰囲気：アルゴンガス雰囲気、成膜温度：２００〜３００℃、成膜時間：１５０分、成膜厚さ：１μｍ。
このようにして、グラビア製版ロール（グラビアシリンダー）を完成した。
Further, a diamond-like carbon (DLC) film was formed on the upper surface of the tungsten carbide layer by sputtering. The sputtering conditions are as follows.
DLC sample: solid carbon target, atmosphere: argon gas atmosphere, film formation temperature: 200 to 300 ° C., film formation time: 150 minutes, film formation thickness: 1 μm.
In this way, a gravure printing roll (gravure cylinder) was completed.
続いて、得られたグラビアシリンダーに対して印刷インキとしてシアンインキ（ザーンカップ粘度１８秒、サカタインクス社製水性インクスーパーラミピュア藍８００ＰＲ−５）を適用しＯＰＰ（Oriented Polypropylene Film：２軸延伸ポリプロピレンフィルム）を用いて印刷テスト（印刷速度：１２０ｍ／分）を行った。得られた印刷物は版カブリがなく、５０，０００ｍの長さまで印刷できた。パターンの精度は変化がなかった。このグラビア版のハイライト部からシャドウ部のグラデーションは、常法に従って作製した従来のグラビア版と変わらなかったことからインキ転移性は問題ないと判断される。 Subsequently, cyan ink (Zahn cup viscosity 18 seconds, water-based ink Super Lampy Pure Indigo 800PR-5 manufactured by Sakata Inx Co., Ltd.) was applied to the obtained gravure cylinder as a printing ink, and OPP (Oriented Polypropylene Film: biaxially oriented polypropylene film) ) Was used to perform a printing test (printing speed: 120 m / min). The obtained printed matter had no plate fog and could be printed up to a length of 50,000 m. The accuracy of the pattern did not change. Since the gradation from the highlight portion to the shadow portion of this gravure plate is not different from that of the conventional gravure plate produced according to a conventional method, it is determined that there is no problem in ink transferability.
（実施例２〜９）
テスト感光液として製造例２〜９で得られたテスト感光液を用いた以外は実施例１と同様の手順でグラビアセルを形成したグラビアシリンダーを製造した。このグラビアシリンダーを用いて印刷テストを行ったところ、実施例１と同様に良好な印刷性能を示した。
(Examples 2-9)
A gravure cylinder in which a gravure cell was formed was manufactured in the same procedure as in Example 1 except that the test photosensitive solution obtained in Production Examples 2 to 9 was used as the test photosensitive solution. When a printing test was performed using this gravure cylinder, good printing performance was shown as in Example 1.
（実施例１０）
テスト感光液として、製造例１０で得られたテスト感光液を用い、露光前にバーニング処理を行った以外は実施例１と同様に実験を行った結果、多数の凹部を形成することができたが、実施例１〜９に比べて凹部にムラがあり、凹凸形状の精度が劣っていた。
(Example 10)
As a test sensitizing solution, the test sensitizing solution obtained in Production Example 10 was used, and an experiment was performed in the same manner as in Example 1 except that the burning treatment was performed before exposure. As a result, a large number of recesses could be formed. However, compared with Examples 1-9, there was unevenness | corrugation in a recessed part and the uneven | corrugated shaped precision was inferior.
（実施例１１）
実施例１と同様の手順で被製版ロールのクッション層表面にグラビアセルを形成した。次に、グラビアセルが形成されたクッション層の表面に二酸化珪素被膜の形成を以下のように行った。ペルヒドロポリシラザンの２０％ジブチルエーテル溶液（製品名：アクアミカ（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）の登録商標）ＮＬ１２０Ａ、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）製）を、上記感光性組成物層の表面に対してＨＶＬＰスプレー塗布を行った。当該感光性組成物層の表面に均一に塗布された塗布膜厚は０．８μｍであった。このペルヒドロポリシラザンが塗布されたシリンダーに対して過熱水蒸気を用いて二段階の加熱処理（１４０℃５分＋１７０℃５分）を施して二酸化珪素被膜を形成した。この被膜はカッターナイフで傷が付かない程度の極めて高い被膜硬度を有していた。このようにして、クッション性を有するグラビアシリンダーを完成した。このグラビアシリンダーを用いて印刷テストを行ったところ、実施例１と同様に良好な印刷性能を示した。
(Example 11)
A gravure cell was formed on the surface of the cushion layer of the plate making roll in the same procedure as in Example 1. Next, a silicon dioxide film was formed on the surface of the cushion layer on which the gravure cell was formed as follows. A 20% dibutyl ether solution of perhydropolysilazane (product name: AQUAMICA (registered trademark of AZ Electronic Materials Co., Ltd.) NL120A, manufactured by AZ Electronic Materials Co., Ltd.) is applied to the surface of the photosensitive composition layer. HVLP spray application was performed. The coating film thickness uniformly applied on the surface of the photosensitive composition layer was 0.8 μm. The cylinder coated with perhydropolysilazane was subjected to two-stage heat treatment (140 ° C. 5 minutes + 170 ° C. 5 minutes) using superheated steam to form a silicon dioxide film. This film had an extremely high film hardness that was not damaged by a cutter knife. In this way, a gravure cylinder having cushioning properties was completed. When a printing test was performed using this gravure cylinder, good printing performance was shown as in Example 1.
（実施例１２）
ＤＬＣ膜（タングステン層及び炭化タングステン層を含めて）をスパッタリングで形成した替わりにプラズマＣＶＤ法によって０．１μｍのＡｌ層及び１μｍのＤＬＣ層を形成した以外は、実施例１と同様にしてグラビア製版ロールを製造して、実施例１と同様の結果が得られることを確認した。
(Example 12)
Gravure engraving in the same manner as in Example 1 except that a 0.1 μm Al layer and a 1 μm DLC layer were formed by plasma CVD instead of forming a DLC film (including a tungsten layer and a tungsten carbide layer) by sputtering. A roll was manufactured, and it was confirmed that the same result as in Example 1 was obtained.
（実施例１３）
強化被覆層としてＤＬＣ層（タングステン層及び炭化タングステン層を含めて）の替わりに常法によってクロムメッキ層を形成した以外は実施例１と同様の手順でグラビアシリンダーを製造した。このグラビアシリンダーを用いて印刷テストを行ったところ、実施例１と同様に良好な印刷性能を示した。
(Example 13)
A gravure cylinder was manufactured in the same procedure as in Example 1 except that a chromium plating layer was formed by a conventional method instead of a DLC layer (including a tungsten layer and a tungsten carbide layer) as a reinforcing coating layer. When a printing test was performed using this gravure cylinder, good printing performance was shown as in Example 1.
１０：版母材、１０ａ：グラビア版（グラビア製版ロール）、１１ａ：中空ロール、１１ｂ：クッション層、１２：感光性組成物層、１２ａ：不溶化露光部分、１３：マスク、１４：グラビアセル、１８：強化被覆層、２０：光線。 10: Plate base material, 10a: Gravure plate (gravure plate making roll), 11a: Hollow roll, 11b: Cushion layer, 12: Photosensitive composition layer, 12a: Insolubilized exposed part, 13: Mask, 14: Gravure cell, 18 : Reinforcement coating layer, 20: Light beam.
Claims (14)
前記クッション層の表面にネガ型感光性組成物からなるネガ型感光性組成物層を形成する工程と、
該ネガ型感光性組成物層の表面にマスクを介して光線を照射し露光部分を現像液に対して不溶化する露光工程と、
未露光部分を現像液によって前記クッション層の表面が露出するまで溶解除去する現像工程と、
前記クッション層の露出部分をエッチング手段でエッチングしてグラビアセルを形成する工程と、
前記不溶化露光部分を剥離除去する工程と、
を含むことを特徴とするクッション性を有するグラビア版の製造方法。 A step of preparing a plate base material provided with a cushion layer made of rubber or a resin having cushioning properties on the surface;
Forming a negative photosensitive composition layer comprising a negative photosensitive composition on the surface of the cushion layer; and
An exposure step of irradiating the surface of the negative photosensitive composition layer with light through a mask to insolubilize the exposed portion with respect to a developer;
A development step of dissolving and removing unexposed portions with a developer until the surface of the cushion layer is exposed;
Etching the exposed portion of the cushion layer with an etching means to form a gravure cell;
Peeling and removing the insolubilized exposed portion;
A method for producing a gravure plate having cushioning characteristics, comprising:
（Ａ）カルボキシル基を有し且つエチレン性不飽和結合を有するポリマーと、
（Ｂ）近赤外線吸収色素と、
（Ｃ）少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有するモノマーと、
（Ｄ）アミノアルコール、アミノアルコールの誘導体及び環状アミンからなる群から選択される１種以上のアミン類と、
（Ｅ）有機ホウ素化合物と、
（Ｆ）下記式（１）で示されるスルホニル化合物と、
を含有することを特徴とする請求項１記載のグラビア版の製造方法。
(A) a polymer having a carboxyl group and having an ethylenically unsaturated bond;
(B) a near infrared absorbing dye,
(C) a monomer having at least one ethylenically unsaturated bond;
(D) one or more amines selected from the group consisting of amino alcohols, amino alcohol derivatives and cyclic amines;
(E) an organoboron compound;
(F) a sulfonyl compound represented by the following formula (1);
The method for producing a gravure plate according to claim 1, comprising:
（Ａ）カルボキシル基を有し且つエチレン性不飽和結合を有するポリマーと、
（Ｂ）近赤外線吸収色素と、
（Ｃ）少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有するモノマーと、
（Ｇ）２−メルカプトベンゾオキサゾール及び／又は２−メルカプトオキサゾールと、
（Ｈ）下記式（２）で示されるジフェニルヨードニウム塩と、
を含有することを特徴とする請求項１記載のグラビア版の製造方法。
(A) a polymer having a carboxyl group and having an ethylenically unsaturated bond;
(B) a near infrared absorbing dye,
(C) a monomer having at least one ethylenically unsaturated bond;
(G) 2-mercaptobenzoxazole and / or 2-mercaptooxazole;
(H) a diphenyliodonium salt represented by the following formula (2);
The method for producing a gravure plate according to claim 1, comprising:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008241492A JP5198999B2 (en) | 2007-09-20 | 2008-09-19 | Method for producing a gravure plate having cushioning properties |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007243776 | 2007-09-20 | ||
| JP2007243776 | 2007-09-20 | ||
| JP2008241492A JP5198999B2 (en) | 2007-09-20 | 2008-09-19 | Method for producing a gravure plate having cushioning properties |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009093171A JP2009093171A (en) | 2009-04-30 |
| JP5198999B2 true JP5198999B2 (en) | 2013-05-15 |
Family
ID=40665170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008241492A Active JP5198999B2 (en) | 2007-09-20 | 2008-09-19 | Method for producing a gravure plate having cushioning properties |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5198999B2 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7016817B2 (en) | 2017-02-07 | 2022-02-07 | ヤマハ発動機株式会社 | Component mounting device |
| JP7427652B2 (en) | 2019-03-08 | 2024-02-05 | ヤマハ発動機株式会社 | A system and component mounting system consisting of a mounting data creation support device, a mounting data creation support method, a visual inspection machine, and a control device. |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011004758A1 (en) * | 2009-07-09 | 2011-01-13 | 株式会社シンク・ラボラトリー | Solar battery manufacturing method and solar battery |
| JP5413124B2 (en) * | 2009-10-22 | 2014-02-12 | Ｊｓｒ株式会社 | Positive radiation-sensitive composition, interlayer insulating film and method for forming the same |
| ES2651587T3 (en) * | 2010-04-06 | 2018-01-29 | Think Laboratory Co., Ltd. | Processing system to prepare a gravure plate completely automatically |
| JP2012154964A (en) * | 2011-01-21 | 2012-08-16 | Think Laboratory Co Ltd | Roll with pattern and method for manufacturing the same |
| WO2013176029A1 (en) * | 2012-05-25 | 2013-11-28 | 株式会社シンク・ラボラトリー | Patterned roll and manufacturing method therefor |
| JP5903495B2 (en) * | 2013-02-12 | 2016-04-13 | 株式会社シンク・ラボラトリー | Manufacturing method of patterning roll for continuous plating |
| CN110686544B (en) * | 2019-10-08 | 2021-02-26 | 北京航天发射技术研究所 | Anti-infrared detection system and preparation method thereof |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02198844A (en) * | 1989-01-27 | 1990-08-07 | Shinoda Shoji Kk | Forming of relief |
| JPH05289320A (en) * | 1992-04-07 | 1993-11-05 | Dainippon Printing Co Ltd | Multistage thermographic printing plate and production of this printing plate |
| JP4117943B2 (en) * | 1998-06-18 | 2008-07-16 | 株式会社シンク・ラボラトリー | Method for producing a printing plate having cushioning properties |
| JP4548750B2 (en) * | 1998-08-03 | 2010-09-22 | 大日本印刷株式会社 | Manufacturing method of color filter |
| JP3918085B2 (en) * | 2001-09-13 | 2007-05-23 | 株式会社村田製作所 | Gravure printing plates and laminated electronic components |
| JP4432422B2 (en) * | 2003-09-25 | 2010-03-17 | 凸版印刷株式会社 | Copper plating film and gravure plate and lens mold using the same |
| JP4579768B2 (en) * | 2004-06-02 | 2010-11-10 | セイコーエプソン株式会社 | Method for producing electrophoretic display sheet, electrophoretic display sheet and use thereof |
| JP2007142080A (en) * | 2005-11-17 | 2007-06-07 | Bridgestone Corp | Electromagnetic-wave-shielding and light-transmissive window material and its manufacturing method |
| JP2007213045A (en) * | 2006-01-16 | 2007-08-23 | Fujifilm Corp | Antireflection film, polarizing plate, and display apparatus |
-
2008
- 2008-09-19 JP JP2008241492A patent/JP5198999B2/en active Active
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7016817B2 (en) | 2017-02-07 | 2022-02-07 | ヤマハ発動機株式会社 | Component mounting device |
| JP7427652B2 (en) | 2019-03-08 | 2024-02-05 | ヤマハ発動機株式会社 | A system and component mounting system consisting of a mounting data creation support device, a mounting data creation support method, a visual inspection machine, and a control device. |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2009093171A (en) | 2009-04-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5198999B2 (en) | Method for producing a gravure plate having cushioning properties | |
| JP5198998B2 (en) | Gravure plate having cushioning properties and manufacturing method thereof | |
| JP2009096189A (en) | Center drum type gravure printing apparatus | |
| JP2009090661A (en) | Gravure platemaking roll and its manufacturing method | |
| JP5344879B2 (en) | Gravure printing device | |
| JP2009090663A (en) | Gravure simultaneously perfecting printer | |
| CN103282211A (en) | Planographic printing plate precursor and planographic printing method | |
| WO2018082499A1 (en) | Heat-sensitive processless planographic printing plate material containing thermosensitive protection layer, and use | |
| JP4225979B2 (en) | Photosensitive laminated printing original for letter press printing and method for producing letter press printing using the photosensitive laminated printing original for letter press printing | |
| CN102460308B (en) | Preparing lithographc printing plates with enhanced contrast | |
| US20070259295A1 (en) | Positive Photosensitive Composition | |
| JP5131707B2 (en) | Gravure plate having cushioning properties and manufacturing method thereof | |
| JP5166016B2 (en) | Negative photosensitive composition | |
| JPH11212252A (en) | Lithographic printing plate | |
| JP2010094807A (en) | Heating roller with recessed part | |
| KR100676737B1 (en) | Positive photosensitive composition | |
| JP5117790B2 (en) | Negative photosensitive composition | |
| JPH11231535A (en) | Lithographic printing plate | |
| JP4242815B2 (en) | Positive photosensitive composition | |
| JP2009090660A (en) | Gravure platemaking roll and its manufacturing method | |
| JP2009072828A (en) | Embossing roll, and method for producing the same | |
| JP5185843B2 (en) | Photosensitive composition and planographic printing plate | |
| JP5144996B2 (en) | Method for producing photosensitive layer of electrophotographic photosensitive member | |
| JP2005284143A (en) | Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate | |
| JP2008170665A (en) | Waterless planographic printing plate precursor |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110615 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120914 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120919 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121023 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130205 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130207 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160215 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5198999 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |