JP2007142080A - Electromagnetic-wave-shielding and light-transmissive window material and its manufacturing method - Google Patents

Electromagnetic-wave-shielding and light-transmissive window material and its manufacturing method Download PDF

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JP2007142080A JP2005332642A JP2005332642A JP2007142080A JP 2007142080 A JP2007142080 A JP 2007142080A JP 2005332642 A JP2005332642 A JP 2005332642A JP 2005332642 A JP2005332642 A JP 2005332642A JP 2007142080 A JP2007142080 A JP 2007142080A
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Teruo Miura
映生 三浦
Tatsuya Funaki
竜也 船木
Hideshi Kotsubo
秀史 小坪
Yasuhiro Morimura
泰大 森村
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing an electromagnetic-wave-shielding and light-transmissive window material by forming a plated layer with a uniform thickness on a meshy conductive layer, and an advantageous simple plating device therefor. <P>SOLUTION: The manufacturing method includes a step (1) of forming dots 22 made of substance solubles in a solvent on a transparent substrate 21; a step (2-1) of forming a first anti-glare layer 23 by vapor-phase-forming a film of at least one inorganic compound selected from a metal sulfide, metal carbide, a carbon substance, and a metal nitride on the surface of the transparent substrate 21 having the formed dots 22; a step (3) of forming a metallic conductive layer 24 by vapor-phase-forming a film of a conductive metal, an alloy or a metal oxide on the first anti-glare layer 23; and a step (4-1) of bringing the solvent into contact with at least the dots 22 of the transparent substrate 21 having the dots 22, the first anti-glare layer 23, and the metallic conductive layer 24 to remove the dots 22 and the two layers on the dots 22. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明はＰＤＰ（プラズマディスプレーパネル）の前面フィルタや、病院などの電磁波シールドを必要とする建築物の窓材料（例えば貼着用フィルム）等として有用な電磁波シールド性光透過窓材、及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an electromagnetic wave shielding light-transmitting window material useful as a front filter of a plasma display panel (PDP), a window material of a building requiring an electromagnetic wave shield such as a hospital (for example, a sticking film), and the like. About.

近年、ＯＡ機器や通信機器等の普及にともない、これらの機器から発生する電磁波によりもたらされる人体への影響が懸念されている。また、電磁波により精密機器の誤作動等を起こす場合もあり、電磁波が問題視されている。   In recent years, with the spread of OA equipment, communication equipment, etc., there is a concern about the influence on the human body caused by electromagnetic waves generated from these equipment. In addition, there are cases where a precision instrument malfunctions due to electromagnetic waves, and electromagnetic waves are regarded as a problem.

従来から、ＯＡ機器のＰＤＰの前面フィルタとして、電磁波シールド性を有し、かつ光透過性の窓材が開発され、実用に供されている。このような窓材はまた、携帯電話等の電磁波から精密機器を保護するために、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材としても利用されている。   2. Description of the Related Art Conventionally, window materials having electromagnetic shielding properties and light transmission properties have been developed and put into practical use as front filters for PDPs in OA equipment. Such a window material is also used as a window material for a precision device installation place such as a hospital or a laboratory in order to protect the precision device from electromagnetic waves such as a mobile phone.

上記電磁波シールド性光透過窓材としては、(1)金属銀を含む透明導電薄膜が設けられた透明フィルム、(2)金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュを設けた透明フィルム、(3)透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、(4)透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。   As the electromagnetic shielding light transmitting window material, (1) a transparent film provided with a transparent conductive thin film containing metallic silver, (2) a transparent film provided with a conductive mesh made of a metal wire or conductive fiber in a net-like shape, ( 3) A layer of copper foil or the like on a transparent film is etched into a net shape to provide an opening, and (4) a conductive ink is printed on a transparent film in a mesh shape.

(1)の透明導電薄膜は、例えば高屈折率透明薄膜と銀薄膜をスパッタリングにより交互積層したものであり、(2)の導電メッシュは、例えば有機繊維の網に銅メッキを施したものであり、そして(3)の網状の銅箔は、例えば銅箔をＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）に貼り付け、銅箔にレジスト材料を塗布し、特定形状のフォトマスクを介してレジストに露光、現像し、露出した銅箔をエッチングすることにより得られるものである（特許文献１：特開平１１−３３７７０２号公報、段落番号００１８参照）。(4)の導電性フィルムは、導電性微粒子をバインダに分散させたインクをフィルム上にメッシュパターン状に印刷したものである。   The transparent conductive thin film of (1) is obtained by alternately laminating a high refractive index transparent thin film and a silver thin film by sputtering, for example, and the conductive mesh of (2) is obtained by, for example, copper plating on a net of organic fibers. And, the (3) reticulated copper foil is, for example, a copper foil is affixed to PET (polyethylene terephthalate), a resist material is applied to the copper foil, and the resist is exposed and developed through a photomask of a specific shape. It is obtained by etching the copper foil (see Patent Document 1: Japanese Patent Laid-Open No. 11-337702, paragraph 0018). The conductive film (4) is obtained by printing ink in which conductive fine particles are dispersed in a binder in a mesh pattern on the film.

しかしながら、(1)の透明導電薄膜は導電性が十分得られない。また(2)の導電メッシュは、一般に、メッシュを構成する導電性繊維の線径が太いものは目が粗く、線径が細くなると目が細かくなっている。これは、線径の太い繊維であれば、目の粗いメッシュとすることは可能であるが、線径の細い繊維で目の粗いメッシュを形成することは非常に困難であることによる。このため、このような導電性メッシュを用いた従来の電磁波シールド性光透過窓材では、光透過率の良いものでも、高々７０％程度であり、良好な光透過性を得ることができないという欠点があった。   However, the transparent conductive thin film (1) does not have sufficient conductivity. The conductive mesh (2) generally has a coarse mesh when the conductive fiber constituting the mesh has a large wire diameter, and the mesh becomes finer as the wire diameter becomes smaller. This is because if the fiber has a large wire diameter, it is possible to form a coarse mesh, but it is very difficult to form a coarse mesh with a thin wire diameter. For this reason, in the conventional electromagnetic wave shielding light transmission window material using such a conductive mesh, even if the light transmittance is good, it is at most about 70%, and it is not possible to obtain good light transmittance. was there.

(3)のエッチング加工及び(4)パターン印刷により、所望のメッシュ状の導電層を形成することができることから、線幅や間隔、網目形状の自由度は導電性メッシュに比べて格段に大きく、線幅２００μｍ以下、開口率７５％以上という細線で開口率の高いメッシュ状の導電層であっても形成可能である。但し、(3)ではエッチング加工において設備が必要であり、また工程が煩雑でコスト高となるとの不利がある。一方、(4)メッシュ状のパターン印刷は上記導電層の形成が特に容易で有利であり、このような細線で目の粗い導電層を形成した導電性印刷膜であれば、良好な光透過性を得ることができると共に、モアレ現象を防止することができる。   Since the desired mesh-like conductive layer can be formed by the etching process of (3) and (4) pattern printing, the line width and spacing, the degree of freedom of the mesh shape is much larger than that of the conductive mesh, Even a mesh-like conductive layer with a thin line having a line width of 200 μm or less and an aperture ratio of 75% or more and a high aperture ratio can be formed. However, (3) is disadvantageous in that it requires equipment for the etching process, and the process is complicated and expensive. On the other hand, (4) mesh-like pattern printing is particularly easy and advantageous for the formation of the conductive layer described above. And the moire phenomenon can be prevented.

しかしながら、(4)の導電性インクの印刷は、この導電性微粒子のインク中での分散状態を保つためにインクの粘性を十分に高くしておく必要があり、このため、インク線幅を著しく小さくすることはできず、開口率も著しく大きくすることはできなかった。   However, in the printing of the conductive ink (4), it is necessary to sufficiently increase the viscosity of the ink in order to maintain the dispersion state of the conductive fine particles in the ink. Therefore, the ink line width is remarkably increased. The aperture ratio could not be reduced, and the aperture ratio could not be increased significantly.

特許文献２（特開２００１−３３２８８９号公報）には、上記パターン印刷法を改良した、線幅が十分に小さく、開口率も著しく高いメッシュ状の導電層を有した電磁波シールド性光透過窓材を製造する方法が、開示されている。その製造方法は、フィルム面に、溶剤に対して可溶な物質によってドットを形成し、該フィルム面に該溶剤に対して不溶な導電材料よりなる導電材料層を形成し、該フィルム面を該溶剤と接触させて該ドット及び該ドット上の導電材料層を除去する方法である。   Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-332889) discloses an electromagnetic wave shielding light-transmitting window material having a mesh-like conductive layer with a sufficiently small line width and a remarkably high aperture ratio, which is an improvement of the pattern printing method. A method of manufacturing is disclosed. In the manufacturing method, dots are formed on a film surface by a substance soluble in a solvent, a conductive material layer made of a conductive material insoluble in the solvent is formed on the film surface, and the film surface is In this method, the dots and the conductive material layer on the dots are removed by contacting with a solvent.

このようにして形成された線幅が十分に小さく、開口率も著しく高いメッシュ状の導電層は、膜厚が小さいため、電磁波シールド性光透過窓材に好適に使用できる高い導電性とするには、この導電層上にさらにメッキを行って、膜厚を大きくした方が望ましい。   Since the mesh-like conductive layer formed in this way has a sufficiently small line width and a remarkably high aperture ratio, the film thickness is small, so that the conductive layer can be suitably used for an electromagnetic wave shielding light transmitting window material. It is desirable to increase the film thickness by further plating on the conductive layer.

上記のような開口率の高い電磁波シールド性光透過窓材であっても、ＰＤＰ等に用いた場合、その表示面が平面であることから、外光が差し込んだ際に広い範囲で反射した光が同時に観察者の目に入り、眩しさにより画面が見難くなることがあり、視認性が十分でないとの問題がある。従って、光透過性及び電磁波シールド性に優れると共に、防眩性に優れた電磁波シールド性光透過窓材が求められている。   Even if it is an electromagnetic shielding light transmitting window material with a high aperture ratio as described above, when used in a PDP or the like, the display surface is flat, so that light reflected in a wide range when external light is inserted May enter the eyes of the observer at the same time, and the screen may be difficult to see due to glare, and there is a problem that the visibility is not sufficient. Therefore, there is a demand for an electromagnetic wave shielding light-transmitting window material that is excellent in light transmission and electromagnetic wave shielding properties, and also has excellent antiglare properties.

特許文献３（特開２００２−３７４０９４号公報）には、透明基板上に、溶剤に可溶な物質を用いてパターンを形成し、溶剤に不溶な防眩層を形成し、さらに該溶剤に不溶な導電層を形成した後、該溶剤により、パターンと、パターン上に形成された防眩層及び導電層とを除去することを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法が記載されている。この防眩層は黒又は暗色系インキで形成されている。   In Patent Document 3 (Japanese Patent Laid-Open No. 2002-374094), a pattern is formed on a transparent substrate using a substance soluble in a solvent, an antiglare layer insoluble in the solvent is formed, and further insoluble in the solvent. A method for producing an electromagnetic wave shielding light-transmitting window material characterized by removing a pattern and an antiglare layer and a conductive layer formed on the pattern with the solvent after forming a conductive layer is described. Yes. This antiglare layer is formed of black or dark ink.

特開平１１−３３７７０２号公報JP-A-11-337702 特開２００１−３３２８８９号公報JP 2001-332889 A 特開２００２−３７４０９４号公報JP 2002-374094 A

しかしながら、上記の防眩層はインキを用いているため、十分な防眩性が得られない場合があることが明らかとなった。即ち、一般に、印刷インキはポリマー等の有機物質のバインダを用いているため、黒色密度が低く、防眩層性を高めるには膜厚を過度に大きくしなければならない。また、バインダ成分が有機物質のためＰＤＰから発生する電磁波により劣化することから耐久性が問題となる場合がある。   However, since the above antiglare layer uses ink, it has become clear that sufficient antiglare properties may not be obtained. That is, generally, since printing ink uses a binder of an organic substance such as a polymer, the black density is low, and the film thickness must be excessively increased to improve the antiglare layer property. In addition, since the binder component is an organic substance, it is deteriorated by electromagnetic waves generated from the PDP, so durability may be a problem.

本発明者等は、電磁波シールド性光透過窓材に優れた防眩性を付与するため検討を重ね、本発明に到達したものである。   The inventors of the present invention have repeatedly studied in order to impart excellent antiglare properties to the electromagnetic wave shielding light transmitting window material, and have reached the present invention.

従って、本発明は、優れた防眩性を有する電磁波シールド性光透過窓材を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an electromagnetic wave shielding light transmitting window material having excellent antiglare properties.

また本発明は、優れた防眩性及び高い透明性を有する電磁波シールド性光透過窓材を提供することを目的とする。   Another object of the present invention is to provide an electromagnetic wave shielding light-transmitting window material having excellent antiglare properties and high transparency.

さらに本発明は、優れた防眩性を有する電磁波シールド性光透過窓材の製造方法を提供することを目的とする。   Furthermore, an object of this invention is to provide the manufacturing method of the electromagnetic wave shielding light transmission window material which has the outstanding anti-glare property.

また、本発明は、優れた防眩性及び高い透明性を有する電磁波シールド性光透過窓材の製造方法を提供することを目的とする。   Moreover, an object of this invention is to provide the manufacturing method of the electromagnetic wave shielding light transmissive window material which has the outstanding anti-glare property and high transparency.

さらに本発明は上記電磁波シールド性光透過窓材を備えた電磁波シールド性のディスプレイ用フィルタを提供することを目的とする。   Furthermore, an object of the present invention is to provide an electromagnetic wave shielding display filter provided with the electromagnetic wave shielding light transmitting window material.

本発明者等の検討によれば、色が黒又は茶系の金属硫化物等の無機化合物を真空蒸着等の気相成膜法により薄膜で成膜することにより、極めて優れた防眩性を容易に且つ安定的に獲得することができることが明らかとなり本発明に到達した。   According to the study by the present inventors, an extremely excellent antiglare property can be obtained by forming an inorganic compound such as a black or brown metal sulfide with a thin film by a vapor deposition method such as vacuum deposition. It has become clear that it can be obtained easily and stably, and the present invention has been achieved.

従って、本発明は、
透明基板上に、溶剤に対して可溶な物質からなるドットを形成する工程（１）、
ドットが形成された透明基板のその表面に、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも１種の無機化合物を気相成膜することにより第一防眩層を形成する工程（２−１）、
第一防眩層上に、導電性の金属、合金又は金属酸化物を気相成膜して、金属導電層を形成する工程（３）、及び
ドット、第一防眩層及び金属導電層を有する透明基板に、溶剤を接触させてドット及びドット上の二層を除去する工程（４−１）
を含む電磁波シールド性光透過窓材の製造方法；
透明基板上に、溶剤に対して可溶な物質からなるドットを形成する工程（１）、
ドットが形成された透明基板のその表面に、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも１種の無機化合物を気相成膜することにより第一防眩層を形成する工程（２−１）、
第一防眩層上に、導電性の金属、合金又は金属酸化物を気相成膜して、金属導電層を形成する工程（３）、
金属導電層上に、色が黒又は茶系の無機化合物を気相成膜することにより第二防眩層を形成する工程（２−２）、及び
ドット、第一及び第二防眩層及び金属導電層を有する透明基板に溶剤を接触させてドット及びドット上の三層を除去する工程（４−２）
を含む電磁波シールド性光透過窓材の製造方法；
透明基板上に、溶剤に対して可溶な物質からなるドットを形成する工程（１）、
ドットが形成された透明基板のその表面に、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも１種の無機化合物を気相成膜することにより第一防眩層を形成する工程（２−１）、
第一防眩層上に、導電性の金属、合金又は金属酸化物を気相成膜して、金属導電層を形成する工程（３）、
金属導電層の少なくとも表面を黒化処理して黒化処理層を形成する工程（６−１）、及び
ドット、第一防眩層、金属導電層及び黒化処理層を有する透明基板に、溶剤を接触させてドット及びドット上の三層を除去する工程（４−３）
を含む電磁波シールド性光透過窓材の製造方法；及び
透明基板上に、溶剤に対して可溶な物質からなるドットを形成する工程（１）、
ドットが形成された透明基板のその表面に、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも１種の無機化合物を気相成膜することにより第一防眩層を形成する工程（２−１）、
第一防眩層上に、導電性の金属、合金又は金属酸化物を気相成膜して、金属導電層を形成する工程（３）、
ドット、第一防眩層及び金属導電層を有する透明基板に、溶剤を接触させてドット及びドット上の二層を除去する工程（４−４）
金属導電層上に電気メッキによる金属メッキ層を形成する工程（７）、及び
金属メッキ層の少なくとも表面を黒化処理して黒化処理層を形成する工程（６−２）、
を含む電磁波シールド性光透過窓材の製造方法（工程（４−４）を最後においても良い）；
にある。 Therefore, the present invention
Forming a dot made of a substance soluble in a solvent on the transparent substrate (1),
A first antiglare layer is formed on the surface of the transparent substrate on which dots are formed by vapor-phase deposition of at least one inorganic compound selected from metal sulfides, metal carbides, carbon substances and metal nitrides Step (2-1) to perform,
A step (3) of forming a metal conductive layer by vapor-depositing a conductive metal, alloy or metal oxide on the first anti-glare layer, and a dot, first anti-glare layer and metal conductive layer (4-1) The process which makes a solvent contact the transparent substrate which has, and removes two layers on a dot and a dot
A method for producing an electromagnetic wave shielding light transmissive window material comprising:
Forming a dot made of a substance soluble in a solvent on the transparent substrate (1),
A first antiglare layer is formed on the surface of the transparent substrate on which dots are formed by vapor-phase deposition of at least one inorganic compound selected from metal sulfides, metal carbides, carbon substances and metal nitrides Step (2-1) to perform,
A step (3) of forming a metal conductive layer by vapor-forming a conductive metal, alloy or metal oxide on the first antiglare layer;
A step (2-2) of forming a second anti-glare layer by vapor-depositing a black or brown inorganic compound on the metal conductive layer; and dots, first and second anti-glare layers, and A step of contacting the solvent with the transparent substrate having the metal conductive layer to remove the dots and the three layers on the dots (4-2)
A method for producing an electromagnetic wave shielding light transmissive window material comprising:
Forming a dot made of a substance soluble in a solvent on the transparent substrate (1),
A first antiglare layer is formed on the surface of the transparent substrate on which dots are formed by vapor-phase deposition of at least one inorganic compound selected from metal sulfides, metal carbides, carbon substances and metal nitrides Step (2-1) to perform,
A step (3) of forming a metal conductive layer by vapor-forming a conductive metal, alloy or metal oxide on the first antiglare layer;
A step (6-1) of forming a blackening treatment layer by blackening at least the surface of the metal conductive layer; and a transparent substrate having dots, a first antiglare layer, a metal conductive layer and a blackening treatment layer; Removing the dots and the three layers on the dots by bringing them into contact with each other (4-3)
And (1) a step of forming a dot made of a substance soluble in a solvent on a transparent substrate;
A first antiglare layer is formed on the surface of the transparent substrate on which dots are formed by vapor-phase deposition of at least one inorganic compound selected from metal sulfides, metal carbides, carbon substances and metal nitrides Step (2-1) to perform,
A step (3) of forming a metal conductive layer by vapor-forming a conductive metal, alloy or metal oxide on the first antiglare layer;
A process of removing the dots and the two layers on the dots by bringing the solvent into contact with the transparent substrate having the dots, the first antiglare layer and the metal conductive layer (4-4)
A step (7) of forming a metal plating layer by electroplating on the metal conductive layer, and a step (6-2) of forming a blackening treatment layer by blackening at least the surface of the metal plating layer;
A method for producing an electromagnetic wave shielding light-transmitting window material containing (the step (4-4) may be the last);
It is in.

上記の工程の番号における最初の番号は、共通の処理を行うことを意味し、例えば（２−１）、（２−２）は共に防眩層の形成の工程を意味する。     The first number in the above process numbers means that a common treatment is performed. For example, (2-1) and (2-2) both mean the process of forming an antiglare layer.

上記本発明の製造方法において、
第一又は第二防眩層の無機化合物が、黒又は茶系の色を有することが好ましい。また、無機化合物が、ＣｕＳ、Ｃｕ2Ｓ、ＮｉＳ、ＡｇＳ、ＳｎＳ、ＣｏＳからなる群から選択される少なくとも一種の金属硫化物；ＴｉＣ及びＳｉＣからなる群から選択される少なくとも一種の金属炭化物；黒鉛及びカーボンブラックからなる群から選択される少なくとも一種の炭素物質；或いはＴｉＮの金属窒化物であることが好ましい。防眩性としては、金属硫化物（特にＣｕ2Ｓ）がなかでも優れており、好ましい。 In the production method of the present invention,
It is preferable that the inorganic compound of the first or second antiglare layer has a black or brown color. Also, the inorganic compound is at least one metal sulfide selected from the group consisting of CuS, Cu 2 S, NiS, AgS, SnS, CoS; at least one metal carbide selected from the group consisting of TiC and SiC; graphite And at least one carbon material selected from the group consisting of carbon black; or TiN metal nitride. As anti-glare properties, metal sulfides (particularly Cu 2 S) are particularly excellent and preferable.

第一又は第二防眩層の厚さは、１００〜１００００Å、特に１００〜1０００Åが好ましい。   The thickness of the first or second antiglare layer is preferably 100 to 10,000 mm, particularly preferably 100 to 1,000 mm.

前記ドット間の幅が５〜４０μｍであること、前記ドットの面積の、ドットを有する全表面積に対する割合（開口率に対応）が、７０〜９５％であることが好ましい。ドットは一般に印刷により形成される。溶剤に対して可溶な物質としては、ポリビニルアルコールが好ましい。   The width between the dots is preferably 5 to 40 μm, and the ratio of the area of the dots to the total surface area having the dots (corresponding to the aperture ratio) is preferably 70 to 95%. The dots are generally formed by printing. Polyvinyl alcohol is preferable as the substance soluble in the solvent.

金属導電層が、金属（特に銀、銅又はアルミニウム）からなることが好ましい。また金属メッキ層の形成に使用する金属が、銅であることが好ましい。優れた導電性が得られる。   The metal conductive layer is preferably made of metal (particularly silver, copper or aluminum). Moreover, it is preferable that the metal used for formation of a metal plating layer is copper. Excellent conductivity is obtained.

また、本発明は、上記製造方法により得られる電磁波シールド性光透過窓材にもある。   Moreover, this invention exists also in the electromagnetic wave shielding light transmission window material obtained by the said manufacturing method.

さらに本発明は、
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、色が黒又は茶系の無機化合物からなる第一防眩層、及び
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層を含む電磁波シールド性光透過窓材；
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、色が黒又は茶系の無機化合物からなる第一防眩層、
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、及び
金属導電層上に形成された、色が黒又は茶系の無機化合物からなる第二防眩層を含む電磁波シールド性光透過窓材；
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、色が黒又は茶系の無機化合物からなる第一防眩層、
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、及び
金属導電層の少なくとも表面を黒化処理して形成された黒化処理層、
を含む電磁波シールド性光透過窓材；及び
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、色が黒又は茶系の無機化合物からなる第一防眩層、及び
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、
金属導電層上に形成された電気メッキによる金属メッキ層、及び
金属メッキ層の少なくとも表面を黒化処理して形成された黒化処理層、
を含む電磁波シールド性光透過窓材；
にある。 Furthermore, the present invention provides
A first anti-glare layer made of a black or brown inorganic compound formed in a mesh on the surface of the transparent substrate, and a conductive metal, alloy or metal oxide formed on the first anti-glare layer An electromagnetic shielding light-transmitting window material comprising a metal conductive layer made of a material;
A first antiglare layer formed of a black or brown inorganic compound, formed in a mesh on the surface of the transparent substrate;
A metal conductive layer made of a conductive metal, alloy or metal oxide formed on the first anti-glare layer, and a second made of a black or brown-based inorganic compound formed on the metal conductive layer. Electromagnetic shielding light transmission window material including an antiglare layer;
A first antiglare layer formed of a black or brown inorganic compound, formed in a mesh on the surface of the transparent substrate;
A metal conductive layer made of a conductive metal, alloy or metal oxide formed on the first anti-glare layer, and a blackened layer formed by blackening at least the surface of the metal conductive layer;
An electromagnetic shielding light-transmitting window material comprising: a first anti-glare layer formed of a black or brown-based inorganic compound formed in a mesh shape on the surface of the transparent substrate; and formed on the first anti-glare layer A metal conductive layer made of conductive metal, alloy or metal oxide,
A metal plating layer by electroplating formed on the metal conductive layer, and a blackening treatment layer formed by blackening at least the surface of the metal plating layer;
An electromagnetic shielding light-transmitting window material comprising:
It is in.

第一又は第二防眩層は、一般に、無機化合物の気相成膜により形成されている。特に、第一又は第二防眩層は、金属硫化物、金属炭化物及び／又は金属窒化物からなることが好ましい。   The first or second antiglare layer is generally formed by vapor deposition of an inorganic compound. In particular, the first or second antiglare layer is preferably made of a metal sulfide, a metal carbide and / or a metal nitride.

上記窓材においても、前記製造方法の好適態様を適用することができる。   The suitable aspect of the said manufacturing method is applicable also to the said window material.

前記金属導電層のメッシュの線幅が５〜４０μｍ、その開口率が７０〜９５％であることが好ましい。優れた電磁波シールド性を有する光透過窓材を作製するのに好適である。   The metal conductive layer preferably has a mesh line width of 5 to 40 μm and an aperture ratio of 70 to 95%. It is suitable for producing a light transmission window material having excellent electromagnetic shielding properties.

また本発明は、
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、無機化合物からなり、彩度が５．０以下である第一防眩層、及び
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層を含む電磁波シールド性光透過窓材；
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、無機化合物からなり、彩度が５．０以下である第一防眩層、
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、及び
金属導電層上に形成された、無機化合物からなり、彩度が５．０以下である第二防眩層を含む電磁波シールド性光透過窓材；
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、無機化合物からなり、彩度が５．０以下である第一防眩層、
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、及び
金属導電層の少なくとも表面を黒化処理して形成された黒化処理層、
を含む電磁波シールド性光透過窓材；
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、無機化合物からなり、彩度が５．０以下である第一防眩層、及び
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、
金属導電層上に形成された電気メッキによる金属メッキ層、及び
金属メッキ層の少なくとも表面を黒化処理して形成された黒化処理層、
を含む電磁波シールド性光透過窓材にもある。 The present invention also provides
A first anti-glare layer made of an inorganic compound and having a chroma of 5.0 or less formed on the surface of a transparent substrate, and a conductive metal or alloy formed on the first anti-glare layer Or an electromagnetic wave shielding light transmitting window material comprising a metal conductive layer made of a metal oxide;
A first anti-glare layer made of an inorganic compound formed in a mesh shape on the surface of the transparent substrate and having a chroma of 5.0 or less;
It is composed of a conductive metal, alloy or metal oxide formed on the first antiglare layer, and an inorganic compound formed on the conductive metal layer, and has a saturation of 5.0 or less. An electromagnetic shielding light transmitting window material comprising a second antiglare layer;
A first anti-glare layer made of an inorganic compound formed in a mesh shape on the surface of the transparent substrate and having a chroma of 5.0 or less;
A metal conductive layer made of a conductive metal, alloy or metal oxide formed on the first anti-glare layer, and a blackened layer formed by blackening at least the surface of the metal conductive layer;
An electromagnetic shielding light-transmitting window material comprising:
A first anti-glare layer made of an inorganic compound and having a chroma of 5.0 or less formed on the surface of a transparent substrate, and a conductive metal or alloy formed on the first anti-glare layer Or a metal conductive layer made of a metal oxide,
A metal plating layer by electroplating formed on the metal conductive layer, and a blackening treatment layer formed by blackening at least the surface of the metal plating layer;
There is also an electromagnetic shielding light transmission window material containing.

上記彩度は、Ｌ*ａ*ｂ*表色系をａ*ｂ*をミノルタ分光側色計（ＣＭ−５０８ｉ）で測定した。測定はＪＩＳ−Ｚ−８７２９に従い測定した。 The saturation was measured with a Minolta spectroscopic colorimeter (CM-508i) for the L * a * b * color system and a * b * . The measurement was performed according to JIS-Z-8729.

Figure 2007142080
Figure 2007142080

上記電磁波シールド性光透過窓材も、前述の電磁波シールド性光透過窓材における好適対応を適用することができる。   The electromagnetic wave shielding light transmissive window material can also be applied to a suitable countermeasure in the above-described electromagnetic wave shielding light transmissive window material.

さらに本発明は、前記の製造方法により得られる電磁波シールド性光透過窓材又は前記電磁波シールド性光透過窓材が透明基体に貼り合わされてなるディスプレイ用フィルタにもある。   Furthermore, the present invention also resides in a display filter obtained by bonding an electromagnetic wave shielding light transmissive window material obtained by the above manufacturing method or the electromagnetic wave shielding light transmissive window material to a transparent substrate.

本発明の製造方法により得られる電磁波シールド性光透過窓材は、優れた防眩性を示す防眩層を備えており、ＰＤＰ等に用いた場合、その表示面を見る人にとって反射光によるまぶしさをほとんどもたらすことがなく、鮮明な画像を見ることができる。従って、本発明の電磁波シールド性光透過窓材は視認性に優れたものであるということができる。   The electromagnetic wave shielding light-transmitting window material obtained by the production method of the present invention includes an antiglare layer exhibiting excellent antiglare properties, and when used in a PDP or the like, it is a glare caused by reflected light for a person viewing the display surface. A clear image can be seen with almost no loss. Therefore, it can be said that the electromagnetic wave shielding light-transmitting window material of the present invention is excellent in visibility.

また、電磁波シールド性光透過窓材の製造方法において、防眩層と金属導電層とが気相成膜（ドライ製法）により製造されるので、簡便な製造方法であるといえる。従って、特に、第一防眩層及び金属導電層、或いは第一防眩層、金属導電層及び第二防眩層により窓材を作成した場合は、全てドライ製法で得られるので、極めて簡便な製造方法と言うことができる。   Moreover, in the manufacturing method of an electromagnetic wave shielding light transmission window material, since an anti-glare layer and a metal conductive layer are manufactured by vapor-phase film-forming (dry manufacturing method), it can be said that it is a simple manufacturing method. Therefore, in particular, when the window material is made of the first antiglare layer and the metal conductive layer, or the first antiglare layer, the metal conductive layer and the second antiglare layer, all can be obtained by a dry manufacturing method. It can be said that it is a manufacturing method.

さらに本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、上記のように防眩性に優れ、電磁波シールド性も良好であり、さらにモアレの発生がほとんどなく、また開口率も高いことからも透明性にも優れている。このため、本発明の窓材は、プラズマディスプレーパネル（ＰＤＰ）の前面フィルタとして好適であり、また病院等の電磁波シールド性を必要とされる建築物の窓材料（例えば貼着用フィルム）等として有利に使用することができる。   Furthermore, the electromagnetic wave shielding light-transmitting window material of the present invention is excellent in antiglare property as described above, has good electromagnetic wave shielding properties, has almost no moiré, and has a high aperture ratio. Is also excellent. For this reason, the window material of the present invention is suitable as a front filter of a plasma display panel (PDP), and is advantageous as a window material (for example, a sticking film) of a building that requires electromagnetic shielding properties such as a hospital. Can be used for

本発明の防眩性に優れた電磁波シールド性光透過窓材を製造する方法及び電磁波シールド性光透過窓材について、以下に詳細に説明する。   The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmissive window material excellent in antiglare property of the present invention and the electromagnetic wave shielding light transmissive window material will be described in detail below.

本発明の製造方法によれば、メッシュの線幅が小さく、その開口率の大きい防眩層を備えた金属導電層を容易に得ることができ、従って得られる窓材は上記のように優れた透明性、防眩性を有するものである。   According to the production method of the present invention, a metal conductive layer having an antiglare layer having a small mesh line width and a large aperture ratio can be easily obtained, and thus the obtained window material is excellent as described above. It has transparency and antiglare property.

本発明の製造方法は、例えば以下のように行うことができる。図面を参照しながら説明する。   The production method of the present invention can be performed, for example, as follows. This will be described with reference to the drawings.

まず、図１に、本発明に従う防眩性に優れた窓材の作製方法の基本的な１例を説明するための概略断面図を示す。まず（１）に示すように透明基板１１上に水等の溶剤に対して可溶な材料（一般にポリマー）を用いてドット１２を印刷する。次いで、（２−１）に示すように、透明基板１１のドット１２の上及びドット１２の間の透明基板露出面のすべてを覆うように第１の防眩層１３をＣｕ2Ｓ等の無機化合物を真空蒸着等の気相成膜することにより形成する（但し、図１では、基板及びドットの全面に第１の防眩層が設けられているように描かれているが、実際は第１の防眩層は、主としてドットの表面及びドット間の基板表面に設けられ、ドット側面にはほとんど形成されていない）。その後、（３）に示すように、この第１防眩層１３の上に金属等を気相成膜することにより金属導電層１４を形成する。次いで、（４−１）に示すように、この透明基板１１上に形成された上記ドット及び２層を水等の溶剤によって洗浄する。この際、必要に応じ、超音波照射やブラシ、スポンジ等で擦るなどの溶解促進手段を併用してもよい。金属導電層１４を気相成膜で形成することにより、第１防眩層１３及び金属導電層１４の両方とも、ドライ処理により形成することができるので、製造が複雑化せず有利である。勿論、金属導電層を、金属等の微粒子を分散させた塗布液を塗布することにより形成することもできる。 First, FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view for explaining one basic example of a method for manufacturing a window material having excellent antiglare properties according to the present invention. First, as shown in (1), dots 12 are printed on a transparent substrate 11 using a material (generally a polymer) that is soluble in a solvent such as water. Next, as shown in (2-1), the first antiglare layer 13 is made of an inorganic material such as Cu 2 S so as to cover all of the exposed surface of the transparent substrate 11 above and between the dots 12 of the transparent substrate 11. The compound is formed by vapor-phase film formation such as vacuum deposition (however, in FIG. 1, the first antiglare layer is provided on the entire surface of the substrate and dots, but the first is actually The antiglare layer is provided mainly on the surface of the dots and the substrate surface between the dots, and is hardly formed on the side surfaces of the dots). Thereafter, as shown in (3), a metal conductive layer 14 is formed by vapor-depositing a metal or the like on the first antiglare layer 13. Next, as shown in (4-1), the dots and the two layers formed on the transparent substrate 11 are washed with a solvent such as water. At this time, if necessary, dissolution accelerating means such as ultrasonic irradiation, rubbing with a brush, sponge or the like may be used in combination. By forming the metal conductive layer 14 by vapor deposition, both the first antiglare layer 13 and the metal conductive layer 14 can be formed by dry processing, which is advantageous without making the manufacturing complicated. Of course, the metal conductive layer can also be formed by applying a coating liquid in which fine particles of metal or the like are dispersed.

上記洗浄により、（４−１）に示すように可溶性のドット１２が溶解し、このドット１２上の無機化合物の第１防眩層１３及び導電材料の金属導電層１４も透明基板１１から剥れて除去される。そして、ドット同士の間の領域に形成された金属導電層及び第１防眩層よりなる導電性パターン（導電層）が透明基板１１上に残る。この導電性パターンは、ドット１２間の領域を占めるものであるので、全体としてはメッシュ状（格子状）となる。これにより、本発明の窓材が得ることができる。   As a result of the washing, the soluble dots 12 are dissolved as shown in (4-1), and the first antiglare layer 13 of the inorganic compound and the metal conductive layer 14 of the conductive material on the dots 12 are also peeled off from the transparent substrate 11. Removed. Then, a conductive pattern (conductive layer) made of the metal conductive layer and the first antiglare layer formed in the region between the dots remains on the transparent substrate 11. Since this conductive pattern occupies the area between the dots 12, the entire conductive pattern has a mesh shape (lattice shape). Thereby, the window material of this invention can be obtained.

従って、ドット１２間の間隙を狭くしておくことにより、線幅の小さい格子状の導電性パターン（１３及び１４）を形成することができる。また、各ドット１２の面積を広くすることにより、開口率の大きなメッシュ状の導電性パターンが形成される。ドット１２を形成するための前記水等に対して可溶な印刷材料は、一般に微粒子を分散させる必要のないものであり、低粘性のものでも充分使用できる。この低粘性の印刷材料を使用することにより、微細なドットパターンとなるようにドットを印刷することができる。   Therefore, by making the gap between the dots 12 narrow, a grid-like conductive pattern (13 and 14) having a small line width can be formed. Further, by increasing the area of each dot 12, a mesh-like conductive pattern having a large aperture ratio is formed. The printing material soluble in water or the like for forming the dots 12 generally does not need to disperse fine particles, and even a low viscosity material can be used sufficiently. By using this low-viscosity printing material, dots can be printed so as to have a fine dot pattern.

なお、上記（４−１）の工程後、必要に応じ仕上げ洗浄（リンス）し、乾燥することにより、電磁波シールド性光透過窓材用の導電層が得られる。   In addition, the conductive layer for electromagnetic wave shielding light transmissive window materials is obtained by carrying out finish washing | cleaning (rinsing) as needed after the process of said (4-1), and drying.

このような導電層は、一般に、矩形の透明基板（一般にフィルム又はシート）上、或いは連続フィルム上に形成することができる。矩形の透明基板に導電層を形成した場合、各工程はバッチ式で行われ、連続フィルム上に形成された場合は、連続式、一般にロールトゥロール方式で行われる。   Such a conductive layer can generally be formed on a rectangular transparent substrate (generally a film or sheet) or on a continuous film. When a conductive layer is formed on a rectangular transparent substrate, each step is performed in a batch mode, and when formed on a continuous film, it is performed in a continuous mode, generally a roll-to-roll mode.

次ぎに、本発明本発明に従う防眩性に優れた窓材の作製方法における別の１例を説明するための概略断面図を図２に示す。ここでは、図１で得られた金属導電層にさらに第２の防眩層を設けて、よりいっそう防眩性を高めたものである。以下詳細に説明する。   Next, FIG. 2 shows a schematic cross-sectional view for explaining another example in the method for producing a window material excellent in antiglare property according to the present invention. Here, a second antiglare layer is further provided on the metal conductive layer obtained in FIG. 1 to further improve the antiglare property. This will be described in detail below.

まず（１）に示すように透明基板２１上に水等の溶剤に対して可溶な材料（一般にポリマー）を用いてドット２２を印刷する。次いで、（２−１）に示すように、透明基板２１のドット２２の上及びドット２２の間の透明基板露出面のすべてを覆うように第１の防眩層２３をＣｕ2Ｓ等の無機化合物を気相成膜することにより形成する。その後、（３）に示すように、この第１防眩層２３の上に金属等を気相成膜することにより金属導電層２４を形成する。次いで、（２−２）に示すように、金属導電層２４のすべてを覆うように第２の防眩層２５をＣｕ2Ｓ等の無機化合物を気相成膜することにより形成する。続いて、（４−２）に示すように、この透明基板２１上に形成された上記ドット及び３層を水等の溶剤によって洗浄する。この際、必要に応じ、超音波照射やブラシ、スポンジ等で擦るなどの溶解促進手段を併用してもよい。 First, as shown in (1), dots 22 are printed on a transparent substrate 21 using a material (generally a polymer) that is soluble in a solvent such as water. Next, as shown in (2-1), the first antiglare layer 23 is made of an inorganic material such as Cu 2 S so as to cover all of the exposed surface of the transparent substrate 21 above and between the dots 22 of the transparent substrate 21. The compound is formed by vapor deposition. Thereafter, as shown in (3), a metal conductive layer 24 is formed by vapor-depositing a metal or the like on the first antiglare layer 23. Next, as shown in (2-2), the second antiglare layer 25 is formed by vapor deposition of an inorganic compound such as Cu 2 S so as to cover the entire metal conductive layer 24. Subsequently, as shown in (4-2), the dots and the three layers formed on the transparent substrate 21 are washed with a solvent such as water. At this time, if necessary, dissolution accelerating means such as ultrasonic irradiation, rubbing with a brush, sponge or the like may be used in combination.

上記洗浄により、（４−２）に示すように可溶性のドット２２が溶解し、このドット２２上の第１及び第２防眩層２３及び２５及び金属導電層２４も透明基板２１から剥れて除去される。そして、ドット同士の間の領域に形成された金属導電層及び第１及び第２防眩層よりなる導電性パターン（導電層）（２３、２４及び２５）が透明基板２１上に残る。この導電性パターンは、ドット２２間の領域を占めるものであるので、全体としてはメッシュ状（格子状）となる。これにより、本発明の窓材が得ることができる。   By the above washing, the soluble dots 22 are dissolved as shown in (4-2), and the first and second antiglare layers 23 and 25 and the metal conductive layer 24 on the dots 22 are also peeled off from the transparent substrate 21. Removed. Then, conductive patterns (conductive layers) (23, 24, and 25) made of the metal conductive layer and the first and second antiglare layers formed in the region between the dots remain on the transparent substrate 21. Since this conductive pattern occupies the area between the dots 22, it becomes a mesh shape (lattice shape) as a whole. Thereby, the window material of this invention can be obtained.

次ぎに、本発明本発明に従う防眩性に優れた窓材の作製方法における他の１例を説明するための概略断面図を図３に示す。ここでは、図１で得られた金属導電層を黒化処理して、よりいっそう防眩性を高めたものである。黒化処理により、一般に金属導電層の光沢を低下させる効果が得られる。以下詳細に説明する。   Next, FIG. 3 shows a schematic cross-sectional view for explaining another example in the method for producing a window material excellent in antiglare property according to the present invention. Here, the metal conductive layer obtained in FIG. 1 is blackened to further improve the antiglare property. The effect of reducing the gloss of the metal conductive layer is generally obtained by the blackening treatment. This will be described in detail below.

まず（１）に示すように透明基板３１上に水等の溶剤に対して可溶な材料（一般にポリマー）を用いてドット３２を印刷する。次いで、（２−１）に示すように、透明基板３１のドット３２の上及びドット３２の間の透明基板露出面のすべてを覆うように第１の防眩層３３をＣｕ2Ｓ等の無機化合物を気相成膜することにより形成する。その後、（３）に示すように、この第１防眩層３３の上に金属等を気相成膜することにより金属導電層３４を形成する。次いで、（５−１）に示すように、金属導電層３４の少なくとも表面を黒化処理して黒化処理層３６を形成する。図３では、金属導電層３４の極く薄い表面層部分（０．０１〜５μｍ）が黒化処理層３６となっている。（４−３）に示すように、この透明基板３１上に形成された上記ドット及び３層を水等の溶剤によって洗浄する。この際、必要に応じ、超音波照射やブラシ、スポンジ等で擦るなどの溶解促進手段を併用してもよい。 First, as shown in (1), dots 32 are printed on the transparent substrate 31 using a material (generally a polymer) that is soluble in a solvent such as water. Next, as shown in (2-1), the first antiglare layer 33 is made of an inorganic material such as Cu 2 S so as to cover all of the transparent substrate exposed surface between the dots 32 of the transparent substrate 31 and between the dots 32. The compound is formed by vapor deposition. Thereafter, as shown in (3), a metal conductive layer 34 is formed by vapor-depositing a metal or the like on the first antiglare layer 33. Next, as shown in (5-1), at least the surface of the metal conductive layer 34 is blackened to form a blackened layer 36. In FIG. 3, a very thin surface layer portion (0.01 to 5 μm) of the metal conductive layer 34 is the blackening treatment layer 36. As shown in (4-3), the dots and the three layers formed on the transparent substrate 31 are washed with a solvent such as water. At this time, if necessary, dissolution accelerating means such as ultrasonic irradiation, rubbing with a brush, sponge or the like may be used in combination.

上記洗浄により、（４−３）に示すように可溶性のドット３２が溶解し、このドット３２上の第１防眩層３３、金属導電層３４及び黒化処理層３６も透明基板３１から剥れて除去される。そして、ドット同士の間の領域に形成された第１防眩層、金属導電層及び金属導電層よりなる導電性パターン（導電層）（３３、３４及び３６）が透明基板３１上に残る。この導電性パターンは、ドット３２間の領域を占めるものであるので、全体としてはメッシュ状（格子状）となる。これにより、本発明の窓材が得ることができる。   As a result of the washing, the soluble dots 32 are dissolved as shown in (4-3), and the first antiglare layer 33, the metal conductive layer 34, and the blackening treatment layer 36 on the dots 32 are also peeled off from the transparent substrate 31. Removed. Then, conductive patterns (conductive layers) (33, 34, and 36) made of the first antiglare layer, the metal conductive layer, and the metal conductive layer formed in the region between the dots remain on the transparent substrate 31. Since this conductive pattern occupies the area between the dots 32, the entire conductive pattern has a mesh shape (lattice shape). Thereby, the window material of this invention can be obtained.

次ぎに、本発明本発明に従う防眩性に優れた窓材の作製方法における他の１例を説明するための概略断面図を図４に示す。ここでは、図１で得られた金属導電層をメッキ処理及び黒化処理して、よりいっそう防眩性を高めたものである。以下詳細に説明する。   Next, FIG. 4 shows a schematic cross-sectional view for explaining another example in the method for producing a window material excellent in antiglare property according to the present invention. Here, the metal conductive layer obtained in FIG. 1 is plated and blackened to further improve the antiglare property. This will be described in detail below.

まず（１）に示すように透明基板４１上に水等の溶剤に対して可溶な材料（一般にポリマー）を用いてドット４２を印刷する。次いで、（２−１）に示すように、透明基板４１のドット４２の上及びドット４２の間の透明基板露出面のすべてを覆うように第１の防眩層４３をＣｕ2Ｓ等の無機化合物を気相成膜することにより形成する。その後、（３）に示すように、この第１防眩層４３の上に金属等を気相成膜することにより金属導電層４４を形成する。次いで、この透明基板４１上に形成された上記ドット及び２層を水等の溶剤によって洗浄する。この際、必要に応じ、超音波照射やブラシ、スポンジ等で擦るなどの溶解促進手段を併用してもよい。 First, as shown in (1), dots 42 are printed on a transparent substrate 41 using a material (generally a polymer) that is soluble in a solvent such as water. Next, as shown in (2-1), the first antiglare layer 43 is made of an inorganic material such as Cu 2 S so as to cover all of the exposed surface of the transparent substrate 41 and between the dots 42 of the transparent substrate 41. The compound is formed by vapor deposition. Thereafter, as shown in (3), a metal conductive layer 44 is formed on the first antiglare layer 43 by vapor deposition of metal or the like. Next, the dots and the two layers formed on the transparent substrate 41 are washed with a solvent such as water. At this time, if necessary, dissolution accelerating means such as ultrasonic irradiation, rubbing with a brush, sponge or the like may be used in combination.

前記洗浄により、（４−４）に示すように可溶性のドット４２が溶解し、このドット４２上の第１防眩層４３及び金属導電層４４も透明基板４１から剥れて除去される。そして、ドット同士の間の領域に形成された第１防眩層及び金属導電層によりなる導電性パターン（導電層）（４３、４４）が透明基板４１上に残る。   By the washing, the soluble dots 42 are dissolved as shown in (4-4), and the first antiglare layer 43 and the metal conductive layer 44 on the dots 42 are also peeled off from the transparent substrate 41 and removed. Then, conductive patterns (conductive layers) (43, 44) made of the first antiglare layer and the metal conductive layer formed in the region between the dots remain on the transparent substrate 41.

続いて、（６）に示すように、金属導電層４４上に電気メッキによる金属メッキ層４７を形成する。そして、（５−２）に示すように、金属メッキ層４７の少なくとも表面を黒化処理して黒化処理層４６を形成する。これにより、本発明の窓材が得ることができる。図４では、金属メッキ層４７の極く薄い表面層部分（０．０１〜５μｍ）が黒化処理層４６となっている。なお、前記（４−４）の３層を水等による除去を、工程（６）、又は工程（５−２）の後に行っても良いが、一般に除去が困難となる。   Subsequently, as shown in (6), a metal plating layer 47 is formed on the metal conductive layer 44 by electroplating. Then, as shown in (5-2), at least the surface of the metal plating layer 47 is blackened to form a blackened layer 46. Thereby, the window material of this invention can be obtained. In FIG. 4, a very thin surface layer portion (0.01 to 5 μm) of the metal plating layer 47 is the blackening treatment layer 46. The three layers (4-4) may be removed with water or the like after the step (6) or the step (5-2). However, the removal is generally difficult.

前記洗浄により、（４−４）に示すように可溶性のドット４２が溶解し、このドット４２上の第１防眩層４３及び金属導電層４４も透明基板４１から剥れて除去される。そして、ドット同士の間の領域に形成された第１防眩層及び金属導電層によりなる導電性パターン（導電層）（４３、４４）が透明基板４１上に残る。   By the washing, the soluble dots 42 are dissolved as shown in (4-4), and the first antiglare layer 43 and the metal conductive layer 44 on the dots 42 are also peeled off from the transparent substrate 41 and removed. Then, conductive patterns (conductive layers) (43, 44) made of the first antiglare layer and the metal conductive layer formed in the region between the dots remain on the transparent substrate 41.

この方法では、透明基板４１上に残った導電性パターン（導電層）（４３、４４）に、さらにこの上に金属メッキ層４７及び黒化処理層４６が形成されている。従って、導電性パターンの厚さは一般に大きく、導電性に優れている。このようにして最終的に得られる導電性パターンは、ドット４２間の領域を占めるものであるので、全体としてはメッシュ状（格子状）となり、且つ導電性に優れたパターンと言うことができる。   In this method, the metal plating layer 47 and the blackening treatment layer 46 are further formed on the conductive patterns (conductive layers) (43, 44) remaining on the transparent substrate 41. Therefore, the thickness of the conductive pattern is generally large and excellent in conductivity. Since the conductive pattern finally obtained in this manner occupies the area between the dots 42, it can be said that the entire pattern is mesh (lattice) and has excellent conductivity.

以上説明した本発明の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法によれば、導電層パターンの開口率が高く、光透過性、電磁波シールド性、及び、防眩性、視認性に優れた電磁波シールド性光透過窓材を効率良く得ることができる。   According to the method for producing an electromagnetic wave shielding light-transmitting window material of the present invention described above, an electromagnetic wave shield having a high aperture ratio of the conductive layer pattern and excellent light transmittance, electromagnetic wave shielding properties, antiglare properties, and visibility. The light transmitting window material can be obtained efficiently.

本発明の電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法に使用される材料について以下に説明する。   The electromagnetic shielding light-transmitting window material of the present invention and materials used in the manufacturing method thereof will be described below.

透明基板は、その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、一般にポリマーが使用される。例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。   The material of the transparent substrate is not particularly limited as long as it is transparent (meaning “transparent to visible light”), but a polymer is generally used. For example, polyester {eg, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate}, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic resin, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, Examples thereof include ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane and the like. Among these, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), etc. are highly resistant to loads during processing (heat, solvent, bending, etc.) and particularly highly transparent. preferable.

前記透明基板の厚さとしては、電磁波シールド性光透過窓材の用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜５ｍｍ程度が好ましい。   The thickness of the transparent substrate is preferably about 1 μm to 5 mm, although it varies depending on the use of the electromagnetic shielding light transmitting window material.

前記工程（１）で行われるパターンの形成は、溶剤に可溶な物質を用いて形成される。本発明においては、前記のように、このような溶剤に可溶な物質を用いて、透明基板上にドットを形成した後、該溶剤に不溶な防眩層及び金属導電層を形成し、前記溶剤を用いて、ドットと、ドット上に形成された防眩層及び金属導電層とを除去する。   The pattern formed in the step (1) is formed using a substance soluble in a solvent. In the present invention, as described above, using a substance soluble in such a solvent, after forming dots on a transparent substrate, an antiglare layer and a metal conductive layer insoluble in the solvent are formed, Using a solvent, the dots and the antiglare layer and the metal conductive layer formed on the dots are removed.

このようなドットの形成に使う材料としては、後の除去に用いる溶剤に溶解又は膨潤するものから選択する。例えば、溶剤として水系溶剤を用いる場合には水溶性材料が用いられ、溶剤として油系溶剤を用いる場合には油溶性材料が用いられる。前記溶剤としては、公知の有機溶媒等も挙げられるが、安価で、環境への影響を考慮すると、水が特に好ましい。水としては、通常の水（水道水、蒸留水、イオン交換水等）のほか、酸、アルカリ、界面活性剤等を含んだ水溶液であってもよい。   The material used to form such dots is selected from those that dissolve or swell in the solvent used for subsequent removal. For example, when an aqueous solvent is used as the solvent, a water-soluble material is used, and when an oil-based solvent is used as the solvent, an oil-soluble material is used. Examples of the solvent include known organic solvents, but water is particularly preferable in consideration of the low cost and the influence on the environment. As water, in addition to normal water (tap water, distilled water, ion-exchanged water, etc.), an aqueous solution containing acid, alkali, surfactant and the like may be used.

前記溶剤が水である場合、前記ドットの形成に使う材料としては、水溶性樹脂（例、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリエチレンオキサイド、ポリアクリル酸ナトリウム）等が好ましく、特に、良好な水溶性を有する点で、ポリビニルアルコールが好ましい。ドットの形成に用いる溶剤には、所望により、仕上がり状況を確認し易くするために顔料や染料等を混合してもよい。   When the solvent is water, the material used for forming the dots is preferably a water-soluble resin (eg, polyvinyl alcohol, methyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, polyethylene oxide, sodium polyacrylate), and particularly preferably has good water solubility. Polyvinyl alcohol is preferable in that it has If desired, the solvent used for dot formation may be mixed with a pigment, a dye, or the like in order to make it easy to check the finished state.

前記ドットの形成方法としては、特に制限はなく、印刷、塗布、蒸着等の公知のドット形成方法が挙げられる。これらの中でも、より好適に、線幅が小さくかつ開口率の高い導電層等を形成可能な点で、印刷が好ましい。印刷手法としては、グラビア印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、静電印刷等が挙げることができ、これらの中でも、より導電層等の細線化が可能な点で、グラビア印刷が特に好ましい。印刷においては、格子状の防眩層及び導電層をより好適に形成可能な点で、ネガ印刷により形成するのが特に好ましい。尚、「開口率」とは、透明基板の表面積に対する導電層の無い部分の面積の合計の面積比である。   There is no restriction | limiting in particular as a formation method of the said dot, Well-known dot formation methods, such as printing, application | coating, vapor deposition, are mentioned. Among these, printing is preferable in that a conductive layer having a small line width and a high aperture ratio can be formed. Examples of the printing method include gravure printing, screen printing, ink jet printing, electrostatic printing, and the like. Among these, gravure printing is particularly preferable in that a thin conductive layer can be formed. In printing, it is particularly preferable that the grid-like anti-glare layer and the conductive layer are formed by negative printing in that they can be more suitably formed. The “aperture ratio” is the total area ratio of the area of the portion without the conductive layer to the surface area of the transparent substrate.

前記ドットの形状としては、特に制限はなく、円、楕円、角形（四角形など）等を挙げることができるが、格子状の導電層が好適に形成され、開口率がより高く格子の線幅がより均一となる点で、四角形のドット状が好ましく、正方形のドット状が特に好ましい。該ドットが四角形の場合、その一辺の長さとしては、１００〜５００μｍ程度が好ましく、ドット間の間隙としては、より線幅の小さい格子状の導電層等を形成し得る点で、狭いのが好ましく、１〜５０μｍ程度が好ましく、得られる格子状の導電層等における線幅が３０μｍ以下となる程度の間隙が特に好ましい。前記パターンの厚さとしては、特に制限はないが、０．１〜５μｍ程度が好ましい。   The shape of the dot is not particularly limited, and examples thereof include a circle, an ellipse, and a square (such as a quadrangle). A grid-like conductive layer is preferably formed, and the aperture ratio is higher and the grid line width is higher. In terms of more uniformity, a square dot shape is preferable, and a square dot shape is particularly preferable. When the dots are square, the length of one side thereof is preferably about 100 to 500 μm, and the gap between the dots is narrow in that a grid-like conductive layer having a smaller line width can be formed. A gap of about 1 to 50 μm is preferable, and a gap in which the line width in the obtained grid-like conductive layer is 30 μm or less is particularly preferable. Although there is no restriction | limiting in particular as the thickness of the said pattern, About 0.1-5 micrometers is preferable.

前記ドットの形成に用いる材質には、導電性微粒子等を分散させる必要がないため、ドットの形成に用いる材質は低粘度である。従って、前述のようにドット間の間隙を極めて小さくしたドットが形成される。ドット間の領域は、防眩層及び導電層が形成される領域となるため、本発明においては、線幅が小さく、微細で精密で、開口率の高い格子状の防眩層及び金属導電層が好適に形成される。   Since the material used for forming the dots does not need to disperse conductive fine particles or the like, the material used for forming the dots has a low viscosity. Therefore, as described above, dots with extremely small gaps between dots are formed. Since the area between the dots is an area where the antiglare layer and the conductive layer are formed, in the present invention, the lattice-shaped antiglare layer and the metal conductive layer are small in line width, fine, precise, and have a high aperture ratio. Is suitably formed.

前記第１又は第２防眩層の形成に使用される材料としては、形成された防眩層が前記溶剤に不溶であって、ＰＤＰ等の前面にフィルタとして用いた際に、外光の反射を低減可能であるように、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも１種の無機化合物が用いられる。色が茶及び／又は黒系の無機化合物（一般に黒、又は黒と茶色若しくは青色との混合色の無機化合物）が好ましい。無機化合物としては、金属硫化物、金属炭化物、金属窒化物が好ましく、特に金属硫化物が好ましい。防眩性、導電性、耐久性に優れている。 As a material used for forming the first or second antiglare layer, the formed antiglare layer is insoluble in the solvent, and it reflects external light when used as a filter on the front surface of a PDP or the like. At least one inorganic compound selected from metal sulfides, metal carbides, carbon materials and metal nitrides is used. A brown and / or black-based inorganic compound (generally black or a mixed color of black and brown or blue) is preferable . As the inorganic compound, metal sulfide, metal carbide, and metal nitride are preferable, and metal sulfide is particularly preferable. Excellent antiglare, electrical conductivity and durability.

金属硫化物の好ましい例としては、ＣｕＳ（色：黒褐色）、Ｃｕ2Ｓ（色：黒褐色）、ＮｉＳ（色：黒色）、ＡｇＳ（色：黒色）、ＳｎＳ（色：暗褐色）、ＣｏＳ（色：黒色）を挙げることができる。中でもＣｕ2Ｓが、良好な防眩性が得られやすく好ましい。金属炭化物の好ましい例としては、ＴｉＣ（色：灰色）及びＳｉＣ（色：青黒色）を挙げることができる。中でもＣｕＳが、良好な防眩性が得られやすく好ましい。好ましい炭素物質としては黒鉛及びカーボンブラックを挙げることができる。好ましい金属窒化物としては、ＴｉＮ（色：黒色）を挙げることができる。これらは単独でも組み合わせて使用しても良い。 Preferred examples of the metal sulfide include CuS (color: black brown), Cu 2 S (color: black brown), NiS (color: black), AgS (color: black), SnS (color: dark brown), CoS (color). : Black ). Of these, Cu 2 S is preferable because good antiglare properties are easily obtained. Preferable examples of the metal carbide include TiC (color: gray) and SiC (color: blue-black). Among them, CuS is preferable because good antiglare properties are easily obtained. Preferred carbon materials include graphite and carbon black. A preferred metal nitride is TiN (color: black). These may be used alone or in combination.

また、電磁波のシールド性により優れる点で、防眩層が導電性となるよう導電性物質を用いるのが特に好ましい。   Further, it is particularly preferable to use a conductive substance so that the antiglare layer is conductive in that it is more excellent in electromagnetic wave shielding properties.

上記防眩層の形成は、気相成膜により行われる。気相成膜法としては、通常の物理的真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着、ＣＶＤ法またはプラズマＣＶＤ法を挙げることができる。電子ビーム蒸着法が好ましい。電子ビーム蒸着は、４〜６×１０-6torrの条件で蒸着することが好ましい。 The antiglare layer is formed by vapor deposition. Examples of the vapor deposition method include a normal physical vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, an electron beam deposition method, a CVD method, and a plasma CVD method. Electron beam evaporation is preferred. Electron beam deposition is preferably performed under conditions of 4 to 6 × 10 −6 torr.

前記防眩層の厚さとしては、１００〜１００００Åが好ましく、１００〜１０００Åがより好ましい。前記厚さが、１００Å未満であると、光の反射防止効果が充分でないことがあり、一方１００００Åを超えると、ドットを除去するのが困難となり、又、斜視した際の見かけ上の開口率が低下することがある。   The thickness of the antiglare layer is preferably from 100 to 10,000 mm, and more preferably from 100 to 1,000 mm. If the thickness is less than 100 mm, the antireflection effect of light may not be sufficient. On the other hand, if it exceeds 10,000 mm, it is difficult to remove dots, and the apparent aperture ratio when viewed in perspective is low. May decrease.

また、無機化合物の気相成膜により形成された防眩層は、一般に彩度が５．０以下である。これにより優れた防眩性が得られる。このような彩度の防眩層は、上記無機化合物を用いて、上記厚さに形成した場合に有利に得ることができる。彩度は、Ｌ*ａ*ｂ*表色系をａ*ｂ*をミノルタ分光側色計（ＣＭ−５０８ｉ）で測定した。測定はＪＩＳ−Ｚ−８７２９に従い測定した。 Further, the antiglare layer formed by vapor phase film formation of an inorganic compound generally has a saturation of 5.0 or less. Thereby, the outstanding anti-glare property is obtained. Such an antiglare layer having a saturation can be advantageously obtained when the inorganic compound is used to form the antiglare layer. Saturation was measured with a Minolta spectroscopic colorimeter (CM-508i) for L * a * b * color system and a * b * . The measurement was performed according to JIS-Z-8729.

Figure 2007142080
Figure 2007142080

金属導電層としては、前記溶剤に不溶であれば特に制限はないが、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金、或いはＩＴＯ等の導電性酸化物等を含んでいるのが好ましい。特に金属が好ましい。導電性が優れ、防眩性にも有効である。   The metal conductive layer is not particularly limited as long as it is insoluble in the solvent. For example, aluminum, nickel, indium, chromium, gold, vanadium, tin, cadmium, silver, platinum, copper, titanium, cobalt, lead, etc. It preferably contains a metal, an alloy, or a conductive oxide such as ITO. Metal is particularly preferable. Excellent electrical conductivity and effective for anti-glare property.

前記金属導電層の厚さとしては、０．５〜１００μｍ程度が好ましい。前記厚さが、０．５μｍ未満であると、電磁波シールド性能が充分でないことがあり、一方１００μｍを超えると、得られる電磁波シールド性光透過窓材の厚さに影響を及ぼすと共に、視野角を狭くしてしまうことがある。   The thickness of the metal conductive layer is preferably about 0.5 to 100 μm. When the thickness is less than 0.5 μm, the electromagnetic shielding performance may not be sufficient. On the other hand, when the thickness exceeds 100 μm, the thickness of the obtained electromagnetic shielding light-transmitting window material is affected and the viewing angle is reduced. It may be narrowed.

金属導電層の形成方法としては、特に制限はないが、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗布等が挙げることができるが、気相製膜法（スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着）が好ましい。電子ビーム蒸着法が生産性が高く好ましい。電子ビーム蒸着は、４〜６×１０-6torrの条件で蒸着することが好ましい。前記導電層の形成の後、所望により、導電層上に前記防眩層を更に形成することにより、導電層の両側に防眩層が形成された電磁波シールド性光透過窓材を製造してもよい。 The method for forming the metal conductive layer is not particularly limited, and examples thereof include vapor deposition methods such as sputtering, ion plating, electron beam vapor deposition, vacuum vapor deposition, and chemical vapor deposition, and printing and coating. Vapor deposition methods (sputtering, ion plating, electron beam vapor deposition, vacuum vapor deposition, chemical vapor deposition) are preferred. The electron beam evaporation method is preferable because of high productivity. Electron beam deposition is preferably performed under conditions of 4 to 6 × 10 −6 torr. After the formation of the conductive layer, if desired, the antiglare layer may be further formed on the conductive layer to produce an electromagnetic wave shielding light transmitting window material in which the antiglare layer is formed on both sides of the conductive layer. Good.

金属メッキ層は、導電性を向上させるためは設けることが好ましい。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。   The metal plating layer is preferably provided in order to improve conductivity. The metal plating layer can be formed by a known electrolytic plating method or electroless plating method. As the metal used for plating, generally, copper, copper alloy, nickel, aluminum, silver, gold, zinc, tin or the like can be used, preferably copper, copper alloy, silver, or nickel, In particular, it is preferable to use copper or a copper alloy from the viewpoint of economy and conductivity.

電気メッキ槽で使用されるメッキ液は、公知のメッキ液を使用することができ、一般に硫酸銅、シアン化銅、ピロリン酸銅及び硫酸ニッケル等の水溶液等を使用することが可能であり、好ましくは、硫酸銅又はピロリン酸銅の水溶液であり、特に経済性の点から、硫酸銅水溶液を使用することが好ましい。   As the plating solution used in the electroplating tank, a known plating solution can be used, and generally an aqueous solution such as copper sulfate, copper cyanide, copper pyrophosphate and nickel sulfate can be used. Is an aqueous solution of copper sulfate or copper pyrophosphate, and it is preferable to use an aqueous copper sulfate solution from the viewpoint of economy.

金属メッキ層の厚さは、一般に０．２〜１０μｍの範囲であり、２〜８μｍの範囲が好ましい。厚さが１μｍ未満では電磁波シールド性が不十分であり、１０μｍを超えるとメッキ層が幅方向に広がりやすくなり、線幅が太くなるために開口率を低下させる傾向にある。   The thickness of the metal plating layer is generally in the range of 0.2 to 10 μm, and preferably in the range of 2 to 8 μm. If the thickness is less than 1 μm, the electromagnetic wave shielding property is insufficient, and if it exceeds 10 μm, the plating layer tends to spread in the width direction and the line width becomes thick, so that the aperture ratio tends to decrease.

本発明では、黒化処理は、金属導電層或いは金属メッキ層に対して行われる。黒化処理としては、例えば、酸化処理、硫化処理、クロムメッキ処理、及びスズ−ニッケル等の合金メッキ処理を挙げることができる。金属導電層或いは金属メッキ層の金属が銅である場合には、酸化処理、硫化処理、クロムメッキ処理、及びスズ−ニッケル等の合金メッキ処理が一般的で、特に廃液処理の簡易性及び環境安全性の点から、酸化処理が好ましい。   In the present invention, the blackening treatment is performed on the metal conductive layer or the metal plating layer. Examples of the blackening treatment include oxidation treatment, sulfurization treatment, chromium plating treatment, and alloy plating treatment such as tin-nickel. When the metal of the metal conductive layer or metal plating layer is copper, oxidation treatment, sulfurization treatment, chrome plating treatment, and alloy plating treatment such as tin-nickel are generally used, especially the simplicity of waste liquid treatment and environmental safety. From the viewpoint of properties, oxidation treatment is preferable.

上記黒化処理として酸化処理を行う場合には、黒化処理液として、一般には次亜塩素酸塩又は亜塩素酸塩と水酸化ナトリウム
の混合水溶液、ペルオキソ二硫酸と水酸化ナトリウムの混合水溶液等を使用することが可能であり、特に経済性の点から、次亜塩素酸塩又は亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液を使用することが好ましい。 When the oxidation treatment is performed as the blackening treatment, the blackening treatment solution is generally hypochlorite or a mixed aqueous solution of chlorite and sodium hydroxide, a mixed aqueous solution of peroxodisulfuric acid and sodium hydroxide, or the like. It is preferable to use hypochlorite or a mixed aqueous solution of chlorite and sodium hydroxide from the viewpoint of economy.

上記黒化処理として硫化処理を行う場合には、黒化処理液として、一般には硫酸カリウム、硫酸バリウム及び硫酸アンモニウム等の水溶液を使用することが可能であり、好ましくは、硫酸カリウム及び硫酸アンモニウムであり、特に低温で使用可能である点から、硫酸アンモニウムを使用することが好ましい。   When performing the sulfurization treatment as the blackening treatment, an aqueous solution such as potassium sulfate, barium sulfate and ammonium sulfate can be generally used as the blackening treatment liquid, preferably potassium sulfate and ammonium sulfate. In particular, ammonium sulfate is preferably used because it can be used at a low temperature.

上記黒化処理として、クロムメッキ処理を行う場合には、黒化処理液として、一般にはクロム酸と酢酸の水溶液、及びクロム酸とケイフッ化水素酸の水溶液等を使用することが可能であり、特に経済性の点から、クロム酸と酢酸の水溶液を使用することが好ましい。   As the blackening treatment, when performing a chrome plating treatment, as the blackening treatment liquid, it is generally possible to use an aqueous solution of chromic acid and acetic acid, an aqueous solution of chromic acid and hydrofluoric acid, and the like. In particular, it is preferable to use an aqueous solution of chromic acid and acetic acid from the viewpoint of economy.

上記により得られる黒化処理層は、極く薄い表面層であり、その厚さは、金属導電層又は金属メッキ層の厚さの表面から一般に０．０１〜１μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μｍの範囲である。上記範囲より黒化処理層が薄くなると得られる黒色の度合いが十分でなく、また厚くなりすぎると電磁波シールド性が低下する。   The blackening treatment layer obtained as described above is a very thin surface layer, and the thickness thereof is generally 0.01 to 1 μm, preferably 0.05 to 0, from the surface of the thickness of the metal conductive layer or metal plating layer. The range is 5 μm. If the blackening treatment layer is thinner than the above range, the degree of blackness obtained is not sufficient, and if it is too thick, the electromagnetic shielding property is lowered.

前記のドット除去においては、溶剤により、通常、前記パターンと、前記パターン上に形成された防眩層及び金属導電層とを除去する。前記除去の方法としては、前記パターンと、前記パターン上に形成された防眩層及び金属導電層とを好適に取り除くことができれば特に制限はないが、例えば、前記溶媒による洗浄等が挙げられる。該洗浄の際には、所望により、超音波照射ブラシ、スポンジ等の溶解促進手段等を併用してもよい。前記除去により、溶媒に可溶な物質で形成されたパターンが溶解し、更に、パターン上に形成された防眩層及び導電層がパターンの溶解に伴い剥離し、パターン間の領域に形成された防眩層及び金属導電層のみが剥離せずに残存し、所望により仕上げ洗浄（リンス）し、乾燥させることにより、格子状の防眩層及び導電層が透明基板上に形成された電磁波シールド性光透過窓材が得られる。   In the dot removal, the pattern and the antiglare layer and the metal conductive layer formed on the pattern are usually removed with a solvent. The removal method is not particularly limited as long as the pattern, the antiglare layer and the metal conductive layer formed on the pattern can be suitably removed, and examples thereof include washing with the solvent. In the cleaning, if desired, dissolution promoting means such as an ultrasonic irradiation brush or sponge may be used in combination. By the removal, the pattern formed of the substance soluble in the solvent was dissolved, and further, the antiglare layer and the conductive layer formed on the pattern were peeled off as the pattern was dissolved, and formed in the region between the patterns. Only the antiglare layer and the metal conductive layer remain without being peeled off, and if desired, finish-cleaning (rinsing) and drying to form a grid-like antiglare layer and a conductive layer on the transparent substrate. A light transmissive window material is obtained.

本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、前記本発明の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法により有利に得ることができる。本発明の窓材においても、透明基板、第１、第２防眩層及び金属導電層、さらに金属メッキ層としては、前記本発明の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法において述べたのと同様のものを使用することができる。本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、導電層等における開口率が高いため光透過性が高く、防眩層を有するため反射が防止され視認性に優れる。また、モアレ現象が防止され、電磁波シールド性に優れる。   The electromagnetic wave shielding light transmissive window material of the present invention can be advantageously obtained by the method for producing an electromagnetic wave shielding light transmissive window material of the present invention. Also in the window material of the present invention, the transparent substrate, the first and second antiglare layers, the metal conductive layer, and the metal plating layer are described in the method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention. Similar ones can be used. The electromagnetic wave shielding light-transmitting window material of the present invention has high light transmittance because of its high aperture ratio in the conductive layer and the like, and since it has an antiglare layer, reflection is prevented and excellent visibility. Further, the moire phenomenon is prevented and the electromagnetic wave shielding property is excellent.

また本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、透明基板上に、少なくとも、防眩層及び金属導電層を有し、一般に防眩層及び導電層が、開口率７５％以上の格子状の層である。本発明の電磁波シールド性光透過窓材を得る方法としては、製造効率、及び、得られる電磁波シールド性光透過窓材における、防眩層及び導電層の開口率に優れる点で、前記本発明の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法が特に好ましい。前記開口率としては、７５％以上であることが一般的であり、９０％以上が好ましい。前記開口率が、７５％に満たないと、光透過性が不充分となる。   The electromagnetic wave shielding light-transmitting window material of the present invention has at least an antiglare layer and a metal conductive layer on a transparent substrate, and the antiglare layer and the conductive layer generally have a lattice-like layer with an aperture ratio of 75% or more. It is. As a method for obtaining the electromagnetic wave shielding light transmissive window material of the present invention, the production efficiency and the aperture ratio of the antiglare layer and the conductive layer in the obtained electromagnetic wave shielding light transmissive window material are excellent. A method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material is particularly preferred. As said aperture ratio, it is common that it is 75% or more, and 90% or more is preferable. If the aperture ratio is less than 75%, the light transmittance is insufficient.

図５は、本発明の電磁波シールド性光透過窓材を正面から見た概略構成図である。図５で、電磁波シールド性光透過窓材５０は、透明基板５１上に、例えば格子状の第１防眩層（不図示）、金属導電層５４及び黒化処理層５６をこの順に有する。   FIG. 5 is a schematic configuration diagram of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention viewed from the front. In FIG. 5, the electromagnetic wave shielding light transmissive window member 50 includes, for example, a lattice-shaped first antiglare layer (not shown), a metal conductive layer 54, and a blackening treatment layer 56 in this order on a transparent substrate 51.

本発明の窓材の金属メッキ層（黒化処理層）上の表面抵抗率は、３Ω／□以下が好ましく、特に１Ω／□以下が好ましい。表面抵抗率が３Ω／□を超えると導電性が不充分で電磁シールド効果が満足でるものではない。   The surface resistivity on the metal plating layer (blackening treatment layer) of the window material of the present invention is preferably 3Ω / □ or less, particularly preferably 1Ω / □ or less. If the surface resistivity exceeds 3Ω / □, the conductivity is insufficient and the electromagnetic shielding effect is not satisfactory.

本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、前述のように開口率が高いため光透過性に優れ、防眩層を有するため防眩性、視認性に優れる。更に、モアレ現象が防止され、電磁波シールド性、熱線（近赤外線）カット性に優れるため、特に、ＰＤＰ（プラズマディスプレーパネル）の前面フィルタや、病院等の電磁波シールドを必要とする建築物の窓材料（例えば貼着用フィルム）等として有用である。前記電磁波シールド性光透過窓材を、ＰＤＰ（プラズマディスプレーパネル）として用いる場合には、視認性の点で、防眩層が、透明基板上において観察者側に配されるよう使用するのが好ましい。   As described above, the electromagnetic wave shielding light-transmitting window material of the present invention has a high aperture ratio and thus has excellent light transmittance, and since it has an antiglare layer, it has excellent antiglare properties and visibility. Furthermore, the moire phenomenon is prevented, and the electromagnetic wave shielding property and heat ray (near infrared ray) cutting property are excellent. In particular, the front window filter of PDP (plasma display panel) and the window material for buildings such as hospitals that require electromagnetic wave shielding. It is useful as (for example, a sticking film). When the electromagnetic wave shielding light transmitting window material is used as a PDP (plasma display panel), it is preferable to use the antiglare layer so as to be disposed on the observer side on the transparent substrate in view of visibility. .

本発明のＰＤＰ等のディスプレー用フィルタは、上記電磁波シールド性光透過窓材を、ガラス板等の透明基体に貼り合わせることにより得ることができる。   The display filter such as the PDP of the present invention can be obtained by bonding the electromagnetic wave shielding light transmitting window material to a transparent substrate such as a glass plate.

以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to a following example.

［実施例１］
＜電磁波シールド性光透過窓材の製造＞
厚さ５００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（透明基板）上に、ポリビニルアルコールの２０質量％水溶液を用いてドット状にパターンをグラビア印刷し、図２の（１）に示すように、透明基板２１上に、ドット２２を形成した。形成されたドットは、１辺が２３４μｍの正方形状であり、ドット間の間隙は２０μｍ、ドットの厚さは約５μｍであった。また、ドットは、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、正方格子状に規則的に配列させた。 [Example 1]
<Manufacture of electromagnetic shielding light transmitting window material>
On a polyethylene substrate having a thickness of 500 μm (transparent substrate), a pattern is gravure-printed using a 20% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol, and as shown in (1) of FIG. Dots 22 were formed. The formed dots had a square shape with one side of 234 μm, the gap between the dots was 20 μm, and the thickness of the dots was about 5 μm. The dots were regularly arranged in a square lattice pattern on the polyethylene terephthalate film.

次に、その上に、防眩性材料である黒褐色のＣｕ2Ｓを電子ビーム蒸着して、平均膜厚１０００Åの第１防眩層２３（図２の（２−１））を形成し、さらにその上にＣｕを電子ビーム蒸着して平均膜厚１０μｍの金属導電層２４（図２の（３））を形成した。さらに、その上に防眩性材料である黒褐色のＣｕ2Ｓを電子ビーム蒸着して平均膜厚１０００Åの第２防眩層２５（図２の（２−２））を形成した。 Next, a black-brown Cu 2 S, which is an antiglare material, is deposited by electron beam evaporation to form a first antiglare layer 23 ((2-1) in FIG. 2) having an average film thickness of 1000 mm, Further, Cu was electron beam evaporated thereon to form a metal conductive layer 24 ((3) in FIG. 2) having an average film thickness of 10 μm. Further, black-brown Cu 2 S, which is an antiglare material, was electron beam evaporated thereon to form a second antiglare layer 25 ((2-2) in FIG. 2) having an average film thickness of 1000 mm.

第１防眩層２３及び第２防眩層２５のＣ*（彩度）はともに３．５３０であった。 The C * (saturation) of the first antiglare layer 23 and the second antiglare layer 25 was 3.530.

上記電子ビーム蒸着は、いずれも電子ビーム蒸着装置（ＥＧＬ−３５Ｍ；（株）アルバック製）を用いて、５×１０-6torrの条件で蒸着を行った。 The above-mentioned electron beam vapor deposition was performed using an electron beam vapor deposition apparatus (EGL-35M; manufactured by ULVAC, Inc.) under conditions of 5 × 10 −6 torr.

その後、得られた第１防眩層２３及び金属導電層２４を有するフィルムを、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット２２と、ドット上に形成された第１防眩層２３及び金属導電層２４とを除去し、図２の（４−２）に示すような電磁波シールド性光透過窓材を得た。   Thereafter, the obtained film having the first antiglare layer 23 and the metal conductive layer 24 is immersed in water at room temperature and rubbed with a sponge to rub the dots 22 and the first antiglare layer 23 formed on the dots. The metal conductive layer 24 was removed to obtain an electromagnetic wave shielding light-transmitting window material as shown in (4-2) of FIG.

得られた窓材を下記のようにして評価した。   The obtained window material was evaluated as follows.

１．開口率の測定
前記電磁波シールド性光透過窓材における導電層の開口率（％）を以下のように測定・計算した。日立分光光度計（Ｕ−４０００；日立製作所社製）を用い、波長５５０ｎｍの光線透過率を測定し、空気界面での反射によるロスをキャンセルし、開口率とした。 1. Measurement of aperture ratio The aperture ratio (%) of the conductive layer in the electromagnetic wave shielding light transmitting window material was measured and calculated as follows. Using a Hitachi spectrophotometer (U-4000; manufactured by Hitachi, Ltd.), the light transmittance at a wavelength of 550 nm was measured, and the loss due to reflection at the air interface was canceled to obtain the aperture ratio.

２．反射率の測定
前記電磁波シールド性光透過窓材の可視光反射率を以下のように測定した。結果を表１に示す。日立分光光度計（Ｕ−４０００；「日立製作所社製」）を用い、波長５５０ｎｍの光の５°正反射測定を行い、鏡面ミラーの反射率を１００％としてサンプルの可視光反射率を求めた。 2. Measurement of reflectance The visible light reflectance of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material was measured as follows. The results are shown in Table 1. Using a Hitachi spectrophotometer (U-4000; “manufactured by Hitachi, Ltd.”), 5 ° specular reflection measurement of light having a wavelength of 550 nm was performed, and the visible light reflectance of the sample was determined with the reflectance of the mirror mirror as 100%. .

実施例１で得られた表面が防眩性を有する窓材は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅２０μｍ、開口率７７％で、金属導電層の厚さは１０μｍであった。また反射率は１５％であった。   The window material having an antiglare surface obtained in Example 1 has a square lattice shape that accurately corresponds to the negative pattern of dots, has a line width of 20 μm, an aperture ratio of 77%, and a thickness of the metal conductive layer. The thickness was 10 μm. The reflectance was 15%.

３．彩度の測定
得られた防眩層の彩度は、以下のように測定した。 3. Measurement of Saturation The saturation of the obtained antiglare layer was measured as follows.

Ｌ*ａ*ｂ*表色系のａ*ｂ*をミノルタ分光側色計（ＣＭ−５０８ｉ）で測定した。測定はＪＩＳ−Ｚ−８７２９に準拠した。このａ*ｂ*の値に基づき下記の計算式より彩度を求めた： L * a * b * was measured by colorimetric system of a * b * a Minolta spectrometer side colorimeter (CM-508i). The measurement was based on JIS-Z-8729. Based on this a * b * value, the saturation was calculated from the following formula:

Figure 2007142080
Figure 2007142080

なお、実施例１では、防眩層の形成を１．８ｍ／分の蒸着速度で行ったが、速度が大きすぎると彩度が５．０を超え、防眩性も低下し、好ましくなかった。   In Example 1, the antiglare layer was formed at a deposition rate of 1.8 m / min. However, when the rate was too high, the saturation exceeded 5.0 and the antiglare property was lowered, which was not preferable. .

蒸着速度とａ*ｂ*及び彩度（Ｃ*）の値を下記に示す： Deposition rates and a * b * and chroma (C * ) values are shown below:

Figure 2007142080
Figure 2007142080

［実施例２］
＜電磁波シールド性光透過窓材の製造＞
厚さ５００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（透明基板）上に、ポリビニルアルコールの２０質量％水溶液を用いてドット状にパターンをグラビア印刷し、図３の（１）に示すように、透明基板３１上に、ドット３２を形成した。形成されたドットは、１辺が２３４μｍの正方形状であり、ドット間の間隙は２０μｍ、ドットの厚さは５μｍであった。また、ドットは、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、正方格子状に規則的に配列させた。 [Example 2]
<Manufacture of electromagnetic shielding light transmitting window material>
On a polyethylene terephthalate film (transparent substrate) having a thickness of 500 μm, a pattern is gravure-printed using a 20% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol, and as shown in (1) of FIG. Dots 32 were formed. The formed dots had a square shape with one side of 234 μm, the gap between the dots was 20 μm, and the thickness of the dots was 5 μm. The dots were regularly arranged in a square lattice pattern on the polyethylene terephthalate film.

次に、その上に、防眩性材料である黒褐色のＣｕ2Ｓを電子ビーム蒸着して、平均膜厚１０００Åの第１防眩層３３（図３の（２−１））を形成し、さらにその上にＣｕを電子ビーム蒸着して平均膜厚１０μｍの金属導電層３４（図３の（３））を形成した。第１防眩層３３のＣ*（彩度）は３．５３０であった（彩度は実施例１と同様にして測定した）。 Next, the first antiglare layer 33 ((2-1) in FIG. 3) having an average film thickness of 1000 mm is formed thereon by electron beam evaporation of black-brown Cu 2 S which is an antiglare material. Further, Cu was electron beam evaporated thereon to form a metal conductive layer 34 ((3) in FIG. 3) having an average film thickness of 10 μm. C * (saturation) of the first antiglare layer 33 was 3.530 (saturation was measured in the same manner as in Example 1).

上記電子ビーム蒸着は、いずれも電子ビーム蒸着装置（ＥＧＬ−３５Ｍ；（株）アルバック製）を用いて、５×１０-6torrの条件で蒸着を行った。 The above-mentioned electron beam vapor deposition was performed using an electron beam vapor deposition apparatus (EGL-35M; manufactured by ULVAC, Inc.) under conditions of 5 × 10 −6 torr.

次いで、得られた第１防眩層３３及び金属導電層３４を有するフィルムを、亜塩素酸ナトリウムの２０質量％水溶液（Ａ）、水酸化ナトリウムの２０質量％水溶液（Ｂ）及び水を、Ａ：Ｂ：水＝８：１３：７９の質量比で混合して得た黒化処理液に浸漬し、６０℃で５分間放置し、金属導電層３４に黒化処理を施した。黒化処理層の厚さは０．３μｍであった。   Next, the obtained film having the first antiglare layer 33 and the metal conductive layer 34 is made from 20% by mass aqueous solution of sodium chlorite (A), 20% by mass aqueous solution of sodium hydroxide (B) and water, A : B: water = 8: 13: 79 was immersed in a blackening treatment liquid obtained by mixing and left at 60 ° C. for 5 minutes, and the metal conductive layer 34 was blackened. The thickness of the blackening treatment layer was 0.3 μm.

その後、得られた第１防眩層３３、金属導電層３４及び黒化処理層３６を有するフィルムを、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット３２と、ドット上に形成された第１防眩層３３、金属導電層３４及び黒化処理層３６とを除去し、図３の（４−３）に示すような電磁波シールド性光透過窓材を得た。   Thereafter, the obtained film having the first antiglare layer 33, the metal conductive layer 34 and the blackening treatment layer 36 is immersed in water at room temperature and rubbed with a sponge to rub the dots 32 and the first formed on the dots. 1 The antiglare layer 33, the metal conductive layer 34, and the blackening treatment layer 36 were removed to obtain an electromagnetic wave shielding light transmitting window material as shown in (4-3) of FIG.

得られた窓材を下記のようにして評価した。   The obtained window material was evaluated as follows.

開口率の測定及び反射率の測定を実施例１と同様にして測定した。   The aperture ratio and the reflectance were measured in the same manner as in Example 1.

実施例２で得られた表面が防眩性を有する窓材は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅２０μｍ、開口率７７％で、金属導電層の厚さは９．９μｍであった。また反射率は３％であった。   The window material having an antiglare surface obtained in Example 2 has a square lattice shape that accurately corresponds to the negative pattern of dots, has a line width of 20 μm, an aperture ratio of 77%, and a thickness of the metal conductive layer. The thickness was 9.9 μm. The reflectance was 3%.

［実施例３］
＜電磁波シールド性光透過窓材の製造＞
厚さ５００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（透明基板）上に、ポリビニルアルコールの２０質量％水溶液を用いてドット状にパターンをグラビア印刷し、図４の（１）に示すように、透明基板４１上に、ドット４２を形成した。形成されたドットは、１辺が２３４μｍの正方形状であり、ドット間の間隙は２０μｍ、ドットの厚さは５μｍであった。また、ドットは、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、正方格子状に規則的に配列させた。 [Example 3]
<Manufacture of electromagnetic shielding light transmitting window material>
On a polyethylene terephthalate film (transparent substrate) having a thickness of 500 μm, a pattern is gravure-printed using a 20% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol, and as shown in (1) of FIG. Dots 42 were formed. The formed dots had a square shape with one side of 234 μm, the gap between the dots was 20 μm, and the thickness of the dots was 5 μm. The dots were regularly arranged in a square lattice pattern on the polyethylene terephthalate film.

次に、その上に、防眩性材料である黒褐色のＣｕ2Ｓを電子ビーム蒸着して、平均膜厚１０００Åの第１防眩層４３（図４の（２−１））を形成し、さらにその上にＣｕを電子ビーム蒸着して平均膜厚１０μｍの金属導電層４４（図４の（３））を形成した。第１防眩層１３のＣ*（彩度）は３．５３０であった（彩度は実施例１と同様にして測定した）。 Next, the first antiglare layer 43 ((2-1) in FIG. 4) having an average film thickness of 1000 mm is formed thereon by electron beam evaporation of black-brown Cu 2 S as an antiglare material. Further, Cu was electron beam evaporated thereon to form a metal conductive layer 44 ((3) in FIG. 4) having an average film thickness of 10 μm. C * (saturation) of the first antiglare layer 13 was 3.530 (saturation was measured in the same manner as in Example 1).

上記電子ビーム蒸着は、いずれも電子ビーム蒸着装置（ＥＧＬ−３５Ｍ；（株）アルバック製）を用いて、５×１０-6torrの条件で蒸着を行った。 The above-mentioned electron beam vapor deposition was performed using an electron beam vapor deposition apparatus (EGL-35M; manufactured by ULVAC, Inc.) under conditions of 5 × 10 −6 torr.

その後、得られた第１防眩層４３及び金属導電層４４を有するフィルムを、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット１２と、ドット上に形成された第１防眩層４３及び金属導電層４４とを除去し、そして水でリンスした後、乾燥した（図４の（４−４））。   Thereafter, the obtained film having the first antiglare layer 43 and the metal conductive layer 44 is immersed in water at room temperature and rubbed with a sponge to rub the dots 12, the first antiglare layer 43 formed on the dots, and The metal conductive layer 44 was removed, rinsed with water, and dried ((4-4) in FIG. 4).

次いで、得られた第１防眩層４３及び金属導電層４４がパターン状に形成されたフィルムを、メッキ液（ＣｕＳＯ4・５Ｈ2Ｏ：２２０ｇ／Ｌ；Ｈ2ＳＯ4：６０ｇ／Ｌ；塩素イオン：５０ｍｇ／Ｌ）を用いて５０℃にて電気メッキを行い、金属導電層４４上に厚さ１０μｍのＣｕの金属メッキ層４７を形成した（図４の（６））。 Next, a film in which the obtained first antiglare layer 43 and metal conductive layer 44 are formed in a pattern is formed into a plating solution (CuSO 4 .5H 2 O: 220 g / L; H 2 SO 4 : 60 g / L; chlorine). Electroplating was performed at 50 ° C. using ions (50 mg / L) to form a 10 μm thick Cu metal plating layer 47 on the metal conductive layer 44 ((6) in FIG. 4).

亜塩素酸ナトリウムの２０質量％水溶液（Ａ）、水酸化ナトリウムの２０質量％水溶液（Ｂ）及び水を、Ａ：Ｂ：水＝８：１８：７９の質量比で混合して得た黒化処理液に浸漬し、６０℃で５分間放置し、金属メッキ層４７に黒化処理を施し、黒化処理層４６を形成した（図４の（５−２））。黒化処理層の厚さは０．３μｍであった。   Blackening obtained by mixing a 20% by mass aqueous solution of sodium chlorite (A), a 20% by mass aqueous solution of sodium hydroxide (B) and water in a mass ratio of A: B: water = 8: 18: 79. It was immersed in the treatment liquid and allowed to stand at 60 ° C. for 5 minutes, and the metal plating layer 47 was subjected to blackening treatment to form a blackening treatment layer 46 ((5-2) in FIG. 4). The thickness of the blackening treatment layer was 0.3 μm.

これにより図４の（５−２）に示すような電磁波シールド性光透過窓材を得た。   Thereby, an electromagnetic wave shielding light transmitting window material as shown in (5-2) of FIG. 4 was obtained.

得られた窓材を下記のようにして評価した。   The obtained window material was evaluated as follows.

開口率の測定及び反射率の測定を実施例１と同様にして測定した。   The aperture ratio and the reflectance were measured in the same manner as in Example 1.

実施例３で得られた表面が防眩性を有する窓材は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅２０μｍ、開口率７７％で、金属導電層の厚さは１９．９μｍであった。また反射率は３％であった。   The window material having an antiglare surface obtained in Example 3 has a square lattice shape that accurately corresponds to a negative pattern of dots, has a line width of 20 μm, an aperture ratio of 77%, and the thickness of the metal conductive layer. The thickness was 19.9 μm. The reflectance was 3%.

上記実施例から、本発明により得られる電磁波シールド性光透過窓材は、優れた防眩性を有し、線幅が小さく、開口率の高い導電性パターンを有するものであることは明らかである。   From the above examples, it is clear that the electromagnetic wave shielding light-transmitting window material obtained by the present invention has an excellent antiglare property, a small line width, and a conductive pattern with a high aperture ratio. .

本発明に従う防眩性に優れた電磁波シールド性光透過窓材の作製方法の基本的な１例を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating one fundamental example of the preparation methods of the electromagnetic wave shielding light transmission window material excellent in the anti-glare property according to this invention. 本発明に従う防眩性に優れた電磁波シールド性光透過窓材の作製方法の別の１例を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating another example of the preparation methods of the electromagnetic wave shielding light transmission window material excellent in the anti-glare property according to this invention. 本発明本発明に従う防眩性に優れた電磁波シールド性光透過窓材の作製方法における他の１例を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating another example in the preparation method of the electromagnetic wave shielding light transmission window material excellent in the anti-glare property according to this invention. 本発明本発明に従う防眩性に優れた電磁波シールド性光透過窓材の作製方法における他の１例を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating another example in the preparation method of the electromagnetic wave shielding light transmission window material excellent in the anti-glare property according to this invention. 本発明の電磁波シールド性光透過窓材の概略の正面図である。It is a schematic front view of the electromagnetic wave shielding light transmission window material of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

１１、２１、３１、４１、５１ 透明基板
１２、２２、３２、４２ ドット
１３、２３、３３、４３ 第１防眩層
１４、２４、３４、４４ 金属導電層
２５ 第２防眩層
３６、４６、５６ 黒化処理層
４７ 金属メッキ層
５０ 電磁波シールド性光透過窓材
11, 21, 31, 41, 51 Transparent substrate 12, 22, 32, 42 dots 13, 23, 33, 43 First antiglare layer 14, 24, 34, 44 Metal conductive layer 25 Second antiglare layer 36, 46 , 56 Blackening treatment layer 47 Metal plating layer 50 Electromagnetic shielding light transmission window material

Claims (29)

透明基板上に、溶剤に対して可溶な物質からなるドットを形成する工程（１）、
ドットが形成された透明基板のその表面に、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも１種の無機化合物を気相成膜することにより第一防眩層を形成する工程（２−１）、
第一防眩層上に、導電性の金属、合金又は金属酸化物を気相成膜して、金属導電層を形成する工程（３）、及び
ドット、第一防眩層及び金属導電層を有する透明基板に、前記溶剤を接触させてドット及びドット上の二層を除去する工程（４−１）
を含む電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。 Forming a dot made of a substance soluble in a solvent on the transparent substrate (1),
A first antiglare layer is formed on the surface of the transparent substrate on which dots are formed by vapor-phase deposition of at least one inorganic compound selected from metal sulfides, metal carbides, carbon substances and metal nitrides Step (2-1) to perform,
A step (3) of forming a metal conductive layer by vapor-depositing a conductive metal, alloy or metal oxide on the first anti-glare layer, and a dot, first anti-glare layer and metal conductive layer (4-1) The process which makes the said solvent contact the transparent substrate which has, and removes two layers on a dot and a dot
The manufacturing method of the electromagnetic wave shielding light transmission window material containing this. 透明基板上に、溶剤に対して可溶な物質からなるドットを形成する工程（１）、
ドットが形成された透明基板のその表面に、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも１種の無機化合物を気相成膜することにより第一防眩層を形成する工程（２−１）、
第一防眩層上に、導電性の金属、合金又は金属酸化物を気相成膜して、金属導電層を形成する工程（３）、
金属導電層上に、色が黒又は茶系の無機化合物を気相成膜することにより第二防眩層を形成する工程（２−２）、及び
ドット、第一及び第二防眩層及び金属導電層を有する透明基板に前記溶剤を接触させてドット及びドット上の三層を除去する工程（４−２）
を含む電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。 Forming a dot made of a substance soluble in a solvent on the transparent substrate (1),
A first antiglare layer is formed on the surface of the transparent substrate on which dots are formed by vapor-phase deposition of at least one inorganic compound selected from metal sulfides, metal carbides, carbon substances and metal nitrides Step (2-1) to perform,
A step (3) of forming a metal conductive layer by vapor-forming a conductive metal, alloy or metal oxide on the first antiglare layer;
A step (2-2) of forming a second anti-glare layer by vapor-depositing a black or brown inorganic compound on the metal conductive layer; and dots, first and second anti-glare layers, and The process of making the said solvent contact the transparent substrate which has a metal conductive layer, and removing the three layers on a dot and a dot (4-2).
The manufacturing method of the electromagnetic wave shielding light transmission window material containing this. 透明基板上に、溶剤に対して可溶な物質からなるドットを形成する工程（１）、
ドットが形成された透明基板のその表面に、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも１種の無機化合物を気相成膜することにより第一防眩層を形成する工程（２−１）、
第一防眩層上に、導電性の金属、合金又は金属酸化物を気相成膜して、金属導電層を形成する工程（３）、
金属導電層の少なくとも表面を黒化処理して黒化処理層を形成する工程（６−１）、及び
ドット、第一防眩層、金属導電層及び黒化処理層を有する透明基板に、前記溶剤を接触させてドット及びドット上の三層を除去する工程（４−３）
を含む電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。 Forming a dot made of a substance soluble in a solvent on the transparent substrate (1),
A first antiglare layer is formed on the surface of the transparent substrate on which dots are formed by vapor-phase deposition of at least one inorganic compound selected from metal sulfides, metal carbides, carbon substances and metal nitrides Step (2-1) to perform,
A step (3) of forming a metal conductive layer by vapor-forming a conductive metal, alloy or metal oxide on the first antiglare layer;
Step (6-1) of forming a blackened layer by blackening at least the surface of the metal conductive layer, and a transparent substrate having dots, a first antiglare layer, a metal conductive layer and a blackened layer, The process of contacting the solvent and removing the dots and the three layers on the dots (4-3)
The manufacturing method of the electromagnetic wave shielding light transmission window material containing this. 透明基板上に、溶剤に対して可溶な物質からなるドットを形成する工程（１）、
ドットが形成された透明基板のその表面に、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも１種の無機化合物を気相成膜することにより第一防眩層を形成する工程（２−１）、
第一防眩層上に、導電性の金属、合金又は金属酸化物を気相成膜して、金属導電層を形成する工程（３）、
ドット、第一防眩層及び金属導電層を有する透明基板に、前記溶剤を接触させてドット及びドット上の二層を除去する工程（４−４）
金属導電層上に電気メッキによる金属メッキ層を形成する工程（７）、及び
金属メッキ層の少なくとも表面を黒化処理して黒化処理層を形成する工程（６−２）、
を含む電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。 Forming a dot made of a substance soluble in a solvent on the transparent substrate (1),
A first antiglare layer is formed on the surface of the transparent substrate on which dots are formed by vapor-phase deposition of at least one inorganic compound selected from metal sulfides, metal carbides, carbon substances and metal nitrides Step (2-1) to perform,
A step (3) of forming a metal conductive layer by vapor-forming a conductive metal, alloy or metal oxide on the first antiglare layer;
A step of removing the dots and the two layers on the dots by bringing the solvent into contact with a transparent substrate having the dots, the first antiglare layer and the metal conductive layer (4-4)
A step (7) of forming a metal plating layer by electroplating on the metal conductive layer, and a step (6-2) of forming a blackening treatment layer by blackening at least the surface of the metal plating layer;
The manufacturing method of the electromagnetic wave shielding light transmission window material containing this. 第一又は第二防眩層の無機化合物が、黒又は茶系の色を有する物請求項１〜４のいずれかに電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。   The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to any one of claims 1 to 4, wherein the inorganic compound of the first or second antiglare layer has a black or brown color. 第一又は第二防眩層の無機化合物が、ＣｕＳ、Ｃｕ2Ｓ、ＮｉＳ、ＡｇＳ、ＳｎＳ、ＣｏＳからなる群から選択される少なくとも一種の金属硫化物である請求項１〜５のいずれかに電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。 The inorganic compound of the first or second antiglare layer is at least one metal sulfide selected from the group consisting of CuS, Cu 2 S, NiS, AgS, SnS, and CoS. Manufacturing method of electromagnetic wave shielding light transmitting window material. 第一又は第二防眩層の無機化合物が、ＴｉＣ及びＳｉＣからなる群から選択される少なくとも一種の金属炭化物である請求項１〜５のいずれかに電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。   The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmissive window material according to any one of claims 1 to 5, wherein the inorganic compound of the first or second antiglare layer is at least one metal carbide selected from the group consisting of TiC and SiC. 第一又は第二防眩層の無機化合物が、黒鉛及びカーボンブラックからなる群から選択される少なくとも一種の炭素物質である請求項１〜５のいずれかに電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。   The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to any one of claims 1 to 5, wherein the inorganic compound of the first or second antiglare layer is at least one carbon material selected from the group consisting of graphite and carbon black. . 第一又は第二防眩層の無機化合物が、ＴｉＮの金属窒化物である請求項１〜５のいずれかに電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。   The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to any one of claims 1 to 5, wherein the inorganic compound of the first or second antiglare layer is TiN metal nitride. 第一又は第二防眩層の厚さが、１００〜１００００Åの範囲にある請求項１〜９のいずれかに電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。   The method for producing an electromagnetic wave shielding light-transmitting window material according to any one of claims 1 to 9, wherein the thickness of the first or second antiglare layer is in the range of 100 to 10,000 mm. 前記ドット間の幅が５〜４０μｍである請求項１〜１０のいずれかに記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。   The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to any one of claims 1 to 10, wherein a width between the dots is 5 to 40 µm. 前記ドットの面積の、ドットを有する全表面積に対する割合が、７０〜９５％である請求項１〜１１のいずれかに記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。   The ratio of the area of the dots to the total surface area of the dots is 70 to 95%. The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to any one of claims 1 to 11. ドット状が印刷により形成される請求項１〜１２のいずれかに記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。   The manufacturing method of the electromagnetic wave shielding light transmission window material in any one of Claims 1-12 in which dot shape is formed by printing. 溶剤に対して可溶な物質が、ポリビニルアルコールである請求項１〜１３のいずれかに電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。   The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to any one of claims 1 to 13, wherein the substance soluble in the solvent is polyvinyl alcohol. 前記金属導電層が、金属からなる請求項１〜１４のいずれかにのいずれかに記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。   The method for producing an electromagnetic wave shielding light-transmitting window material according to any one of claims 1 to 14, wherein the metal conductive layer is made of metal. 金属メッキ層の形成に使用する金属が、銅である請求項１〜１５のいずれかに記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。   The method for producing an electromagnetic wave shielding light-transmitting window material according to any one of claims 1 to 15, wherein a metal used for forming the metal plating layer is copper. 請求項１〜１５のいずれかに記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法により得られる電磁波シールド性光透過窓材。   The electromagnetic wave shielding light transmission window material obtained by the manufacturing method of the electromagnetic wave shielding light transmission window material according to claim 1. 透明基板の表面にメッシュ状に形成された、色が黒又は茶系の無機化合物からなる第一防眩層、及び
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層を含む電磁波シールド性光透過窓材。 A first anti-glare layer made of a black or brown inorganic compound formed in a mesh on the surface of the transparent substrate, and a conductive metal, alloy or metal oxide formed on the first anti-glare layer An electromagnetic wave shielding light transmitting window material comprising a metal conductive layer made of a material. 透明基板の表面にメッシュ状に形成された、色が黒又は茶系の無機化合物からなる第一防眩層、
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、及び
金属導電層上に形成された、色が黒又は茶系の無機化合物からなる第二防眩層を含む電磁波シールド性光透過窓材。 A first antiglare layer formed of a black or brown inorganic compound, formed in a mesh on the surface of the transparent substrate;
A metal conductive layer made of a conductive metal, alloy or metal oxide formed on the first anti-glare layer, and a second made of a black or brown-based inorganic compound formed on the metal conductive layer. An electromagnetic shielding light-transmitting window material including an antiglare layer. 透明基板の表面にメッシュ状に形成された、色が黒又は茶系の無機化合物からなる第一防眩層、
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、及び
金属導電層の少なくとも表面を黒化処理して形成された黒化処理層、
を含む電磁波シールド性光透過窓材。 A first antiglare layer formed of a black or brown inorganic compound, formed in a mesh on the surface of the transparent substrate;
A metal conductive layer made of a conductive metal, alloy or metal oxide formed on the first anti-glare layer, and a blackened layer formed by blackening at least the surface of the metal conductive layer;
Electromagnetic shielding light transmission window material containing 透明基板の表面にメッシュ状に形成された、色が黒又は茶系の無機化合物からなる第一防眩層、及び
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、
金属導電層上に形成された電気メッキによる金属メッキ層、及び
金属メッキ層の少なくとも表面を黒化処理して形成された黒化処理層、
を含む電磁波シールド性光透過窓材。 A first anti-glare layer made of a black or brown inorganic compound formed in a mesh on the surface of the transparent substrate, and a conductive metal, alloy or metal oxide formed on the first anti-glare layer Metal conductive layer made of material,
A metal plating layer by electroplating formed on the metal conductive layer, and a blackening treatment layer formed by blackening at least the surface of the metal plating layer;
Electromagnetic shielding light transmission window material containing 第一又は第二防眩層が、無機化合物の気相成膜により形成されている請求項１８〜２１のいずれかに記載の電磁波シールド性光透過窓材。   The electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to any one of claims 18 to 21, wherein the first or second antiglare layer is formed by vapor phase film formation of an inorganic compound. 第一又は第二防眩層の無機化合物が、金属硫化物、金属炭化物及び／又は金属窒化物である請求項１８〜２２のいずれかに電磁波シールド性光透過窓材。   The electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to any one of claims 18 to 22, wherein the inorganic compound of the first or second antiglare layer is a metal sulfide, a metal carbide and / or a metal nitride. 透明基板の表面にメッシュ状に形成された、無機化合物からなり、彩度が５．０以下である第一防眩層、及び
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層を含む電磁波シールド性光透過窓材。 A first anti-glare layer made of an inorganic compound and having a chroma of 5.0 or less formed on the surface of a transparent substrate, and a conductive metal or alloy formed on the first anti-glare layer Or the electromagnetic wave shielding light transmissive window material containing the metal conductive layer which consists of metal oxides. 透明基板の表面にメッシュ状に形成された、無機化合物からなり、彩度が５．０以下である第一防眩層、
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、及び
金属導電層上に形成された、無機化合物からなり、彩度が５．０以下である第二防眩層を含む電磁波シールド性光透過窓材。 A first anti-glare layer made of an inorganic compound formed in a mesh shape on the surface of the transparent substrate and having a chroma of 5.0 or less;
It is composed of a conductive metal, alloy or metal oxide formed on the first antiglare layer, and an inorganic compound formed on the conductive metal layer, and has a saturation of 5.0 or less. An electromagnetic wave shielding light transmitting window material comprising a second antiglare layer. 透明基板の表面にメッシュ状に形成された、無機化合物からなり、彩度が５．０以下である第一防眩層、
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、及び
金属導電層の少なくとも表面を黒化処理して形成された黒化処理層、
を含む電磁波シールド性光透過窓材。 A first anti-glare layer made of an inorganic compound formed in a mesh shape on the surface of the transparent substrate and having a chroma of 5.0 or less;
A metal conductive layer made of a conductive metal, alloy or metal oxide formed on the first anti-glare layer, and a blackened layer formed by blackening at least the surface of the metal conductive layer;
Electromagnetic shielding light transmission window material containing 透明基板の表面にメッシュ状に形成された、無機化合物からなり、彩度が５．０以下である第一防眩層、及び
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、
金属導電層上に形成された電気メッキによる金属メッキ層、及び
金属メッキ層の少なくとも表面を黒化処理して形成された黒化処理層、
を含む電磁波シールド性光透過窓材。 A first anti-glare layer made of an inorganic compound and having a chroma of 5.0 or less formed on the surface of a transparent substrate, and a conductive metal or alloy formed on the first anti-glare layer Or a metal conductive layer made of a metal oxide,
A metal plating layer by electroplating formed on the metal conductive layer, and a blackening treatment layer formed by blackening at least the surface of the metal plating layer;
Electromagnetic shielding light transmission window material containing 第一又は第二防眩層の無機化合物が、金属硫化物、金属炭化物及び／又は金属窒化物である請求項２４〜２７のいずれかに電磁波シールド性光透過窓材。   28. The electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claim 24, wherein the inorganic compound of the first or second antiglare layer is a metal sulfide, a metal carbide and / or a metal nitride. 請求項１７〜２８のいずれかに記載の電磁波シールド性光透過窓材が透明基体に貼り合わされてなるディスプレイ用フィルタ。
A filter for display comprising the electromagnetic wave shielding light-transmitting window material according to any one of claims 17 to 28 bonded to a transparent substrate.
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