JP5198588B2 - モデルベースのサブ解像度補助パターン(mb−sraf)の改良された生成及び配置のために信号強度を高めるための方法及び装置 - Google Patents
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Description
本発明を議論する前に、較正されるべきシミュレーションプロセス及び結像プロセスの全体について概説する。図1Aは、代表的なリソグラフィ投影システム10を示す。主要な構成要素は、深紫外エキシマレーザ源であってもよい光源12、部分コヒーレンス(シグマで表される)を定義し特定のソース成形光学系14、16a、16bを含み得る照明光学系、マスクまたはレチクル18、及びレチクルパターンの像をウェーハ面22に生成する投影光学系16cである。瞳面の調整可能フィルタまたはアパーチャ20がウェーハ面22に入射するビーム角度範囲を制限してもよい。可能な最大角度は投影光学系の開口数NA=sin(Θmax)を定義する。
図3Aは、目標パターン202の近傍に配置された例示的な1セットのSRAFであるプリントされない散乱バー304A〜Dを示す。図3Aに示す例においては、散乱バー304A〜Dは目標パターン202から距離d1離れている。図3Aのレイアウト300Aは典型的に、SGMを生成する既存のシミュレーション方法により生成されている。
図14は、本稿に開示するリソグラフィシミュレーションのためのSGM最適化方法を支援及び/または実装することのできるコンピュータシステム100を示すブロック図である。コンピュータシステム100は、バス102または情報通信のためのその他の通信メカニズムと、情報処理のためにバス102に接続されるプロセッサ104と、を含む。コンピュータシステム100は更に、情報と、プロセッサ104により実行されるべき命令とを保存するためにバス102に接続されるメインメモリ106例えばランダムアクセスメモリ(RAM)またはその他の動的ストレージデバイスを含む。メインメモリ106は、プロセッサ104により実行されるべき命令の実行中に一時的な変数またはその他の中間的な情報を保存するために使用されてもよい。コンピュータシステム100は更に、静的な情報及びプロセッサ104のための命令を保存するためにバス102に接続されるリードオンリーメモリ(ROM)108またはその他の静的ストレージデバイスを含む。ストレージデバイス110例えば磁気ディスクまたは光ディスクが設けられており、情報及び命令の保存のためにバス102に接続されている。
図15は、本発明の処理を使用してリソグラフィプロセスのシミュレーションを行うことのできる代表的なリソグラフィ投影装置を模式的に示す図である。この装置は、下記の構成要素を備える。
1.マスクレイアウトにある1つまたは複数の目標パターンに関してサブ解像度補助パターン(SRAF)を配置するための信号強度を強めるための方法であって、
前記マスクレイアウトについての初期SRAFガイダンスマップを生成することと、
前記初期SRAFガイダンスマップに従って前記マスクレイアウトに1回目の1つまたは複数のSRAFのセットを配置することと、
前記1回目の1つまたは複数のSRAFのセットの少なくとも一部の数、位置、及び寸法のうち1つまたは複数を変更することと、
前記初期SRAFガイダンスマップにおける信号強度の向上を測定することと、
更新されたSRAFガイダンスマップを、強化された信号強度により生成することと、を含む、方法。
2.前記更新されたSRAFガイダンスマップに従って前記マスクレイアウトに次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを配置することをさらに含む、項1に記載の方法。
3.更新されたSRAFガイダンスマップを生成するステップと、前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを配置するステップと、を反復プロセスにおいて、予め定義されたリソグラフィプロセスウィンドウ条件が満たされるまで繰り返すことをさらに含む、項2に記載の方法。
4.次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを反復的に配置するステップは、
前回の1つまたは複数のSRAFのセットを完全に新たな次の回の1つまたは複数のSRAFのセットに置き換えることを含む、項3に記載の方法。
5.次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを反復的に配置するステップは、
前回の1つまたは複数のSRAFのセットの少なくとも一部を保持することと、
前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを取得するために前記前回の1つまたは複数のSRAFのセットを調整することと、を含む、項3に記載の方法。
6.補正されたマスクレイアウトを生成するために前記マスクレイアウトにあるもとの目標パターンに光近接効果補正(OPC)を適用することをさらに含む、項1に記載の方法。
7.前記反復プロセスは、
更新されたSRAFガイダンスマップを生成するために、前回の1つまたは複数のSRAFのセットと前回の補正されたマスクレイアウトとを使用することと、
次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを生成するために、前記更新されたSRAFガイダンスマップを使用することと、
前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを含む次の回の補正されたマスクレイアウトを生成するために、前記前回の補正されたマスクレイアウトにOPCを適用することと、
前記予め定義されたリソグラフィプロセスウィンドウ条件が満たされているか否かを決定するために、前記次の回の補正されたマスクレイアウトを使用することと、を含む、項3に記載の方法。
8.前記反復プロセスは、
更新されたSRAFガイダンスマップを生成するために、前回の1つまたは複数のSRAFのセットともとの目標パターンとを使用することと、
次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを生成するために、前記更新されたSRAFガイダンスマップを使用することと、
前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを含む次の回のマスクレイアウトを生成することと、
前記予め定義されたリソグラフィプロセスウィンドウ条件が満たされているか否かを決定するために、前記次の回のマスクレイアウトを使用することと、を含む、項3に記載の方法。
9.前記SRAFガイダンスマップを使用してSRAF配置ルールを生成することをさらに含む、項1に記載の方法。
10.前記マスクレイアウトは予め定義されたマスクバイアスを含む、項1に記載の方法。
11.前記プロセスウィンドウはフォーカスウィンドウ及び露光ドーズウィンドウの1つまたは複数を含む、項3に記載の方法。
12.前記反復プロセスは、リソグラフィ応答を表す予め定義されたコスト関数が前記予め定義されたプロセスウィンドウ条件に関連する最適値に到達するときに終了される、項3に記載の方法。
13.前記予め定義されたコスト関数は、イメージログスロープ(ILS)、エッジ配置誤差、マスクエラーエンハンスメントファクタ、またはそれらの組み合わせを表す、項12に記載の方法。
14.その内部に記録されている命令を有するコンピュータ読み取り可能媒体を備えるコンピュータプログラム製品であって、該命令は実行されたときに、リソグラフィ結像プロセスにおいて結像されるべき複数の目標パターンを有するマスクレイアウトに相当するファイルを生成することをコンピュータに実行させ、前記ファイルの生成は、
前記マスクレイアウトについての初期SRAFガイダンスマップを生成するステップと、
前記初期SRAFガイダンスマップに従って前記マスクレイアウトに1回目の1つまたは複数のSRAFのセットを配置するステップと、
前記1回目の1つまたは複数のSRAFのセットと前記複数の目標パターンとを使用して、更新されたSRAFガイダンスマップを生成するステップと、
前記更新されたSRAFガイダンスマップに従って前記マスクレイアウトに次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを配置するステップと、
更新されたSRAFガイダンスマップを生成するステップと、前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを配置するステップと、を反復プロセスにおいて、予め定義されたリソグラフィプロセスウィンドウ条件が満たされるまで繰り返すステップと、を含む、コンピュータプログラム製品。
15.前記方法は、補正されたマスクレイアウトを生成するために前記マスクレイアウトにあるもとの目標パターンに光近接効果補正(OPC)を適用することをさらに含む、項14に記載のコンピュータプログラム製品。
16.前記反復プロセスは、
更新されたSRAFガイダンスマップを生成するために、前回の1つまたは複数のSRAFのセットと前回の補正されたマスクレイアウトとを使用することと、
次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを生成するために、前記更新されたSRAFガイダンスマップを使用することと、
前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを含む次の回の補正されたマスクレイアウトを生成するために、前記前回の補正されたマスクレイアウトにOPCを適用することと、
前記予め定義されたリソグラフィプロセスウィンドウ条件が満たされているか否かを決定するために、前記次の回の補正されたマスクレイアウトを使用することと、を含む、項15に記載のコンピュータプログラム製品。
17.前記反復プロセスは、
更新されたSRAFガイダンスマップを生成するために、前回の1つまたは複数のSRAFのセットともとの目標パターンとを使用することと、
次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを生成するために、前記更新されたSRAFガイダンスマップを使用することと、
前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを含む次の回のマスクレイアウトを生成することと、
前記予め定義されたリソグラフィプロセスウィンドウ条件が満たされているか否かを決定するために、前記次の回のマスクレイアウトを使用することと、を含む、項14に記載のコンピュータプログラム製品。
18.前記SRAFガイダンスマップを使用してSRAF配置ルールを生成することをさらに含む、項14に記載のコンピュータプログラム製品。
19.前記マスクレイアウトは予め定義されたマスクバイアスを含む、項14に記載のコンピュータプログラム製品。
20.前記プロセスウィンドウはフォーカスウィンドウ及び露光ドーズウィンドウの1つまたは複数を含む、項14に記載のコンピュータプログラム製品。
21.前記反復プロセスは、リソグラフィ応答を表す予め定義されたコスト関数が前記予め定義されたプロセスウィンドウ条件に関連する最適値に到達するときに終了される、項14に記載のコンピュータプログラム製品。
22.前記予め定義されたコスト関数は、イメージログスロープ(ILS)、エッジ配置誤差、マスクエラーエンハンスメントファクタ、またはそれらの組み合わせを表す、項21に記載のコンピュータプログラム製品。
23.更新されたSRAFガイダンスマップを反復的に生成するステップは、
前回の1つまたは複数のSRAFのセットの少なくとも一部の数、位置、及び寸法のうち1つまたは複数を変更することと、
前回のSRAFガイダンスマップを更新するために信号強度の向上を測定することと、を含む、項14に記載のコンピュータプログラム製品。
Claims (13)
- マスクレイアウトにある1つまたは複数の目標パターンに関してサブ解像度補助パターン(SRAF)を配置するための方法であって、
前記マスクレイアウトについての初期SRAFガイダンスマップを生成することと、
前記初期SRAFガイダンスマップに従って前記マスクレイアウトに1回目の1つまたは複数のSRAFのセットを配置することと、
前記1回目の1つまたは複数のSRAFのセットと前記1つまたは複数の目標パターンとを使用して、更新されたSRAFガイダンスマップを生成することと、
前記更新されたSRAFガイダンスマップに従って前記マスクレイアウトに次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを配置することと、
更新されたSRAFガイダンスマップを生成するステップと、前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを配置するステップと、を反復プロセスにおいて、予め定義されたリソグラフィプロセスウィンドウ条件が満たされるまで繰り返すことと、を含み、
前記反復プロセスは、
更新されたSRAFガイダンスマップを生成するために、前回の1つまたは複数のSRAFのセットともとの目標パターンとを使用することと、
次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを生成するために、前記更新されたSRAFガイダンスマップを使用することと、
前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを含む次の回のマスクレイアウトを生成することと、
前記予め定義されたリソグラフィプロセスウィンドウ条件が満たされているか否かを決定するために、前記次の回のマスクレイアウトを使用することと、を含む、方法。 - 次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを反復的に配置するステップは、
前回の1つまたは複数のSRAFのセットを完全に新たな次の回の1つまたは複数のSRAFのセットに置き換えることを含む、請求項1に記載の方法。 - 次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを反復的に配置するステップは、
前回の1つまたは複数のSRAFのセットの少なくとも一部を保持することと、
前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを取得するために前記前回の1つまたは複数のSRAFのセットを調整することと、を含む、請求項1に記載の方法。 - 補正されたマスクレイアウトを生成するために前記マスクレイアウトにあるもとの目標パターンに光近接効果補正(OPC)を適用することをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記SRAFガイダンスマップを使用してSRAF配置ルールを生成することをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記マスクレイアウトは予め定義されたマスクバイアスを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記プロセスウィンドウはフォーカスウィンドウ及び露光ドーズウィンドウの1つまたは複数を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記反復プロセスは、リソグラフィ応答を表す予め定義されたコスト関数が前記予め定義されたプロセスウィンドウ条件に関連する最適値に到達するときに終了される、請求項1に記載の方法。
- 前記予め定義されたコスト関数は、イメージログスロープ(ILS)、エッジ配置誤差、マスクエラーエンハンスメントファクタ、またはそれらの組み合わせを表す、請求項8に記載の方法。
- リソグラフィ結像プロセスにおいて結像されるべき複数の目標パターンを有するマスクレイアウトに相当するファイルを生成することをコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラムであって、
前記マスクレイアウトについての初期SRAFガイダンスマップを生成するステップと、
前記初期SRAFガイダンスマップに従って前記マスクレイアウトに1回目の1つまたは複数のSRAFのセットを配置するステップと、
前記1回目の1つまたは複数のSRAFのセットと前記複数の目標パターンとを使用して、更新されたSRAFガイダンスマップを生成するステップと、
前記更新されたSRAFガイダンスマップに従って前記マスクレイアウトに次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを配置するステップと、
更新されたSRAFガイダンスマップを生成するステップと、前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを配置するステップと、を反復プロセスにおいて、予め定義されたリソグラフィプロセスウィンドウ条件が満たされるまで繰り返すステップと、を実行するための命令を含み、
前記反復プロセスは、
更新されたSRAFガイダンスマップを生成するために、前回の1つまたは複数のSRAFのセットともとの目標パターンとを使用することと、
次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを生成するために、前記更新されたSRAFガイダンスマップを使用することと、
前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを含む次の回のマスクレイアウトを生成することと、
前記予め定義されたリソグラフィプロセスウィンドウ条件が満たされているか否かを決定するために、前記次の回のマスクレイアウトを使用することと、を含む、コンピュータプログラム。 - 次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを反復的に配置するステップは、
前回のSRAFのセットを完全に新たな次の回のSRAFのセットに置き換えることを含む、請求項10に記載のコンピュータプログラム。 - 次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを反復的に配置するステップは、
前回の1つまたは複数のSRAFのセットの少なくとも一部を保持することと、
前記次の回の1つまたは複数のSRAFのセットを取得するために前記前回の1つまたは複数のSRAFのセットを調整することと、を含む、請求項10に記載のコンピュータプログラム。 - 補正されたマスクレイアウトを生成するために前記マスクレイアウトにあるもとの目標パターンに光近接効果補正(OPC)を適用することをさらに含む、請求項10に記載のコンピュータプログラム。
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