JP5193662B2 - 微細構造転写装置 - Google Patents
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Description
この場合、被転写体7へのエッチング加工の精度は、薄膜層の面方向における厚さの分布の影響を受ける。従って、パターン形成層9が所望の均等厚になるようにすることが重要である。
この圧力等高線は、スタンパ1の押付け圧が徐々に高まるにつれ、圧力勾配が大きくなる。即ち、スタンパ1の押付け圧1の時間的に変化に伴って、圧力分布も変化する。
また、図5に示すように弾性係数の高い材料Aの部分を弾性体6よりも弾性係数の高いプレート5で兼用させてもよい。
図8は、図3と同様に弾性体6のその中心を通る断面図を示している。本実施例では、弾性体6は図8に示すように、被転写体7に合せてその中心に空洞を設ける。また、弾性体6は、中心空洞(内周側)と被転写体7の外周側との間の位置aに最も弾性係数の高い材料Aで形成し、外周側及び空洞側にいくほど弾性係数の低い材料で形成し、外周側及び空洞側では最も弾性係数の低い材料Zで形成する。
2 スタンパ保持具
3 昇降機構
4 ステージ
5 プレート
6 弾性体
7 被転写体
8 XY移動機構
9 パターン形成層
91 パターン薄膜層
92 パターン層
10 パターン形成材料
A〜Z 弾性係数の異なる材料。
Claims (7)
- スタンパに形成されたパターンを被転写体に押付けて、前記被転写体の表面に前記パターンを転写する微細構造転写装置において、
前記スタンパを保持するスタンパ保持部と、前記被転写体を保持する保持ステージと、前記スタンパ保持部と前記保持ステージの間に設けられ、転写時に前記被転写体表面に圧力分布を発生する弾性体を有し、
前記弾性体は、前記被転写体の端面に向けて圧力が低下するように複数の異なった弾性係数を持つ材料で構成されることを特徴とする微細構造転写装置。 - 前記弾性体は、前記被転写体と前記保持ステージの間に設けられたことを特徴とする請求項1に記載の微細構造転写装置。
- 前記弾性体は、前記スタンパと前記スタンパ保持部の間に設けられたことを特徴とする請求項1に記載の微細構造転写装置。
- 前記弾性体は、平板であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の微細構造転写装置。
- 前記弾性体は、前記複数の異なった弾性係数を持つ材料の厚さ分布によって前記被転写体の端面に向けて圧力が低下するように構成されたことを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の微細構造転写装置。
- 前記弾性体は、前記複数の異なった弾性係数を持つ材料の該弾性係数を連続的に変化させて前記被転写体の端面に向けて圧力が低下するように構成されたことを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の微細構造転写装置。
- 前記弾性体は、前記複数の異なった弾性係数を持つ材料の該弾性係数をディスクリート状に変化させて前記被転写体の端面に向けて圧力が低下するように構成されたことを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の微細構造転写装置。
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