JP5192792B2 - 透明導電膜とその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の実施例1においては、図1に対応して、無アルカリガラス基板1(商品名OA−10、膜厚0.7mm、日本電気硝子社製)上に、酸化亜鉛の透明導電層2がスパッタリングによって堆積された。具体的な堆積条件として、成膜室内において基板温度が200℃に設定され、キャリアガスとしてアルゴンガスが20sccmの流量で導入され、8Paの圧力下で200WのDCパワーが印加され、そして5分間の堆積を行なうことによって厚さ50nmの酸化亜鉛層2が形成された。
本発明の実施例2においては、まず実施例1の場合と同様にして、無アルカリガラス基板1上に、酸化亜鉛層2、第1種水素含有カーボン層3、および第2種水素含有カーボン層4が順次堆積された。
本発明の実施例3による透明導電膜は、実施例1に比べて、第1種水素含有カーボン層3と第2種水素含有カーボン層4の積層順序が反転されていたことのみにおいて異なっていた。
本発明の実施例4による透明導電膜は図2に対応しており、実施例1に比べて、第2種水素含有カーボン層4上に付加的な酸化亜鉛層5が堆積されたことのみにおいて異なっていた。
比較例1としての透明導電膜は、実施例1に比べて、第2種水素含有カーボン層4の堆積が省略されたことのみにおいて異なっていた。
比較例2としての透明導電膜は、実施例1に比べて、第1種と第2種の水素含有カーボン層3、4のいずれの堆積も省略されたことのみにおいて異なっていた。
Claims (4)
- 透明基板上において1層以上の透明導電層と、その上の複数層の水素含有カーボン層とを含み、
前記透明導電層の少なくとも1層は酸化亜鉛を含み、
前記水素含有カーボン層の少なくとも2層はその構造と組成との少なくともいずれかにおいて互いに異なっており、
前記1層以上の透明導電層が堆積された前記透明基板の光線透過率をT0としかつ前記複数層の水素含有カーボン層まで堆積された前記透明基板の光線透過率をT1とした場合に、波長550nmの光に関してT1/T0≧1.02の関係が成り立つことを特徴とする透明導電膜。 - 前記複数層の水素含有カーボン層の少なくとも1層は、波長550nmの光に関して1.40〜1.70の範囲内の屈折率を有していることを特徴とする請求項1に記載の透明導電膜。
- 前記複数層の水素含有カーボン層上に、厚さ20nm以下でかつ酸化亜鉛を含む透明導電酸化物層をさらに含むことを特徴とする請求項1または2に記載の透明導電膜。
- 請求項1から3のいずれかの透明導電膜を製造するための方法であって、
前記水素含有カーボン層が、メタンガスまたはメタンと水素の混合ガスを原料ガスとして使用する高周波プラズマCVD法によって形成されることを特徴とする透明導電膜の製造方法。
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