JP5191254B2 - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Description
図2は本発明にかかる基板処理装置としての処理ユニットの第1実施形態を示す図である。この処理ユニット100は、半導体ウエハ等の基板Wの表面Wfに付着している不要物を除去するための洗浄処理に用いられる枚葉式の処理ユニットである。より具体的には、基板表面Wfに対してフッ酸などの薬液による薬液処理および純水やDIW(脱イオン水:deionized water)などのリンス液によるリンス処理を施した後、リンス液で濡れた基板表面Wfを乾燥させる装置である。なお、この実施形態では、基板表面Wfとはpoly−Si等からなるデバイスパターンが形成されたパターン形成面をいう。
次に、本発明にかかる基板処理装置としての処理ユニットの第2実施形態について説明する。この実施形態は、本発明の「第1および第2の気体」としていずれも窒素ガスを使用し、温度差に起因する比重差によって2つのガス層を形成するようにしている点において第1実施形態と相違しており、この点を除けば基本的な装置構成は上記した第1実施形態と同じである。そこで、以下の説明においては、第1実施形態における構成と同一の構成については同一の符号を付して説明を省略し、本実施形態の特徴部分を重点的に説明する。
次に、この本発明にかかる処理ユニットの第3実施形態について説明する。この第3実施形態ではガス吐出ユニットの形状が第1実施形態のものと相違しているが、この点を除けば第3実施形態の基本的な装置構成および動作は上記した第1実施形態と同じである。そこで、以下の説明においては、第1実施形態における構成と同一の構成については同一の符号を付して説明を省略し、本実施形態の特徴部分であるガス吐出ユニットの構造について説明する。
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、本発明の「第1および第2の気体」として使用し得るガスの種類が上記実施形態のものに限定されないことは前記した通りである。
1a,2a,3a,4a,100a…処理チャンバー
101…スピンチャック(基板保持手段)
120…処理液供給ユニット(処理液供給手段)
151…制御ユニット(制御手段)
154…チャック回転機構(回転手段)
200,300…ガス吐出ヘッド(気体吐出手段)
283,383…ガス吐出口(第1の吐出口)
293…ガス吐出口(第2の吐出口)
Claims (10)
- 基板を略水平に保持する基板保持手段と、
前記基板に処理液を供給して湿式処理を行う処理液供給手段と、
前記基板保持手段に保持された基板の中央部の上方に配置され気体を吐出する気体吐出手段と
を備え、
前記気体吐出手段は、前記基板の中央部に向けて開口する第1の吐出口と、前記第1の吐出口を取り囲むように開口する第2の吐出口とを設けられており、前記第1の吐出口から第1の気体を吐出して前記湿式処理後の前記基板表面に沿って前記第1の気体による第1の気体層を形成する一方、前記第2の吐出口から前記第1の気体より比重の小さい第2の気体を吐出して前記第1の気体の層の上層に前記第2の気体による第2の気体層を形成する
ことを特徴とする基板処理装置。 - 前記基板保持手段を回転駆動して前記基板を略鉛直の回転軸中心に回転させる回転手段と、
前記湿式処理後の前記基板に対し、前記気体吐出手段により前記第1および第2の気体を吐出させて前記第1の気体層および前記第2の気体層を形成した状態で、前記回転手段により前記基板を回転させて前記基板表面から前記処理液を除去し前記基板を乾燥させる乾燥処理を実行する制御手段と
を備える請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記気体吐出手段は、前記第2の気体として前記第1の気体より平均分子量の小さい気体を吐出する請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 前記気体吐出手段は、前記第2の気体として前記第1の気体と同一組成で前記第1の気体よりも高温の気体を吐出する請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記気体吐出手段は、前記第1の気体として不活性ガスを吐出する請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記気体吐出手段は、前記第2の気体として水分を除去された気体を吐出する請求項1ないし5のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記気体吐出手段は、前記第2の吐出口から吐出する前記第2の気体の流速よりも高い流速で、前記第1の吐出口から前記第1の気体を吐出する請求項1ないし6のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記第2の吐出口が、前記基板の周縁に向かって開口している請求項1ないし7のいずれかに記載の基板処理装置。
- 基板を略水平に保持する基板保持工程と、
前記基板に処理液を供給して湿式処理を行う湿式処理工程と、
前記基板の中央部上方に気体を吐出する気体吐出手段を配置し、該気体吐出手段から前記基板の中央部に向けて第1の気体を吐出して該第1の気体により前記基板表面を覆う第1の気体層を形成するとともに、前記気体吐出手段から前記第1の気体よりも比重の小さい第2の気体を吐出して前記第2の気体により前記第1の気体層を覆う第2の気体層を形成する気体層形成工程と
を備え、
前記第1および第2の気体層が形成された状態で、前記湿式処理後の前記基板に対し所定の処理を行う
ことを特徴とする基板処理方法。 - 前記所定の処理として、処理液による湿式処理後の基板を回転させて該基板表面から前記処理液を除去し前記基板を乾燥させる乾燥処理を実行する請求項9に記載の基板処理方法。
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