JP5181646B2

JP5181646B2 - Front filter for plasma display and plasma display using the same

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Publication number: JP5181646B2
Application number: JP2007319220A
Authority: JP
Inventors: 康子曽根; 武章今泉
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2007-12-11
Filing date: 2007-12-11
Publication date: 2013-04-10
Anticipated expiration: 2027-12-11
Also published as: JP2009139892A

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネルからの近赤外線やＮｅ成分の発光を遮蔽し、かつ、コントラストを向上するためのコントラスト向上シートと、プラズマディスプレイパネルからの電磁波を遮蔽するための前面フィルターと、これを用いたプラズマディスプレイに関する。 The present invention provides a contrast improving sheet for shielding near-infrared light and Ne component emission from a plasma display panel and improving contrast, a front filter for shielding electromagnetic waves from the plasma display panel, and It relates to the plasma display used.

近年、画像表示媒体の大型化、薄型化に対する要求が高まり、これに対応可能な表示媒体としてプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）が急速に市場を伸ばしつつある。しかし、プラズマディスプレイパネルはキセノンやヘリウムの不活性ガス放電を利用するため、波長８００〜１０００ｎｍの近赤外線を放出する。このような近赤外線は、コードレス電話、赤外線方式のリモートコントローラー等の誤作動を引き起こす可能性がある。また、不活性ガスに含まれるＮｅ成分のオレンジ色の発光（Ｎｅ光）による色純度の低下が生じるという問題があった。
また、プラズマディスプレイパネルは、外部が明るい条件、すなわち明室条件では、コントラストが不十分となり画像品質が低下するという問題があった。
さらに、プラズマディスプレイパネルは高輝度な表示特性が得られるものの、強度の電磁波を放出し、各種の計器類や人体に対して障害を及ぼすことが示唆されつつある。 In recent years, there has been an increasing demand for larger and thinner image display media, and the plasma display panel (PDP) is rapidly growing as a display medium that can cope with this demand. However, since the plasma display panel uses an inert gas discharge of xenon or helium, it emits near infrared rays having a wavelength of 800 to 1000 nm. Such near infrared rays may cause malfunction of cordless telephones, infrared remote controllers, and the like. Further, there has been a problem that the color purity is lowered due to orange light emission (Ne light) of the Ne component contained in the inert gas.
Further, the plasma display panel has a problem in that the contrast is insufficient and the image quality is deteriorated under a bright external condition, that is, in a bright room condition.
Furthermore, although a plasma display panel can provide high-luminance display characteristics, it has been suggested that it emits strong electromagnetic waves and causes damage to various instruments and the human body.

このような問題を解消するために、上記のような電磁波や近赤外線、Ｎｅ光の放出を抑え、また、明室でのコントラストを向上させることができる前面フィルターに対する要望が高まっており、例えば、コントラストを向上させるための層として、樹脂層中に楔形のブラックマトリックスを有する外光遮蔽層を備えた多層構造の前面フィルターが開発されている（特許文献１）。
特開２００６−１８９８６７号公報 In order to solve such a problem, there is an increasing demand for a front filter capable of suppressing the emission of electromagnetic waves, near infrared rays, and Ne light as described above, and improving the contrast in a bright room. As a layer for improving contrast, a multilayer front filter having an external light shielding layer having a wedge-shaped black matrix in a resin layer has been developed (Patent Document 1).
JP 2006-189867 A

しかし、従来の前面フィルターは、電磁波を遮蔽するための層、近赤外線を遮蔽するための層、Ｎｅ光を遮蔽するための層、外光を遮蔽してコントラストを向上させるための層（外光遮蔽層）を粘着層を介して樹脂フィルムに積層した構造であるため、光透過率の低下を来たし、また、層構成が複雑であるため、製造コストの低減に限界があった。
このため、異なる機能を発現する層を１つの層に集約して構成する層の数を少なくすることが考えられる。しかし、例えば、近赤外線を遮蔽するための層とＮｅ光を遮蔽するための層とを兼ねた近赤外線・Ｎｅ光遮蔽層を外光遮蔽層に設けて構成する層の数を少なくする場合、外光遮蔽層を構成する紫外線硬化型樹脂材料に含有される重合開始剤から発生するラジカルによって近赤外線やＮｅ光を吸収するための色素が劣化するという問題があり、層構成が簡便で優れた機能を発現する前面フィルターに対する要望が高まっている。
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、良好な透明性を有し近赤外線やＮｅ成分の発光等の遮蔽性に優れ、かつ、コントラスト向上に優れるコントラスト向上シートと、これらの機能とともに良好な電磁波遮蔽性を具備する前面フィルターと、画像品質に優れ製造コストの低減も可能なプラズマディスプレイを提供することを目的とする。 However, the conventional front filter has a layer for shielding electromagnetic waves, a layer for shielding near infrared rays, a layer for shielding Ne light, and a layer for shielding external light to improve contrast (external light Since the structure is such that the shielding layer is laminated on the resin film via the adhesive layer, the light transmittance is lowered, and the layer structure is complicated, so that there is a limit to the reduction in manufacturing cost.
For this reason, it is conceivable to reduce the number of layers formed by consolidating layers expressing different functions into one layer. However, for example, in the case of reducing the number of layers configured by providing a near-infrared / Ne-light shielding layer serving as a layer for shielding near-infrared light and a layer for shielding Ne light in the external light shielding layer, There is a problem that the dye for absorbing near infrared rays and Ne light deteriorates due to radicals generated from the polymerization initiator contained in the ultraviolet curable resin material constituting the external light shielding layer, and the layer constitution is simple and excellent. There is an increasing demand for front filters that exhibit their functions.
The present invention has been made in view of such circumstances, and has a contrast enhancement sheet having excellent transparency, excellent shielding properties such as near infrared rays and light emission of Ne component, and excellent contrast improvement, and these An object of the present invention is to provide a front filter having a good electromagnetic wave shielding property and a plasma display that has excellent image quality and can reduce manufacturing costs.

このような目的を達成するために、本発明のプラズマディスプレイ用前面フィルターは、プラズマディスプレイ用コントラスト向上シートと電磁波遮蔽層を備え、該電磁波遮蔽層側をプラズマディスプレイパネルに固着させて配設するためのプラズマディスプレイ用前面フィルターであって、前記プラズマディスプレイ用コントラスト向上シートは、透明フィルム基材と、該透明フィルム基材の一方の面に順次積層された透明樹脂層と近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層とを備え、該透明樹脂層は紫外線硬化型の樹脂組成物を用いて形成され前記近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層との界面側に溝部を備え、該溝部には紫外線硬化型の黒色樹脂組成物を用いて形成された黒色樹脂が充填されており、前記近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層は粘着剤に少なくとも近赤外線吸収用の色素、Ｎｅ光吸収用の色素およびラジカル捕捉剤を含有したものであり、前記電磁波遮蔽層は、前記プラズマディスプレイ用コントラスト向上シートの前記近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層に固着されたものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記透明樹脂層の前記溝部は、相互に平行な複数の溝部、あるいは、格子形状に形成された溝部であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層に含有されるラジカル捕捉剤は、粘着剤に対して０．１〜１重量％の範囲であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記ラジカル捕捉剤は、ヒンダードアミン系およびヒンダードフェノール系の少なくとも１種であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記電磁波遮蔽層は、透明基材と、該透明基材上に設けられた導電体パターンを有し、前記透明基材の該導電体パターンが配設されている面が前記プラズマディスプレイ用コントラスト向上シートの前記近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層に固着されているような構成、前記導電体パターンは表面に導電性黒色被膜を有するような構成とした。 In order to achieve such an object, the front filter for plasma display of the present invention includes a contrast improving sheet for plasma display and an electromagnetic wave shielding layer, and the electromagnetic wave shielding layer side is fixedly disposed on the plasma display panel. A plasma display front filter comprising: a transparent film substrate; a transparent resin layer sequentially laminated on one surface of the transparent film substrate; and a near-infrared / Ne-light shielding adhesive. The transparent resin layer is formed using an ultraviolet curable resin composition, and has a groove on the interface side with the near-infrared / Ne-light shielding adhesive layer, and the groove includes an ultraviolet curable black resin. A black resin formed using the composition is filled, and the near-infrared / Ne-light shielding adhesive layer includes at least an adhesive. Dyes for infrared absorption is obtained by containing a dye and a radical scavenger for Ne light absorbing, electromagnetic wave shielding layer is secured to the near infrared · Ne light shielding adhesive layer of the contrast enhancing sheet for the plasma display It was set as the thing .
As another aspect of the present invention, the groove portion of the transparent resin layer is configured to be a plurality of groove portions parallel to each other or a groove portion formed in a lattice shape.
As another aspect of the present invention, the radical scavenger contained in the near-infrared / Ne-light shielding adhesive layer is configured to be in the range of 0.1 to 1% by weight with respect to the adhesive.
As another aspect of the present invention, the radical scavenger is configured to be at least one of a hindered amine type and a hindered phenol type.
As another aspect of the present invention, the electromagnetic wave shielding layer has a transparent substrate and a conductor pattern provided on the transparent substrate, and the conductor pattern of the transparent substrate is disposed. The surface is fixed to the near-infrared / Ne-light shielding adhesive layer of the contrast enhancement sheet for plasma display, and the conductor pattern is configured to have a conductive black film on the surface.

本発明の他の態様として、前記電磁波遮蔽層は、透明基材と透明樹脂層とを備え、該透明樹脂層は前記透明基材と反対側の面に、相互に平行な複数の溝部、あるいは、格子形状に形成された溝部を備え、該溝部には導電材が充填されており、前記透明樹脂層が前記プラズマディスプレイ用コントラスト向上シートの前記近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層に固着されているような構成とした。
本発明の他の態様として、前記電磁波遮蔽層は、透明基材と、該透明基材上に形成された誘電体膜と導電膜との複合膜を備え、前記複合膜が前記プラズマディスプレイ用コントラスト向上シートの前記近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層に固着されているような構成とした。
本発明の他の態様として、前記プラズマディスプレイ用コントラスト向上シートの前記透明フィルム基材上に反射防止層を最外層となるように有するような構成とした。 As another aspect of the present invention, the electromagnetic wave shielding layer includes a transparent substrate and a transparent resin layer, and the transparent resin layer has a plurality of grooves parallel to each other on the surface opposite to the transparent substrate, or And a groove formed in a lattice shape, and the groove is filled with a conductive material, and the transparent resin layer is fixed to the near-infrared / Ne-light shielding adhesive layer of the contrast enhancement sheet for plasma display. The configuration is as follows.
As another aspect of the present invention, the electromagnetic wave shielding layer includes a transparent base material, and a composite film of a dielectric film and a conductive film formed on the transparent base material, and the composite film is a contrast for the plasma display. It was set as the structure fixed to the said near infrared rays and Ne light shielding adhesion layer of the improvement sheet | seat.
As another aspect of the present invention, the plasma display contrast improving sheet is configured to have an antireflection layer on the transparent film substrate so as to be an outermost layer.

本発明のプラズマディスプレイは、平行に対向して配設された前面板および背面板と、前記前面板と背面板との間に形成された多数のセルとを有するプラズマディスプレイパネルと、該プラズマディスプレイパネルの前面板側に配設された前面フィルターとを備え、該前面フィルターは上述の本発明のプラズマディスプレイ用前面フィルターであり、前面フィルターの前記電磁波遮蔽層側をプラズマディスプレイパネルの前面板に対向するように配設されているような構成とした。
本発明の他の態様として、前記前面板と前記前面フィルターとの間に他の基材が介在するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記基材は、前記前面板と空間を設けて配設されたガラス基板であるような構成とした。 The plasma display of the present invention includes a plasma display panel having a front plate and a back plate disposed in parallel and facing each other, and a number of cells formed between the front plate and the back plate, and the plasma display. A front filter disposed on the front plate side of the panel, and the front filter is the front filter for plasma display of the present invention described above, and the electromagnetic wave shielding layer side of the front filter is opposed to the front plate of the plasma display panel. It was set as the structure arrange | positioned so.
As another aspect of the present invention, another base material is interposed between the front plate and the front filter.
As another aspect of the present invention, the base material is configured to be a glass substrate provided with a space with the front plate.

本発明のコントラスト向上シートでは、透明樹脂層の溝部に位置する黒色樹脂が、外部からの入射光を有効に吸収してプラズマディスプレイのコントラストを向上させる機能を発現するとともに、従来の前面フィルターでは個々の層として存在していた近赤外線を遮蔽するための層とＮｅ光を遮蔽するための層と粘着層とが、近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層に集約されて上記の透明樹脂層に積層されているので、層構成が極めて簡便なものとなり、したがって、光透過率が高く、同時に、製造コストの低減が可能となるとともに、近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層に含有されているラジカル捕捉剤が透明樹脂層から移行してくるラジカルを捕捉するので、近赤外線やＮｅ光を吸収するための色素の劣化が防止され、近赤外線・Ｎｅ光遮蔽機能を安定して発現することができる。 In the contrast enhancing sheet of the present invention, the black resin located in the groove portion of the transparent resin layer expresses the function of effectively absorbing incident light from the outside and improving the contrast of the plasma display. The layer for shielding near infrared rays, the layer for shielding Ne light, and the adhesive layer, which were present as layers, are collected on the near infrared / Ne light shielding adhesive layer and laminated on the transparent resin layer. Therefore, the layer structure becomes very simple. Therefore, the light transmittance is high, and at the same time, the manufacturing cost can be reduced, and the radical scavenger contained in the near infrared / Ne light shielding adhesive layer is Capturing radicals migrating from the transparent resin layer prevents deterioration of pigments that absorb near-infrared and Ne light, and stabilizes the near-infrared / Ne-light shielding function It can be expressed Te.

また、本発明の前面フィルターでは、上記のコントラスト向上機能と近赤外線・Ｎｅ光遮蔽機能に加えて優れた電磁波遮蔽機能を発現することが可能となり、かつ、同じ機能を具備した従来の前面フィルターに比べて層構成が簡便であるため、光透過率が高く、同時に、製造コストの低減が可能となる。さらに、反射防止層を最外層となるように有する場合には、更に反射防止機能を発現することが可能となる。
また、本発明のプラズマディスプレイは、電磁波、近赤外線およびＮｅ光の放出が抑制され、かつ、明室条件でのコントラストが高く画像品質に優れるものである。そして、使用する前面フィルターが最外層に反射防止層を備える場合には、外光の影響を抑制して、より高品質の画像表示が可能となる。 In addition, the front filter of the present invention can express an excellent electromagnetic wave shielding function in addition to the above-described contrast improving function and near infrared / Ne light shielding function, and is a conventional front filter having the same function. Compared with the simpler layer structure, the light transmittance is high, and at the same time, the manufacturing cost can be reduced. Furthermore, when it has an antireflection layer so that it may become an outermost layer, it becomes possible to express an antireflection function further.
In addition, the plasma display of the present invention suppresses the emission of electromagnetic waves, near infrared rays, and Ne light, and has high contrast under bright room conditions and excellent image quality. And when the front filter to be used is provided with an antireflection layer in the outermost layer, it is possible to suppress the influence of external light and display a higher quality image.

次に、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
[コントラスト向上シート]
図１は、本発明のプラズマディスプレイ用のコントラスト向上シートの一実施形態を示す部分断面図である。図１において、コントラスト向上シート１は、透明フィルム基材２と、この透明フィルム基材２の一方の面２ａに順次積層された透明樹脂層３、近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層６と、この近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層６に剥離可能に配設された離型性基材７を備えたものである。また、コントラスト向上シート１を構成する透明樹脂層３は、近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層６との界面側の面３ａに溝部４を備えており、この溝部４には、黒色樹脂５が充填されている。 Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[Contrast improvement sheet]
FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing an embodiment of a contrast enhancing sheet for a plasma display according to the present invention. In FIG. 1, a contrast improving sheet 1 includes a transparent film substrate 2, a transparent resin layer 3 sequentially laminated on one surface 2 a of the transparent film substrate 2, a near infrared / Ne light shielding adhesive layer 6, It is provided with a releasable base material 7 that is detachably disposed on the near infrared / Ne light shielding adhesive layer 6. Further, the transparent resin layer 3 constituting the contrast improving sheet 1 has a groove portion 4 on a surface 3a on the interface side with the near infrared ray / Ne light shielding adhesive layer 6, and the groove portion 4 is filled with a black resin 5. Has been.

本発明のコントラスト向上シート１を構成する透明フィルム基材２は、適度な透明性と耐熱性を有していることが必要であり、例えば、透明性は波長４００ｎｍでの光線透過率が８０％以上であり、また、耐熱性はガラス転移温度が６５℃以上であることが好ましい。使用する透明フィルム基材２の具体例としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリオレフィン、環状ポリオレフィン、ノルボルネン、ポリアリレート、フッ素系樹脂（ＰＴＦＥ、ＣＴＦＥ、ＥＴＦＥ）、透明ポリイミド、ポリアミド、ポリプロピレン、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリフェニルスルフォン、トリアセチルセルロース等が挙げられる。また、透明フィルム基材２の厚みは特に制限されないが、機械的強度の点から５０〜３００μｍ、好ましくは７５〜２００μｍ程度の範囲のものが使用される。 The transparent film substrate 2 constituting the contrast enhancing sheet 1 of the present invention needs to have appropriate transparency and heat resistance. For example, the transparency has a light transmittance of 80% at a wavelength of 400 nm. In addition, the heat resistance is preferably such that the glass transition temperature is 65 ° C. or higher. Specific examples of the transparent film substrate 2 to be used include, for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyolefin, cyclic polyolefin, norbornene, polyarylate, fluororesin (PTFE, CTFE, ETFE), transparent Examples include polyimide, polyamide, polypropylene, polyether sulfone, polyether ether ketone, polyether imide, polyphenyl sulfone, and triacetyl cellulose. The thickness of the transparent film substrate 2 is not particularly limited, but a film having a thickness in the range of about 50 to 300 μm, preferably about 75 to 200 μm is used from the viewpoint of mechanical strength.

本発明のコントラスト向上シート１を構成する透明樹脂層３は、適度な透明性と耐熱性を有していることが必要であり、例えば、透明性は波長４００ｎｍでの光線透過率が８０％以上であり、また、耐熱性はガラス転移温度が９０℃以上であることが好ましい。このような透明樹脂層３としては、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等を挙げることができ、透明フィルム基材２との密着性等を考慮して適宜選択することができる。また、透明樹脂層３の厚みは特に制限されないが、溝部４に形成される黒色樹脂によるコントラスト向上機能を有効に発現させる点から５０〜５００μｍ、好ましくは１００〜２００μｍ程度の範囲で設定することができる。 The transparent resin layer 3 constituting the contrast enhancing sheet 1 of the present invention needs to have appropriate transparency and heat resistance. For example, the transparency has a light transmittance of 80% or more at a wavelength of 400 nm. Moreover, it is preferable that the heat resistance has a glass transition temperature of 90 ° C. or higher. Examples of such transparent resin layer 3 include polymethyl methacrylate resin, polyacrylate resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl pyrrolidone resin, hydroxyethyl cellulose resin, carboxymethyl cellulose resin, polyvinyl chloride resin, melamine resin, and phenol resin. Alkyd resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, maleic acid resin, polyamide resin and the like, and can be appropriately selected in consideration of adhesion to the transparent film substrate 2 and the like. The thickness of the transparent resin layer 3 is not particularly limited, but may be set in the range of about 50 to 500 μm, preferably about 100 to 200 μm from the viewpoint of effectively expressing the contrast improving function by the black resin formed in the groove portion 4. it can.

透明樹脂層３の形成される溝部４は、相互に平行な複数の溝部であってもよく、また、格子形状の溝部であってもよい。また、溝部４の断面形状は、図示例では楔形であるが、これに限定されるものではなく、例えば、図２（Ａ）、図２（Ｂ）、図２（Ｃ）に示すような断面形状とすることができる。このような溝部４の深さＤ１は７５〜３００μｍ、好ましくは１００〜１５０μｍ、幅Ｗ１は１０〜８０μｍ、好ましくは１５〜４０μｍ、また、ピッチＰ１は５０〜３００μｍ、好ましくは５０〜１００μｍの範囲で適宜設定することができる。溝部４の寸法が上記のような範囲から外れると、コントラストを向上させる機能が不十分となったり、コントラスト向上シート１の光透過率が低下するので好ましくない。
溝部４内に位置する黒色樹脂５は、コントラストを向上させる機能を発現するものであり、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、もしくはポリアミド樹脂等の樹脂材料にカーボンブラック等の黒色顔料または黒色染料を添加したものを使用することができる。 The groove part 4 in which the transparent resin layer 3 is formed may be a plurality of groove parts parallel to each other, or may be a lattice-shaped groove part. In addition, the cross-sectional shape of the groove portion 4 is a wedge shape in the illustrated example, but is not limited to this. For example, the cross-sectional shape as shown in FIGS. 2 (A), 2 (B), and 2 (C). It can be a shape. The depth D1 of the groove 4 is 75 to 300 μm, preferably 100 to 150 μm, the width W1 is 10 to 80 μm, preferably 15 to 40 μm, and the pitch P1 is in the range of 50 to 300 μm, preferably 50 to 100 μm. It can be set appropriately. If the dimension of the groove part 4 is out of the above range, the function of improving the contrast becomes insufficient, or the light transmittance of the contrast improving sheet 1 is lowered, which is not preferable.
The black resin 5 located in the groove portion 4 expresses a function of improving contrast, for example, polymethyl methacrylate resin, polyacrylate resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, Alternatively, a material obtained by adding a black pigment or black dye such as carbon black to a resin material such as polyamide resin can be used.

本発明のコントラスト向上シート１を構成する近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層６は、粘着剤に少なくとも近赤外線吸収用の色素、Ｎｅ光吸収用の色素およびラジカル捕捉剤を含有したものである。
近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層６に使用する粘着剤としては、例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。
また、近赤外線吸収用の色素は、８００〜１１００ｎｍの波長域の光に対する吸収性を有する材料であり、例えば、ジインモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物等を挙げることができる。このような近赤外線吸収用の色素の近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層６における含有量は、例えば、１〜２０重量％の範囲で適宜設定することができる。 The near-infrared / Ne-light shielding adhesive layer 6 constituting the contrast-enhancing sheet 1 of the present invention contains at least a near-infrared-absorbing dye, a Ne-light-absorbing dye, and a radical scavenger in the adhesive.
Examples of the adhesive used for the near infrared / Ne light shielding adhesive layer 6 include acrylic resin, polyester resin, polyvinyl alcohol, polyurethane resin, polyamide resin, epoxy resin, polyolefin resin, polycarbonate resin, and silicone resin. Can be mentioned.
Moreover, the near-infrared-absorbing dye is a material having an absorptivity with respect to light in the wavelength range of 800 to 1100 nm, and examples thereof include a diimmonium compound and a phthalocyanine compound. The content of such a near-infrared absorbing pigment in the near-infrared / Ne-light shielding adhesive layer 6 can be appropriately set within a range of, for example, 1 to 20% by weight.

また、Ｎｅ光吸収用の色素は、Ｎｅの発光スペクトル帯域である５７０〜６００ｎｍの波長領域に吸収極大を有する色素を使用することができ、例えば、アザポルフィリン系、シアニン系、アゾ系等を挙げることができる。このようなＮｅ光吸収用の色素の近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層６における含有量は、例えば、０．０１〜４重量％の範囲で適宜設定することができる。 Further, as a dye for absorbing Ne light, a dye having an absorption maximum in a wavelength region of 570 to 600 nm that is an emission spectrum band of Ne can be used, and examples thereof include an azaporphyrin series, a cyanine series, and an azo series. be able to. The content of the dye for absorbing Ne light in the near-infrared / Ne-light shielding adhesive layer 6 can be appropriately set within a range of 0.01 to 4% by weight, for example.

近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層６に使用するラジカル捕捉剤は、上述の透明樹脂層３や黒色樹脂５に含有される重合開始剤から発生するラジカルを捕捉して、近赤外線吸収用の色素、Ｎｅ光吸収用の色素の劣化を防止することを目的として分散含有される。使用するラジカル捕捉剤としては、例えば、Ｔｉｎｕｖｉｎ７４４（チバガイギー（株）製）等のヒンダードアミン系、Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（チバガイギー（株）製）等のフェノール系、有機ニッケル系、アミン系、イオウ系、リン系化合物等を挙げることができ、特に、ヒンダードアミン系およびフェノール系の少なくとも１種を含有することが好ましい。このようなラジカル捕捉剤の含有量は、粘着剤に対して０．１〜１重量％の範囲であることが好ましい。ラジカル捕捉剤の含有量が０．１重量％未満であると、ラジカルの捕捉機能が不十分となり、近赤外線吸収用の色素、Ｎｅ光吸収用の色素に劣化が生じるおそれがある。また、含有量が１重量％を超えると、近赤外線吸収用色素の波長域８００〜１１００ｎｍの光に対する吸収性が低下することがあり好ましくない。
このような近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層６の厚みは、例えば、５〜１００μｍ、好ましくは１０〜５０μｍの範囲で適宜設定することができる。 The radical scavenger used for the near-infrared / Ne-light shielding adhesive layer 6 captures radicals generated from the polymerization initiator contained in the transparent resin layer 3 or the black resin 5 described above, and a near-infrared absorbing dye, It is dispersed and contained for the purpose of preventing deterioration of the dye for absorbing Ne light. As the radical scavenger used, for example, Tinuvin 744 (manufactured by Ciba-Geigy Corporation) and the like hindered amines, Irganox 1076 (manufactured by Ciba-Geigy Corporation) and the like phenolic, organic nickel-based, amine-based, sulfur-based, phosphorus etc. can be mentioned system compound, particularly preferably contains at least one hindered amine and phenol. The content of such radical scavenger is preferably in the range of 0.1 to 1% by weight with respect to the pressure-sensitive adhesive. When the content of the radical scavenger is less than 0.1% by weight, the radical scavenging function becomes insufficient, and there is a possibility that the near-infrared absorbing dye and the Ne light absorbing dye may be deteriorated. Moreover, when content exceeds 1 weight%, the absorptivity with respect to the light of the wavelength range 800-1100nm of the pigment | dye for near-infrared absorption may fall, and it is not preferable.
The thickness of the near-infrared / Ne-light shielding adhesive layer 6 can be appropriately set within a range of, for example, 5 to 100 μm, preferably 10 to 50 μm.

また、コントラスト向上シート１を構成する離型性基材７は、近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層６に対する粘着性が透明樹脂層３よりも低く、かつ、安易に剥離脱落しないものであれば特に制限はなく、例えば、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリプロピレン、ポリエチレン系等を挙げることができる。尚、本発明のコントラスト向上シート１は、離型性基材７の代わりに、近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層６から剥離しないような基材を備えるものであってもよい。
このようなコントラスト向上シート１は、透明樹脂層３の溝部４に位置する黒色樹脂５が、外部からの入射光を有効に吸収してプラズマディスプレイのコントラストを向上させる機能を発現するとともに、従来の前面フィルターでは個々の層として存在していた近赤外線を遮蔽するための層とＮｅ光を遮蔽するための層と粘着層とが、近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層６に集約されて透明樹脂層３に積層されているので、構成する層の数が少なく、したがって、光透過率が高く、同時に、製造コストの低減が可能となる。また、近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層６に含有されているラジカル捕捉剤が透明樹脂層３から移行してくるラジカルを捕捉するので、近赤外線やＮｅ光を吸収するための色素の劣化が防止され、近赤外線・Ｎｅ光遮蔽機能を安定して発現することができる。 Further, the releasable base material 7 constituting the contrast improving sheet 1 is particularly suitable as long as the adhesiveness to the near infrared / Ne light shielding adhesive layer 6 is lower than that of the transparent resin layer 3 and does not easily peel off. There is no restriction | limiting, For example, a polyester type, a polycarbonate type, a polypropylene, a polyethylene type etc. can be mentioned. The contrast improving sheet 1 of the present invention may be provided with a base material that does not peel from the near-infrared / Ne-light shielding adhesive layer 6 instead of the releasable base material 7.
In such a contrast improving sheet 1, the black resin 5 positioned in the groove 4 of the transparent resin layer 3 exhibits a function of effectively absorbing incident light from the outside and improving the contrast of the plasma display. In the front filter, a layer for shielding near infrared rays, a layer for shielding Ne light, and an adhesive layer, which were present as individual layers, are aggregated in the near infrared / Ne light shielding adhesive layer 6 to be a transparent resin layer. Since the number of layers is small, the light transmittance is high, and at the same time, the manufacturing cost can be reduced. Moreover, since the radical scavenger contained in the near-infrared / Ne-light shielding adhesive layer 6 captures radicals transferred from the transparent resin layer 3, deterioration of the dye for absorbing near-infrared light and Ne light is prevented. Thus, the near infrared / Ne light shielding function can be stably expressed.

ここで、本発明のコントラスト向上シートの製造方法の一例を、上述のコントラスト向上シート１を例として、図３を参照しながら説明する。
まず、透明フィルム基材２上に透明樹脂層用の放射線硬化型の樹脂組成物を塗布して透明樹脂塗膜３′を形成し、この透明樹脂塗膜３′に溝部形成用の金型８を押圧する（図３（Ａ））。この状態で透明フィルム基材２側から放射線を照射して透明樹脂塗膜３′を硬化させ、その後、金型８を取り外して、複数の溝部４を備えた透明樹脂層３を形成する（図３（Ｂ））。
次いで、透明樹脂層３上に放射線硬化型の黒色樹脂組成物を塗布し、ドクターで余分な黒色樹脂組成物を掻き取って、溝部４に黒色樹脂組成物を充填し、その後、放射線を照射して硬化させる。これにより、黒色樹脂５が、断面楔形の溝部４に充填される（図３（Ｃ））。 Here, an example of the method for producing the contrast enhancing sheet of the present invention will be described with reference to FIG.
First, a radiation curable resin composition for a transparent resin layer is applied on the transparent film substrate 2 to form a transparent resin coating film 3 ′, and a groove forming die 8 is formed on the transparent resin coating film 3 ′. Is pressed (FIG. 3A). In this state, the transparent resin substrate 3 side is irradiated with radiation to cure the transparent resin coating film 3 ′, and then the mold 8 is removed to form the transparent resin layer 3 having a plurality of grooves 4 (see FIG. 3 (B)).
Next, a radiation curable black resin composition is applied onto the transparent resin layer 3, the excess black resin composition is scraped off with a doctor, the groove portion 4 is filled with the black resin composition, and then irradiated with radiation. To cure. Thereby, the black resin 5 is filled in the groove portion 4 having a wedge-shaped cross section (FIG. 3C).

これとは別に、離型性基材７上に近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層６を設けたシートを形成する（図３（Ｄ））。次いで、この近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層６を透明樹脂層３に密着するようにラミネートすることにより、本発明のコントラスト向上シート１が得られる（図３（Ｅ））。
上述のコントラスト向上シートは例示であり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。 Separately from this, a sheet provided with the near infrared ray / Ne light shielding adhesive layer 6 is formed on the releasable substrate 7 (FIG. 3D). Next, the contrast improving sheet 1 of the present invention is obtained by laminating the near infrared / Ne light shielding adhesive layer 6 so as to be in close contact with the transparent resin layer 3 (FIG. 3 (E)).
The above-described contrast enhancing sheet is an example, and the present invention is not limited to this embodiment.

[前面フィルター]
（第１の実施形態）
本発明の前面フィルターは、本発明のコントラスト向上シートの透明フィルム基材に電磁波遮蔽層を有するものである。
図４は、本発明の前面フィルターの一実施形態を示す部分断面図である。図４において、前面フィルター１１は、本発明のプラズマディスプレイ用コントラスト向上シート１の透明フィルム基材２に、粘着層１３を介して電磁波遮蔽層１２を備えるものである。
前面フィルター１１を構成する電磁波遮蔽層１２は、十分な電磁波遮蔽機能を発現するために、そのシート抵抗は０．００１〜２Ω／□の範囲であることが好ましい。尚、シート抵抗は三菱化学（株）製ロレスタを用いて４端子法により測定する。
また、粘着層１３は、透明フィルム基材２と電磁波遮蔽層１２とを固着できるものであれば、その種類等には特に制限はなく、例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等を使用することができる。 [Front filter]
(First embodiment)
The front filter of the present invention has an electromagnetic wave shielding layer on the transparent film substrate of the contrast enhancing sheet of the present invention.
FIG. 4 is a partial cross-sectional view showing an embodiment of the front filter of the present invention. In FIG. 4, a front filter 11 includes an electromagnetic wave shielding layer 12 via an adhesive layer 13 on the transparent film substrate 2 of the contrast improving sheet 1 for plasma display of the present invention.
The electromagnetic wave shielding layer 12 constituting the front filter 11 preferably has a sheet resistance in the range of 0.001 to 2Ω / □ in order to exhibit a sufficient electromagnetic wave shielding function. The sheet resistance is measured by a 4-terminal method using a Loresta manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation.
In addition, the adhesive layer 13 is not particularly limited as long as the transparent film substrate 2 and the electromagnetic wave shielding layer 12 can be fixed, and examples thereof include acrylic resins, polyester resins, polyvinyl alcohol, polyurethane resins, Polyimide resin, epoxy resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer and the like can be used.

上記の電磁波遮蔽層１２は、例えば、図５に示されるように、透明基材２３と、この透明基材２３上に設けられた導電体パターン２４を有するものとすることができる。この電磁波遮蔽層１２は、透明基材２３の導電体パターン２４が配設されていない面２３ａがコントラスト向上シート１の透明フィルム基材２に粘着層１３を介して固着される。
電磁波遮蔽層１２を構成する透明基材２３は、適度な透明性と耐熱性を有していることが必要であり、例えば、透明フィルム基材２と同様の材料を使用することができ、厚みは、例えば、２０〜２００μｍの範囲で適宜設定することができる。また、導電体パターン２４は、格子形状、相互に平行は複数のストライプ形状等とすることができ、導電体パターンの幅Ｗ２は５〜５０μｍ、好ましくは１０〜３０μｍ、また、ピッチＰ２は１００〜５００μｍ、好ましくは１５０〜３５０μｍの範囲で適宜設定することができる。 For example, as shown in FIG. 5, the electromagnetic wave shielding layer 12 may include a transparent base material 23 and a conductor pattern 24 provided on the transparent base material 23. In the electromagnetic wave shielding layer 12, the surface 23 a of the transparent base material 23 on which the conductor pattern 24 is not disposed is fixed to the transparent film base material 2 of the contrast improving sheet 1 through the adhesive layer 13.
The transparent base material 23 constituting the electromagnetic wave shielding layer 12 needs to have appropriate transparency and heat resistance. For example, the same material as the transparent film base material 2 can be used, and the thickness Can be appropriately set within a range of 20 to 200 μm, for example. The conductor pattern 24 may have a lattice shape, a plurality of stripe shapes parallel to each other, and the conductor pattern width W2 is 5 to 50 μm, preferably 10 to 30 μm, and the pitch P2 is 100 to 100 μm. The thickness can be appropriately set in the range of 500 μm, preferably 150 to 350 μm.

ここで、図５に示されるような電磁波遮蔽層１２の導電体パターン２４の形成について説明する。
導電体パターン２４は、例えば、透明基材２３上の導電体層を形成し、この導電体層上に所望のレジストパターンを設け、次いで、このレジストパターンをマスクとして導電体層をエッチングし、レジストパターンを剥離することにより形成することができる。また、形成した導電体パターン２４上に黒色電気めっきにより導電性黒色被膜を形成してもよい。
また、導電体パターン２４は、透明基材２３上に、グラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、電子印刷等の印刷法により無電解めっき用の触媒を所望のパターンで印刷し、このパターン上に無電解めっきにより金属を析出することにより形成することができる。この場合も、形成した導電体パターン２４上に黒色電気めっきにより導電性黒色被膜を形成してもよい。 Here, the formation of the conductor pattern 24 of the electromagnetic wave shielding layer 12 as shown in FIG. 5 will be described.
The conductor pattern 24 is formed, for example, by forming a conductor layer on the transparent substrate 23, providing a desired resist pattern on the conductor layer, and then etching the conductor layer using the resist pattern as a mask. It can be formed by peeling the pattern. Further, a conductive black film may be formed on the formed conductor pattern 24 by black electroplating.
The conductor pattern 24 is printed on the transparent substrate 23 with a desired pattern of an electroless plating catalyst by a printing method such as gravure printing, flexographic printing, screen printing, or electronic printing. It can be formed by depositing a metal by electrolytic plating. Also in this case, a conductive black film may be formed on the formed conductor pattern 24 by black electroplating.

また、導電体パターン２４は、透明基材２３上に、水溶性インキを用いて所望のマスクパターンを印刷し、このマスクパターンを被覆するように透明基材２３上に真空成膜法、あるいは電気めっきにより導電体層を形成し、その後、上記のマスクパターンを除去すると同時に、不要な導電体層をリフトオフすることにより形成することができる。この場合も、形成した導電体パターン２４上に黒色電気めっきにより導電性黒色被膜を形成してもよい。
さらに、導電体パターン２４は、透明基材２３上に、金、銀、銅、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛、スズ、ニッケル等の導電性微粒子を含有させた導電性インクを印刷し、焼成により有機成分を除去することにより形成することができる。この導電性インクの導電性が不十分な場合には、さらに電気めっきにより銅等の導電性金属被膜を形成してもよい。さらに、このように形成した導電体パターン２４上に黒色電気めっきにより導電性黒色被膜を形成してもよい。 The conductor pattern 24 is printed on the transparent base material 23 using a water-soluble ink, and a desired mask pattern is printed on the transparent base material 23 so as to cover the mask pattern. A conductor layer can be formed by plating, and then the mask pattern can be removed, and at the same time, an unnecessary conductor layer can be lifted off. Also in this case, a conductive black film may be formed on the formed conductor pattern 24 by black electroplating.
Furthermore, the conductive pattern 24 is printed on the transparent substrate 23 by printing a conductive ink containing conductive fine particles such as gold, silver, copper, aluminum, chromium, titanium, zinc, tin, nickel, and the like by baking. It can be formed by removing the organic component. When the conductivity of the conductive ink is insufficient, a conductive metal film such as copper may be further formed by electroplating. Further, a conductive black film may be formed on the conductive pattern 24 thus formed by black electroplating.

また、本発明では、電磁波遮蔽層１２を、例えば、図６に示されるように、透明基材３３と透明樹脂層３４とを備え、この透明樹脂層３４は透明基材３３と反対側の面３４ａに、相互に平行な複数の溝部３５、あるいは、格子形状に形成された溝部３５を備え、この溝部３５に導電材３６を充填して有するものとしてもよい。この電磁波遮蔽層１２は、透明基材３３がコントラスト向上シート１の透明フィルム基材２に粘着層１３を介して固着される。
電磁波遮蔽層１２を構成する透明基材３３は、適度な透明性と耐熱性を有していることが必要であり、例えば、透明フィルム基材２と同様の材料を使用することができ、厚みは、例えば、５０〜３００μｍの範囲で適宜設定することができる。また、透明樹脂層３４は、適度な透明性と耐熱性を有していることが必要であり、例えば、上述の透明樹脂層３と同様の材料を使用することができ、厚みは、例えば、５０〜５００μｍの範囲で適宜設定することができる。また、溝部３５の深さＤ３は７５〜３００μｍ、好ましくは１００〜１５０μｍ、幅Ｗ３は１０〜８０μｍ、好ましくは１５〜４０μｍ、ピッチＰ３は５０〜３００μｍ、好ましくは５０〜１００μｍの範囲で適宜設定することができる。さらに、溝部３５の断面形状は、図示例では台形であるが、これに限定されるものではなく、例えば、楔形であってもよく、さらに、図２（Ｂ）、図２（Ｃ）に示されるような溝部４と同様な断面形状であってもよい。 In the present invention, the electromagnetic wave shielding layer 12 is provided with a transparent base material 33 and a transparent resin layer 34 as shown in FIG. 6, for example, and the transparent resin layer 34 is a surface opposite to the transparent base material 33. 34a may be provided with a plurality of groove portions 35 parallel to each other or a groove portion 35 formed in a lattice shape, and the groove portions 35 may be filled with a conductive material 36. In the electromagnetic wave shielding layer 12, the transparent base material 33 is fixed to the transparent film base material 2 of the contrast improving sheet 1 through the adhesive layer 13.
The transparent base material 33 constituting the electromagnetic wave shielding layer 12 needs to have appropriate transparency and heat resistance. For example, the same material as the transparent film base material 2 can be used, and the thickness Can be appropriately set within a range of 50 to 300 μm, for example. Further, the transparent resin layer 34 needs to have appropriate transparency and heat resistance, and for example, the same material as the above-described transparent resin layer 3 can be used, and the thickness is, for example, It can set suitably in the range of 50-500 micrometers. The depth D3 of the groove 35 is 75 to 300 μm, preferably 100 to 150 μm, the width W3 is 10 to 80 μm, preferably 15 to 40 μm, and the pitch P3 is appropriately set in the range of 50 to 300 μm, preferably 50 to 100 μm. be able to. Further, the cross-sectional shape of the groove 35 is trapezoidal in the illustrated example, but is not limited to this, and may be, for example, a wedge shape, and is further illustrated in FIGS. 2 (B) and 2 (C). The cross-sectional shape similar to the groove part 4 as described above may be used.

ここで、図６に示されるような電磁波遮蔽層１２の形成について図７を参照しながら説明する。
まず、透明基材３３上に透明樹脂層用の放射線硬化型の樹脂組成物を塗布して透明樹脂塗膜３４′を形成する（図７（Ａ））。次に、この透明樹脂塗膜３４′に溝部形成用の金型３８を押圧し、この状態で透明基材３３側から放射線を照射して透明樹脂塗膜３４′を硬化させ（図７（Ｂ））、その後、金型３８を取り外して、複数の溝部３５を備えた透明樹脂層３４を形成する（図７（Ｃ））。
次いで、透明樹脂層３４上に導電性ペーストを塗布し、ドクターで余分な導電性ペーストを掻き取って、溝部３５内に導電性ペーストを充填し、その後、焼成処理を施して有機成分を除去して導電材３６とすることにより、電磁波遮蔽層１２が得られる（図７（Ｅ））。 Here, the formation of the electromagnetic wave shielding layer 12 as shown in FIG. 6 will be described with reference to FIG.
First, a transparent resin coating 34 'is formed by applying a radiation curable resin composition for a transparent resin layer on a transparent substrate 33 (FIG. 7A). Next, a groove-forming die 38 is pressed against the transparent resin coating film 34 ', and in this state, the transparent resin coating film 34' is cured by irradiating radiation from the transparent substrate 33 side (FIG. 7B )) After that, the mold 38 is removed to form a transparent resin layer 34 having a plurality of grooves 35 (FIG. 7C).
Next, a conductive paste is applied on the transparent resin layer 34, the doctor removes excess conductive paste, fills the groove 35 with the conductive paste, and then performs a baking treatment to remove organic components. By using the conductive material 36, the electromagnetic wave shielding layer 12 is obtained (FIG. 7E).

また、本発明では、電磁波遮蔽層１２を、例えば、図８に示されるように、透明基材４３と、この透明基材４３上に、導電膜４５ａ，４５ｂと誘電体膜４６ａ，４６ｂとの複合膜４４を備えたものとしてもよい。この電磁波遮蔽層１２は、透明基材４３がコントラスト向上シート１の透明フィルム基材２に粘着層１３を介して固着される。
電磁波遮蔽層１２を構成する透明基材４３は、上述の透明基材３３と同様とすることができる。また、複合膜４４は、導電膜４５ａ，４５ｂと誘電体膜４６ａ，４６ｂとが交互に積層されたものであり、例えば、導電膜４５ａ，４５ｂとして銀、銅、アルミ等の薄膜、誘電体膜４６ａ，４６ｂとしてインジウム錫酸化膜（ＩＴＯ）等の薄膜を用いることができる。このような導電膜４５ａ，４５ｂと誘電体膜４６ａ，４６ｂは、スパッタリング法等の真空成膜法により形成することができ、透明性と電磁波遮蔽性を考慮して積層する薄膜の数、積層順序を設定することができ、個々の薄膜の厚みは、例えば、０．０１〜０．１μｍ程度、複合膜４４の厚みは０．０２〜１μｍ程度とすることができる。 In the present invention, the electromagnetic wave shielding layer 12 is made of, for example, as shown in FIG. 8, a transparent base material 43, and conductive films 45 a and 45 b and dielectric films 46 a and 46 b on the transparent base material 43. A composite film 44 may be provided. In the electromagnetic wave shielding layer 12, the transparent base material 43 is fixed to the transparent film base material 2 of the contrast improving sheet 1 through the adhesive layer 13.
The transparent base material 43 constituting the electromagnetic wave shielding layer 12 can be the same as the transparent base material 33 described above. The composite film 44 is formed by alternately laminating conductive films 45a and 45b and dielectric films 46a and 46b. For example, the conductive films 45a and 45b are thin films such as silver, copper, and aluminum, and dielectric films. Thin films such as indium tin oxide (ITO) can be used as 46a and 46b. The conductive films 45a and 45b and the dielectric films 46a and 46b can be formed by a vacuum film forming method such as a sputtering method, and the number of thin films to be stacked and the stacking order in consideration of transparency and electromagnetic shielding properties. The thickness of each thin film can be, for example, about 0.01 to 0.1 μm, and the thickness of the composite film 44 can be about 0.02 to 1 μm.

（第２の実施形態）
本発明の前面フィルターは、本発明のコントラスト向上シートの近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層に電磁波遮蔽層を固着して備えるものである。
図９は、本発明の前面フィルターの他の実施形態を示す部分断面図である。図９において、前面フィルター５１は、本発明のプラズマディスプレイ用コントラスト向上シート１の近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層６に電磁波遮蔽層５２を備えるものである。
前面フィルター５１を構成する電磁波遮蔽層５２は、十分な電磁波遮蔽機能を発現するために、そのシート抵抗は０．００１〜２Ω／□の範囲であることが好ましい。このような電磁波遮蔽層５２は、上述の実施形態で説明した電磁波遮蔽層１２と同様のものであってよい。ただし、図５に示される電磁波遮蔽層１２を電磁波遮蔽層５２として前面フィルター５１に使用するには、導電体パターン２４が形成されている面が近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層６に固着される。また、図６に示される電磁波遮蔽層１２を電磁波遮蔽層５２として前面フィルター５１に使用するには、透明樹脂層３４が近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層６に固着される。さらに、図８に示される電磁波遮蔽層１２を電磁波遮蔽層５２として前面フィルター５１に使用するには、複合膜４４が近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層６に固着される。 (Second Embodiment)
The front filter of the present invention comprises an electromagnetic wave shielding layer fixed to the near infrared / Ne light shielding adhesive layer of the contrast improving sheet of the present invention.
FIG. 9 is a partial cross-sectional view showing another embodiment of the front filter of the present invention. In FIG. 9, the front filter 51 is provided with an electromagnetic wave shielding layer 52 on the near infrared / Ne light shielding adhesive layer 6 of the contrast improving sheet 1 for plasma display of the present invention.
The electromagnetic wave shielding layer 52 constituting the front filter 51 preferably has a sheet resistance in the range of 0.001 to 2Ω / □ in order to exhibit a sufficient electromagnetic wave shielding function. Such an electromagnetic wave shielding layer 52 may be the same as the electromagnetic wave shielding layer 12 described in the above embodiment. However, in order to use the electromagnetic wave shielding layer 12 shown in FIG. 5 as the electromagnetic wave shielding layer 52 for the front filter 51, the surface on which the conductor pattern 24 is formed is fixed to the near infrared / Ne light shielding adhesive layer 6. . In order to use the electromagnetic wave shielding layer 12 shown in FIG. 6 as the electromagnetic wave shielding layer 52 for the front filter 51, the transparent resin layer 34 is fixed to the near infrared / Ne light shielding adhesive layer 6. Further, in order to use the electromagnetic wave shielding layer 12 shown in FIG. 8 as the electromagnetic wave shielding layer 52 for the front filter 51, the composite film 44 is fixed to the near infrared / Ne light shielding adhesive layer 6.

上述の前面フィルターは例示であり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。例えば、上述の前面フィルター１１の電磁波遮蔽層１２上、あるいは、前面フィルター５１の透明フィルム基材２上に、紫外線吸収層を備えるものであってもよく、また、最外層として反射防止層を備えるものであってもよい。
紫外線吸収層としては、例えば、紫外線吸収剤を分散含有する紫外線吸収フィルムであってよく、従来公知の紫外線吸収剤を含有するポリエチレンテレフタレートフィルム、アクリル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリアミド系フィルム、ポリウレタン系フィルム、ポリオレフィン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、シリコーン系フィルム等を使用することができる。 The above-mentioned front filter is an example, and the present invention is not limited to this embodiment. For example, an ultraviolet absorbing layer may be provided on the electromagnetic wave shielding layer 12 of the front filter 11 or the transparent film substrate 2 of the front filter 51, and an antireflection layer is provided as the outermost layer. It may be a thing.
The ultraviolet absorbing layer may be, for example, an ultraviolet absorbing film containing an ultraviolet absorber in a dispersed manner, and a polyethylene terephthalate film, an acrylic film, a polyester film, a polyamide film, a polyurethane film containing a conventionally known ultraviolet absorber. Films, polyolefin films, polycarbonate films, silicone films, and the like can be used.

また、反射防止層は、本発明の前面フィルターを装着したプラズマディスプレイにおいて、光の反射により画像の視認性が低下するのを防止するための層である。このような反射防止層は、波長４００〜７００ｎｍの可視光領域での光線反射率が１〜５０％となるような層が好ましい。反射防止層としては、従来公知の反射防止層とすることができ、例えば、表面の凹凸を有し、外光を散乱するような層とすることができる。また、反射防止層は、屈折率の高い層、屈折率の低い層、中間の屈折率をもつ層を積層し、光の干渉を生じさせ、反射、透過、吸収の光学物性のうち、反射強度を低減させる方法を用いた層とすることもできる。具体的には、低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層を積層して反射防止層としたり、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層を積層して反射防止層とすることができる。 The antireflection layer is a layer for preventing the visibility of the image from being lowered due to light reflection in the plasma display equipped with the front filter of the present invention. Such an antireflection layer is preferably a layer having a light reflectance of 1 to 50% in a visible light region having a wavelength of 400 to 700 nm. The antireflection layer may be a conventionally known antireflection layer, for example, a layer having surface irregularities and scattering external light. The anti-reflection layer is composed of a layer having a high refractive index, a layer having a low refractive index, and a layer having an intermediate refractive index to cause interference of light, and the reflection intensity among the optical properties of reflection, transmission and absorption. It is also possible to form a layer using a method for reducing the thickness. Specifically, a low refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer are laminated to form an antireflection layer, or a middle refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer are laminated to form an antireflection layer. It can be.

尚、ここでの高屈折率、中屈折率、低屈折率とは、可視光領域における屈折率の相対的な高低を意味しており、通常、５５０ｎｍでの屈折率を指して定義される。また、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層は、透明であることが必要であり、例えば、金属の酸化膜、酸化窒化膜、酸化炭化膜、酸化フッ化膜、酸化炭化フッ化膜等を使用することができる。これらの各層に用いられる金属元素は１種類に限定されず、２種以上の金属や、それらの合金を用いることができ、例えば、インジウム錫酸化膜（ＩＴＯ）を挙げることができる。 Here, the high refractive index, medium refractive index, and low refractive index mean the relative high and low refractive indexes in the visible light region, and are usually defined by the refractive index at 550 nm. In addition, the high refractive index layer, the middle refractive index layer, and the low refractive index layer must be transparent. For example, a metal oxide film, an oxynitride film, an oxycarbide film, an oxyfluoride film, an oxycarbide film, and the like. A chemical film or the like can be used. The metal element used for each of these layers is not limited to one type, and two or more types of metals and alloys thereof can be used, and examples thereof include an indium tin oxide film (ITO).

［プラズマディスプレイ］
本発明のプラズマディスプレイは、プラズマディスプレイパネルの前面板に本発明の前面フィルターを備えたものである。
図１０は、本発明のプラズマディスプレイの一例を示す概略構成図であり、プラズマディスプレイ６１は、プラズマディスプレイパネル６２の前面板側に、本発明の前面フィルター１１を、その近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層６を固着させることにより配設したものである。
また、図１１は、本発明のプラズマディスプレイの他の例を示す概略構成図であり、プラズマディスプレイ７１は、プラズマディスプレイパネル７２の前面板側に、本発明の前面フィルター５１の電磁波遮蔽層５２を粘着層７３を介して固着させ配設したものである。
本発明のプラズマディスプレイ６１，７１に使用するプラズマディスプレイパネル６２，７２は、平行に対向して配設された前面板および背面板と、この前面板と背面板との間に形成された多数のセルとを有するものであり、従来公知のＡＣ型プラズマディスプレイパネル、ＤＣ型プラズマディスプレイパネルを使用することができる。また、粘着層７３はプラズマディスプレイパネル７２と前面フィルター５１とを固着でき光透過性の高いものであれば、その種類等には特に制限はない。 [Plasma display]
The plasma display according to the present invention includes the front filter of the present invention on the front plate of the plasma display panel.
FIG. 10 is a schematic configuration diagram showing an example of the plasma display according to the present invention. The plasma display 61 includes the front filter 11 according to the present invention on the front plate side of the plasma display panel 62 and its near infrared / Ne light shielding adhesive. The layer 6 is disposed by being fixed.
FIG. 11 is a schematic configuration diagram showing another example of the plasma display of the present invention. The plasma display 71 includes an electromagnetic wave shielding layer 52 of the front filter 51 of the present invention on the front plate side of the plasma display panel 72. It is fixed and disposed via an adhesive layer 73.
The plasma display panels 62 and 72 used for the plasma displays 61 and 71 of the present invention include a front plate and a back plate arranged in parallel and facing each other, and a large number of plasma display panels 62 and 72 formed between the front plate and the back plate. A conventionally known AC type plasma display panel and DC type plasma display panel can be used. The adhesive layer 73 is not particularly limited as long as it can fix the plasma display panel 72 and the front filter 51 and has high light transmittance.

このような本発明のプラズマディスプレイ６１，７１では、前面フィルター１１，５１によって、明室条件でのコントラストが高く、高品質の画像表示が可能であるとともに、電磁波の放出が抑制され、また、近赤外線やＮｅ光の放出が抑制される。
また、本発明のプラズマディスプレイは、プラズマディスプレイパネルの前面板と前面フィルターとの間に他の基材が介在するものであってもよい。このような基材としては、例えば、プラズマディスプレイパネルの前面板と空間を設けて配設されたガラス基板であってよく、また、調色層等であってもよい。
尚、上述の実施形態は例示であり、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。 In the plasma displays 61 and 71 according to the present invention, the front filters 11 and 51 have high contrast under bright room conditions, high-quality image display is possible, and emission of electromagnetic waves is suppressed. Infrared and Ne light emission is suppressed.
Further, the plasma display of the present invention may be one in which another substrate is interposed between the front plate and the front filter of the plasma display panel. Such a base material may be, for example, a glass substrate provided with a space and a front plate of a plasma display panel, or a toning layer or the like.
In addition, the above-mentioned embodiment is an illustration and this invention is not limited to these embodiment.

次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
［実施例１］
透明フィルム基材としてポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製ルミラーＴ−６０、厚み１８８μｍ）を準備し、この透明フィルム基材の一方の面に、紫外線硬化型の樹脂組成物（ＪＳＲ（株）製オプトマー）をダイコーターで塗布して透明樹脂塗膜（厚み２００μｍ）を形成した。
次に、この透明樹脂塗膜に溝部形成用の金型を押圧し、この状態で透明フィルム基材側から放射線を照射して透明樹脂塗膜を硬化させ、その後、金型を取り外して、複数の溝部を平行に備えた透明樹脂層（厚み１８０μｍ）を形成した。使用した溝部形成用の金型は、断面が楔形（底辺が２０μｍ、高さ１０５μｍ）の連続凸状体が平板上に７５μｍのピッチで相互に平行に配設されたものであり、形成された溝部は、この金型の楔形の連続凸状体の形状を反映したものであった。すなわち、溝部は、深さが１０５μｍ、幅が２０μｍ、ピッチが７５μｍの断面楔形をなすものであった。 Next, an Example is shown and this invention is demonstrated further in detail.
[Example 1]
A polyethylene terephthalate film (Lumirror T-60 manufactured by Toray Industries, Inc., thickness 188 μm) is prepared as a transparent film substrate, and an ultraviolet curable resin composition (manufactured by JSR Corporation) is formed on one surface of the transparent film substrate. Optomer) was applied with a die coater to form a transparent resin coating (thickness: 200 μm).
Next, the mold for groove formation is pressed against this transparent resin coating film, and in this state, the transparent resin coating film is irradiated with radiation from the transparent film substrate side to cure the transparent resin coating film. A transparent resin layer (thickness: 180 μm) having parallel grooves was formed. The groove forming mold used was formed by a continuous convex body having a wedge-shaped cross section (bottom 20 μm, height 105 μm) arranged on a flat plate in parallel with each other at a pitch of 75 μm. The groove portion reflected the shape of the wedge-shaped continuous convex body of this mold. That is, the groove portion had a cross-sectional wedge shape with a depth of 105 μm, a width of 20 μm, and a pitch of 75 μm.

次いで、透明樹脂層上に紫外線硬化型の黒色樹脂組成物（ＪＳＲ（株）製黒色顔料分散オプトマー）をダイコーターで塗布し、ドクターで余分な黒色樹脂組成物を掻き取って上記の溝部に黒色樹脂組成物を充填し、その後、紫外線を照射して硬化させた。これにより、黒色樹脂が断面楔形の溝部に密に充填された。
一方、離型性基材として、離型フィルム（東洋紡（株）製ＰＥＴフィルム、厚み２５μｍ）を準備し、この離型性基材の一方の面に下記組成の組成物をダイコーターにより塗布し、８０℃、１分間の加熱処理を施して、近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層（厚み４０μｍ）を形成した。 Next, an ultraviolet curable black resin composition (black pigment dispersion optomer manufactured by JSR Co., Ltd.) is applied on the transparent resin layer with a die coater, and the excess black resin composition is scraped off with a doctor to blacken the groove. The resin composition was filled, and then cured by irradiation with ultraviolet rays. As a result, the black resin was densely filled into the groove portion having a wedge-shaped cross section.
On the other hand, a release film (PET film manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 25 μm) was prepared as a releasable substrate, and a composition having the following composition was applied to one surface of the releasable substrate with a die coater. Then, a heat treatment at 80 ° C. for 1 minute was performed to form a near infrared / Ne light shielding adhesive layer (thickness: 40 μm).

（近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層用の組成物）
・アクリル樹脂ＰＴＲ−２５００Ｔ（日本化薬（株）製） …１２０．０重量部
（粘着剤）
・ＩＲＧ０６８（日本化薬（株）製）（ＮＩＲ吸収色素） … １．０重量部
・ＴＡＰ−２（山田化学工業（株）製）（Ｎｅ光吸収色素） … ０．１重量部
・Ｔｉｎｕｖｉｎ７４４（チバガイギー（株）製） … ０．４８重量部
（ラジカル捕捉剤）
次いで、黒色樹脂が溝部に充填された上記の透明樹脂層に近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層を固着するようにしてラミネートして本発明のコントラスト向上シートを得た。 (Composition for NIR / Ne light shielding adhesive layer)
-Acrylic resin PTR-2500T (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) ... 120.0 parts by weight (adhesive)
・ IRG068 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) (NIR absorbing dye): 1.0 part by weight • TAP-2 (manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd.) (Ne light absorbing dye): 0.1 part by weight • Tinvin 744 (Ciba Geigy Co., Ltd.) ... 0.48 parts by weight (radical scavenger)
Next, the contrast improving sheet of the present invention was obtained by laminating the transparent resin layer filled with the black resin so that the near-infrared / Ne-light shielding adhesive layer was fixed.

［比較例１］
近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層用の組成物として、ラジカル捕捉剤を含有していない下記組成の組成物を使用した他は、実施例１と同様にして、コントラスト向上シートを作製した。
（近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層用の組成物）
・アクリル樹脂ＰＴＲ−２５００Ｔ（日本化薬（株）製） …１２０．０重量部
（粘着剤）
・ＩＲＧ０６８（日本化薬（株）製）（ＮＩＲ吸収色素） … １．０重量部
・ＴＡＰ−２（山田化学工業（株）製）（Ｎｅ光吸収色素） … ０．１重量部 [Comparative Example 1]
A contrast improving sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that a composition having the following composition not containing a radical scavenger was used as the composition for the near infrared / Ne light shielding adhesive layer.
(Composition for NIR / Ne light shielding adhesive layer)
-Acrylic resin PTR-2500T (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) ... 120.0 parts by weight (adhesive)
・ IRG068 (Nippon Kayaku Co., Ltd.) (NIR absorbing dye): 1.0 part by weight ・ TAP-2 (Yamada Chemical Co., Ltd.) (Ne light absorbing dye): 0.1 part by weight

［比較例２］
近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層用の組成物として、ラジカル捕捉剤量を過剰に含有した下記組成の組成物を使用した他は、実施例１と同様にして、コントラスト向上シートを作製した。
（近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層用の組成物）
・アクリル樹脂ＰＴＲ−２５００Ｔ（日本化薬（株）製） …１２０．０重量部
（粘着剤）
・ＩＲＧ０６８（日本化薬（株）製）（ＮＩＲ吸収色素） … １．０重量部
・ＴＡＰ−２（山田化学工業（株）製）（Ｎｅ光吸収色素） … ０．１重量部
・Ｔｉｎｕｖｉｎ７４４（チバガイギー製） … ２．４重量部
（ラジカル捕捉剤） [Comparative Example 2]
A contrast improving sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that a composition having the following composition containing an excessive amount of radical scavenger was used as the composition for the near infrared / Ne light shielding adhesive layer.
(Composition for NIR / Ne light shielding adhesive layer)
-Acrylic resin PTR-2500T (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) ... 120.0 parts by weight (adhesive)
・ IRG068 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) (NIR absorbing dye): 1.0 part by weight • TAP-2 (manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd.) (Ne light absorbing dye): 0.1 part by weight • Tinvin 744 (Ciba Geigy)… 2.4 parts by weight (radical scavenger)

［評価］
実施例１、比較例１、２において作製したコントラスト向上シートについて、近赤外線・Ｎｅ光の遮蔽性能の評価を下記の条件で行った。その結果、実施例１のコントラスト向上シートは安定した近赤外線・Ｎｅ光遮蔽性能を発現することが可能であった。しかし、比較例１のコントラスト向上シートは近赤外線・Ｎｅ光遮蔽性能が経時的に劣化（５００時間経過で遮蔽機能が半減）した。また、比較例２のコントラスト向上シートは初期の段階で近赤外線・Ｎｅ光遮蔽性能が低下（実施例１の４０％に低下）し、安定した近赤外線遮蔽性能が得られなかった。
（近赤外線・Ｎｅ光の遮蔽性能の評価条件）
環境試験機（温度８０℃・ｄｒｙおよび温度６０℃・湿度９０％）にて１０００
時間保管し、波長３００ｎｍ〜１３００ｎｍの分光透過率測定を行った。 [Evaluation]
About the contrast improvement sheet | seat produced in Example 1 and Comparative Examples 1 and 2, evaluation of the shielding performance of near infrared rays and Ne light was performed on the following conditions. As a result, the contrast improving sheet of Example 1 was able to exhibit stable near infrared / Ne light shielding performance. However, the contrast improving sheet of Comparative Example 1 deteriorated the near-infrared / Ne light shielding performance with time (the shielding function was reduced by half after 500 hours). Further, the contrast improving sheet of Comparative Example 2 had a near-infrared / Ne-light shielding performance that deteriorated at an early stage (down to 40% of Example 1), and a stable near-infrared shielding performance could not be obtained.
(Near infrared / Ne light shielding performance evaluation conditions)
1000 in an environmental testing machine (temperature 80 ° C / dry and temperature 60 ° C / humidity 90%)
Spectral transmittance was measured at a wavelength of 300 nm to 1300 nm.

［実施例２］
透明基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡（株）製Ａ４１００、厚み７５μｍ）を準備し、この透明基材の一方の面に真空蒸着法で銅薄膜（厚み２５μｍ）を形成した。次に、この銅薄膜上にレジスト（大日精化（株）製Ｅブルー）をグラビア印刷で形成してレジストパターンを設け、このレジストパターンをマスクとして銅薄膜を塩化第二鉄エッチング液でエッチングし、レジストパターンを剥離した。これにより、透明基材上に格子形状の導電体パターン（線幅２０μｍ、線ピッチ２８０μｍ）を備えた電磁波遮蔽シートを形成した。
次に、上記の電磁波遮蔽シートの透明基材側に粘着シート（（株）巴川製紙所製ＴＤ０６Ａ、厚み４０μｍ）を貼りあわせて粘着層とし、この粘着層を介して、実施例１のコントラスト向上シートの透明フィルム基材上に固着して電磁波遮蔽層とした。これにより、本発明の前面フィルターを得た。
このように得られた前面フィルターの電磁波遮蔽層のシート抵抗を、三菱化学（株）製ロレスタを用いて４端子法により測定した結果、０．０２Ω／□であり、良好な電磁波遮蔽性能を有することが確認された。また、波長３００〜７００ｎｍでの全光線透過率を（株）島津製作所製分光光度計を用いて測定した結果、５５％であり、良好な透明性を備えることが確認された。 [Example 2]
A polyethylene terephthalate film (A4100 manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 75 μm) was prepared as a transparent substrate, and a copper thin film (thickness 25 μm) was formed on one surface of the transparent substrate by a vacuum deposition method. Next, a resist (E-blue manufactured by Dainichi Seika Co., Ltd.) is formed on the copper thin film by gravure printing to provide a resist pattern, and the copper thin film is etched with a ferric chloride etchant using the resist pattern as a mask. The resist pattern was peeled off. As a result, an electromagnetic wave shielding sheet provided with a lattice-shaped conductor pattern (line width 20 μm, line pitch 280 μm) was formed on the transparent substrate.
Next, an adhesive sheet (TD06A manufactured by Yodogawa Paper Mill Co., Ltd., thickness 40 μm) is attached to the transparent substrate side of the electromagnetic wave shielding sheet to form an adhesive layer, and the contrast improvement of Example 1 is achieved through this adhesive layer. The sheet was fixed on a transparent film substrate to form an electromagnetic wave shielding layer. Thereby, the front filter of the present invention was obtained.
The sheet resistance of the electromagnetic wave shielding layer of the front filter thus obtained was measured by a 4-terminal method using a Loresta manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, and as a result, it was 0.02Ω / □ and had a good electromagnetic wave shielding performance. It was confirmed. Moreover, as a result of measuring the total light transmittance in wavelength 300-700nm using the Shimadzu Corporation spectrophotometer, it was 55%, and it was confirmed that it has favorable transparency.

［実施例３］
透明基材としてポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製ルミラーＴ−６０、厚み１００μｍ）を準備し、この透明フィルム基材の一方の面に、紫外線硬化型の樹脂組成物（ＪＳＲ（株）製オプトマー）をダイコーターで塗布して透明樹脂塗膜（厚み１００μｍ）を形成した。
次に、この透明樹脂塗膜に溝部形成用の金型を押圧し、この状態で透明フィルム基材側から放射線を照射して透明樹脂塗膜を硬化させ、その後、金型を取り外して、複数の溝部を平行に備えた透明樹脂層（厚み８５μｍ）を形成した。使用した溝部形成用の金型は、断面が台形（下底が４μｍ、上底が１０μｍ、高さ２０μｍ）の連続凸状体が平板上に３００μｍのピッチで格子形状に配設されたものであり、形成された溝部は、この金型の楔形の連続凸状体の形状を反映したものであった。すなわち、溝部は、深さが２０μｍ、開口幅が１０μｍ、底部の幅が４μｍ、ピッチが３００μｍの断面台形の格子形状パターンをなすものであった。 [Example 3]
A polyethylene terephthalate film (Lumirror T-60 manufactured by Toray Industries, Inc., thickness 100 μm) was prepared as a transparent substrate, and an ultraviolet curable resin composition (Optomer manufactured by JSR Corp.) was formed on one surface of the transparent film substrate. ) Was applied with a die coater to form a transparent resin coating (thickness: 100 μm).
Next, the mold for groove formation is pressed against this transparent resin coating film, and in this state, the transparent resin coating film is irradiated with radiation from the transparent film substrate side to cure the transparent resin coating film. A transparent resin layer (thickness: 85 μm) having parallel groove portions was formed. The groove forming mold used has a continuous convex body having a trapezoidal cross section (lower base is 4 μm, upper base is 10 μm, height is 20 μm) arranged in a lattice shape on a flat plate at a pitch of 300 μm. The formed groove portion reflected the shape of the wedge-shaped continuous convex body of the mold. That is, the groove portion had a trapezoidal lattice pattern with a depth of 20 μm, an opening width of 10 μm, a bottom width of 4 μm, and a pitch of 300 μm.

次いで、透明樹脂層上に銀ペースト（藤倉化成（株）製ナノドータイト）をノズルより滴下しながら、ドクターで余分な銀ペーストを掻き取って上記の溝部に銀ペーストを充填し、その後、焼成処理（１２０℃、１０分間）を施して銀ペーストの有機成分を焼成除去した。これにより、導電材が断面楔形の溝部に密に充填され、電磁波遮蔽シートを形成した。
この電磁波遮蔽シートの透明基材側に、実施例２と同様にして粘着層を形成し、この粘着層を介して、実施例１のコントラスト向上シートの透明フィルム基材上に固着して電磁波遮蔽層とした。これにより、本発明の前面フィルターを得た。
このように得られた前面フィルターの電磁波遮蔽層側のシート抵抗を実施例２と同様に測定した結果、０．２Ω／□であり、良好な電磁波遮蔽性能を有することが確認された。また、全光線透過率を実施例２と同様に測定した結果、５０％であり、良好な透明性を備えることが確認された。 Next, while dropping silver paste (Nano Dotite manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.) from the nozzle onto the transparent resin layer, the doctor removes the excess silver paste and fills the groove with the silver paste, and then fires. (120 ° C., 10 minutes) to remove the organic components of the silver paste by baking. As a result, the conductive material was densely filled in the groove portion having a wedge-shaped cross section, and an electromagnetic wave shielding sheet was formed.
An adhesive layer is formed on the transparent substrate side of the electromagnetic wave shielding sheet in the same manner as in Example 2, and the electromagnetic wave shielding is performed by fixing the adhesive layer on the transparent film substrate of the contrast enhancing sheet of Example 1 through the adhesive layer. Layered. Thereby, the front filter of the present invention was obtained.
The sheet resistance on the electromagnetic wave shielding layer side of the front filter thus obtained was measured in the same manner as in Example 2. As a result, it was 0.2Ω / □, and it was confirmed that the film had good electromagnetic wave shielding performance. Moreover, as a result of measuring a total light transmittance similarly to Example 2, it was 50%, and it was confirmed that it has favorable transparency.

プラズマディスプレイの製造において有用である。 Useful in the manufacture of plasma displays.

本発明のプラズマディスプレイ用のコントラスト向上シートの一実施形態を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing one embodiment of a contrast improvement sheet for plasma displays of the present invention. 本発明のコントラスト向上シートを構成する溝部の断面形状を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the cross-sectional shape of the groove part which comprises the contrast improvement sheet | seat of this invention. 本発明のコントラスト向上シートの製造方法の一例を説明するための工程図である。It is process drawing for demonstrating an example of the manufacturing method of the contrast improvement sheet | seat of this invention. 本発明の前面フィルターの一実施形態を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing one embodiment of the front filter of the present invention. 本発明の前面フィルターを構成する電磁波遮蔽層の一例を示す拡大部分断面図である。It is an expanded partial sectional view which shows an example of the electromagnetic wave shielding layer which comprises the front filter of this invention. 本発明の前面フィルターを構成する電磁波遮蔽層の他の例を示す拡大部分断面図である。It is an expanded partial sectional view which shows the other example of the electromagnetic wave shielding layer which comprises the front filter of this invention. 図６に示される電磁波遮蔽層の製造方法の一例を説明するための工程図である。It is process drawing for demonstrating an example of the manufacturing method of the electromagnetic wave shielding layer shown by FIG. 本発明の前面フィルターを構成する電磁波遮蔽層の他の例を示す拡大部分断面図である。It is an expanded partial sectional view which shows the other example of the electromagnetic wave shielding layer which comprises the front filter of this invention. 本発明の前面フィルターの他の実施形態を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing other embodiments of the front filter of the present invention. 本発明のプラズマディスプレイの一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the plasma display of this invention. 本発明のプラズマディスプレイの他の例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the other example of the plasma display of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１…コントラスト向上シート
２…透明フィルム基材
３…透明樹脂層
４…溝部
５…黒色樹脂
６…近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層
７…離型性基材
１１，５１…前面フィルター
１２，５２…電磁波遮蔽層
２３，３３，４３…透明基材
２４…導電体パターン
３４…透明樹脂層
３５…溝部
３６…導電材
４４…複合層
４５ａ，４５ｂ…導電膜
４６ａ，４６ｂ…誘電体膜
６１，７１…プラズマディスプレイ
６２，７２…プラズマディスプレイパネル DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Contrast improvement sheet | seat 2 ... Transparent film base material 3 ... Transparent resin layer 4 ... Groove part 5 ... Black resin 6 ... Near-infrared-Ne light shielding adhesive layer 7 ... Releasable base material 11, 51 ... Front filter 12, 52 ... Electromagnetic wave shielding layers 23, 33, 43 ... Transparent substrate 24 ... Conductor pattern 34 ... Transparent resin layer 35 ... Groove 36 ... Conductive material 44 ... Composite layer 45a, 45b ... Conductive film 46a, 46b ... Dielectric film 61, 71 ... Plasma display 62, 72 ... Plasma display panel

Claims

プラズマディスプレイ用コントラスト向上シートと電磁波遮蔽層を備え、該電磁波遮蔽層側をプラズマディスプレイパネルに固着させて配設するためのプラズマディスプレイ用前面フィルターにおいて、
前記プラズマディスプレイ用コントラスト向上シートは、透明フィルム基材と、該透明フィルム基材の一方の面に順次積層された透明樹脂層と近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層とを備え、該透明樹脂層は紫外線硬化型の樹脂組成物を用いて形成され前記近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層との界面側に溝部を備え、該溝部には紫外線硬化型の黒色樹脂組成物を用いて形成された黒色樹脂が充填されており、前記近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層は粘着剤に少なくとも近赤外線吸収用の色素、Ｎｅ光吸収用の色素およびラジカル捕捉剤を含有したものであり、
前記電磁波遮蔽層は、前記プラズマディスプレイ用コントラスト向上シートの前記近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層に固着されたものであることを特徴とするプラズマディスプレイ用前面フィルター。 In the front filter for plasma display for providing a contrast improving sheet for plasma display and an electromagnetic wave shielding layer, and fixing the electromagnetic wave shielding layer side to the plasma display panel,
The contrast improving sheet for plasma display comprises a transparent film substrate, a transparent resin layer sequentially laminated on one surface of the transparent film substrate, and a near infrared / Ne light shielding adhesive layer, A black resin formed using an ultraviolet curable resin composition and having a groove on the interface side with the near-infrared / Ne light shielding adhesive layer, and using the ultraviolet curable black resin composition in the groove And the near-infrared / Ne-light shielding adhesive layer contains at least a near-infrared-absorbing dye, a Ne-light-absorbing dye, and a radical scavenger in the adhesive,
The front filter for plasma display , wherein the electromagnetic wave shielding layer is fixed to the near infrared / Ne light shielding adhesive layer of the contrast improving sheet for plasma display.

前記透明樹脂層の前記溝部は、相互に平行な複数の溝部、あるいは、格子形状に形成された溝部であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ用前面フィルター。The front filter for a plasma display according to claim 1, wherein the groove portion of the transparent resin layer is a plurality of groove portions parallel to each other or a groove portion formed in a lattice shape.

前記近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層に含有されるラジカル捕捉剤は、粘着剤に対して０．１〜１重量％の範囲であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のプラズマディスプレイ用前面フィルター。3. The plasma according to claim 1, wherein the radical scavenger contained in the near-infrared / Ne-light shielding adhesive layer is in the range of 0.1 to 1 wt% with respect to the adhesive. Front filter for display.

前記ラジカル捕捉剤は、ヒンダードアミン系およびヒンダードフェノール系の少なくとも１種であることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用前面フィルター。The front filter for a plasma display according to any one of claims 1 to 3, wherein the radical scavenger is at least one of a hindered amine type and a hindered phenol type.

前記電磁波遮蔽層は、透明基材と、該透明基材上に設けられた導電体パターンを有し、前記透明基材の該導電体パターンが配設されている面が前記プラズマディスプレイ用コントラスト向上シートの前記近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層に固着されていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用前面フィルター。 The electromagnetic wave shielding layer has a transparent substrate and a conductor pattern provided on the transparent substrate, and the surface of the transparent substrate on which the conductor pattern is disposed improves the contrast for the plasma display. The front filter for a plasma display according to any one of claims 1 to 4, wherein the front filter is fixed to the near infrared / Ne light shielding adhesive layer of the sheet.

前記導電体パターンは表面に導電性黒色被膜を有することを特徴とする請求項５に記載のプラズマディスプレイ用前面フィルター。 6. The front filter for a plasma display according to claim 5 , wherein the conductive pattern has a conductive black film on a surface thereof.

前記電磁波遮蔽層は、透明基材と透明樹脂層とを備え、該透明樹脂層は前記透明基材と反対側の面に、相互に平行な複数の溝部、あるいは、格子形状に形成された溝部を備え、該溝部には導電材が充填されており、前記透明樹脂層が前記プラズマディスプレイ用コントラスト向上シートの前記近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層に固着されていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用前面フィルター。 The electromagnetic wave shielding layer includes a transparent substrate and a transparent resin layer, and the transparent resin layer has a plurality of grooves parallel to each other on the surface opposite to the transparent substrate, or grooves formed in a lattice shape. the provided, and conductive material is filled in the groove portion, claim 1, wherein the transparent resin layer is fixed to the near-infrared · Ne light shielding adhesive layer of the contrast enhancing sheet for the plasma display The front filter for plasma displays in any one of thru | or 4 .

前記電磁波遮蔽層は、透明基材と、該透明基材上に形成された誘電体膜と導電膜との複合膜を備え、前記複合膜が前記プラズマディスプレイ用コントラスト向上シートの前記近赤外線・Ｎｅ光遮蔽粘着層に固着されていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用前面フィルター。 The electromagnetic wave shielding layer includes a transparent base material, and a composite film of a dielectric film and a conductive film formed on the transparent base material, and the composite film is the near infrared ray / Ne of the contrast improving sheet for plasma display. The front filter for a plasma display according to any one of claims 1 to 4, wherein the front filter is fixed to a light shielding adhesive layer.

前記プラズマディスプレイ用コントラスト向上シートの前記透明フィルム基材上に反射防止層を最外層となるように有することを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用前面フィルター。 The front filter for a plasma display according to any one of claims 1 to 8, further comprising an antireflection layer as an outermost layer on the transparent film substrate of the contrast enhancement sheet for the plasma display.

平行に対向して配設された前面板および背面板と、前記前面板と背面板との間に形成された多数のセルとを有するプラズマディスプレイパネルと、該プラズマディスプレイパネルの前面板側に配設された前面フィルターとを備え、該前面フィルターは請求項１乃至請求項９のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用前面フィルターであり、前面フィルターの前記電磁波遮蔽層側をプラズマディスプレイパネルの前面板に対向するように配設されていることを特徴とするプラズマディスプレイ。 A plasma display panel having a front plate and a back plate disposed in parallel to each other, and a large number of cells formed between the front plate and the back plate, and disposed on the front plate side of the plasma display panel 10. The front filter is a front filter for a plasma display according to any one of claims 1 to 9 , wherein the electromagnetic wave shielding layer side of the front filter is used as a front plate of the plasma display panel. A plasma display, which is disposed so as to face each other.

前記前面板と前記前面フィルターとの間に他の基材が介在することを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイ。 The plasma display according to claim 10 , wherein another substrate is interposed between the front plate and the front filter.

前記基材は、前記前面板と空間を設けて配設されたガラス基板であることを特徴とする請求項１１に記載のプラズマディスプレイ。 The plasma display according to claim 11 , wherein the base material is a glass substrate provided with a space with the front plate.