JP2010079145A - Infrared absorbing laminate and optical filter - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、表示装置の前面に配置され、表示装置から発生する赤外線を吸収する機能を有する赤外線吸収積層体、及び当該赤外線吸収積層体を含む光学フィルタに関するものである。 The present invention relates to an infrared absorption laminate that is disposed on the front surface of a display device and has a function of absorbing infrared rays generated from the display device, and an optical filter including the infrared absorption laminate.
近年、種々の電子機器の表示装置として、ＣＲＴ（ブラウン管）、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰともいう）、有機・無機ＥＬディスプレイ、ＦＥＤ（フィールドエミッションディスプレイ）等の表示装置が使用されている。
このような電子ディスプレイの前面には、不要な発光成分を除去して、表示色を鮮明にするために、フィルタが設置されている。例えば、プラズマディスプレイでは、キセノンとネオンの混合ガスのプラズマ放電により８００〜１１００ｎｍ付近の近赤外線が発生し、発生した近赤外線は周辺機器の誤作動を引き起こす。この為、プラズマディスプレイでは近赤外線吸収層を基材フィルム上に積層した、近赤外線を吸収除去する機能を有するフィルタ（近赤外線吸収フィルタ）を画像表示装置（以下、ディスプレイとも呼称）の前面に設置している。上記近赤外線吸収除去機能は、近赤外線吸収剤を樹脂中に含有した近赤外線吸収層により発現されることが多い。
In recent years, display devices such as CRT (CRT), LCD (Liquid Crystal Display), plasma display panel (also called PDP), organic / inorganic EL display, FED (Field Emission Display), etc. have been used as display devices for various electronic devices. ing.
A filter is installed on the front surface of such an electronic display in order to remove unnecessary light-emitting components and make the display color clear. For example, in a plasma display, near infrared rays of about 800 to 1100 nm are generated by plasma discharge of a mixed gas of xenon and neon, and the generated near infrared rays cause peripheral devices to malfunction. For this reason, in the plasma display, a filter (near infrared absorption filter) that has a function of absorbing and removing near infrared rays, with a near infrared absorption layer laminated on the base film, is installed on the front of the image display device (hereinafter also referred to as display). is doing. The near-infrared absorption and removal function is often expressed by a near-infrared absorption layer containing a near-infrared absorber in a resin.
従来、近赤外線吸収剤として、フタロシアニン系化合物とジイモニウム系化合物を組み合わせた有機系近赤外線吸収剤（色素）を用いたものが検討されている。
上記フタロシアニン系化合物は、耐熱性及び耐湿熱性に優れるため、当該フタロシアニン系化合物とジイモニウム系化合物を組み合わせた上記有機系近赤外線吸収剤（色素）を用いることにより、長時間の使用、特に高温高湿下において光吸収剤の劣化に起因する分光特性変化を起こり難くすることができる。しかしながら、当該有機系近赤外線吸収剤（色素）は、日光等に由来する紫外線で劣化し易いという問題がある。
Conventionally, as a near-infrared absorber, an organic near-infrared absorber (pigment) in which a phthalocyanine compound and a diimonium compound are combined has been studied.
Since the phthalocyanine compound is excellent in heat resistance and heat-and-moisture resistance, by using the organic near-infrared absorber (pigment) in which the phthalocyanine compound and a diimonium compound are combined, it can be used for a long time, particularly at high temperature and high humidity. It is possible to make it difficult to cause changes in spectral characteristics due to deterioration of the light absorber. However, the organic near-infrared absorber (pigment) has a problem that it is easily deteriorated by ultraviolet rays derived from sunlight or the like.
一方、特許文献１には、複合タングステン酸化物微粒子を用いたＰＤＰ用近赤外線吸収フィルタが記載されている。
斯かる複合タングステン酸化物微粒子は、有機系近赤外線吸収剤（色素）と比べて耐ＵＶ性及び耐候性に優れるが、耐熱性及び耐湿熱性は不十分である。そのため、長時間の使用、特に高温高湿下において劣化に起因する分光特性変化が起こり易く、近赤外線の吸収が不十分となる。
On the other hand,
Such composite tungsten oxide fine particles are excellent in UV resistance and weather resistance as compared with organic near-infrared absorbers (pigments), but are insufficient in heat resistance and moist heat resistance. Therefore, the spectral characteristics change due to deterioration is likely to occur during long-time use, particularly under high temperature and high humidity, and the absorption of near infrared rays is insufficient.
本発明は上記問題点を解消するためになされたものであり、近赤外線吸収剤として複合タングステン酸化物微粒子を用いた場合でも、長時間の使用、特に高温高湿下でも光吸収剤の劣化に起因する分光特性変化が起こり難い赤外線吸収積層体、及び当該赤外線吸収積層体を含む光学フィルタを提供することを目的とするものである。 The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and even when composite tungsten oxide fine particles are used as a near-infrared absorber, the light absorber is deteriorated even when used for a long time, particularly under high temperature and high humidity. It is an object of the present invention to provide an infrared absorbing laminate that is unlikely to cause a change in spectral characteristics, and an optical filter including the infrared absorbing laminate.
本発明者らは、鋭意検討の結果、赤外線吸収膜中に、複合タングステン酸化物微粒子と共に特定の構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体を含有させることにより、上記課題が解決されるという知見を見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明に係る赤外線吸収積層体は、透明基材の一方の面に、一般式ＭｘＷｙＯｚ（但し、Ｍ元素は、Ｈ、Ｈｅ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ、Ｉのうちから選択される１種類以上の元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０）で表される複合タングステン酸化物微粒子、下記化学式（１）で表される置換ベンゼンジチオール金属錯体、及び樹脂を含有する赤外線吸収膜が設けられていることを特徴とする。
As a result of intensive studies, the inventors have found that the above problem can be solved by including a substituted benzenedithiol metal complex having a specific structure together with the composite tungsten oxide fine particles in the infrared absorption film, The present invention has been completed.
That is, the infrared-absorbing laminate according to the present invention has a general formula MxWyOz (where M element is H, He, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, One or more elements selected from F, P, S, Se, Br, Te, Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, and I, W is tungsten, O Is oxygen, 0.001 ≦ x / y ≦ 1.1, 2.2 ≦ z / y ≦ 3.0), composite tungsten oxide fine particles, substituted benzenedithiol metal represented by the following chemical formula (1) An infrared absorption film containing a complex and a resin is provided. And wherein the door.
本発明によれば、赤外線吸収膜中に、複合タングステン酸化物微粒子とともに特定の構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体を含有させることにより、当該複合タングステン酸化物微粒子の劣化が抑制され、長時間の使用、特に高温高湿下でも光吸収剤の劣化に起因する分光特性変化を起こり難くすることができる。 According to the present invention, the inclusion of the substituted benzenedithiol metal complex having a specific structure together with the composite tungsten oxide fine particles in the infrared absorption film suppresses the deterioration of the composite tungsten oxide fine particles, and the long-term use. In particular, it is possible to make it difficult to cause changes in spectral characteristics due to deterioration of the light absorber even under high temperature and high humidity.
本発明に係る赤外線吸収積層体においては、前記置換ベンゼンジチオール金属錯体が、ビス［４−ピペリジノスルホニル−１，２−ベンゼンジチオラート−Ｓ，Ｓ’］銅テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、ビス（４−モルホリノスルホニル−１，２−ベンゼンチオラート−Ｓ，Ｓ’）ニッケル−テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、及びビス（４−モルホリノスルホニル−１，２−ジチオフェノラート）銅テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムよりなる群から選ばれる１種以上の金属錯体であることが、複合タングステン酸化物微粒子の劣化を抑制する点から好ましい。 In the infrared absorption laminate according to the present invention, the substituted benzenedithiol metal complex is bis [4-piperidinosulfonyl-1,2-benzenedithiolate-S, S ′] copper tetra-n-butylammonium, bis. (4-morpholinosulfonyl-1,2-benzenethiolate-S, S ′) nickel-tetra-n-butylammonium and bis (4-morpholinosulfonyl-1,2-dithiophenolate) copper tetra-n-butylammonium One or more metal complexes selected from the group consisting of these are preferable from the viewpoint of suppressing deterioration of the composite tungsten oxide fine particles.
本発明に係る赤外線吸収積層体においては、前記置換ベンゼンジチオール金属錯体の配合量が、前記複合タングステン酸化物微粒子１００重量部に対して、０．１〜２０重量部の範囲であることが、赤外線吸収膜の色味の変化、及び膜物性変化の防止、並びに当該置換ベンゼンジチオール金属錯体の析出防止の点から好ましい。 In the infrared absorbing laminate according to the present invention, the amount of the substituted benzenedithiol metal complex is in the range of 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the composite tungsten oxide fine particles. It is preferable from the viewpoints of the change in the color of the absorption film and the change in film properties, and the prevention of precipitation of the substituted benzenedithiol metal complex.
本発明に係る赤外線吸収積層体においては、前記複合タングステン酸化物微粒子の平均分散粒径が、８００ｎｍ以下であることが、可視域の透過率が高くなる点から好ましい。 In the infrared-absorbing laminate according to the present invention, the average dispersed particle size of the composite tungsten oxide fine particles is preferably 800 nm or less from the viewpoint of increasing the transmittance in the visible region.
本発明に係る赤外線吸収積層体においては、前記複合タングステン酸化物微粒子が、六方晶、正方晶、立方晶のいずれか１種類以上の結晶構造を含むことが、光学特性の耐久性向上の点から好ましい。 In the infrared absorbing laminate according to the present invention, the composite tungsten oxide fine particles include one or more crystal structures of hexagonal, tetragonal, and cubic crystals from the viewpoint of improving the durability of optical characteristics. preferable.
本発明に係る赤外線吸収積層体においては、前記複合タングステン酸化物微粒子を表す一般式ＭｘＷｙＯｚにおいて、Ｍ元素がＣｓ（セシウム）であり、当該複合タングステン酸化物微粒子が六方晶の結晶構造を有することが、光学特性の耐久性向上の点から好ましい。 In the infrared absorption laminate according to the present invention, in the general formula MxWyOz representing the composite tungsten oxide fine particles, the M element is Cs (cesium), and the composite tungsten oxide fine particles have a hexagonal crystal structure. From the viewpoint of improving the durability of the optical characteristics.
本発明に係る赤外線吸収積層体においては、前記複合タングステン酸化物微粒子の表面が、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌから選択される１種類以上の元素を含有する酸化物で被覆されていることが、光学特性の耐久性向上の点から好ましい。 In the infrared absorbing laminate according to the present invention, the surface of the composite tungsten oxide fine particles is coated with an oxide containing one or more elements selected from Si, Ti, Zr, and Al. It is preferable from the viewpoint of improving the durability of optical characteristics.
本発明に係る光学フィルタは、上記赤外線吸収積層体の透明基材側の面、及び／又は赤外線吸収膜側の面に、機能層が積層されていることを特徴とする。このような光学フィルタは、上記赤外線吸収機能に加えて、種々の機能が付加された光学フィルタとして用いることができる。 The optical filter according to the present invention is characterized in that a functional layer is laminated on the surface of the infrared absorbing laminate on the transparent substrate side and / or on the infrared absorbing film side. Such an optical filter can be used as an optical filter to which various functions are added in addition to the infrared absorption function.
本発明の赤外線吸収積層体は、赤外線吸収膜中に、複合タングステン酸化物微粒子とともに特定の構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体を含有させることにより、当該複合タングステン酸化物微粒子の劣化が抑制され、長時間の使用、特に高温高湿下でも光吸収剤の劣化に起因する分光特性変化を起こり難くすることができる。
また、本発明の光学フィルタは、上記赤外線吸収機能に加えて、種々の機能が付加された光学フィルタとして用いることができる。
The infrared absorbing laminate of the present invention contains a substituted benzenedithiol metal complex having a specific structure together with the composite tungsten oxide fine particles in the infrared absorbing film, thereby suppressing deterioration of the composite tungsten oxide fine particles. Spectral characteristic changes due to deterioration of the light absorber can be made difficult to occur even when used for time, particularly under high temperature and high humidity.
The optical filter of the present invention can be used as an optical filter to which various functions are added in addition to the infrared absorption function.
本発明は、赤外線吸収積層体及び当該赤外線吸収積層体を含む光学フィルタを含むものである。以下、それぞれについて詳述する。尚、本発明において、赤外線とは、波長７８０ｎｍ〜４μｍの範囲の電磁波であり、特に波長７８０ｎｍ〜１，１００ｎｍの範囲の電磁波を近赤外線ともいう。 The present invention includes an infrared absorption laminate and an optical filter including the infrared absorption laminate. Each will be described in detail below. In addition, in this invention, infrared rays are electromagnetic waves with a wavelength range of 780 nm-4 micrometers, and electromagnetic waves with a wavelength range of 780 nm-1,100 nm are also called near infrared rays.
Ｉ．赤外線吸収積層体
本発明に係る赤外線吸収積層体は、透明基材の一方の面に、一般式ＭｘＷｙＯｚ（但し、Ｍ元素は、Ｈ、Ｈｅ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ、Ｉのうちから選択される１種類以上の元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０）で表される複合タングステン酸化物微粒子、下記化学式（１）で表される置換ベンゼンジチオール金属錯体、及び樹脂を含有する赤外線吸収膜が設けられていることを特徴とする。
I. Infrared absorbing laminate The infrared absorbing laminate according to the present invention has a general formula MxWyOz (where M element is H, He, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, One or more elements selected from B, F, P, S, Se, Br, Te, Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, I, W is tungsten , O is oxygen, composite tungsten oxide fine particles represented by 0.001 ≦ x / y ≦ 1.1, 2.2 ≦ z / y ≦ 3.0), substituted benzene represented by the following chemical formula (1) An infrared absorbing film containing a dithiol metal complex and a resin is provided. It is characterized by.
本発明によれば、赤外線吸収膜中に、複合タングステン酸化物微粒子とともに、特定の構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体を含有させることにより、当該複合タングステン酸化物微粒子の劣化が抑制され、長時間の使用、特に高温高湿下でも光吸収剤の劣化に起因する分光特性変化を起こり難くすることができる。 According to the present invention, the inclusion of the substituted benzenedithiol metal complex having a specific structure together with the composite tungsten oxide fine particles in the infrared absorbing film suppresses the deterioration of the composite tungsten oxide fine particles, and the Even when used, particularly under high temperature and high humidity, it is possible to make it difficult to cause changes in spectral characteristics due to deterioration of the light absorber.
複合タングステン酸化物微粒子とともに、特定の構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体を併用することにより、耐熱性及び耐湿熱性が改善されたのは未解明であるが、次のような理由によるものと考えられる。
タングステン酸化物に元素Ｍが添加された一般式ＭｘＷｙＯｚで表される複合タングステン酸化物微粒子は、当該タングステン酸化物の集合体中に形成された空隙中に、当該元素Ｍが配置した構成単位が多数集合して結晶構造を形成している。当該複合タングステン酸化物微粒子は、熱等によって結晶構造から元素Ｍが遊離するため、劣化し易いと考えられている。これに対して、複合タングステン酸化物微粒子とともに、特定の構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体を併用することにより、当該複合タングステン酸化物微粒子の結晶構造から元素Ｍの遊離が抑制され、耐熱性及び耐湿熱性が改善されると考えられる。
It has not been clarified that heat resistance and heat-and-moisture resistance have been improved by using a combined benzenedithiol metal complex having a specific structure together with composite tungsten oxide fine particles, but it is thought to be due to the following reasons. .
In the composite tungsten oxide fine particles represented by the general formula MxWyOz in which the element M is added to the tungsten oxide, there are many structural units in which the element M is arranged in the voids formed in the aggregate of the tungsten oxide. Aggregates to form a crystal structure. The composite tungsten oxide fine particles are considered to be easily deteriorated because the element M is released from the crystal structure by heat or the like. In contrast, the combined use of the substituted tungsten benzenedithiol metal complex having a specific structure together with the composite tungsten oxide fine particles suppresses the release of the element M from the crystal structure of the composite tungsten oxide fine particles, thereby improving the heat resistance and moisture resistance. It is thought that thermal properties are improved.
本発明に係る赤外線吸収積層体の層構成を図面を用いて説明する。
本発明に係る赤外線吸収積層体の一例の断面図を図１で概念的に示す。なお、図１乃至図３に示す断面図において、説明の容易化のために、厚み方向（図の上下方向）の縮尺を面方向（図の左右方向）の縮尺よりも大幅に拡大誇張して図示してある。図１は、本発明に係る赤外線吸収積層体１の好適な実施形態のうちの第一の実施形態であり、透明基材１０の一方の面に赤外線吸収膜１１が設けられている。ここで設けられているとは、当該透明基材１０の面上に、当該赤外線吸収膜１１が積層されていることを意味するが、当該透明基材１０の面に対して当該赤外線吸収膜１１が剥離可能に貼り付けられていてもよい。
また、図２は、本発明に係る赤外線吸収積層体１の好適な実施形態のうちの第二の実施形態であり、透明基材１０の一方の面に、紫外線吸収層１２、及び赤外線吸収膜１１がこの順に設けられている。このように、透明基材１０と赤外線吸収膜１１の間に他の機能層が設けられていてもよい。
The layer configuration of the infrared absorption laminate according to the present invention will be described with reference to the drawings.
A cross-sectional view of an example of an infrared absorbing laminate according to the present invention is conceptually shown in FIG. In the cross-sectional views shown in FIGS. 1 to 3, the scale in the thickness direction (vertical direction in the drawing) is greatly exaggerated from the scale in the plane direction (horizontal direction in the drawing) for ease of explanation. It is shown. FIG. 1 is a first embodiment among preferred embodiments of an
Moreover, FIG. 2 is 2nd embodiment among the suitable embodiment of the infrared rays absorption laminated
図３は、本発明に係る光学フィルタ２０の一例を示す断面図である。本発明に係る赤外線吸収積層体１の赤外線吸収膜１１の透明基材１０側とは反対側の面に、防眩層１３が積層されている。また、当該赤外線吸収膜１１は、赤外線吸収機能と共に、粘着剤層としての機能を兼ねている。
本発明の赤外線吸収膜１１は、透明基材や他の層の面上に、塗膜として設けられてもよく、また、粘着剤層を兼ねる赤外線吸収層として積層されてもよい。
以下、本発明の赤外線吸収積層体について、透明基材から順に説明する。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of the
The
Hereinafter, the infrared absorption laminate of the present invention will be described in order from a transparent substrate.
１．透明基材
透明基材としては、機械的強度、光透過性を有するものであれば、その他、必要に応じて耐熱性等の性能を適宜勘案したものを用途に応じて選択すればよい。このような、透明基材としては高分子フィルム（乃至は高分子シート）を用いることができる。
1. Transparent base material As long as it has mechanical strength and light transmittance, a transparent base material that appropriately considers performance such as heat resistance may be selected according to the intended use. As such a transparent substrate, a polymer film (or polymer sheet) can be used.
高分子フィルムの材料として用いる透明樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、テレフタル酸−イソフタル酸−エチレングリコール共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、ナイロン６などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体などのスチレン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。 Examples of the transparent resin used as the polymer film material include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, terephthalic acid-isophthalic acid-ethylene glycol copolymer, terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymer, and the like. Polyester resins such as nylon 6, polyamide resins such as nylon 6, polyolefin resins such as polypropylene, polymethylpentene and cycloolefin polymers, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, styrenes such as polystyrene and styrene-acrylonitrile copolymers Examples thereof include resins, cellulose resins such as triacetyl cellulose, and polycarbonate resins.
なお、これらの樹脂は、単独、又は複数種類の混合樹脂（ポリマーアロイを含む）として用いられ、透明基材の層構成は、単層、又は２層以上の積層体として用いられる。また、樹脂フィルムの場合、１軸延伸や２軸延伸した延伸フィルムが機械的強度の点でより好ましい。 These resins are used alone or as a plurality of types of mixed resins (including polymer alloys), and the layer structure of the transparent substrate is used as a single layer or a laminate of two or more layers. In the case of a resin film, a uniaxially stretched or biaxially stretched film is more preferable in terms of mechanical strength.
透明基材の厚さは、基本的には用途に応じ選定すればよく、特に制限はないが、通常は１２〜１０００μｍ、好ましくは２０〜５００μｍ、より好ましくは５０〜２００μｍである。このような厚み範囲ならば、機械的強度が十分で、反り、弛み、破断などを防ぎ、連続帯状で供給して加工する事も容易である。
なお、本発明では、透明基材とは、高分子フィルム（高分子シートも含む）以外に樹脂板と呼ばれるものも含めて呼ぶことにする。但し、総厚増加を回避して光学フィルタの薄型化を図る観点から、透明基材は薄いものが好ましい。
The thickness of the transparent substrate may be basically selected according to the use and is not particularly limited, but is usually 12 to 1000 μm, preferably 20 to 500 μm, more preferably 50 to 200 μm. Within such a thickness range, the mechanical strength is sufficient, warping, loosening, breakage, etc. are prevented, and it is easy to supply and process in a continuous belt shape.
In the present invention, the transparent substrate is referred to as including a resin plate in addition to a polymer film (including a polymer sheet). However, a thin transparent substrate is preferable from the viewpoint of reducing the thickness of the optical filter by avoiding an increase in the total thickness.
この様な点で、透明基材の形態としては樹脂板よりは高分子フィルムが好ましい。当該高分子フィルムのなかでも特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルムが、透明性、耐熱性、コスト等の点で好ましく、より好ましくは２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが最適である。なお、透明基材フィルムの透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光線透過率で８０％以上となる光透過性のフィルムがよい。 In this respect, the transparent substrate is preferably a polymer film rather than a resin plate. Among the polymer films, polyester resin films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferable in terms of transparency, heat resistance, cost, and the like, and more preferably a biaxially stretched polyethylene terephthalate film. In addition, although the transparency of a transparent base film is so good that it is high, Preferably the light transmissive film which becomes 80% or more by visible light transmittance | permeability is good.
また、透明基材の樹脂中には、更に必要に応じて適宜、公知の添加剤、例えば、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などを本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で加えることができる。
また、透明基材は、その表面に適宜、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー処理、アルカリ処理、などの公知の易接着処理を行ってもよい。
Further, a known additive such as a filler, a plasticizer, an antistatic agent and the like can be appropriately added to the resin of the transparent base material as necessary without departing from the spirit of the present invention. .
In addition, the transparent substrate may be appropriately subjected to known easy adhesion treatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, ozone treatment, flame treatment, primer treatment, alkali treatment, etc. on the surface.
２．赤外線吸収膜
本発明の赤外線吸収膜は、一般式ＭｘＷｙＯｚ（但し、Ｍ元素は、Ｈ、Ｈｅ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ、Ｉのうちから選択される１種類以上の元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０）で示される複合タングステン酸化物微粒子、特定の構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体、及び樹脂を含有し、更に他の成分を含有しても良いものである。
本発明の赤外線吸収膜においては、樹脂中に複合タングステン酸化物微粒子、及び特定の構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体が分散されて、赤外線吸収積層体に必要な透明性と、赤外線吸収機能を確保している。
2. Infrared absorbing film The infrared absorbing film of the present invention has a general formula MxWyOz (where M element is H, He, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, One or more elements selected from Te, Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, I, W is tungsten, O is oxygen, 0.001 ≦ x / y ≦ 1.1, 2.2 ≦ z / y ≦ 3.0), a substituted benzenedithiol metal complex having a specific structure, and a resin, and further containing other components. It is good.
In the infrared absorbing film of the present invention, composite tungsten oxide fine particles and a substituted benzenedithiol metal complex having a specific structure are dispersed in the resin to ensure the transparency required for the infrared absorbing laminate and the infrared absorbing function. is doing.
（１）複合タングステン酸化物微粒子
前記一般式ＭｘＷｙＯｚ（但し、Ｍ元素は、Ｈ、Ｈｅ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ、Ｉのうちから選択される１種類以上の元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０）で示される複合タングステン酸化物微粒子は、８００ｎｍ〜１，１００ｎｍの波長域を吸収するものであり、本発明において赤外線吸収剤として機能する。
(1) Composite tungsten oxide fine particles The general formula MxWyOz (wherein M element is H, He, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, One or more elements selected from Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, and I, W is tungsten, O is oxygen, 0.001 ≦ x / y ≦ 1 .1, 2.2 ≦ z / y ≦ 3.0), which absorbs a wavelength region of 800 nm to 1,100 nm and functions as an infrared absorber in the present invention.
前記一般式ＭｘＷｙＯｚで表記される複合タングステン酸化物微粒子は、六方晶、正方晶、立方晶の結晶構造を有する場合に耐久性に優れることから、当該六方晶、正方晶、立方晶から選ばれる1つ以上の結晶構造を含むことが好ましい。例えば、六方晶の結晶構造を持つ複合タングステン酸化物微粒子の場合であれば、好ましいＭ元素として、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｔｌ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｆｅ、Ｓｎの各元素から選択される１種類以上の元素を含む複合タングステン酸化物微粒子が挙げられる。中でも、Ｍ元素としては、耐久性の点から、Ｃｓ（セシウム）であることが好ましい。 The composite tungsten oxide fine particles represented by the general formula MxWyOz are selected from the hexagonal, tetragonal, and cubic crystals because they have excellent durability when they have a hexagonal, tetragonal, or cubic crystal structure. Preferably it contains more than one crystal structure. For example, in the case of composite tungsten oxide fine particles having a hexagonal crystal structure, preferable M elements include Cs, Rb, K, Tl, In, Ba, Li, Ca, Sr, Fe, and Sn. Examples thereof include composite tungsten oxide fine particles containing one or more selected elements. Among them, the M element is preferably Cs (cesium) from the viewpoint of durability.
このとき、添加されるＭ元素の添加量ｘは、０．００１以上１．０以下が好ましく、更に好ましくは０．３３付近が好ましい。これは六方晶の結晶構造から理論的に算出されるｘの値が０．３３であり、この前後の添加量で好ましい光学特性が得られるからである。一方、酸素の存在量ｚは、２．２以上３．０以下が好ましい。例えば、Ｃｓ０．３３ＷＯ３、Ｒｂ０．３３ＷＯ３、Ｋ０．３３ＷＯ３、Ｂａ０．３３ＷＯ３などを挙げることができるが、ｘ、ｚが上記の範囲に収まるものであれば、有用な赤外線吸収特性を得ることができる。 At this time, the addition amount x of the added M element is preferably 0.001 or more and 1.0 or less, and more preferably around 0.33. This is because the value of x calculated theoretically from the hexagonal crystal structure is 0.33, and preferable optical characteristics can be obtained with the addition amount before and after this. On the other hand, the abundance z of oxygen is preferably 2.2 or more and 3.0 or less. For example, Cs 0.33 WO 3 , Rb 0.33 WO 3 , K 0.33 WO 3 , Ba 0.33 WO 3 and the like can be mentioned as long as x and z fall within the above ranges. Useful infrared absorption characteristics can be obtained.
このような複合タングステン酸化物微粒子は、各々単独で使用してもよいが、混合して使用することも好ましい。
また、上記複合タングステン酸化物微粒子の表面を、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌのいずれか１種類以上の元素を含有する酸化物で被覆することが、耐候性をより向上させることができる点から好ましい。
Such composite tungsten oxide fine particles may be used alone or in combination.
In addition, it is preferable that the surface of the composite tungsten oxide fine particles is coated with an oxide containing one or more elements of Si, Ti, Zr, and Al from the viewpoint of further improving weather resistance. .
また、複合タングステン酸化物微粒子の平均分散粒径は、赤外線吸収膜の透明性の点から８００ｎｍ以下であることが好ましく、更に好ましくは２００ｎｍ以下、特に好ましくは１００ｎｍ以下である。尚、ここでの平均分散粒径は、体積平均粒径をいい、粒度分布・粒径分布測定装置（例えば、日機装（株）製、ナノトラック粒度分布測定装置）を用いて測定することができる。 The average dispersed particle size of the composite tungsten oxide fine particles is preferably 800 nm or less, more preferably 200 nm or less, particularly preferably 100 nm or less, from the viewpoint of the transparency of the infrared absorption film. The average dispersed particle size here refers to the volume average particle size, and can be measured using a particle size distribution / particle size distribution measuring device (for example, Nanotrack particle size distribution measuring device manufactured by Nikkiso Co., Ltd.). .
複合タングステン酸化物微粒子の含有量は、赤外線吸収膜中に、１〜２５重量％であることが好ましい。含有量が１重量％より多ければ、十分な赤外線吸収機能を発現でき、２５重量％以下であれば、十分な量の可視光線を透過できる。 The content of the composite tungsten oxide fine particles is preferably 1 to 25% by weight in the infrared absorbing film. If the content is more than 1% by weight, a sufficient infrared absorption function can be exhibited, and if it is 25% by weight or less, a sufficient amount of visible light can be transmitted.
（２）化学式（１）で表される置換ベンゼンジチオール金属錯体
本発明の赤外線吸収膜は、下記化学式（１）で表される置換ベンゼンジチオール金属錯体を含有する。
(2) Substituted benzenedithiol metal complex represented by chemical formula (1) The infrared absorbing film of the present invention contains a substituted benzenedithiol metal complex represented by the following chemical formula (1).
上記化学式（１）において、Ａは遷移金属を表し、特に限定されるものではないが、例えば、銅、コバルト、ニッケル等を挙げることができる。中でも銅、ニッケルが好ましい。
また、Ｂ＋は第４級アンモニウム基を表し、具体的には、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム基、テトラエチルアンモニウム基、テトラフェニルアンモニウム基、テトラベンジルアンモニウム基、トリメチルベンジルアンモニウム基等を挙げることができる。中でも、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム基が好ましい。
In the chemical formula (1), A represents a transition metal and is not particularly limited, and examples thereof include copper, cobalt, and nickel. Of these, copper and nickel are preferable.
B + represents a quaternary ammonium group, and specific examples include a tetra-n-butylammonium group, a tetraethylammonium group, a tetraphenylammonium group, a tetrabenzylammonium group, and a trimethylbenzylammonium group. . Of these, a tetra-n-butylammonium group is preferable.
上記化学式（１）で表される置換ベンゼンジチオール金属錯体としては、上記複合タングステン酸化物微粒子の劣化を抑制する点から、下記化学式（３）で表されるビス［４−ピペリジノスルホニル−１，２−ベンゼンジチオラート−Ｓ，Ｓ’］銅テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、下記化学式（４）で表されるビス（４−モルホリノスルホニル−１，２−ベンゼンチオラート−Ｓ，Ｓ’）ニッケル−テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、及び下記化学式（５）で表されるビス（４−モルホリノスルホニル−１，２−ジチオフェノラート）銅テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムよりなる群から選ばれる１種以上の金属錯体であることが好ましい。 The substituted benzenedithiol metal complex represented by the chemical formula (1) is bis [4-piperidinosulfonyl-1 represented by the following chemical formula (3) from the viewpoint of suppressing deterioration of the composite tungsten oxide fine particles. , 2-Benzenedithiolate-S, S ′] copper tetra-n-butylammonium, bis (4-morpholinosulfonyl-1,2-benzenethiolate-S, S ′) nickel- represented by the following chemical formula (4) One or more metals selected from the group consisting of tetra-n-butylammonium and bis (4-morpholinosulfonyl-1,2-dithiophenolate) copper tetra-n-butylammonium represented by the following chemical formula (5) A complex is preferred.
また、前記置換ベンゼンジチオール金属錯体の配合量は、前記複合タングステン酸化物微粒子１００重量部に対して、０．１〜２０重量部の範囲であることが好ましく、更に０．２〜１０重量部の範囲であることが好ましい。０．１重量部未満の場合、当該複合タングステン酸化物微粒子の劣化抑制効果が十分に得られない恐れがあり、２０重量部超過の場合、赤外線吸収膜全体の色度変化、該膜の硬度変化、及び当該置換ベンゼンジチオール金属錯体が析出する恐れがある。 The amount of the substituted benzenedithiol metal complex is preferably in the range of 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 0.2 to 10 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the composite tungsten oxide fine particles. A range is preferable. If the amount is less than 0.1 part by weight, the deterioration suppressing effect of the composite tungsten oxide fine particles may not be sufficiently obtained. If the amount exceeds 20 parts by weight, the chromaticity change of the entire infrared absorbing film and the hardness change of the film , And the substituted benzenedithiol metal complex may be precipitated.
（３）樹脂
赤外線吸収膜に含まれる樹脂は、上記複合タングステン酸化物微粒子、及び上記置換ベンゼンジチオール金属錯体を均一に分散し、且つ赤外線吸収膜に成膜性を与えるバインダ樹脂として機能する。樹脂は、成膜性と透明性を実現するものであれば特に限定されることなく、赤外線吸収膜と隣接する層構成によって適宜選択して用いることができる。赤外線吸収膜としての透明性は、高いほどよい。用いられる樹脂で膜を形成したときに、可視光域３８０〜７８０ｎｍにおける光線透過率が７０％以上、より好ましくは８０％以上となる光透過性が得られるような樹脂及び膜厚で用いられることが好ましい。
樹脂としては、例えばポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ
樹脂等の樹脂が挙げられる。
(3) Resin The resin contained in the infrared absorbing film functions as a binder resin that uniformly disperses the composite tungsten oxide fine particles and the substituted benzenedithiol metal complex and gives the infrared absorbing film a film forming property. The resin is not particularly limited as long as it achieves film formability and transparency, and can be appropriately selected and used depending on the layer configuration adjacent to the infrared absorption film. The higher the transparency as the infrared absorbing film, the better. When a film is formed with the resin used, the resin should be used in such a resin and film thickness that can provide a light transmittance of 70% or more, more preferably 80% or more in the visible light region of 380 to 780 nm. Is preferred.
Examples of the resin include resins such as a polyester resin, a polyurethane resin, an acrylic resin, and an epoxy resin.
また、本発明に用いられる樹脂は、上記複合タングステン酸化物微粒子、及び上記置換ベンゼンジチオール金属錯体を良好に分散させることができるものであることが好ましい。
具体的には、上記複合タングステン酸化物微粒子、及び上記置換ベンゼンジチオール金属錯体を樹脂に分散させて、膜厚２５μｍの塗膜を形成し、ＪＩＳ Ｋ７１０５−１９８１に準拠したヘイズ値を測定したときに、ヘイズ値が１５以下となるような樹脂を選択し、ヘイズ値が１５以下となる混合割合で用いられることが好ましい。当該ヘイズ値はより好ましくは１０以下、特に好ましくは５以下である。複合タングステン酸化物微粒子、及び置換ベンゼンジチオール金属錯体を分散する際に分散を向上するための添加剤を用いる場合には、当該添加剤も合わせて上記ヘイズ値となるような混合割合で樹脂、添加剤が用いられることが好ましい。
Moreover, it is preferable that resin used for this invention can disperse | distribute the said composite tungsten oxide microparticles | fine-particles and the said substituted benzenedithiol metal complex favorably.
Specifically, when the composite tungsten oxide fine particles and the substituted benzenedithiol metal complex are dispersed in a resin to form a coating film having a film thickness of 25 μm, and a haze value in accordance with JIS K7105-1981 is measured. It is preferable that a resin having a haze value of 15 or less is selected and used at a mixing ratio at which the haze value is 15 or less. The haze value is more preferably 10 or less, and particularly preferably 5 or less. When using an additive for improving dispersion when dispersing the composite tungsten oxide fine particles and the substituted benzenedithiol metal complex, the resin is added at a mixing ratio so that the additive also has the above haze value. An agent is preferably used.
当該赤外線吸収膜は、前記透明基材と後述する機能層を接着するための粘着剤層として機能させることもできる。
粘着剤とは、接着剤の１種をいい、接着剤のうち、接着の際には室温下で単に適度な、通常、軽く手で押圧する程度の加圧のみにより、表面の粘着性のみで接着可能なものをいう。粘着剤の接着力発現には、通常特に、加熱、加湿、放射線（紫外線や電子線等）照射といった物理的なエネルギー乃至作用が不要で、且つ重合反応等の化学反応も不要である。又、粘着剤は、接着後も再剥離可能な程度の接着力を経時的に維持し得るものである。本発明においては、公知の粘着剤として慣用されているものの中から、適度な粘着性（接着力）、透明性、分散性、塗工適性を有し、光学フィルタの透過スペクトルを実質的に変化させることの無いものを適宜選択して用いることができる。
The infrared absorbing film can also function as a pressure-sensitive adhesive layer for bonding the transparent substrate and a functional layer described later.
An adhesive refers to a type of adhesive. Of the adhesives, only moderate pressure is applied at room temperature, usually just lightly pressed by hand, and only the adhesiveness of the surface. It can be bonded. In order to develop the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive, usually, physical energy or action such as heating, humidification, radiation (ultraviolet ray, electron beam, etc.) irradiation is unnecessary, and chemical reaction such as polymerization reaction is also unnecessary. In addition, the pressure-sensitive adhesive can maintain the adhesive strength to the extent that it can be re-peeled after bonding. In the present invention, it has moderate tackiness (adhesive force), transparency, dispersibility, and coating suitability among those commonly used as known pressure-sensitive adhesives, and substantially changes the transmission spectrum of the optical filter. Those that are not allowed to be selected can be appropriately selected and used.
粘着剤としては、例えば、天然ゴム系、合成ゴム系、アクリル樹脂系（以後、アクリル系とも略称）、ポリビニルエーテル系、ウレタン樹脂系、シリコーン樹脂系等が挙げられる。合成ゴム系の具体例としては、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、ポリイソブチレンゴム、イソブチレン−イソプレンゴム、スチレン−イソプレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブチレンブロック共重合体が挙げられる。シリコーン樹脂系の具体例としては、ジメチルポリシロキサン等が挙げられる。これらの粘着剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the pressure-sensitive adhesive include natural rubber, synthetic rubber, acrylic resin (hereinafter also abbreviated as acrylic), polyvinyl ether, urethane resin, and silicone resin. Specific examples of synthetic rubbers include styrene-butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, polyisobutylene rubber, isobutylene-isoprene rubber, styrene-isoprene block copolymer, styrene-butadiene block copolymer, styrene-ethylene-butylene block. A copolymer is mentioned. Specific examples of the silicone resin system include dimethylpolysiloxane. These pressure-sensitive adhesives can be used alone or in combination of two or more.
好適に用いられる粘着剤としては、アクリル系粘着剤が挙げられる。アクリル系粘着剤は、少なくとも（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーを含んで重合させたものである。炭素原子数１〜１８程度のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーとカルボキシル基を有するモノマーとの共重合体や、炭素原子数１〜１８程度のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーの２種以上を用いた共重合体であるのが一般的である。なお、本発明において（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸及び／又はメタクリル酸をいう。 An acrylic adhesive is mentioned as an adhesive suitably used. The acrylic pressure-sensitive adhesive is a polymer containing at least a (meth) acrylic acid alkyl ester monomer. A copolymer of a (meth) acrylic acid alkyl ester monomer having an alkyl group having about 1 to 18 carbon atoms and a monomer having a carboxyl group, or (meth) acrylic acid having an alkyl group having about 1 to 18 carbon atoms A copolymer using two or more kinds of alkyl ester monomers is generally used. In the present invention, (meth) acrylic acid means acrylic acid and / or methacrylic acid.
ここで使用される（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーの例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソアミル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ−オクチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ウンデシル及び（メタ）アクリル酸ラウリル等を挙げることができる。
また、上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルは、アクリル系粘着剤中に３０〜９９.５重量部の量で共重合されていることが好ましい。
Examples of (meth) acrylic acid alkyl ester monomers used here include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, sec-propyl (meth) acrylate, N-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, Examples thereof include n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, and lauryl (meth) acrylate.
Moreover, it is preferable that the said (meth) acrylic-acid alkylester is copolymerized in the quantity of 30-99.5 weight part in the acrylic adhesive.
また、アクリル系粘着剤を形成するカルボキシル基を有するモノマーとしては、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、マレイン酸モノブチル及びβ−カルボキシエチルアクリレート等のカルボキシル基を含有するモノマーを挙げることができる。
更に、本発明で用いられるアクリル系粘着剤には、上記の他に、アクリル系粘着剤の特性を損なわない範囲内で他の官能基を有するモノマーが共重合されていても良い。他の官能基を有するモノマーの例としては、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル及びアリルアルコール等の水酸基を含有するモノマー；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド及びＮ−エチル（メタ）アクリルアミドのアミド基を含有するモノマー；Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド及びジメチロール（メタ）アクリルアミド等のアミド基とメチロール基とを含有するモノマー；アミノメチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート及びビニルピリジン等のアミノ基を含有するモノマーのような官能基を有するモノマー；アリルグリシジルエーテル、（メタ）アクリル酸グリシジルエーテルなどのエポキシ基含有モノマーなどが挙げられる。この他にもフッ素置換（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリロニトリルなどのほか、スチレン及びメチルスチレンなどのビニル基含有芳香族化合物、酢酸ビニル、ハロゲン化ビニル化合物などを挙げることができる。
Moreover, as a monomer which has a carboxyl group which forms an acrylic adhesive, monomers containing a carboxyl group such as (meth) acrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, monobutyl maleate and β-carboxyethyl acrylate are used. Can be mentioned.
Furthermore, in addition to the above, the acrylic pressure-sensitive adhesive used in the present invention may be copolymerized with a monomer having another functional group within a range that does not impair the characteristics of the acrylic pressure-sensitive adhesive. Examples of monomers having other functional groups include monomers containing hydroxyl groups such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate and allyl alcohol; (meth) acrylamide, N-methyl Monomers containing an amide group of (meth) acrylamide and N-ethyl (meth) acrylamide; Monomers containing an amide group and a methylol group such as N-methylol (meth) acrylamide and dimethylol (meth) acrylamide; ) Monomers having functional groups such as monomers containing amino groups such as acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate and vinylpyridine; and epoxy group-containing monomers such as allyl glycidyl ether and (meth) acrylic acid glycidyl ether. It is. In addition to these, fluorine-substituted (meth) acrylic acid alkyl ester, (meth) acrylonitrile, and the like, vinyl group-containing aromatic compounds such as styrene and methylstyrene, vinyl acetate, and vinyl halide compounds can be used.
さらに、本発明で用いられるアクリル系粘着剤には、上記のような他の官能基を有するモノマーの他に、他のエチレン性二重結合を有するモノマーを使用することができる。ここでエチレン性二重結合を有するモノマーの例としては、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジオクチル及びフマル酸ジブチル等のα，β−不飽和二塩基酸のジエステル；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル；ビニルエーテル；スチレン、α−メチルスチレン及びビニルトルエン等のビニル芳香族化合物；（メタ）アクリロニトリル等を挙げることができる。
また、上記のようなエチレン性二重結合を有するモノマーの他に、エチレン性二重結合を２個以上有する化合物を併用することもできる。このような化合物の例としては、ジビニルベンゼン、ジアリルマレート、ジアリルフタレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、メチレンビス（メタ）アクリルアミド等を挙げることができる。
Furthermore, in the acrylic pressure-sensitive adhesive used in the present invention, in addition to the monomer having other functional groups as described above, another monomer having an ethylenic double bond can be used. Examples of monomers having an ethylenic double bond include diesters of α, β-unsaturated dibasic acids such as dibutyl maleate, dioctyl maleate and dibutyl fumarate; vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate. Vinyl ether; vinyl aromatic compounds such as styrene, α-methyl styrene and vinyl toluene; (meth) acrylonitrile and the like.
In addition to the monomer having an ethylenic double bond as described above, a compound having two or more ethylenic double bonds may be used in combination. Examples of such compounds include divinylbenzene, diallyl malate, diallyl phthalate, ethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, methylenebis (meth) acrylamide, and the like.
さらに、上記のようなモノマーの他に、アルコキシアルキル鎖を有するモノマー等を使用することができる。（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルの例としては、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−メトキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−メトキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−メトキシブチル、（メタ）アクリル酸４−メトキシブチル、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸３−エトキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−エトキシブチルなどを挙げることができる。 Furthermore, in addition to the above-described monomers, monomers having an alkoxyalkyl chain can be used. Examples of (meth) acrylic acid alkoxyalkyl esters include 2-methoxyethyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, 2-methoxypropyl (meth) acrylate, and 3-methoxypropyl (meth) acrylate. , 2-methoxybutyl (meth) acrylate, 4-methoxybutyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 3-ethoxypropyl (meth) acrylate, 4-ethoxybutyl (meth) acrylate And so on.
アクリル系粘着剤の市販品としては、例えば、商品名：ＴＵ−４１Ａ（巴川製紙所製）、商品名：Ｎｏ．５９１、Ｎｏ．５９１５、Ｎｏ．５９１９Ｍ、ＣＳ９６２１、ＬＡ−５０、ＬＡ−１００、ＨＪ−９２１０、Ｎｏ．５９５Ｂ（日東電工（株）製）、商品名：ＳＫダインＳＫ２０９４（綜研化学株式会社製）等が、ヘイズが低くなり、且つ、粘着力の点から好適に用いられる。 As a commercial item of an acrylic adhesive, for example, trade name: TU-41A (manufactured by Yodogawa Paper Mill), trade name: No. 591, no. 5915, no. 5919M, CS9621, LA-50, LA-100, HJ-9210, No. 595B (manufactured by Nitto Denko Corporation), trade name: SK Dyne SK2094 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) and the like are suitably used from the viewpoint of low haze and adhesive strength.
（４）その他の成分
赤外線吸収膜に更に含まれていても良いその他の成分としては、ネオン光吸収剤、色補正色素が挙げられる。
(4) Other components Other components that may be further contained in the infrared absorbing film include neon light absorbers and color correction dyes.
（ネオン光吸収剤）
ネオン光吸収機能は、プラズマディスプレイパネルから放射されるネオン光、即ちネオン原子の発光スペクトルを吸収するべく含有するものである。ネオン光の発光スペクトル帯域は波長５５０〜６４０ｎｍの為、ネオン光吸収層として機能する場合の分光透過率は波長５５０ｎｍにおいて５０％以下、更に４０％以下になるように設計することが好ましい。ネオン光吸収剤は、少なくとも５５０〜６４０ｎｍの波長領域内に吸収極大を有する色素を用いることができる。当該色素の具体例としては、シアニン系、オキソノール系、メチン系、サブフタロシアニン系もしくはポルフィリン系等を挙げることができる。これらの中でもポルフィリン系が好ましい。その中でも特に、特許第３８３４４７９号公報に開示されるような、テトラアザポルフィリン系色素が、粘着剤においても分散性が良好で、且つ耐熱性、耐湿性、耐光性が良好な点から好ましい。
ネオン光吸収剤の含有量は、特に限定されないが、膜中に、０．０５〜５重量％であることが好ましい。含有量が０．０５重量％より多ければ、十分なネオン光吸収機能を発現でき、５重量％以下であれば、十分な量の可視光線を透過できる。
(Neon light absorber)
The neon light absorption function is contained to absorb neon light emitted from the plasma display panel, that is, the emission spectrum of neon atoms. Since the emission spectrum band of neon light has a wavelength of 550 to 640 nm, it is preferable that the spectral transmittance when functioning as a neon light absorbing layer is designed to be 50% or less and further 40% or less at a wavelength of 550 nm. As the neon light absorber, a dye having an absorption maximum in a wavelength region of at least 550 to 640 nm can be used. Specific examples of the dye include cyanine, oxonol, methine, subphthalocyanine or porphyrin. Of these, porphyrins are preferred. Among them, a tetraazaporphyrin-based dye as disclosed in Japanese Patent No. 3834479 is particularly preferable from the viewpoint of good dispersibility even in a pressure-sensitive adhesive and good heat resistance, moisture resistance, and light resistance.
Although content of a neon light absorber is not specifically limited, It is preferable that it is 0.05 to 5 weight% in a film | membrane. If the content is more than 0.05% by weight, a sufficient neon light absorbing function can be exhibited, and if it is 5% by weight or less, a sufficient amount of visible light can be transmitted.
（色補正色素）
また、色補正機能とは、パネルからの発光の色純度や色再現範囲、電源ＯＦＦ時のディスプレイ色などの改善の為にディスプレイ用フィルタの色を調整するために含有するものである。
色補正色素として用いることのできる公知の色素としては、特開２０００−２７５４３２号公報、特開２００１−１８８１２１号公報、特開２００１−３５００１３号公報、特開２００２−１３１５３０号公報等に記載の色素が好適に使用できる。更にこのほかにも、黄色光、赤色光、青色光等の可視光を吸収するアントラキノン系、ナフタレン系、アゾ系、フタロシアニン系、ピロメテン系、テトラアザポルフィリン系、スクアリリウム系、シアニン系等の色素を使用することができる。
色補正色素の含有量は、補正すべき色に合わせて適宜調整され、特に限定されない。通常、膜中に０．０１〜１０重量％程度含有する。
(Color correction dye)
The color correction function is included to adjust the color of the display filter in order to improve the color purity of the light emitted from the panel, the color reproduction range, the display color when the power is turned off, and the like.
Examples of known dyes that can be used as color correction dyes include the dyes described in JP 2000-275432 A, JP 2001-188121 A, JP 2001-350013 A, JP 2002-131530 A, and the like. Can be suitably used. In addition, other dyes such as anthraquinone, naphthalene, azo, phthalocyanine, pyromethene, tetraazaporphyrin, squarylium, and cyanine that absorb visible light such as yellow light, red light, and blue light. Can be used.
The content of the color correction dye is appropriately adjusted according to the color to be corrected and is not particularly limited. Usually, it contains about 0.01 to 10% by weight in the film.
（その他の成分）
また、本発明の効果を損なわない限り、複合タングステン酸化物微粒子以外の赤外線吸収剤を含んでいても良い。複合タングステン酸化物微粒子以外の赤外線吸収剤としては、上記一般式で表される以外のタングステン酸化物などの無機系赤外線吸収剤や、フタロシアニン系化合物、ジイモニウム化合物等の有機系赤外線吸収剤から適宜選択して用いられる。
更に、赤外線吸収膜には、所望に応じて、イソシアネート化合物等の架橋剤、粘着付与剤等が含まれていても良い。
その他、赤外線吸収膜には、複合タングステン酸化物微粒子及び置換ベンゼンジチオール金属錯体の分散性を向上するための各種分散剤や、各種界面活性剤、シランカップリング剤等が含まれていても良い。
(Other ingredients)
Moreover, unless the effect of this invention is impaired, infrared absorbers other than composite tungsten oxide microparticles | fine-particles may be included. The infrared absorber other than the composite tungsten oxide fine particles is appropriately selected from inorganic infrared absorbers such as tungsten oxides other than those represented by the above general formula, and organic infrared absorbers such as phthalocyanine compounds and diimonium compounds. Used.
Furthermore, the infrared absorbing film may contain a crosslinking agent such as an isocyanate compound, a tackifier, and the like as desired.
In addition, the infrared absorbing film may contain various dispersants for improving the dispersibility of the composite tungsten oxide fine particles and the substituted benzenedithiol metal complex, various surfactants, silane coupling agents, and the like.
３．赤外線吸収積層体の特性
（赤外線吸収性）
本発明に係る赤外線吸収積層体は、８００ｎｍ〜１，１００ｎｍの波長域（近赤外線領域）の赤外線の透過率が２０％以下、更に１５％以下であることが好ましい。
なお、本発明における光線透過率は、ＪＩＳ−Ｚ８７０１に準拠して分光光度計（例えば、品番：ＵＶ−３１００ＰＣ、会社名：株式会社島津製作所）にて測定することができる。
3. Characteristics of infrared absorbing laminate (infrared absorptivity)
In the infrared absorbing laminate according to the present invention, the infrared transmittance in the wavelength range of 800 nm to 1,100 nm (near infrared region) is preferably 20% or less, and more preferably 15% or less.
In addition, the light transmittance in this invention can be measured with a spectrophotometer (for example, product number: UV-3100PC, company name: Shimadzu Corporation) based on JIS-Z8701.
（耐久性）
本発明の赤外線吸収積層体は、優れた耐久性を有し、高温高湿下での長時間の使用によっても光吸収剤の劣化に帰属される分光特性の変化が起こり難い。具体的には、耐湿熱環境（８０℃、湿度９５％ＲＨ）の条件下にて、３日経過後の波長３００ｎｍ〜１３００ｎｍにおける透過率Ｔの差ΔＴが、１０％以下、更に好ましくは６％以下であることが望ましい。
(durability)
The infrared-absorbing laminate of the present invention has excellent durability, and even when used for a long time under high temperature and high humidity, changes in spectral characteristics attributable to deterioration of the light absorber are unlikely to occur. Specifically, the difference ΔT in transmittance T at a wavelength of 300 nm to 1300 nm after the passage of 3 days under the condition of heat and humidity resistance (80 ° C., humidity 95% RH) is 10% or less, more preferably 6% or less. It is desirable that
ＩＩ．光学フィルタ
本発明に係る光学フィルタは、上記赤外線吸収積層体の透明基材側の面、及び／又は赤外線吸収膜側の面に、機能層が積層されていることを特徴とする。このような光学フィルタは、上記赤外線吸収機能に加えて、種々の機能が付加された光学フィルタとして用いることができる。
II. Optical filter The optical filter according to the present invention is characterized in that a functional layer is laminated on the surface of the infrared absorbing laminate on the transparent substrate side and / or on the infrared absorbing film side. Such an optical filter can be used as an optical filter to which various functions are added in addition to the infrared absorption function.
本発明に用いられる機能層としては、耐擦傷機能、防眩機能、反射防止機能等の光学機能を有する光学機能層、及び電磁波遮蔽機能、防汚機能等の光学機能以外の機能を有する機能層が挙げられる。また、上記機能層は、単層の他、多層として形成してもよい。なお、上記機能層は、従来の光学フィルタに於いて公知のものを用いてもよい。 As the functional layer used in the present invention, an optical functional layer having optical functions such as an anti-scratch function, an antiglare function and an antireflection function, and a functional layer having functions other than the optical functions such as an electromagnetic wave shielding function and an antifouling function Is mentioned. The functional layer may be formed as a multilayer in addition to a single layer. As the functional layer, a known optical filter may be used.
以下、各機能層について順に説明する。
（１）光学機能層
＜耐擦傷機能層＞
耐擦傷機能（ハードコート）層は、ＪＩＳＫ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものであることが好ましく、このような硬度と上記透明基材と同様な透明性を実現できるものであれば、材料は特に限定されない。
耐擦傷機能（ハードコート）層は、例えば、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレートプレポリマー、或いは、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレートモノマーを単独で或いはこれらの中から２種以上選択して組み合わせて配合した電離放射線硬化性樹脂を用いた塗膜として形成することができる。また、電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤または光重合促進剤として増感剤を添加することができる。なおここで、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する複合的表記である。耐擦傷機能（ハードコート）は上記材料を必要に応じて溶剤で希釈して上記透明基材上に塗工等の湿式成膜法により形成することができる。
Hereinafter, each functional layer will be described in order.
(1) Optical functional layer <Abrasion resistant functional layer>
The scratch-resistant (hard coat) layer preferably exhibits a hardness of “H” or higher in a pencil hardness test defined by JISK5600-5-4 (1999). The material is not particularly limited as long as the same transparency can be realized.
The scratch-resistant layer (hard coat) layer is, for example, a polyfunctional (meth) acrylate prepolymer such as polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, or trimethylolpropane tri (meth) acrylate. , Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and other polyfunctional (meth) acrylate monomers such as tri- or more functional compounds, either alone or in combination of two or more of these It can be formed as a coating film using a curable resin. Further, when the ionizing radiation curable resin is used as an ultraviolet curable resin, a sensitizer can be added as a photopolymerization initiator or a photopolymerization accelerator. Here, (meth) acrylate is a composite notation meaning acrylate or methacrylate. The scratch resistance function (hard coat) can be formed by a wet film formation method such as coating on the transparent substrate by diluting the material with a solvent as necessary.
＜防眩層＞
防眩層（Ａｎｔｉ Ｇｌａｒｅ層、略称してＡＧ層）は、樹脂バインダ中にシリカなどの無機フィラーを添加した塗膜形成や、或いは賦形版等を用いた賦形加工により、層表面に外光を乱反射する微細凹凸を設けた層として形成することができる。樹脂バインダの樹脂としては、表面層として表面強度が望まれる関係上、硬化性アクリル樹脂や、前記の耐擦傷機能（ハードコート）層同様に電離放射線硬化性樹脂等が好適に使用される。
<Anti-glare layer>
The antiglare layer (Anti Glare layer, abbreviated as AG layer) is formed on the surface of the layer by forming a coating with an inorganic filler such as silica added to the resin binder or by forming using a shaping plate. It can be formed as a layer provided with fine irregularities for irregularly reflecting light. As the resin of the resin binder, a curable acrylic resin, an ionizing radiation curable resin, or the like is preferably used in the same manner as the scratch-resistant (hard coat) layer because the surface layer is desired to have surface strength.
＜反射防止層＞
反射防止層（Ａｎｔｉ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ層、略称してＡＲ層）は、低屈折率層の単層、或いは、低屈折率層と高屈折率層とを、当該低屈折率層が最上層に位置する様に交互に積層した多層構成が一般的であり、蒸着やスパッタ等の乾式成膜法で、或いは塗工等の湿式成膜法も利用して形成することができる。なお、低屈折率層はケイ素酸化物、フッ化マグネシウム、フッ素含有樹脂等が用いられ、高屈折率層には、酸化チタン、硫化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ等が用いられる。尚、ここで高（低）屈折率層とは、当該層と隣接する層（例えば、低（高）屈折率層）と比較して当該層の屈折率が相対的に高（低）いという意味である。
反射防止層に更に耐擦傷機能を付与する場合には、前記の耐擦傷機能（ハードコート）層の項で記載した硬度の高い材料を適宜用いて形成する。
<Antireflection layer>
The antireflection layer (Anti Reflection layer, abbreviated as AR layer) is a single layer of a low refractive index layer, or a low refractive index layer and a high refractive index layer, and the low refractive index layer is positioned in the uppermost layer. A multilayer structure in which the layers are alternately laminated is generally used, and can be formed by a dry film formation method such as vapor deposition or sputtering, or by using a wet film formation method such as coating. Note that silicon oxide, magnesium fluoride, fluorine-containing resin, or the like is used for the low refractive index layer, and titanium oxide, zinc sulfide, zirconium oxide, niobium oxide, or the like is used for the high refractive index layer. Here, the high (low) refractive index layer means that the refractive index of the layer is relatively high (low) compared to a layer adjacent to the layer (for example, a low (high) refractive index layer). Meaning.
When the antireflection layer is further provided with a scratch resistance function, the antireflection layer is appropriately formed using a material having high hardness described in the section of the scratch resistance function (hard coat) layer.
＜その他の光学機能層＞
その他の光学機能層としては、例えば、ネオン光吸収層、色補正層、紫外線吸収層等が挙げられる。しかしながら、ネオン光吸収層、色補正層は、生産効率の点から、単独の層として形成されるよりも、前述のように、赤外線吸収膜など他の膜（層）にネオン光吸収剤や色補正色素を含有させて、ネオン光吸収層、色補正層を兼用する層とする方が好ましい。単独の層として形成される場合であっても、ネオン光吸収剤や色補正色素としては、上記「２．赤外線吸収膜」において説明したものを用いることができる。
紫外線吸収層は、独立した層であっても良いし、他の機能層に紫外線吸収剤を含有させた、他の機能層と紫外線吸収層を兼ねる層であっても良い。紫外線吸収剤を含有させた透明基材としては、例えば、帝人（株）製「テトロンフィルムＨＢタイプ」（商品名）が挙げられる。
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物等の有機系化合物、微粒子状の酸化亜鉛、酸化セリウム等からなる無機系化合物からなるものが挙げられる。独立した層とする場合に用いられるバインダ樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。
<Other optical functional layers>
Examples of other optical functional layers include a neon light absorption layer, a color correction layer, and an ultraviolet absorption layer. However, from the viewpoint of production efficiency, the neon light absorbing layer and the color correction layer are not formed as a single layer, but, as described above, the neon light absorbing layer or the color correcting layer is formed on another film (layer) such as an infrared absorbing film. It is preferable that a correction dye is contained so as to serve as a neon light absorption layer and a color correction layer. Even when it is formed as a single layer, the neon light absorber and the color correction dye described in the above “2. Infrared absorbing film” can be used.
The ultraviolet absorbing layer may be an independent layer, or may be a layer that functions as an ultraviolet absorbing layer, in which another functional layer contains an ultraviolet absorber. Examples of the transparent substrate containing an ultraviolet absorber include “Tetron Film HB Type” (trade name) manufactured by Teijin Limited.
Examples of the ultraviolet absorber include organic compounds such as benzotriazole-based compounds and benzophenone-based compounds, and inorganic compounds composed of particulate zinc oxide, cerium oxide, and the like. Examples of the binder resin used for the independent layer include resins such as a polyester resin, a polyurethane resin, an acrylic resin, and an epoxy resin.
（２）その他の機能層
＜電磁波遮蔽層＞
電磁波遮蔽層は電磁波遮蔽性能と可視光透過性能とを兼ね備えた層である。ここで、透明とは、可視光（単に光とも呼称する）に対して光透過性を有する全面連続体の被膜である場合だけでなく、材料そのものは不透明であってもメッシュ化することによって、全光線透過率が５０％以上、より好ましくは８０％以上としたものであってもよい。
(2) Other functional layers <electromagnetic wave shielding layer>
The electromagnetic wave shielding layer is a layer having both electromagnetic wave shielding performance and visible light transmission performance. Here, the term “transparent” refers not only to the case of a coating film of a continuous continuum having optical transparency to visible light (also simply referred to as light), but also by meshing the material itself even if it is opaque, The total light transmittance may be 50% or more, more preferably 80% or more.
電磁波遮蔽層の材料及び形状は特に限定されるものではなく、従来公知の光透過性の電磁波シールドフィルタに於ける各種導電体層を適宜採用できるものである。電磁波遮蔽層は、一般的には金属箔のエッチングで形成したメッシュ状のものが代表的であり、例えば、印刷法やめっき法等を利用してポリエステルフィルム上に最初からメッシュ状の形状で電磁波遮蔽層（以下、導電体メッシュ層と呼称する。）を形成したものや、最初はポリエステルフィルム上に全面に、蒸着、スパッタ、めっき等の１又は２以上の物理的或いは化学的形成手法を用いて電磁波遮蔽層を形成後、エッチング等で導電体メッシュ層を形成したものが挙げられる。また、ポリエステルフィルムシートに積層前の金属箔単体をエッチングでパターンニングして導電体メッシュ層とすることも可能である。この層単体の導電体メッシュ層は、接着剤等でポリエステルフィルムシートに積層する。
また、光透過性を有する全面被膜である電磁波遮蔽層としては、例えば、ポリエステルフィルム上に銀、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）等の蒸着により透明導電体層の全面被膜を形成したものが挙げられる。
The material and shape of the electromagnetic wave shielding layer are not particularly limited, and various conductor layers in a conventionally known light-transmitting electromagnetic wave shielding filter can be appropriately employed. The electromagnetic wave shielding layer is typically a mesh-like layer formed by etching a metal foil. For example, the electromagnetic wave is formed in a mesh-like shape on a polyester film from the beginning by using a printing method, a plating method, or the like. One or two or more physical or chemical forming methods such as vapor deposition, sputtering, plating, etc. are used on the entire surface of a polyester film formed with a shielding layer (hereinafter referred to as a conductor mesh layer) or initially on a polyester film. Then, after the electromagnetic wave shielding layer is formed, a conductor mesh layer is formed by etching or the like. It is also possible to form a conductor mesh layer by patterning a single metal foil before lamination on a polyester film sheet by etching. The conductor mesh layer of this single layer is laminated on the polyester film sheet with an adhesive or the like.
Moreover, as an electromagnetic wave shielding layer which is a whole surface film which has a light transmittance, what formed the whole surface film of the transparent conductor layer by vapor deposition of silver, ITO (indium tin oxide), etc. on the polyester film is mentioned, for example.
電磁波遮蔽層は、電磁波遮蔽性能を発現するに足る導電性を有する物質であれば、特に制限は無いが、通常は、導電性が良い点で金属層が好ましく、金属層は上記のように、蒸着、めっき、金属箔ラミネート等により形成することができる。金属層の金属材料としては、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム等が挙げられる。また金属層の金属は合金でも良く、金属層は単層でも多層でも良い。
また、電磁波遮蔽層が導電体メッシュ層である場合、上記電磁波遮蔽層表面の光反射を防ぐことを目的として、従来公知の方法により黒化処理面を形成することができる。更に、導電体メッシュ層や黒化処理面に、必要に応じて従来公知の防錆層を設けてもよい。
The electromagnetic wave shielding layer is not particularly limited as long as it is a substance having sufficient conductivity to express electromagnetic wave shielding performance, but usually a metal layer is preferable in terms of good conductivity, and the metal layer is as described above. It can be formed by vapor deposition, plating, metal foil lamination, or the like. Examples of the metal material for the metal layer include gold, silver, copper, iron, nickel, chromium, and aluminum. The metal of the metal layer may be an alloy, and the metal layer may be a single layer or multiple layers.
When the electromagnetic shielding layer is a conductor mesh layer, the blackened surface can be formed by a conventionally known method for the purpose of preventing light reflection on the surface of the electromagnetic shielding layer. Furthermore, you may provide a conventionally well-known rust prevention layer in a conductor mesh layer or a blackening process surface as needed.
＜防汚層＞
防汚層は、一般的に、撥水性、撥油性のコートで、シロキサン系、フッ素化アルキルシリル化合物などが適用できる。撥水性塗料として用いられるフッ素系或いはシリコーン系樹脂を好適に用いることができる。例えば、反射防止層の低屈折率層をＳｉＯ２により形成した場合には、フルオロシリケート系撥水性塗料が好ましく用いられる。
<Anti-fouling layer>
The antifouling layer is generally a water-repellent or oil-repellent coat, and a siloxane-based, fluorinated alkylsilyl compound or the like can be applied. A fluorine-based or silicone-based resin used as a water-repellent paint can be preferably used. For example, when the low refractive index layer of the antireflection layer is formed of SiO 2 , a fluorosilicate water-repellent paint is preferably used.
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.
以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. These descriptions do not limit the present invention.
（実施例１）
アクリル樹脂（綜研化学（株）製、ＳＫダイン２０９４）１００重量部に対して、硬化剤（綜研化学（株）製、Ｅ−５ＸＭ）０．２５重量部、赤外線吸収剤としてセシウム含有タングステン酸化物（Ｃｓ０.３３ＷＯ３）含有量１８．５重量％懸濁液（住友金属鉱山（株）製、ＹＭＦ−０２；平均分散粒径５０ｎｍ）１０重量部、及びメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）４０重量部を添加して撹拌し、更に、ビス（４−モルホリノスルホニル−１，２−ベンゼンチオラート−Ｓ，Ｓ’）ニッケル−テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム０．０５重量部添加して混合し、赤外線吸収性組成物を調製した。
次に、上記赤外線吸収性組成物を、厚さ１００μｍで連続帯状の無着色透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（Ａ４３００：商品名、東洋紡績（株）製）の上に、乾燥膜厚２５μｍとなるようにアプリケーターにて塗工し、７０℃で３分乾燥後、上から厚み７５μｍの離型処理ＰＥＴをラミネートして、赤外線吸収積層体を得た。
Example 1
To 100 parts by weight of acrylic resin (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., SK Dyne 2094), 0.25 parts by weight of curing agent (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., E-5XM), cesium-containing tungsten oxide as an infrared absorber (Cs 0.33 WO 3) content of 18.5 wt.% suspension (Sumitomo Metal Mining Co., YMF-02; average dispersion particle size 50 nm) 10 parts by weight, and methyl isobutyl ketone (MIBK) 40 wt In addition, 0.05 parts by weight of bis (4-morpholinosulfonyl-1,2-benzenethiolate-S, S ′) nickel-tetra-n-butylammonium is added and mixed to absorb infrared rays. A sex composition was prepared.
Next, the infrared-absorbing composition is dried on a continuous strip-shaped uncolored transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film (A4300: trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm. After coating with an applicator to a thickness of 25 μm and drying at 70 ° C. for 3 minutes, a 75 μm-thick release-treated PET was laminated from above to obtain an infrared-absorbing laminate.
（評価）
作製した赤外線吸収積層体の初期状態、及び当該赤外線吸収積層体の耐湿熱環境（８０℃、湿度９５％ＲＨ）の条件下にて、３日経過後の波長３００ｎｍ〜１３００ｎｍにおける透過率Ｔを、分光光度計（島津製作所製、ＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて測定した。初期状態と、耐湿熱環境（８０℃、湿度９５％ＲＨ）の条件下で３日経過後の透過率Ｔの測定値から、透過率変化ΔＴを求めた。
その結果、初期状態と３日経過後との比較において、透過率変化ΔＴは７％未満であった。
(Evaluation)
The transmittance T at a wavelength of 300 nm to 1300 nm after the passage of 3 days under the conditions of the initial state of the produced infrared absorbing laminate and the heat and humidity resistant environment (80 ° C., humidity 95% RH) of the infrared absorbing laminate was measured. Measurement was performed using a photometer (manufactured by Shimadzu Corporation, UV-3100PC). The transmittance change ΔT was determined from the measured value of the transmittance T after the passage of 3 days under the conditions of the initial state and the humidity and heat resistant environment (80 ° C., humidity 95% RH).
As a result, the transmittance change ΔT was less than 7% in comparison between the initial state and after 3 days.
（比較例１）
実施例１において、ビス（４−モルホリノスルホニル−１，２−ベンゼンチオラート−Ｓ，Ｓ’）ニッケル−テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムを用いなかった以外は実施例１と同様に赤外線吸収積層体を作製した。
［評価結果］
実施例１と同様に評価したところ、３日経過前後の波長３００ｎｍ〜１３００ｎｍにおける透過率Ｔの値の差ΔＴは１０％超過となり、赤外線域での光吸収剤の劣化が起こった。
(Comparative Example 1)
An infrared-absorbing laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that bis (4-morpholinosulfonyl-1,2-benzenethiolate-S, S ′) nickel-tetra-n-butylammonium was not used. did.
[Evaluation results]
When evaluated in the same manner as in Example 1, the difference ΔT in the transmittance T at wavelengths of 300 nm to 1300 nm before and after the passage of 3 days exceeded 10%, and the light absorber deteriorated in the infrared region.
１ 赤外線吸収積層体
１０ 透明基材
１１ 赤外線吸収膜
１２ 紫外線吸収層
１３ 防眩層
２０ 光学フィルタ
DESCRIPTION OF
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