JP5163108B2 - 被筆記媒体および書込型筆記システム - Google Patents

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本発明は、書込型筆記装置に使用される被筆記媒体および書込型筆記システムに関する。
近年、手書きした文字や絵等を瞬時に読み取り、電子データ化して、情報処理装置のディスプレイに表示することができるペン型の書込型筆記装置が開発されている。
このような書込型筆記装置の中には、ドットパターンが形成された専用のシートとともに使用されるものがある。具体的には、書込型筆記装置に内蔵されている発光ダイオードからシートに赤外光を照射して、ドットパターンまたはドットパターン以外の部分で反射された光を書込型筆記装置に内蔵されているCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)カメラで読み取り、それを画像処理して電子データ化し、この電子データを情報処理装置に送信することにより、手書きした文字や絵等をディスプレイに表示させる。
ここで、透明シートをディスプレイの映像面上に装着する場合において、ドットパターンに赤外線吸収材料を使用し、ドットパターン以外の部分で反射される赤外光をCMOSカメラで読み取る場合には、シートに対して書込型筆記装置を倒して使用すると、反射角の問題から正確に読み取ることができないことがある。
また、ドットパターン以外の部分に反射材料を使用し、ドットパターン以外の部分で反射される赤外光をCMOSカメラで読み取る場合には、反射材料として好適な材料を見付けることが困難である。
そこで、ドットパターンとして、等方的に発光する蛍光材料を使用することが考えられている。なお、ドットパターンに蛍光材料を使用することは、特許文献1および特許文献2に記載されている。
一方、このようなシートを情報処理装置のディスプレイの映像面に貼り付ける場合には、ディスプレイの映像を阻害しないようにシートに高い透明性が要求される。ここで、シートの透明性を向上させるためには、シート材料自体の透明性を高めることは勿論のこと、ドットパターンに含有させる蛍光材料の濃度をできる限り低下させることも必要である。
しかしながら、現在使用されている蛍光材料では濃度を低下させると、CMOSカメラによる蛍光材料の発光の読み取りが困難になる。従って、シートの透明性を高めるには、読取性能を向上させることができる蛍光材料が必要となる。
特開2003−256137号公報 特許第3905668号公報
本発明は、上記課題を解決するためになされたものである。すなわち、読取性能を向上させることにより透明性を向上させることができる被筆記媒体およびこの被筆記媒体を備えた筆記システム提供することを目的とする。
本発明の一の態様によれば、発光材料を含有する座標認識パターンを有する透明の被筆記媒体に、光を照射して前記発光材料を発光させる光照射部と、前記発光材料からの光を読み取る読取部とを備える書込型筆記装置に使用される被筆記媒体であって、前記発光材料は、前記読取部の感度波長域内に発光強度が最大となる発光ピークを有することを特徴とする、被筆記媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、上記本発明の一の態様による被筆記媒体と、前記被筆記媒体に光を照射して前記発光材料を発光させる光照射部と、前記発光材料からの光を読み取る読取部とを備える書込型筆記装置とを具備することを特徴とする、書込型筆記システムが提供される。
本発明の一の態様の被筆記媒体によれば、発光材料が読取部の感度波長域内に発光強度が最大となる発光ピークを有しているので、読取部が発光材料の発光を確実に読み取ることができ、読取性能を向上させることができる。これにより、座標認識パターンにおける発光材料の濃度を低下させることができ、被筆記媒体の透明性を向上させることができる。また、本発明の他の態様の書込型筆記システムによれば、透明性を向上させた被筆記媒体を有する書込型筆記システムを提供することができる。
以下、本発明の実施の形態について説明する。本実施の形態では、透明シートに書込型筆記装置により手書きした文字や絵等を読み取り、画像処理により座標データを算出して、この座標データに基づいてディスプレイ上に文字や絵等を表示する態様について説明する。
図1は本実施の形態に係る書込型筆記システムの概略構成図であり、図2は本実施の形態に係る書込型筆記システムのブロック図であり、図3は本実施の形態に係る書込型筆記装置の一部を切り欠くことにより示した書込型筆記装置の内部構成図であり、図4は本実施の形態に係る書込型筆記装置の発光ダイオードおよびCMOSカメラ付近の模式図である。図5は本実施の形態に係る透明シートの垂直断面図であり、図6は本実施の形態に係る透明シートの平面図であり、図7は本実施の形態に係る蛍光材料の発光スペクトルである。
図1および図2に示されるように情報処理装置100のディスプレイ102の映像面には、書込型筆記システム1の被筆記媒体としての透明シート2が装着されている。なお、本実施の形態では、透明シート2をディスプレイ102の映像面に貼り付けることにより装着されているが、器具等を使用して装着されていてもよい。
情報処理装置100は、CPU(図示せず)および後述する座標データを受信するためのインターフェース101aを備える装置本体101、および表示部として機能するディスプレイ102等から構成されている。なお、本実施の形態では、情報処理装置100を用いて説明しているが、情報処理機能を有すれば、携帯電話機やPDA等の各種携帯端末にも適用することができる。
書込型筆記システム1は、主に、透明シート2と、書込型筆記装置3とから構成されている。
まず、書込型筆記装置3について説明する。書込型筆記装置3は、透明シート2上で書込型筆記装置3が移動した軌跡を電子データ化するものである。図3および図4に示されるように書込型筆記装置3は、主に、筺体31、光照射部として機能する発光ダイオード32、読取部として機能するCMOSカメラ33、画像処理部34、記憶部として機能するメモリ35、送信部として機能するインターフェース36、検知部として機能する筆圧センサ37、バッテリ38およびフィルタ39等から構成されている。
筺体31は、ペン型の形状となっており、ペン先31aを備えている。なお、ペン先31aは、インクや黒鉛等を備えていない。
発光ダイオード32は、透明シート2に光を照射して後述する蛍光材料を励起させて、発光させるためのものである。発光ダイオード32は、筺体31内のペン先31a近傍に配置されている。
発光ダイオード32は、励起させる蛍光材料の種類にもよるが波長950nm以下の光を発するように構成されている。具体的には、例えば波長700nm以上900nm以下、好ましくは波長750nm以上850nm以下の赤外領域の光を発するように構成されている。なお、本実施の形態では、光照射部として発光ダイオード32を用いて説明しているが、発光ダイオード32に限られず、他の光源から構成することも可能である。
CMOSカメラ33は、蛍光材料の発光を読み取るものである。具体的には、CMOSカメラ33は、筺体31内のペン先31a近傍に配置されており、ペン先31aの移動に伴って、ペン先31aの近傍を次々と撮像(例えば一秒間に数十回から百回連続して撮像)する。ここで、ペン先31aが通過する付近のドットパターン22に含まれる蛍光材料は発光ダイオード32からの光照射により発光しているので、CMOSカメラ33により蛍光材料の発光を読み取ることができる。なお、本実施の形態では、読取部としてCMOSカメラ33を用いて説明しているが、CMOSカメラ33に限られず、例えばCCD(Charge Coupled Device)カメラを用いることも可能である。
CMOSカメラ33には、光を読み取ることができる感度波長域が存在する。CMOSカメラ33の場合、感度波長域は波長950nm以下である。即ち、波長950nm以下の光は、CMOSカメラ33により読み取ることができるが、波長950nmを超える光は、CMOSカメラ33では、ほぼ読み取ることができない。なお、CMOSセンサの前面に波長850nm以下の光を遮断する後述するフィルタ39を配置した場合には、感度波長域は波長850nmを超えて波長950nm以下となる。
画像処理部34は、CMOカメラ33により読み取られた画像データを画像処理して、ペン先31a近傍が通過したドットパターン22の座標を算出するためのものである。具体的には、CMOSカメラ33により読み取られた画像データには、ペン先31a近傍が通過したドットパターン22は蛍光材料の発光により明るく、その他の部分は暗いという明暗ができるので、この明暗を解析することにより、ペン先31a近傍が通過したドットパターン22の座標を算出することができる。画像処理部34は、CPU等から構成されている。
メモリ35は、画像処理部34で算出された座標データを一時的に記憶しておくためのものである。メモリ35は、利用者が透明シート2に書込みをしている間に座標データを記憶する。
インターフェース36は、メモリ35に記憶されている座標データを、ディスプレイ102に電気的に接続されている情報処理装置100に送信するためのものである。インターフェース36は、例えばBluetooth技術等を利用したワイヤレストランシーバ等から構成されている。
筆圧センサ37は、利用者が書込型筆記装置3により透明シート2上に文字等を書く際にペン先31aに与えられる圧力、即ち筆圧を検知するためのものである。筆圧センサ37により検知される筆圧によって、発光ダイオード32およびCMOSカメラ33のスイッチのオン/オフが行われる。バッテリ38は、書込型筆記装置3の各要素に電源を供給するためのものである。
フィルタ39は、蛍光材料からの光を透過し、かつ発光ダイオード32からの光(反射光を含む。)を遮断するためのものであり、CMOSカメラ33の前面に配置されている。具体的には、例えば、発光ダイオード32から発せられる光が波長750nm以上850nm以下であり、蛍光材料から発せられる光における発光強度が最大となる発光ピークが波長850nmを超えて950nm以下の波長域に存在する場合には、フィルタ39は、波長850nm以下の光を遮断するものが好ましい。
次に、透明シート2について説明する。図5および図6に示されるように透明シート2は、主に、可視領域の光を透過可能な透明の基材21、絶対座標を示すための座標認識パターンとして機能する透明のドットパターン22、およびドットパターン22を保護するトップ層23等から構成されている。
ここで、本発明における「透明」とは、透明シート2をディスプレイ102の映像面上に装着した状態において、透明シート2を介してディスプレイ102の映像が見える程度のものをいう。
なお、本実施の形態では、座標認識パターンとしてドットパターン22を用いて説明しているが、座標を認識することができるパターンであれば、ドットパターン22に限られない。
ドットパターン22は各ドットから構成されており、ドットの間隔は約0.3mmとなっている。ドットパターン22は、発光材料として機能する蛍光材料を含有するインクを用いて印刷することにより形成されている。なお、本実施の形態では、発光材料として蛍光材料を用いて説明しているが、発光可能な材料であれば、蛍光材料に限られない。
蛍光材料は、発光ダイオード32の光を受けて励起し、発光するものである。また、蛍光材料は、CMOSカメラ33の感度波長域内に発光強度が最大となる発光ピークを有するものである。具体的には、CMOSカメラ33の感度波長域は波長950nm以下であるので、蛍光材料としては波長950nm以下に発光強度が最大となる発光ピークを有することが必要である。ここで、発光ダイオード32が波長950nm以下の光を発する場合には、蛍光材料の上記発光ピークは発光ダイオード32から発せられる光の波長以上の波長域に存在することが好ましい。より具体的には、例えば発光ダイオード32が波長700nm以上900nm以下の光を発する場合には、蛍光材料の上記発光ピークは波長800nm以上950nm以下の波長域に存在することが好ましく、また発光ダイオード32が波長750nm以上850nm以下の光を発する場合には、蛍光材料の上記発光ピークは波長850nm以上950nm以下の波長域に存在することが好ましい。
なお、本実施の形態のCMOSカメラ33の感度波長域が950nm以下であるので、蛍光材料が波長950nm以下の波長域に発光強度が最大となる発光ピークを有することが必要であるが、読取部の種類によって、感度波長域が異なるので、蛍光材料はその感度波長域に合わせて適宜変更できることは言うまでもない。
蛍光材料としては、例えばNd(ネオジム)を含んだものを使用することができる。Ndを含んだ蛍光材料としては、例えば、NaNd(MoO)、Na(0.15Nd,0.85Y)(MoO)、およびこれらの混合物等が挙げられる。
図7に示されるように、NaNd(MoO)およびNa(0.15Nd,0.85Y)(MoO)は、ともに波長約880nmに発光強度が最大となる発光ピークを有する。なお、一般的な赤外蛍光体であるNa(Nd,Yb)(MoO)4は波長約985nmに発光強度が最大となる発光ピークを有するので、CMOSセンサ33の感度波長域外である。
また、NaNd(MoO)およびNa(0.15Nd,0.85Y)(MoO)は、ともに波長約827nmが最適励起波長である。従って、蛍光材料として、NaNd(MoO)やNa(0.15Nd,0.85Y)(MoO)を使用する場合、発光ダイオード32としては、波長約827nmの光を発するものが好ましい。
トップ層23は、基材21上にドットパターン22を覆うように形成されているとともに、可視領域や赤外領域の光を透過可能に構成されている。
次に、書込型筆記システム1を使用して、手書きした文字、記号および図形等をディスプレイ102に表示させる方法について説明する。図8は本実施の形態に係る書込型筆記システム1の動作状況を示すフローチャートである。
まず、ディスプレイ102の映像面に装着された透明シート2に書込型筆記装置3のペン先31aを接触させると、図8に示されるように筆圧センサ37がペン先31aに加わった筆圧を検知する(ステップ1)。これにより、発光ダイオード32から光が発せられるとともにCMOSカメラ33が作動する。
次いで、書込型筆記装置3のペン先31aを透明シート2に接触させながら移動させると、次々にドットパターン22に発光ダイオード32からの光が照射され、その光によりドットパターン22に含まれている蛍光材料が励起して、光を発する。そして、この蛍光材料から発せられた光をCMOSカメラ33が読み取る(ステップ2)。
CMOSカメラ33により読み取られた光は、画像処理部34で画像処理され、ペン先31a近傍が通過したドットパターン22の座標が算出される(ステップ3)。その後、算出された座標データは、メモリ35に一時的に記憶され、インターフェース36を介して、情報処理装置100のインターフェース101aに送信される(ステップ4)。
情報処理装置100のインターフェース101aで受信された座標データは、装置本体101のCPU(図示せず)等で演算処理されて、ディスプレイ102に表示される。これにより、書込型筆記システム1を使用して、手書きした文字、記号および図形等を情報処理装置100のディスプレイ102に表示させることができる。
本実施の形態においては、ドットパターン22を構成する蛍光材料が、CMOSカメラ33の感度波長域内に発光強度が最大となる発光ピークを有している。すなわち、蛍光材料から発せられる光の波長とCMOSカメラ33の感度波長域がマッチングしている。これにより、CMOSカメラ33で確実に蛍光材料の発光を読み取ることができるので、読取性能を向上させることができる。その結果、ドットパターン22に含有させる蛍光材料の濃度を低下させることができるので、透明シート2の透明性を向上させることができる。
本実施の形態において、蛍光材料として、NaNd(MoO)、Na(0.15Nd,0.85Y)(MoO)およびこれらの混合物を使用した場合には、CMOSカメラ33の感度波長域内での発光強度が、一般的な赤外蛍光体であるNa(Nd,Yb)(MoO)4よりも高いので、読取性能をより向上させることができる。
本実施の形態においては、CMOSカメラ33の前面にフィルタ39を配置しているので、発光ダイオード32を含めた外光ノイズの除去が可能となり、ドットパターン22とドットパターン以外の部分のコントラストを向上させることができる。これによりCMOSカメラ33は、蛍光材料の発光をより確実に読み取ることができるので、読取性能をさらに向上させることができる。
なお、本発明は上記実施の形態の記載内容に限定されるものではなく、構造や材質、各部材の配置等は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
(実施例)
以下、実施例について説明する。本実施例においては、NaNd(MoO)を含有するドットパターンを備える透明シートを作製して、上記実施の形態で説明した書込型筆記装置のCMOSカメラでドットパターンを読み取れるか否か実験した。まず、本実施例で使用した透明シートの作製方法について述べる。
(1)蛍光材料の合成
酸化ネオジム(Nd)10gと炭酸ナトリウム(NaCO)40gと酸化モリブデン(MoO)140gを乳鉢で混合し、白金るつぼに入れて、空気中にて600℃で焼成した。これにより蛍光材料としてNaNd(MoO)が生成された。
(2)蛍光インキの調製
トルエン:メチルエチルケトン=1:1の混合溶剤中、上記蛍光材料(NaNd(MoO))の濃度が12.5重量%と、アクリル樹脂(三菱レーヨン(株)製BR−101)の濃度が12.5重量%を混合し、蛍光インキを調製した。
(3)ドットパターンの印刷
基材としての透明なPETフィルム(東洋紡績(株)製A4300、厚み100μm、両面易接着処理)上に、上記の蛍光インキをグラビア印刷法によりドットパターンの印刷を行ない透明シートを作製した。このときのドットの大きさは円盤の直径が約110μmであった。
次に実験方法および実験結果について述べる。このように作成されたドットパターンを有する透明シートに、波長830nmの赤外領域の光を照射して、蛍光を画像として書込型筆記装置のCMOSカメラにより読み取りを行ったところ、ドットパターンを検知することができた。
(比較例)
以下、比較例について説明する。比較例においては、Na(Nd,Yb)(MoO)4を含有するドットパターンを備える透明シートを作成して、上記実施の形態で説明した書込型筆記装置のCMOSカメラでドットパターンを読み取れるか否か実験した。
まず、本実施例で使用した透明シートの作製方法について述べる。蛍光材料として、赤外蛍光体であるNa(Nd,Yb)(MoO)4(根本特殊化学(株)製IRS−F)を用いて、上記実施例と同様の工程で蛍光インキを調整し、ドットパターンの印刷を行い、透明シートを作製した。
次に実験方法および実験結果について述べる。このように作製されたドットパターンを有する透明シートに、波長830nmの赤外領域の光を照射して、蛍光を画像として書込型筆記装置のCMOSカメラにより読み取りを行ったところ、実施例において作製した透明シートよりもドットパターンの蛍光が弱く、比較例のドットパターンを検知することは困難であった。この結果から、上記実施例における蛍光材料が、比較例における蛍光材料よりも上記の書込型筆記装置に適していること判明した。
図1は実施の形態に係る書込型筆記システムの概略構成図である。 図2は実施の形態に係る書込型筆記システムのブロック図である。 図3は実施の形態に係る書込型筆記装置の一部を切り欠くことにより示した書込型筆記装置の内部構成図である。 図4は実施の形態に係る書込型筆記装置の発光ダイオードおよびCMOSカメラ付近の模式図である。 図5は実施の形態に係る透明シートの垂直断面図である。 図6は実施の形態に係る透明シートの平面図である。 図7は実施の形態に係る蛍光材料の発光スペクトルである。 図8は実施の形態に係る書込型筆記システムの動作状況を示すフローチャートである。
符号の説明
1…書込型筆記システム、2…透明シート、3…書込型筆記装置、21…基材、22…ドットパターン、31a…ペン先、32…発光ダイオード、33…CMOSカメラ、34…画像処理部、39…フィルタ、100…情報処理装置、102…ディスプレイ。

Claims (9)

  1. 発光材料を含有する座標認識パターンを有する透明の被筆記媒体に、光を照射して前記発光材料を発光させる光照射部と、前記発光材料からの光を読み取る読取部とを備える書込型筆記装置に使用される被筆記媒体であって、
    前記読取部の感度波長域が波長950nm以下であり、
    前記発光材料は、前記読取部の感度波長域内に発光強度が最大となる発光ピークを有し、
    前記発光材料が、NaNd(MoO)およびNa(0.15Nd,0.85Y)(MoOの少なくともいずれかを含んでいることを特徴とする、被筆記媒体。
  2. 前記発光材料の前記発光ピークが赤外領域内に存在する、請求項1に記載の被筆記媒体。
  3. 前記読取部がCMOSカメラである、請求項1または2に記載の被筆記媒体。
  4. 前記光照射部が波長750nm以上850nm以下の光を照射し、かつ前記発光材料の前記発光ピークが波長850nmを超えて950nm以下の波長域に存在する、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の被筆記媒体。
  5. 前記読取部の前面に配置され、前記発光材料からの光を透過し、かつ前記光照射部からの光を遮断するフィルタをさらに具備する、請求項1ないしのいずれか1項に記載の被筆記媒体。
  6. 前記フィルタが波長850nm以下の光を遮断する、請求項に記載の被筆記媒体。
  7. 前記被筆記媒体が透明シートである、請求項1ないしのいずれか1項に記載の被筆記媒体。
  8. 前記被筆記媒体が情報処理装置のディスプレイあるいは情報処理機能を有する携帯端末のディスプレイの映像面上に装着される、請求項1ないしのいずれか1項に記載の被筆記媒体。
  9. 請求項1ないしのいずれか1項に記載の被筆記媒体と、
    前記被筆記媒体に光を照射して前記発光材料を発光させる光照射部と、前記発光材料からの光を読み取る読取部とを備える書込型筆記装置と
    を具備することを特徴とする、書込型筆記システム。
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